JPS63195686A - 表示装置及びその製造法 - Google Patents

表示装置及びその製造法

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JPS63195686A
JPS63195686A JP62027289A JP2728987A JPS63195686A JP S63195686 A JPS63195686 A JP S63195686A JP 62027289 A JP62027289 A JP 62027289A JP 2728987 A JP2728987 A JP 2728987A JP S63195686 A JPS63195686 A JP S63195686A
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transparent conductive
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diluent
film
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護郎 佐藤
通郎 小松
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、正反射軽減効果及び帯電防止効果を有する表
示装置及びその製造法に関する。
〔従来の技術〕
ブラウン管や液晶ディスプレイ等の表示装置に正反射軽
減効果及び帯電防止効果を施す方法には、あらかじめ硝
子又はプラスチックからなる前面板を加熱したのち、部
分加水分解した珪酸エステルの様な珪素化合物のコロイ
ド溶液、あるいは四塩化珪素の様な反応性珪素化合物溶
液、あるいは前記溶液に白金・金・パラジウム・錫等の
無機金属の水溶性化合物を混合した溶液を吹き付け、こ
の前面板に酸化珪素もしくは水和物によるamな凹凸被
膜を形成したのち、この微細な凹凸被膜を前面板に焼付
ける製造法があった。(特開昭61−16452号公報
)又、ブラウン管に真空蒸Mあるいはディップ法によっ
て、酸化錫又は酸化インジウムと酸化珪素を混合あるい
は積層したコーティング層を形成させる方法もあった。
(実開昭59−168951号公報) ところが、これらの方法によって得られる表示装置では
、正反射軽減効果(以下ノングレアと言う。)が不十分
であったシ、又帯電防止効果が周囲の雰囲気(温度・湿
度)によシ変化し、施した被膜によって解像度を低下さ
せていた。
更に形成された凹凸被膜は密着性が弱く容易に剥がれた
シ機械強度が低くて傷付き易く、また耐酸性・耐アルカ
リ性・耐塩水性・耐水性等の耐久性がないため剥がれた
シ溶出したルして、ノングレア及び帯電防止効果を低下
させていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、上記の様な従来技術に伴う問題点を解決しよ
うとするものであって、硝子又はプラスチック等(以下
硝子等と買う)からなるIIJ面板に、ノングレア・帯
電防止効果を持ち耐久性・密着性及び機械強度に優れた
微細な凹凸被膜が形成された表示装置及びその製造法を
提供しようとするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、 <1)  前面板の表面に透明導電性被膜が形成されて
なる表示装置に於いて、透明導電性!21!膜が酸化ジ
ルコニウムと酸化珪素及び導電性酸化錫からなり、該透
明導電性被膜が形成されてなる前面板が、30%≦光沢
度≦90%、解像度250本/eI11.104Ω/c
IIP≦表面抵抗≦10會Ω/ノであるととを特徴とす
