KR20060135791A - 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 유도체 및 그의코팅으로서의 용도 - Google Patents

퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 유도체 및 그의코팅으로서의 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물 및 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 함유하는 조성물을 제공한다. 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물은 오염방지성, 부식방지성, 세척 용이성, 방수성, 소수성, 소유성 또는 내변색성 등의 특성 중 하나 이상을 제공하기 위해 금속 또는 금속 산화물-함유 표면을 갖는 기재에 부착될 수 있다.
퍼플루오로폴리에테르, 벤조트리아졸, 코팅 조성물, 오염방지성, 부식방지성

Description

퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 유도체 및 그의 코팅으로서의 용도 {PERFLUOROPOLYETHER BENZOTRIAZOLE DERIVATIVES AND USE THEREOF AS COATINGS}
전자 장치 고장의 흔한 원인은 반도체 칩과 같은 전자 장치의 부품에, 특히 거친 환경에서 발생하는 미세균열 또는 공동이다. 이러한 미세균열 또는 공강은 전자 장치 내로 불순물이 도입될 수 있게 한다. 전자 장치 상에 스퍼터링된 금속 또는 금속 산화물 코팅을 도포함으로써 미세균열 또는 공강 발생을 방지할 수 있다. 이러한 스퍼터링된 코팅은 전자 신호 전송을 방해할 수 있는 이온성 불순물, 예컨대 염소 이온 및 나트륨 이온의 도입을 방지할 수 있다. 전자 장치에 이러한 스퍼터링된 코팅을 도포함으로써 습기 및 휘발성 유기 화학물질로부터도 어느 정도 보호할 수 있다.
다른 제품은 금속 또는 금속 산화물 외층 또는 코팅을 가질 수 있다. 예를 들어, 다양한 광학적 기재가 하나 이상의 금속 산화물층으로 코팅되어 광택과 광반사를 감소시킬 수 있다. 이러한 광학적 기재로서는, 문, 창문, 액자, 광학 렌즈, 필터, 디스플레이 장치 (예를 들어, 전자 장치의 디스플레이 패널) 등에 사용되는 것을 포함한다.
금속 또는 금속 산화물 코팅은 일반적으로 내구성 있고 균일하다. 그러나, 종래 기법, 예컨대 스퍼터링 방법으로 제조된 몇몇 금속 또는 금속 산화물층은 비 교적 다공성이고, 상대적으로 거친 표면을 형성하는 입자의 군집을 포함한다. 스퍼터링된 금속 또는 금속 산화물 코팅은 표면 에너지가 높은 경향이 있어서, 지문과 같은 다양한 잠재적인 공급원으로부터의 불순물에 의해 오염되기 쉽다. 이러한 코팅을 가지는 제품은, 일부 환경적으로 바람직하지 않은 용매계 세척액을 사용하지 않고서는 세척하기 어려울 수 있다. 또한, 표면 오염물질을 제거하는 것은 세척 과정에서 잔류물이 남는 경우 금속 또는 금속 산화물 표면의 바람직한 특성에 악영향을 미칠 수 있다.
금속 또는 금속 산화물 표면에 오염방지성을 부가하려는 수많은 시도가 있었다. 몇몇 시도는 이러한 특성을 금속 또는 금속 산화물층 자체에 제공하는 것에 초점을 두었으며, 다른 시도들은 금속 또는 금속 산화물 표면 상에 오염방지성 코팅을 제공하는 것에 중점을 두었다. 이러한 오염방지성 상면코팅(overcoat)은 저분자량 불순물을 포함하지 않는 단일층 필름일 수 있다. 저분자량 또는 연성 물질은 이들 물질이 상면코팅의 오염방지성에 악영향을 미칠 수 있기 때문에 일반적으로 바람직하지 않은 것으로 여겨졌다. 전자 부품에 충분한 오염방지성을 제공할 수 있는 몇몇 현존하는 상면코팅으로서는, 탄소원자수 7 및 8인 퍼플루오로알킬기를 기재로 하는 화합물을 포함한다. 그러나, 이들 화합물 중 일부는 환경적으로 바람직하지 않을 수 있기 때문에 선호되지 않는다.
기재에 오염방지성 상면코팅을 도포하는 기법 역시 특정 상면코팅의 조성에 따라 문제가 될 수 있다. 예를 들어, 몇몇 오염방지성 상면코팅의 종래의 도포 방법은 금속 또는 금속 산화물-함유 기재의 바람직한 특성을 유지하기 위해 제거될, 과량의 코팅의 도포를 필요로 하였다. 이러한 방법은 전형적으로 광택내기 또는 용매 세척과 같은 후처리 단계를 필요로 한다. 일반적으로, 이러한 후처리 단계는 비용을 증가시킬 수 있거나, 추가의 용매 사용을 필요로 할 수 있거나, 금속 또는 금속 산화물-함유 기재의 분해 확률을 높일 수 있거나, 또는 이들을 조합한 것일 수 있으므로 제조자들에게는 바람직하지 않다.
발명의 요약
본 발명은 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물 및 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 함유하는 조성물을 제공한다. 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물은 오염방지성, 부식방지성, 세척 용이성, 방수성, 소수성, 소유성 또는 내변색성 등의 특성 중 하나 이상을 제공하기 위해 기재에 부착될 수 있다.
본 발명의 일면에서, 하기 화학식 I에 따른 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 제공한다.
Rf-(Y-BTA)j
상기 식에서, Rf는 1가 또는 2가 퍼플루오로폴리에테르기이고; Y는 공유결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합 (여기서, 알킬렌, 아릴렌 또는 헤테로알킬렌기는 비치환되거나, 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있음)으로부터 선 택되는 2가 유기 연결기이고; j는 1 또는 2이고; BTA는 하기 구조식 중 하나 이상을 가지는 1가 벤조트리아졸릴기이다:
Figure 112006062670449-PCT00001
벤조트리아졸릴기는 비치환되거나 알킬, 알콕시 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있다. *표는 화합물의 나머지 부분에서 벤조트리아졸릴기가 부착되는 곳을 나타낸다.
본 발명의 다른 일면은 화학식 I의 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물과 용매를 포함하는 조성물을 제공한다. 어떤 실시태양에서, 용매는 알코올, 히드로플루오로에테르 또는 이들의 조합으로부터 선택된다.
본 발명의 다른 일면은 제품 및 제품의 제조 방법을 제공한다. 제품은 기재 및 기재 표면에 부착된 화학식 I의 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 포함한다.
본 발명의 또다른 일면은 기재 표면에 코팅 조성물을 도포하는 단계를 포함하는, 코팅 조성물 도포에 의한 기재 처리 방법을 제공한다. 코팅 조성물은 화학식 I의 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 포함한다.
상기 요약은 본 발명의 개시된 각각의 실시태양 또는 모든 실시태양을 설명하려는 의도가 아니다. 하기 상세한 설명란에서 이들 실시태양을 좀 더 상세하게 설명한다.
본 발명은 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물 및 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물 함유 조성물을 제공한다. 또한, 제품, 제품의 제조 방법 및 기재 처리 방법을 기술한다.
용어 정의
본원에서, "a", "an", 및 "the"는 "적어도 하나" 또는 그 이상의 요소를 설명할 때 상호 교환적으로 사용된다.
본원에서, 용어 "아실"은 화학식 R(CO)-에서, (CO)는 탄소가 산소에 이중 결합으로 부착되고, R은 알킬기을 나타내는 기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "알코올"은 화학식 ROH에서 R이 알킬기인 화합물을 지칭한다.
본원에서, 용어 "알칸"은 포화 탄화수소를 지칭한다. 알칸은 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조 또는 이들의 조합일 수 있다. 알칸은 전형적으로 1 내지 30개의 탄소 원자를 갖는다. 몇몇 실시태양에서, 알칸은 1 내지 20개, 1 내지 10개, 1 내지 8개, 1 내지 6개, 1 내지 4개, 또는 1 내지 3개의 탄소 원자를 갖는다.
본원에서, 용어 "알콕시"는 화학식 -OR에서 R은 알킬기인 기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "알킬"은 알칸으로부터 수소 원자 1개를 제거하여 형성된 1가 잔기를 지칭한다. 알킬은 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조 또는 이들의 조합일 수 있다. 시클로알킬은 환형 알킬이며, 알킬의 하위군이다.
본원에서, 용어 "알킬렌"은 알칸으로부터 수소 원자 2개를 제거하여 형성된 2가 잔기를 지칭한다. 알킬렌은 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조 또는 이들의 조합일 수 있다.
본원에서, 용어 "아릴"은 1 내지 5개의 연결된 고리, 다중 융합 고리 또는 이들의 조합을 가지는 카르보시클릭 방향족 화합물의 1가 잔기를 지칭한다. 몇몇 실시태양에서, 아릴기는 4개, 3개, 2개 또는 1개의 고리를 갖는다. 아릴기는 예를 들어 페닐일 수 있다.
본원에서, 용어 "아릴렌"은 1 내지 5개의 연결된 고리, 다중 융합 고리 또는 이들의 조합을 가지는 카르보시클릭 방향족 화합물의 2가 잔기를 지칭한다. 몇몇 실시태양에서, 아릴렌기는 4개, 3개, 2개 또는 1개의 고리를 갖는다. 아릴렌기는 예를 들어 페닐렌일 수 있다.
본원에서, 용어 "카르보닐"은 화학식 -(CO)-에서, 탄소가 산소에 이중 결합으로 부착된 2가 기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "카르보닐옥시"는 화학식 -(CO)O-의 2가 기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "카르보닐이미노"는 화학식 -(CO)NRd에서, Rd는 수소 또는 알킬인 2가 기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "플루오로알킬"은 1개 이상의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 알킬기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "플루오로에테르"는 산소 원자와 연결된 포화 또는 불포화 탄화수소기를 2개 가지는 기 또는 화합물 (즉, 사슬로 연결된 산소 원자가 1개 존재)을 지칭한다. 하나 이상의 탄화수소기는 불소 원자로 치환된 수소 원자를 하나 이상 갖는다. 탄화수소기는 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조 또는 이들의 조합일 수 있다.
본원에서, 용어 "플루오로폴리에테르"는 산소 원자와 연결된 포화 또는 불포화 탄화수소기를 3개 이상 가지는 기 또는 화합물 (즉, 사슬로 연결된 산소 원자가 2개 이상 존재)을 지칭한다. 적어도 하나, 전형적으로는 둘 이상의 탄화수소기는 불소 원자로 치환된 수소 원자를 하나 이상 갖는다. 탄화수소기는 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조 또는 이들의 조합일 수 있다.
본원에서, 용어 "할로"는 염소, 브롬 또는 불소를 지칭한다.
본원에서, 용어 "헤테로알칸"은 황, 산소 또는 NRd (여기서, Rd는 수소 원자 또는 알킬임)로 치환된 탄소 원자를 하나 이상 가지는 알칸을 지칭한다. 헤테로알칸은 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조 또는 이들의 조합일 수 있다. 몇몇 실시태양에서, 헤테로알칸은 20개 이하, 10개 이하, 8개 이하, 6개 이하 또는 4개 이하의 탄소 원자를 갖는다. 에테르 및 폴리에테르는 헤테로알칸의 하위군이다.
본원에서, 용어 "헤테로알킬"은 헤테로알칸에서 수소 원자 1개를 제거하여 형성된 1가 잔기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "헤테로알킬렌"은 헤테로알칸에서 수소 원자 2개를 제거하여 형성된 2가 잔기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "퍼플루오로알칸"은 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환된 알칸을 지칭한다.
본원에서, 용어 "퍼플루오로알칸디일"은 퍼플루오로알칸으로부터 2개의 불소 원자를 제거하여 형성된, 라디칼 중심이 상이한 탄소 원자 상에 위치한 2가 잔기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "퍼플루오로알칸트리일"은 퍼플루오로알칸으로부터 3개의 불소 원자를 제거하여 형성된 3가 잔기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "퍼플루오로알킬"은 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환된 알킬기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "퍼플루오로알킬리덴"은 퍼플루오로알칸으로부터 불소 원자 2개를 제거하여 형성된, 라디칼 중심이 동일한 탄소 원자 상에 있는 2가 잔기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "퍼플루오로알콕시"는 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환된 알콕시기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "퍼플루오로에테르"는 모든 탄화수소기 상의 모든 수소가 불소 원자로 치환된 플루오로에테르를 지칭한다.
본원에서, 용어 "퍼플루오로폴리에테르"는 모든 탄화수소기 상의 모든 수소가 불소 원자로 치환된 플루오로폴리에테르기를 지칭한다.