る表示装置、(2)  ジルコニウムのオキシ酸塩と非
沈降性シリカと導電性コロイド粒子が水と成長防止剤及
び希釈剤に均一に分散した透明導電性塗布液組成物を、
予め40〜90℃に加熱保持された前面板にスプレー法
で塗布後、乾燥及び/又は焼成した事を特徴とする表示
装置の製造法、及び、 (3)  ジルコニウムのオキシ酸塩と非沈降性シリカ
と導電性酸化錫コロイド粒子が水と成長防止剤及び希釈
剤に均一に分散した透明導電性塗布液組成物を、予め4
0〜90℃に加熱保持された前面板にスプレー法で塗布
後、乾燥及び/又は焼成し、さらにその上に透明保護塗
布液組成物をスプレー法で塗布後、乾燥及び/又は焼成
した事を特徴とする表示装置の製造法、 である。
以下本発明に係る表示装置及びその製造法について具体
的に説明する。
被膜の正反射軽減効果(ノングレア)は、その被膜の反
射率に依存している。被膜の反射率はその屈折率及びそ
の表面形状によって決り、更に屈折率は被膜を構成する
物質及び被膜の密度に依存する。従って反射率を下げる
には、屈折率の小さな物質だけを用いるか、あるいは屈
折率の大きな物質では屈折率の小さな物質と混合して被
膜を形成するか、あるいは、屈折率の大きな物質で被膜
を形成し、さらに屈折率の小さな物質の被膜を積層する
か、又は被膜の密度を下げれば良い。次に被膜表面の形
状は、平滑性が高くなると反射率も高くなるので平滑性
を低下させてやれば良いが、平滑性が低下しすぎると被
膜の解像度も同時に低下させてしまう。
従って本発明では、ジルコニア(屈折率2.2)とシリ
カ(屈折率1.5)の混合マトリックスに導電性酸化錫
コロイド粒子(屈折率2.1)を分散した塗布液をスプ
レーで吹き付は微細な凹凸被膜を形成させることにより
被膜自体の屈折率本低下させ、あるいはその被膜にシリ
カ又はプラスチック(屈折率1.4〜1.7)の被膜を
積層させて、又は被膜の孔の一部に5’リカ又はプラス
チックを侵入させている。乙のように被膜の見掛けの屈
折率を低下させ、その上解像度を著しく低下させ々い程
度に被膜の表面を凹凸にすることで被膜にノングレアを
施している。
ところが一般に被膜が多孔性になると平滑な被膜に比べ
その表面積が増すため耐久性が悪くなるが、本発明では
耐久性の強いジルコニアを用いることによシ、この問題
点を解決した。
本発明は、上記の如く透明導電性被膜の構成物質として
、酸化ジルコニウム、酸化珪素及び導電性酸化錫を採用
することで、ノングレアψ帯電防止効果を持ち耐久性・
密着性及び機械強度に優れた表示装置を得ることが可能
になった。
この様な表示装置を得るためには、種々の方法があるが
、酸化ジルコニウム源としてのジルコニア化合物、酸化
珪素源としてのシリカ化合物及び導電性酸化錫コロイド
粒子を含む、透明導電性塗布液組成物を前面板にスプレ
ーすれば、本発明の目的を達成できる。
前記構成物質を備えた透明導電性塗布液組成物であれば
、いずれも本発明に使用できるが、ジルコニウムのオキ
シ酸塩と非沈降性シリカと導電性酸化錫コロイド粒子を
水と成長防止剤及び希釈剤に均一分散した透明導電性塗
布液組成物を用いれば、さらにすぐれた透明導電性被膜
を得ることができる。先ず第一に透明導電性塗布液組成
物について説明する。
塗工法によるジルコニア被膜は、一般にはジルコニアア
ルコキシドを用いている。ところがシμコニアア〃コキ
νドは、加水分解速度が速いためにその速度を制御する
ことが困難であシ、塗布液として透明な基材に塗布した
際、湿度の影響を受は易く被膜の性状が左右され、一定
の性状を有する被膜を連続的に得ることは難しい。
又微量の水分でジルコニアアルコキシドが加水分解を起
こすため、塗布液を長期保存できない。
サラにジルコニアアルコキシドは、高価で工業製品の原