본원에서, 용어 "술폰아미도"는 화학식 -SO2NRa-에서, Ra는 수소 원자, 알킬 또는 아릴인 기를 지칭한다.
본원에서, 별표 ("*")는 기 또는 잔기가 화합물에 부착되는 위치를 나타낸다.
화합물
본 발명에서는 하기 화학식 I에 따른 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 제공한다.
<화학식 I>
Rf-(Y-BTA)j
상기 식에서, Rf는 1가 또는 2가 퍼플루오로폴리에테르기이고; Y는 공유 결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 2가 유기 연결기(여기서, 알킬렌, 아릴렌, 또는 헤테로알킬렌기는 비치환되거나, 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있음)이고; j는 1 또는 2이고; BTA는 하기 구조 중 하나를 가지는 1가 벤조트리아졸릴기이다:
Figure 112006062670449-PCT00002
벤조트리아졸릴기는 비치환되거나, 알킬, 알콕시 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있다.
화학식 I에 따른 화합물 중 퍼플루오로폴리에테르기 Rf는 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조 또는 이들의 조합일 수 있다. 또한, 퍼플루오로폴리에테르기 Rf는 치환되거나 비치환될 수 있다. 퍼플루오로폴리에테르기 Rf는 사슬로 연결된 산소 원자를 2개 이상 가지며, 1가 (즉, 화학식 I에서 j가 1) 또는 2가 (즉, 화학식 I에서 j가 2)일 수 있다. 많은 화합물에서, j는 1이다.
화학식 I에 따른 화합물 중 퍼플루오로폴리에테르기 Rf의 일례로는, -(CpF2p)-, -(CpF2pO)-, -(CF(Z)O)-, -(CF(Z)CpF2pO)-, -(CpF2pCF(Z)O)-, -CF2CF(Z)O)- 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 퍼플루오로화 반복 단위를 가지는 퍼플루오로폴리에테르기를 포함하나, 이에 한정되지 않는다. 이러한 반복 단위에서, p는 전형적으로 1 내지 10 범위의 정수이다. 몇몇 실시태양에서, p는 1 내지 8, 1 내지 6, 1 내지 4, 또는 1 내지 3인 정수이다. 도시된 퍼플루오로화 반복 단위 몇몇 중의 Z기는 퍼플루오로알킬기, 퍼플루오로에테르기, 퍼플루오로폴리에테르기 또는 퍼플루오로알콕시기일 수 있다. Z기는 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조 또는 이들의 조합일 수 있다. Z기는 전형적으로 12개 이하, 10개 이하, 9개 이하, 4개 이하, 3개 이하, 2개 이하 또는 1개 이하의 탄소 원자를 갖는다. 몇몇 실시태양에서, Z기는 4개 이하, 3개 이하, 2개 이하, 1개 이하의 산소 원자를 갖거나, 또는 산소 원자를 전혀 가지지 않는다. 몇몇 화합물에서, Rf기는 1개의 퍼플루오로화 반복 단위를 갖는다. 다른 화합물에서, 상이한 퍼플루오로화 반복 단위가 블록으로 또는 임의의 배열로 결합하여 Rf기를 형성한다.
퍼플루오로폴리에테르기 Rf가 1가일 경우, 퍼플루오로폴리에테르기 Rf의 말단기는 (CpF2p +1)-, (CpF2p +1O)-, (X'CpF2pO)- 또는 (X'CpF2p)- (여기서, 예컨대 X'는 수소, 염소 또는 브롬일 수 있고; p는 1 내지 10, 1 내지 8, 1 내지 6, 1 내지 4, 또는 1 내지 3인 정수임) 일 수 있다. 1가 퍼플루오로폴리에테르기 Rf의 몇몇 예로는 C3F70(CF(CF3)CF20)nCF(CF3)-, C3F70(CF2CF2CF20)nCF2CF2- 및 CF30(C2F40)nCF2- (여기서, n이 0 내지 50, 1 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15 또는 3 내지 10의 평균값을 가짐)을 포함하나, 이에 한정되지 않는다.
다른 1가 퍼플루오로폴리에테르기 Rf의 예로는 CF30(CF20)q(C2F40)nCF2- 및 F(CF2)30(C4F80)n(CF2)3- (여기서, q는 0 내지 50, 1 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15, 또는 3 내지 10의 평균값을 가질 수 있고; n은 0 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15, 또는 3 내지 10의 평균값을 가질 수 있음)을 포함하나, 이에 한정되지 않는다.
2가 퍼플루오로폴리에테르기 Rf의 몇몇 예로는 -CF20(CF20)q(C2F40)nCF2-, -CF20(C2F40)nCF2-, -(CF2)30(C4F80)n(CF2)3- 및 -CF(CF3)(OCF2CF(CF3))sOCtF2tO(CF(CF3)CF20)nCF(CF3)- (여기서, q는 0 내지 50, 1 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15, 또는 3 내지 10의 평균값을 가질 수 있고; n은 0 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15, 또는 3 내지 10의 평균값을 가질 수 있고; s는 0 내지 50, 1 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15, 또는 3 내지 10의 평균값을 가질 수 있고; n 및 s의 합 (즉, n+s)은 0 내지 50 또는 4 내지 40의 평균값을 가질 수 있고; q 및 n의 합 (즉, q+n)은 0보다 크고; t는 2 내지 6의 정수일 수 있음)을 포함하나, 이에 한정되지 않는다.
합성될 때, 화학식 I에 따른 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물은 전형적으로 상이한 퍼플루오로폴리에테르기들 Rf을 가지는 혼합물이다 (즉, 화합물이 단일 화합물로 합성되지 않고, 상이한 Rf기를 가지는 화합물들의 혼합물로 합성된다.). 예를 들어, q, n 및 s 값은 혼합물이 400 g/몰 이상의 수평균분자량을 갖는 한 다양할 수 있다. 적절한 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 혼합물은 전형적으로 400 g/몰 이상, 800 g/몰 이상, 또는 1000 g/몰 이상의 수평균분자량을 갖는다. 상이한 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물의 혼합물은 종종 400 내지 10000 g/몰, 800 내지 4000 g/몰, 또는 1000 내지 3000 g/몰의 수평균분자량을 갖는다.
화학식 I에 따른 화합물 중 연결기 Y는 단일의 공유 결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 2가 유기기일 수 있다. 연결기 Y에 포함된 임의의 알킬렌, 아릴렌 또는 헤테로알킬렌은 비치환되거나, 대안적으로 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있다. 알킬 또는 알콕시 치환체는 보통 10개 이하, 6개 이하, 또는 4개 이하의 탄소 원자를 갖는다.
연결기 Y는 전형적으로 30개 이하의 탄소 원자를 갖는다. 몇몇 화합물에서, 연결기 Y는 20개 이하, 10개 이하, 6개 이하, 또는 4개 이하의 탄소 원자를 갖는다. Y기의 몇몇 예로는, -(CO)NRd-, -(CO)O-, -CkH2kO(CO)-, -(CO)NRd-CkH2k-(CO)O-, -(CO)NRd-CkH2k-(CO)NRd-, -(CO)NRd-CkH2k-O(CO)-, -(CO)O-CkH2k-(CO)O-, -(CO)O-CkH2k-(CO)NRd-, -(CO)NRd-Ar-(CO)O-, -(CO)NRd-Ar-(CO)NRd-, -(CO)NRd-Ar-O(CO)-, -(CO)O-Ar-(CO)O-, -(CO)O-Ar-(CO)NRd- 또는 -(CO)-Ar-O(CO)- (여기서, Ar은 아릴렌 (예를 들어, 페닐렌)이고, k는 1 내지 10인 정수이고, Rd는 수소 또는 알킬임)을 포함하나 이에 한정되지 않는다.
몇몇 화합물에서, Y는 카르보닐옥시, 카르보닐이미노 및 알킬렌으로부터 선택된다. 알킬렌은 비치환되거나, 알킬, 알콕시, 할로 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있다. 이들의 예로서는, -(CO)NRd-, -(CO)O-, -CkH2kO(CO)-, -(CO)NRd-CkH2k-(CO)O-, -(CO)NRd-CkH2k-(CO)NRd, -(CO)NRd-CkH2k-O(CO)-, -(CO)O-CkH2k-(CO)O- 또는 -(CO)O-CkH2k-(CO)NRd- (여기서, k는 1 내지 10인 정수이고, Rd는 수소 또는 알킬임)을 포함하나, 이에 한정되지 않는다. Y기의 몇몇 예로서는, -CH20(CO)-(CO)NRdCH2CH20(CO)-, -(CO)NRdCH2CH20(CO)- 및 -(CO)NRdCH2CH2NRd(CO)- (여기서, Rd는 수소 또는 알킬(예를 들어, 탄소 원자수 1 내지 10인 알킬)임)을 포함한다. 더욱 구체적인 Y의 예로서는, -(CO)NH-, -CH20(CO)-, -(CO)NH-C2H4-(CO)O-, -(CO)NH-C2H4-(CO)NH-, -(CO)NH-C2H4-O(CO)-, -(CO)O-C2H4-(CO)O-, -(CO)O-C2H4-(CO)NH-, -(CO)N(CH3)-, -(CO)N(CH3)-C2H4-O(CO)- 및 -(CO)N(CH3)-C2H4-(CO)NH-을 포함하나, 이에 한정되지 않는다.
몇몇 실시태양에서, 벤조트리아졸릴기는 비치환된다 (예를 들어, 벤젠 고리는 알킬 또는 알콕시기로 치환되지 않는다). 다른 실시태양에서, 벤조트리아졸릴기는 알킬 또는 알콕시기로 치환된다. 알킬 또는 알콕시 치환체는 10개 이하, 6개 이하 또는 4개 이하의 탄소 원자를 가질 수 있다.
화학식 I로 나타낸 화합물의 범주에 속하는 화합물의 몇몇 예로는, 하기 화학식 II, 화학식 III, 화학식 IV 및 화학식 V로 나타낸 화합물을 포함한다.
Figure 112006062670449-PCT00003
Figure 112006062670449-PCT00004
Figure 112006062670449-PCT00005
Figure 112006062670449-PCT00006
상기 식에서, Rf는 상기 설명한 것과 같은 1가 퍼플루오로폴리에테르기이다.
화학식 I 및 화학식 II에 따른 화합물의 더욱 구체적인 몇몇 예로는, 하기 화학식 VI로 나타낸 화합물을 포함한다.
Figure 112006062670449-PCT00007
상기 식에서, n이 0 내지 50, 1 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15 또는 3 내지 10의 평균값을 가질 수 있다. 화학식 VI에 따른 몇몇 화합물에서, n은 3 이상, 4 이상, 또는 5 이상의 평균값을 갖는다.
화학식 I 및 화학식 III에 따른 화합물의 더욱 구체적인 몇몇 예로는, 하기 화학식 VII로 나타낸 화합물을 포함한다:
Figure 112006062670449-PCT00008
상기 식에서, n은 0 내지 50, 1 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15, 또는 3 내지 10의 평균값을 가질 수 있다. 화학식 VII에 따른 몇몇 화합물에서, n은 3 이상, 4 이상, 또는 5 이상의 평균값을 가질 수 있다.
조성물
용매 및 화학식 I에 따른 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 포함하는 조성물이 제공된다:
< 화학식 I >
Rf-(Y-BTA)j
상기 식에서, Rf는 1가 또는 2가 퍼플루오로폴리에테르기이고; Y는 공유결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합 (여기서, 알킬렌, 아릴렌 또는 헤테로알킬렌기는 비치환되거나, 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있음)으로부터 선택되는 2가 유기 연결기이고; j는 1 또는 2이고; BTA는 하기 구조식 중 하나 이상을 가지는 1가 벤조트리아졸릴기이다:
Figure 112006062670449-PCT00009
벤조트리아졸릴기는 비치환되거나 알킬, 알콕시 또는 이들의 조합으로 치환될 수 있다. 퍼플루오로폴리에테르기 Rf, 연결기 Y, 및 화학식 I에 의해 나타나는 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물에 대한 기타 세부사항들은 상기에서 설명되고 있다.