料としてはコスト高となって適さない。
本発明では、ジルコニア源としてジルコニウムのオキシ
酸塩を用いることで上記問題を解決した。この透明導電
性塗布液組成物に係るジルコニウムのオキシ酸塩は、特
にオキシ塩化ジルコニウム、オキン硝酸ジルコニウムが
よいが、これに限る訳ではない。
ジルコニウムのオキシ酸塩を水溶液の形で、硝子等の基
材に塗布しても前記水溶液がはじかれて被膜が白くなる
。これはジルコニウムのオキシ酸塩の造膜性が低いのと
基材に対する前記水溶液の表面張力が高いために起ζる
が、ます造膜性を向上させるために非沈降性シリカを加
えた。さらに表面張力を低下させるには、表面張力の低
い有機溶剤を混合するか又は混合した後に水の一部を系
内から脱水する必要がある。
しかし、普通の有機溶剤では、水が少なくなるとジルコ
ニウムのオキシ酸塩及び非沈降性シリカ及び導電性酸化
錫コロイド粒子が不安定にな〕、分解してゲル化を起こ
した多重合を促進することがある。従って透明導電性塗
布液組成物では、種々の有機溶剤のなかから上記の様な
シフuコニウムのオキシ酸塩及び非沈降性7リカ及び導
電性酸化錫コロイド粒子の加水分解、ゲル化等を防止す
る特定の有機溶剤(以下成長防止剤と言う)を、ジルコ
ニウムのオキシ酸塩と非沈降性シリカ及び導電性酸化錫
コロイド粒子の混合溶液に混合するか、又は混合した後
に水の一部を系内から脱水している。この様にして調製
した透明導電性塗布液組成物は、水が少なくなってもジ
ルコニウムのオキシ酸塩及び非沈降性シリカのゲル化が
起こらず安定であシ、又同時に造膜性を向上させ透明導
電性塗布液組成物の表面張力を低下することができる。
従って希釈剤で希釈して基材に塗布したとき、希釈剤と
水及び一部の成長防止剤が蒸発しても、残〕の成長防止
剤によシジルコニウムのオキシ酸塩及び非沈降性シリカ
の重合が起こって被膜が形成される。
この透明導電性塗布液組成物に係る非沈降性シリカとは
、珪酸アルカリ水溶液をイオン交換法あるいは透析法醇
の方法でアルカリと水素を交換するととKよって得られ
るものであって、2、0 vrt%(Sin、換算)水
溶液を25 CL 000 c)%1時間で遠心沈降さ
せた際、沈降物が水溶液中の全5101に対して30重
量部、好ましくは、10東量部以下のものである。好ま
しくは、本出願人が先に出願した「コーティング用非沈
降性Vリカ組成物及びその製造法」(特願昭61−18
7835号)の発明によって得られる非沈降性シリカが
用いられる。この様にして得られる非沈降性シリカは、
本来不安定でコロイド粒子が生成されたルゲル化し易い
が、透明導電性塗布液組成物中の成長防止剤によって安
定化される。さらにこの非沈降性Vリカは、ジルコニウ
ムのオキシ酸塩と混合しても非沈降性シリカ自体がゲル
化することもなく、又ジルコニウムのオキシ酸塩をもゲ
ル化させない。
との透明導電性塗布液組成物に係る導電性酸化錫コロイ
ド粒子とは、酸化錫または異種元素をドープした酸化錫
あるいはこの両者が、水または有機溶媒中に分散されて
なるコロイド粒子でILこれは、本出願人が先に出願し
た「酸化錫ゾル及びその製造方法」(特願昭61−75
283号)の発明によって得られる導電性酸化錫コロイ
ド粒子である。コロイド粒子の粒子径はその平均粒径が
α01〜(L1μmの範囲にあるものが良い。α01μ
m未満では被膜を多孔性にできず、1lL1μmを越え
ると得られる被膜の全光線透過率及び解像度が低くなっ
て基材の透明性を損ねる。ただし平均粒径が[L1μm
以下であってもα1μmを越える粒子が多く含まれてい
ると被膜の全光線透過率及び解像度が低くなって基材の
透明性を低下させるので、好ましくはコロイド全粒子の
60%以上がα1 pm以下の粒径の粒子で占められる