벤조트리아졸 화합물을 용해시키거나 분산시키는데 적합한 용매가 용매로서 사용될 수 있다. 일부 실시태양에서, 용매는 화학식 I에 따른 화합물을 거의 완전히 용해시킨다. 적당한 용매의 예는 알코올(예를 들어, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 2-메틸-2-프로판올, 1-부탄올, 및 2-부탄올), 에스테르, 케톤(예를 들어, 에틸 아세테이트 및 아세톤), 플루오르화 탄화수소(예를 들어, 플루오르-치환된 알칸), 에테르(예를 들어, 히드로플루오로에테르 및 히드로클로로플루오로에테르), 및 히드로클로로플루오로 알칸을 포함하지만, 이들에 한정되지는 않는다. 그러한 용매들의 혼합물이 사용될 수 있다. 몇몇 적용분야에서, 용매는 알코올, 히드로플루오로에테르, 또는 이들의 조합이다.
적합한 히드로플루오로에테르는 예를 들면, 하기 화학식 VIII의 범위 내에 들 수 있다.
Figure 112006062670449-PCT00010
상기 식에서, a는 1 내지 3의 정수이고, Rf 1 기는 퍼플루오로알칸, 퍼플루오로에테르, 또는 퍼플루오로폴리에테르의 1가, 2가, 또는 3가 잔기이고; Rh는 알킬 또는 헤테로알킬이다. Rf 1 기는 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조, 또는 이들의 조합을 가질 수 있다. 마찬가지로, Rh 기는 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조, 또는 이들의 조합을 가질 수 있다. Rf 1 기 중의 탄소 원자의 개수 및 Rh 기 중의 탄소 원자의 개수의 합은 전형적으로, 4보다 크거나 같을 것이다.
Rf 1 기는, a가 1일 때에는 1가, a가 2일 때에는 2가, 그리고 a가 3일 때에는 3가이다. Rf 1 기는 전형적으로, 30개 이하의 탄소 원자, 20개 이하의 탄소 원자, 15개 이하의 탄소 원자, 12개 이하의 탄소 원자, 또는 8개 이하의 탄소 원자를 함유한다. Rf 1 기는 1개 이상, 2개 이상, 3개 이상, 또는 4개 이상의 탄소 원자를 포함할 수 있다. 몇몇 적용분야에서, Rf 1은 4 내지 9개의 탄소 원자, 4 내지 8개, 4 내지 7개, 5 내지 7개, 또는 5 내지 6개의 탄소 원자를 포함한다. 2가 Rf 1 기의 경 우, 라디칼 중심은 동일 또는 상이한 탄소 원자 상에 있을 수 있다. 3가 Rf 1 기의 경우, 라디칼 중심이 각각 상이한 탄소 원자 상에 있을 수 있거나, 또는 라디칼 중심들 중 2개가 동일한 탄소 원자 상에 있을 수 있다.
a가 1인 화학식 VIII에 따른 일부 화합물에서, Rf 1 기는 예를 들어, (1) 2 내지 약 15개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 퍼플루오로알킬기, (2) 5 내지 약 15개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로시클로알킬-함유 퍼플루오로알킬기, 또는 (3) 3 내지 약 12개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로시클로알킬기일 수 있다. 환형 구조는 임의로, 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기로 치환될 수 있다.
a가 2인 화학식 VIII에 따른 일부 화합물에서, Rf 1 기는 (1) 직쇄 또는 분지쇄 퍼플루오로알칸디일기, (2) 2 내지 약 15개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬리덴기, (3) 5 내지 약 15개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로시클로알킬- 또는 퍼플루오로시클로알킬렌-함유 퍼플루오로알칸디일 또는 퍼플루오로알킬리덴기, 또는 (4) 3 내지 약 12개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로시클로알칸디일기 또는 퍼플루오로시클로알킬리덴기일 수 있다. 환형 구조는 임의로, 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기로 치환될 수 있다.
a가 3인 화학식 VIII에 따른 일부 화합물에서, Rf 1 기는 (1) 2 내지 약 15개 의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 퍼플루오로알칸트리일기, (2) 약 6 내지 15개의 탄소 원자로 된 퍼플루오로시클로알킬- 또는 퍼플루오로시클로알킬렌-함유 기 또는 (3) 3 내지 약 12개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로시클로알칸트리일기일 수 있다. 환형 구조는 임의로, 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 퍼플루오로알킬기로 치환될 수 있다.
화학식 VIII에 따른 화합물에서, 각 Rh 기는 독립적으로, 알킬 또는 헤테로알킬일 수 있다. Rh로서 사용가능한 각 기들은 직쇄 구조, 분지쇄 구조, 환형 구조, 또는 이들의 조합을 가질 수 있다. Rh가 헤테로알킬기인 일부 실시태양에서, 헤테로알킬 잔기는 에테르기 또는 폴리에테르기일 수 있다. Rh 기로서 사용되는 알킬 또는 헤테로알킬기는 흔히, 20개 이하의 탄소 원자, 10개 이하의 탄소 원자, 또는 8개 이하의 탄소 원자를 가질 것이다. 화학식 VIII에 따른 일부 화합물에서, Rh 기는 1 내지 8개의 탄소 원자를 가질 수 있다. 예를 들면, 화학식 VIII에 따른 화합물 중의 Rh 기는 4 내지 약 8개의 탄소 원자를 갖는 시클로알킬-함유 알킬기 또는 3 내지 약 8개의 탄소 원자를 갖는 시클로알킬기일 수 있다.
화학식 VIII에 따른 화합물의 범위 내에 드는 일부 구체적인 히드로플루오로에테르의 예는 메틸 퍼플루오로-n-부틸 에테르, 메틸 퍼플루오로이소부틸 에테르, 에틸 퍼플루오로-n-부틸 에테르, 에틸 퍼플루오로이소부틸 에테르, 또는 이들의 조합을 포함하지만, 이들에 한정되지는 않는다.
퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물의 합성
화학식 I에 따른 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물은 일반적으로, (a) 카르복시실산 벤조트리아졸, 아미노-벤조트리아졸, 벤조트리아졸 알코올, 또는 벤조트리아졸 에스테르와 같은 벤조트리아졸과, (b) 퍼플루오로폴리에테르 아실 할라이드, 퍼플루오로폴리에테르 아미도 알코올, 또는 퍼플루오로폴리에테르 알코올과 같은 관능기를 함유하는 퍼플루오로폴리에테르를 반응시킴으로써 합성될 수 있다. 본 반응은 일반적으로, 적합한 용매 중에 용해(또는 분산)되어 있는 벤조트리아졸 및 퍼플루오로폴리에테르가 있는 용액 중에서 수행된다. 유용한 용매는 트리에틸아민, 테트라히드로푸란, N,N-디메틸포름아미드, t-부틸 메틸 에테르, 및 이들의 임의의 혼합물을 포함한다. 반응은 약 20℃ 내지 약 50℃ 범위의 온도에서 수행되어 생성물을 함유하는 혼합물을 수득할 수 있다. 생성물은 임의로, 잔류 용매를 제거하기 위해, 회전 증발과 같은 적합한 과정을 거칠 수 있다. 생성물은 또한 임의로, 예를 들어 분별 증류 또는 용매 용해에 이은 침전과 같은 공지의 기법을 사용하여 정제될 수 있다.