ものが良い。
この透明導電性塗布液組成物に係る成長防止剤は、ジル
コニウムのオキシ酸塩、非沈降性シリカ及び導電性酸化
錫コロイド粒子をゲル化させないもの、あるいは重合を
促進させないもので、好ましくは、N−メチA/−2−
ピロリドン、N、Nジメチルホルムアミド、モルホリン
、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルエーテル、エチVングリスーμ等及
びそれらの誘導体を一種又は二種以上組合わせて使用す
る。
この透明導電性塗布液組成物に係る希釈剤は、ジルコニ
ウムのオキシ酸塩、非沈降性Vリカ及び導電性酸化錫コ
ロイド粒子をゲル化させないもの、あるいは重合を促進
させないもので、例えば、メタノール、エタノール、n
−グロバノー〜、1−プロパノ−μ、n−ブタノール、
1−プタノー/L/、i−ブタノール等のアルコ−〃、
酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、ジエチルエ
ーテル等のエーテル、アセトン等の一種又は二種以上組
合わせて使用できる。
Zr01・5102・導電性酸化錫コロイド粒子・水分
・成長防止剤・希釈剤の組成比は、第−K。
成長防止剤は、Zr01と8102 の合計のmol比
において、1≦(成長防止剤) / (zro!+sx
o、 )≦25が良い。好ましくは、2以上にする。1
未満では透明導電性塗布液組成物のゲル化が起夛易くな
)ポットライフ(使用可能期間)が短くなって、長期保
存ができない。25を越えると透明導電性塗布液組成物
を塗布し、硬化させていく際に硬化が不均一になって被
膜の耐久性が悪くなる。第二に、水分は、ZrO2との
重量比において、0.1≦H鵞0 / Z r Ox≦
40の条件を満たした上で、透明導電性塗布液組成物の
全体重量(以下全体重量と言う)に対して50 wt%
以下が良い。11未満ではジルコニウムのオキシ酸塩の
ゲル化が起シ、重量比が40%あるいは全体重量の50
 WtXを越えると成長防止剤の効果が無くなシ、透明
基材上での透明導電性塗布液組成物のはじきが起こるか
らである。第三に、Zr01とS10! と導電性酸化
錫コロイド粒子の合計重量は全体重量に対して、11〜
20 vt%が好ましく、透明導電性塗布液組成物の長
期保存の上では、11〜1Ωyt%が良い。2+)vr
t%を越えると透明導電性塗布液組成物のゲル化が起シ
易くなる。第四に、導電性酸化錫コロイド粒子とジルコ
ニウムのオキシ酸塩と非沈降性シリカの割合いは、1≦
(導電性酸化錫コロイド粒子) 7 (Zr01+Si
O* )≦5(重量比)が良い。
1未満では被膜の導電性が悪くなったシ、又被膜の多孔
性にならず、5を越えると被膜の密着性が低下する。第
五に、非沈降性シリカとジルコニウムのオキシ酸塩の割
合いハ、C1,05≦5iO1/Zr(%≦1(重量比
)が良い。α05未満では被膜の密着性が悪くなシ、1
を越えると被膜の耐久性が悪くなる。
この様にして透明導電性塗布液組成物が得られる。
第二に透明保護塗布液組成物について説明する。
この透明保護塗布液組成物は、前記「コーティング用非
沈降性シリカ組成物及びその製造法」(特願昭61−1
87835号公報)の発明によって得られるコーティン
グ用非沈降性シリカ組成物が、使用できる。又、ノリコ
ンアルコキシドに水及び塩酸・硝酸等の鉱酸、あるいは
酢酸等の力〃ボン酸を加えアルコール等の希釈剤で希釈
した塗布液を使用することも可能であシ、さらに透明で
硬い被膜の得られるシリコーン樹脂、メラミン樹脂、ウ
レタン樹脂を分散、希釈した塗料を用いることもできる
さらにまた、本出願人が先に出願した「塗布液組成物」
(特願昭61−288922号公報)又は、「透明性被
膜形成用塗布液」(特願昭61−291935号公報)
の発明によって得られる塗布液も使用することもできる
次に製造法について説明する。
本発明の好ましい第一の製造法線、予め加熱・保持され
た前面板に前記透明導電性塗布液組成物をスプレー法に
て一層あるいは多層塗布する。前面板は、40〜90℃
さらに好ましくは50〜70℃に加熱保持する。40℃
未満であると液滴が前面板に塗布された際、液成分が十
分乾燥しきれずにレベリングを起としノングレア被膜が
得られず、90℃を越えると液成分の乾燥が急激に起ζ
つて被膜の密着性、透明性、耐久性が悪くなるからであ
る。従って透明導電性塗布液組成物をスプレー法で塗布
する際に前面板がとの温度から逸脱しない様に塗布液量
、塗布速度及びスプレーへの供給空気圧を調整しなけれ
ばならない。次いで乾燥すれば本発明の表示装置が得ら
れるが、さらに耐久性及び機械強度が高い被膜が必要な
場合には300℃以上で前面板のガラス転移点以下の温
度で焼成すれば良い。この際ガラス転移点以下の温度で
あれば何度も焼成行程を通してもよい。
第二の製造法は、第一の製造法によって得られた被膜の
上に、前記透明保護塗布液組成物を前記と同様にスプレ
ー法によって塗布する。但し、コーティング用非沈降性
シリカ組成物あるいはりリコンアルコキVド塗布液を用
いる場合には、第一の製造法において、乾燥した被膜の
上にスプレー塗布し、その後焼成しても良い。
微細な凹凸被膜表面の形状は、日本工業規格JISBO
601−82による十点平均粗さく以下R1と言う)が
、0.2〜5μm1好ましくはα2〜3μmが良い。1
2μm未満であると解像度等の透明性は良いが、ノング
レアが低下し又帯電防止効果が得られない。5μmを越
えると解像度等の透明性が悪くなる。
前記の製造法により本発明の表示装置が得られる。得ら
れる表示装置は、解像度が50木/1以上、光沢度が3
0〜90%、板面抵抗が104Ω/−〜10・Ω/cm
2である。解像度が50本/国以下あるいは光沢度が3
0%未満であると前面板の透明性が悪くなり、光沢度が
90%を越えると被膜がノングレアにならず、表面抵抗
が10・Ω/ex?を越えると帯電防止効果が得られな
い。
本発明に係る前面板は、平板状硝子及びプラスチック、
曲面硝子及びプラスチック等の透明基材が使用できる。
以下実施例によシ本発明を説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。
〔実施例〕
実施例1 錫酸カリウム316tと吐酒石5FL4tとを、水68
6tに溶解して原料液を調製した。50℃に加温されて
攪拌下にある1ooorの水に、前記の原料液を硝酸と
ともに12時間かけて添加し、系内をpH&5に保持し
て加水分解させてゾル液を得た。このゾル液からコブイ
ド粒子をF別し、洗浄して副生塩を除去した後粒子を乾
燥し、空気中350℃で3時間焼成し、さらに空気中6
50℃で2時間焼成して微粉末を得た。
得られた粉末400fを水酸化カリウム水溶液16oo
r(xoa4or含有)中に加え、この混合液Kgo℃
に保持しながらサンドミルで3時間攪拌し表から導電性
酸化錫コロイドを得た(導電性ゾル液)。次いでこの導
電性酸化錫コブイドをイオン交換樹脂で処理することに
よ)、脱アルカリされた導電性酸化錫コロイドを得た。
この脱アルカリされた導電性酸化錫コロイドは沈澱物を
含゛まず、固形分濃度は20vt%であって、コロイド
粒子の平均粒径はa、07μmであった。そして11 
pm以下の粒子の量は、全粒子の87%であった。51
02として5 vtXの珪酸ナトリウム(S i O!
/’Nano = 5mo・Vmol) 2000 ?