화학식 I에 따른 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물, 구체적으로는 화학식 II, 화학식 III, 화학식 IV, 및 화학식 V에 따른 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 제조하기 위한, 몇몇 반응식의 예가 각각 하기 반응식 A, 반응식 B, 반응식 C, 및 반응식 D에서 제공된다.
Figure 112006062670449-PCT00011
Figure 112006062670449-PCT00012
Figure 112006062670449-PCT00013
Figure 112006062670449-PCT00014
상기 식에서, Rf는 1가 퍼플루오로폴리에테르기이다.
퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 사용하는 제품 및 방법
본 발명의 다른 측면은 기재 및 기재 표면에 부착된 화학식 I에 따른 화합물을 포함하는 제품을 제공한다. 화학식 I에 따른 화합물은 상기에서 설명된 바와 같다. 몇몇 실시태양에서, 화학식 I의 화합물은 기재의 한 표면에 부착된다. 다 른 실시태양에서, 화학식 I의 화합물은 기재의 2 이상의 표면에 부착된다(예를 들어, 화학식 I의 화합물은 기재의 모든 표면에 부착될 수 있음).
본 발명의 또다른 측면은 기재의 표면에 코팅 조성물을 도포하는 것을 포함하는 제품 제조 방법을 제공한다. 본 코팅 조성물은 화학식 I에 따른 화합물을 포함한다. 몇몇 실시태양에서, 코팅 조성물은 화학식 I에 따른 화합물 및 용매를 포함한다. 화학식 I에 따른 화합물은 상기에서 설명된 바와 같다. 용매는, 예를 들어 알코올, 히드로플루오로에테르, 또는 이들의 조합으로부터 선택될 수 있다.
기재는 화학식 I의 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물을 흡수하거나, 그와 결합을 형성할 수 있는 임의의 적합한 고형 지지체이다. 기재는 다공성 또는 비다공성, 강성 또는 연성, 투명 또는 불투명, 무색 또는 유색, 그리고 반사성 또는 비반사성일 수 있다. 기재는 단일 층 재료일 수 있거나, 다층 재료를 포함할 수 있다.
몇몇 실시태양에서, 기재는 기저층 및 기저층의 적어도 한 표면 상의 금속-함유 층을 포함한다. 기저층은 유리, 세라믹, 중합체성 재료, 금속, 금속 산화물, 또는 이들의 조합으로부터 제조될 수 있다. 금속-함유 층은 금속, 금속 산화물, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 예시적인 금속-함유 층은 금, 백금, 크롬, 알루미늄, 구리, 은, 티탄, 인듐, 게르마늄, 주석, 니켈, 인듐 주석, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 많은 금속 표면들은 적어도 몇몇 금속 산화물들을 함유한다. 몇몇 적용분야에서, 금속-함유 층은 산화크롬, 산화알루미늄, 산화구리, 산화은, 산화티탄, 산화인듐, 산화게르마늄, 산화주석, 산화니켈, 산화인듐주석, 또는 이들의 조합과 같은 금속 산화물을 포함한다.
화학식 I에 따른 화합물을 포함하는 코팅은 기재 표면에 도포되어 낮은 에너지 표면을 갖는 제품을 제공할 수 있다. 본 코팅은 먼지, 기타 입자들, 및 손자국으로부터의 피부 오일이, 예를 들어 기재 표면에 부착되는 것을 억제함으로써 기재 표면을 오염에 대해 더 내성 있게 할 수 있다. 적어도 몇몇 실시태양에서, 코팅은 기재 표면을 건조 와이핑 또는 용매로 더 쉽게 세정되도록 할 수 있다. 적합한 세정 용매는 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 또는 퍼플루오로탄소 또는 히드로플루오로에테르와 같은 플루오르화 용매를 포함하지만, 이들에 한정되지는 않는다. 코팅은 보통, 화학식 I에 따른 화합물의 코팅의 유익한 특성들에 유해한 영향을 미치지 않으면서, 다중 세정을 견뎌 낼 수 있다.
몇몇 적용분야에서, 기재는 금속-함유 표면 층을 갖는, 반도체와 같은 전자 부품이다. 금속-함유 코팅은 금속, 금속 산화물, 또는 이들의 조합을 함유할 수 있다. 화학식 I에 따른 화합물의 코팅은, 예를 들어 항-오염 특성을 부여하기 위해 도포될 수 있다.
다른 적용분야에서, 화학식 I에 따른 화합물의 코팅은 문, 창문, 액자, 광학 렌즈, 필터, 디스플레이 장치(예를 들어, 전자 장치의 디스플레이 패널) 등에서 사용되는 것과 같은 광학 기재에 도포된다. 예를 들어, 기재는 금속-함유 코팅을 가진 광학 부품일 수 있다. 금속-함유 코팅은 금속, 금속 산화물, 또는 이들의 조합을 함유할 수 있다. 구체적인 예에서, 광학 부품은 항-반사 금속-함유 층을 가진 렌즈일 수 있다. 화학식 I에 따른 화합물의 코팅은 항-오염 내성을 제공하기 위해 도포될 수 있다. 다른 구체적인 예에서, 광학 부품은 은-함유 코팅을 가진 거울일 수 있다. 은-함유 코팅은 은 금속, 산화은, 또는 이들의 조합을 함유할 수 있다. 화학식 I에 따른 화합물의 코팅은 변색에 대한 내성을 제공하기 위해 금속-함유 표면에 도포될 수 있다.