を15℃に保持したまま水素型イオン交換樹脂カラム中
に空気速度5V=Sで通過させた(非沈降性シリカ液)
。この様にして得られた非沈降性シリカ液のうち50f
と導電性liv液のうち50?に、N−メチjv−2−
ピロッドン20fとZr01に換算して25vtXオキ
V塩化ジルコニウム水溶液を1ofとMeOH/BuO
H(重量比1/1)170tを添加し十分混合して透明
導電性塗布液組成物を得た。60℃に保たれた14イン
チブラウン管バネ〃に、スプレーの供給空気圧入〇kl
iF/−で20−スプレー塗布した。その後110℃1
0分間乾燥し、450℃30分間焼成した。
尚、導電性酸化錫コロイドの平均粒径及び11μm以下
の粒径粒子の割合いは、超遠心粒度測定袋fd(m場製
作所111、商品名CAPA−500)を用い、測定試
料中の固形分濃度をCL 5 vrtXに11!1整し
て、5000 r、p、m、で測定した。
実施例2 14インチプフウン管パネルを70℃に保持した以外は
実施例1と同様にした。
実施例3 アクリル板を使用し、110℃30分間乾燥した。焼成
はしなかった。それ以外は実施例1と同様にした。
実施例4 実施例1の透明導電性塗布液組成物を、スプレー塗布し
、110℃30分間乾燥したパネルを60℃に保持し、
エチJl115/リケード28(多摩化学展)100f
に、1−プロパノ−Jv749t、水84F、!15v
t、X塩酸α5tを均一混合した透明保護塗布液組成物
をスプレーの供給空気圧を&akg/−で2(ldスプ
レー塗布した。
その後110℃10乾燥し、450℃30分間焼成した
実施例5 実施例1で得た非沈降性シリカ液50fに、N−メチA
/−2−ピロリドン459を加えて均一混合後、ロータ
リーエバポレーターにて80℃に加熱して水を95f溜
出させた。この液を冷却し、エタノ−120tを十分分
散して透明保護塗布液組成物を得た。実施例1で得られ
たパネルを60℃に保持し、上記の透明保護塗布液組成
物をスプレーの供給空気圧入okg/dで20−塗布し
た。その後110℃10乾燥し、250℃30分間焼成
した。
実施例6 50 vtXのシリコーン樹脂(鐘淵化学製、商品名セ
ムヲツク、キシレン希釈品)10tにメチルエチルケト
ン157fを加えて均一混合して透明保護塗布液組成物
を得た。
実施例1で得られたパネルを60℃に保持し、上記の透
明保護塗布液組成物をスプレーの供給空気圧入okg/
l、Iで2〇−塗布した。その後110℃10分間乾燥
した。
比較例1 14インチプフウン管パネルを30℃に保持した以外は
実施例1と同様にした。
比較例2 14インチプヲウン管パネルを110℃に保持した以外
は実施例1と同様にした。
比較例3 実施例1で得られた非沈降性シリカ液100?と導電性
ゾル液5QfとN−メチA/−2−ピロリド7259と
EtOH125fを添加し、十分混合して得た透明導電
性塗布液組成物を使用した以外は実施例1と同様にした
。(ジルコニウムのオキV酸塩を使用せず。) 比較例4 透明導電性塗布液組成物を作るために実施例1で得られ
た非沈降性クリカ液1001F及び導電性ゾル液100
tとオキV硝酸ジルコニウム20fとMeOH/EtO
H(重量比1/1)380Fを十分分散したところ30
分後にゲル化した。(成長防止剤を使用せず) 比較例5 実施例1で得た透明導電性塗布液組成物中に硝子板(2
00X200X3鱈)を浸し、51/分の速度で引上げ
た。その後110℃30分間乾燥し、450℃30分間
焼成した。
これら実施例・比較例に対して、以下の評価を行った。
■光沢度:JISK7105−81の光沢度の測定法に
おいて測定角度60°で光 沢度(G)を評価した。
■解像度:バネ〃又はアクリル板の裏(被膜のない側)
に第一図のバーチャートを 貼シ付け、第二図の装置にセットし、 パネル又はアクyy板の表(被膜の ある側)から30国離れて、バーの 分離が観察できる最大の1all当シのバーの本数で表
した。
0表面抵抗:ハイリスター(三菱油化■製)を用い、測
定電圧5oovで評価した。
■密着性:市販の12四幅のセロテープの一部を被膜に
貼シ付け、残シを被膜に対 して直角に保ち、瞬間的に引き剥が し、被膜の有無を目視した。
■膜強度:台秤の上に、バネμ又はアクリル板を固定し
、事務用消しゴム(LION 奥m5O−50)を被膜上に置き2 時の荷重をかけて、パネル又はアク リル板の表面が露出する往復回数を 評価した ■耐久性:下記の液に漬けた後、光沢度(■と同じ)、
表面抵抗(■と同じ)、密 着性(■と同じ)で評価した。
1)15vt%アンモニア水に室温でIJIli1間。
2)  12vt%NaC2水溶液に室温で1週間。
5) 煮沸している水の中に30分間。
リ 50wt%の酢酸水溶液に室温で1週間。
5) アセシンに室温で1週間。
6) エタノールに室温で1週間。
7)1−プロパノ−A/llC室温で1週間。
■Rx: J I SBO601−82(DRI(D測
定法において、触針式膜圧針(ランク・ティラー・ホプ
ソン社製、商品名タリステップ)を用いて測定した。
〔発明の効果〕
本発明は、特定の透明導電性塗布液組成物を、あらかじ
め加熱保持した硝子等の前面仮に、スプレーで吹き付は
微細な凹凸被膜を形成し九のち、乾燥及び/又は焼成す
ることによシ、例えばブラウン管用パネル、液晶ディス
プレイバネμ等の表示装置用前面板に用いた場合、それ
ら前面板の解像度を低下させずに、ノングレア・帯電防
止効果を有し耐久性・密着性及び機械強度に優れ九m細
な凹凸被膜を持った表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第一図は、パーチャートであシ、第二図は、解像度測定
装置を示す。 1:バー、2:隙間、但しa(パーの幅)=b(隙間の
幅)。 チャートは、5本15I毎(10,15,20,25等
)に作製した。 3:パネル又はアクリル板、4:パーチャート、5:2
0Wの蛍光燈、6:内側が白色のケース第1図 手続補正書

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)前面板の表面に透明導電性被膜が形成されてなる
    表示装置に於いて、透明導電性被膜が酸化ジルコニウム
    と酸化珪素及び導電性酸化錫からなり、該透明導電性被
    膜が形成されてなる前面板が、30%≦光沢度≦90%
    、解像度≧50本/cm、10^4Ω/cm^2≦表面
    抵抗≦10^9Ω/cm^2であることを特徴とする表
    示装置。
  2. (2)ジルコニウムのオキシ酸塩と非沈降性シリカと導
    電性コロイド粒子が水と成長防止剤及び希釈剤に均一に
    分散した透明導電性塗布液組成物を、予め40〜90℃
    に加熱保持された前面板にスプレー法で塗布後、乾燥及
    び/又は焼成した事を特徴とする表示装置の製造法。
  3. (3)ジルコニウムのオキシ酸塩と非沈降性シリカと導
    電性酸化錫コロイド粒子が水と成長防止剤及び希釈剤に
    均一に分散した透明導電性塗布液組成物を、予め40〜
    90℃に加熱保持された前面板にスプレー法で塗布後、
    乾燥及び/又は焼成し、さらにその上に透明保護塗布液
    組成物をスプレー法で塗布後、乾燥及び/又は焼成した
    事を特徴とする表示装置の製造法。
  4. (4)透明保護塗布液組成物が、シリコンアルコキシド
    を水と酸及び希釈剤に均一分散したものであることを特
    徴とする特許請求の範囲第3項記載の表示装置の製造法
  5. (5)透明保護塗布液組成物が、非沈降性シリカを水と
    成長防止剤及び希釈剤に均一分散したものであることを
    特徴とする特許請求の範囲第3項記載の表示装置の製造
    法。
  6. (6)透明保護塗布液組成物が、バインダー樹脂を希釈
    剤に均一分散したものであることを特徴とする特許請求
    の範囲第3項記載の表示装置の製造法。
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