몇몇 적용분야에서, 화학식 I에 따른 화합물은 기재 상에서 자기조립된 단일층을 형성할 수 있다. 본원에서, 용어 "자기조립"은 기재 표면에 대한 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물의 자발적인 흡착을 말한다. 자기조립된 단일층은 실질적으로 연속적일 수 있고, 처리될 기재의 표면에 화학식 I에 따른 화합물을 접촉시킴으로써 형성될 수 있다. 화학식 I에 따른 화합물의 분자들은, 이들의 분자 구조들이 허용하는 만큼 치밀하게 서로 충전되는 개개의 화학식 I에 따른 화합물 분자들에 의해 실질적으로 연속적인 막으로서 자기조립된 단일층을 형성할 수 있다.
자기조립된 단일층의 효과 및 자기조립된 단일층이 금속-함유 기재의 표면 상에 형성되는 정도는 일반적으로, 특정 기재에 대한 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 화합물의 흡착 강도 뿐 아니라, 자기조립된 단일층의 사용 조건에 의존적이다. 자기조립된 단일층은 일반적으로, 약 10 나노미터("nm") 이하 정도만큼 얇고, 전형적으로 기재의 광학 또는 표면 구조 특성을 심각하게 변경시키지 않는다. 많은 실시태양에서, 자기조립된 단일층은 약 1 nm 내지 약 10 nm의 두께를 가질 수 있다. 적어도 몇몇 실시태양에서, 자기조립된 단일층은 두께가 약 2 내지 약 6 nm이다.
기재에 코팅(예를 들어, 자기조립된 단일층)을 도포하는 한 가지 방법에서, 화학식 I에 따른 화합물 및 적합한 용매(예를 들어, 알코올, 히드로플루오로에테르, 또는 이들의 조합)을 포함하는 코팅 조성물은 분무 코팅, 스핀 코팅, 딥 코팅(침지) 등과 같은 통상적인 코팅 과정에 의해 기재 표면에 도포된다. 한 가지 예시적인 도포 기법은 코팅 조성물 중의 기재 침지를 수반한다; 이 기법은 용매 방출 및, 기재를 긁거나 또는 손상시킬 가능성을 감소시킬 수 있다. 도포된 코팅을 가진 기재는 그 뒤, 공기 건조에 의해 용매를 제거시킬 수 있고, 이어서 전형적으로 약 100℃ 내지 약 150℃의 온도에서 약 30분 이하 동안 오븐 중에서 베이킹되어 임의의 잔류 용매를 제거하고 기재 표면에 대한 코팅의 결합을 증강시킬 수 있다.
후처리 과정이 제품 제조 방법에 포함될 수 있지만, 코팅이 자기조립된 단일층이라면 그러한 후처리 과정은 흔히 불필요하다. 즉, 연마 또는 용매 세척과 같은 추가적인 후처리 단계들은, 코팅이 자기조립된 단일층인 경우, 흔히 불필요하다.
화학식 I에 따른 화합물들은 흔히, 본질적으로 동일한 물리적 특성을 갖는 2개의 불가분의 이성질체들의 혼합물인 3M 노벡™ 엔지니어드 플루이드 HFE-7100(3M NOVEC™ Engineered Fluid HFE-7100)(퍼플루오로부틸 메틸 에테르)과 같은 히드로플루오로에테르; 또는 이소프로필 알코올, 에틸 아세테이트, 및 아세톤과 같은 기타 유기 용매들 중에서 가용성(또는 분산성)이다. 이 가용성(또는 분산성)은 과량의 재료로 된 균일한 막이, 용액으로부터 분무 또는 스핀 코팅에 의해 도포되도록 한다. 기재는 그 뒤, 가열되어 단일층 형성을 가속시킬 수 있으며, 과량은 헹궈지 거나 닦여져 기재에 부착된 자기조립된 단일층을 남길 수 있다.
코팅으로서, 바람직하게는 자기조립된 단일층으로서 기재 표면 상에 도포될 수 있는 화학식 I에 따른 화합물의 예는 하기 화학식 VI 및 화학식 VII에 의해 나타나는 화합물을 포함하지만, 이들에 한정되지는 않는다:
< 화학식 VI >
Figure 112006062670449-PCT00015
< 화학식 VII >
Figure 112006062670449-PCT00016
상기 식에서, n은 0 내지 50, 1 내지 50, 3 내지 30, 3 내지 15, 또는 3 내지 10의 평균 값을 가질 수 있다. 몇몇 적용분야에서, n은 3 이상, 4 이상, 또는 5 이상의 값을 가진다.
본 발명의 특징 및 이점들은 특정 재료 및 양을 도입한 하기 실시예들에서 예시되며, 이는 본 발명을 제한하는 것으로 이해되어서는 안 된다. 모든 재료들은, 다르게 서술되거나 명백하지 않다면, 상업적으로 입수가능한 것들이다. 본 실시예 중의 모든 부분, 백분율, 비율 등은 다르게 표시되지 않는다면, 중량 기준이 다.
실시예에 사용된 재료
다르게 언급되지 않는다면, 모든 용매 및 시약들은 미국 위스콘신주 밀워키에 소재한 알드리치 케미칼(Aldrich Chemical Co.)로부터 얻었거나, 얻을 수 있다. 5-아미노벤조트리아졸 및 벤조트리아졸-5-카르복실산은 미국 매사추세츠주 워드 힐에 소재한 알파 아이사(Alfa Aesar)로부터 얻었다. 구리-, 크롬-, 및 니켈-코팅된 100 mm 지름의 실리콘 웨이퍼는 미국 캘리포니아주 산 호세에 소재한 웨이퍼넷(WaferNet)으로부터 얻었다. 탈이온수는 미국 매사추세츠주 베드포드에 소재한 밀리포어 코포레이션(Milipore Corporation)으로부터 입수가능한 밀리-큐 워터 시스템(Milli-Q Water System)을 사용하여 제조하였다. 본원에서, "HFE 7100"은 메틸 퍼플루오로부틸 에테르를 말하며, 미국 미네소타주 세인트 폴에 소재한 3M 컴퍼니(3M Company)로부터 입수가능하다. 또한 본원에서, "THF"는 테트라히드로푸란을 말하며, "DMF"는 N,N-디메틸포름아미드를 말한다.
제조예 1:
Figure 112006062670449-PCT00017
의 합성
아실 플루오라이드기를 가진 헥사플루오로프로필렌 산화물 올리고머의 혼합물을, 본질적으로는 미국 특허번호 제3,350,808호의 기재대로 제조하였다. 혼합물 (50.3 g)을 바닥 배수 밸브 및 냉각 자켓이 장착된 450 mL 파르 압력 반응기(Parr pressure reactor) 내로 위치시켰다. 디에틸렌글리콜 디메틸 에테르(11.2 g) 및 플루오르화 칼륨(2.7 g)을 첨가하였다. 반응기를 밀봉하고, 재순환 냉동 시스템을 사용하여 -20℃로 냉각시켰다. 헥사플루오로프로필렌 산화물(HFPO)(167.4 g)을 약 0.6 g/분의 속도로 약 5시간에 걸쳐 반응기의 헤드 공간 내로 기체로서 첨가하였다. 첨가가 끝날 때의 반응기 내 압력은 24 psig이었다. 얻어진 혼합물을 약 60시간 동안 교반하면서 천천히 주위 온도로 가온시켰다. 교반기를 끄고, 약 1시간 후, 하부 불소화합물층을 배수(159 g)시켰다. 이 층은 아실 플루오라이드기를 가진 거의 모든 헥사플루오로프로필렌 산화물 올리고머를 함유하였다. 이 물질을 무수 메탄올을 첨가함으로써 상응하는 올리고머성 메틸 에스테르로 변환시켰다. 그리고 나서, 반응기를 약 -20℃로 냉각시키고, HFPO(152 g)를 전과 같이 첨가하되 메탄올로 처리하지는 않았다. 반응이 완료된 후, 하부 불소화합물층을 전과 같이 분리하였다. 이 순서를 4번 더 반복하고, 마지막 5번의 반응으로부터 얻어진 불소화합물 층들을 합하였다. 그리고 나서, 합해진 올리고머성 아실 플루오라이드를 진공 하에서 분별증류시켰다. 끓는점이 낮은 올리고머(n= 2까지, 그리고 일부 n= 3을 포함)를 85℃/5 mmHg의 헤드 온도로 증류시켰다. 증류기에 남아있는 HFPO 올리고머성 아실 플루오라이드(MN= 994, n= 3 - 8)를 이어서, 실시예 1의 벤조트리아졸 제조에 사용하였다.
실시예 1:
Figure 112006062670449-PCT00018
의 제조
둥근 바닥 플라스크 내에서 자석 교반된 t-부틸 메틸 에테르(125 mL) 중의 5-아미노벤조트리아졸(5.0 g) 현탁액에, 트리에틸아민(3.77 g)을 첨가하였다. 이 교반 혼합물에 제조예 1에 기재된 합성 생성물인 올리고머성 퍼플루오로에테르 아실 플루오라이드(35 g) 혼합물을 30분에 걸쳐 천천히 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 밤새 교반하고, 그 후 0.4 N 수성 HCl(100 mL)을 플라스크에 첨가하였다. 층들을 분별 깔대기를 사용하여 분리하고, 유기층을 0.4 N HCl 수용액으로 한 번 더 세정하였다. 층들을 분리하고, 유기층의 휘발성 성분들을 회전 증발기를 사용하여 제거하였다. 잔류물을 메탄올 중에 용해시키고, 생성물을 물에 침전시켜 고형물을 수득하였다. 이 고형물을 단리하고, 메탄올 중에서 흡수시키고, 생성물을 다시 물에 침전시켰다. 이 과정을 한 번 더 반복하고 나서, 얻어진 고형물을 실온에서 공기 중 건조시켜 황갈색 고형물로서 생성물을 얻었다. 황갈색 고형 생성물을 이루는 화합물의 1H NMR, 19F NMR 및 IR 스펙트럼은 각각, 상기에서 제공된 화학식과 일치하였다.
제조예 2
Figure 112006062670449-PCT00019
의 합성
제조예 1에 기재된 것과 유사한 방식으로 제조한 HFPO 유도 올리고머 아실 플루오라이드는, 무수 메탄올에 아실 플루오라이드를 첨가하여 대응하는 메틸 에스테르로 전환시킬 수 있었다. 하부 플루오르 화합물층을 상부 메탄올층으로부터 분리하여, 추가 메탄올로 한두 차례 세척하고, HFPO 아미드 알코올 합성에 추가 정제 없이 사용하였다. HFPO 메틸 에스테르에 에탄올아민의 30 % 몰 과량을 교반하며 한꺼번에 첨가하였다. 혼합물을 4 내지 6시간 동안 교반하였다. 그 뒤, 출발 메틸 에스테르 중량과 동일한 중량의 t-부틸 메틸 에테르를 첨가하고, 생성 용액을 2N 염산으로 세척하고(HCl 약 15 % 몰 과량을 반응 혼합물에 남아 있는 과량의 에탄올아민에 첨가), 그 뒤 물로 세척하였다. t-부틸 메틸 에테르와 그에 용해된 물을 감압하에서 증류로 제거하고, 생성되는 아미드 알코올을 추가 정제 없이 사용하였다.
실시예 2
Figure 112006062670449-PCT00020
의 제조
환류 냉각기와 가열 맨틀을 장착한 250 mL 둥근바닥 플라스크에 벤조트리아졸-5-카르복실산(5.0g), 올리고머성 퍼플루오로에테르 아미도 알코올 혼합물(38 g)(제조예 2의 생성물), 건조 DMF(10 mL), 및 건조 THF(80 mL)을 주입하였다. 이 혼합물을 자석 교반하면서, 플라스크에 N,N-디시클로헥실카르보디이미드(6.3 g) 및 4-(N,N-디메틸아미노)피리딘(0.6 g)을 첨가하였다. 혼합물을 2일간 교반 및 가열 환류하였다. 혼합물을 상온으로 식도록 방치하고 휘발 성분을 회전 증발기로 제거하였다. 잔류물을 실리카겔 상에서 헥산/에틸 아세테이트 70:30(v/v)를 용리액으로 사용하여 컬럼 크로마토그래피로 정제하였다. 단리된 갈색 물질을 회전 증발기로 농축하고, 잔류물을 에틸 아세테이트(150 mL)에 용해하고, 이 용액을 물(50 mL)로 두 차례 세척하였다. 유기층을 MgSO4로 건조하고 여과하였다. 휘발 성분을 회전 증발기로 제거하였다. 생성물(31.7 g)을 에틸 아세테이트에서 3차례 재결정하여 단리하였다. 생성물을 구성하는 화합물의 1H NMR, 19F NMR 및 IR 스펙트럼은 상기 도시된 구조식과 각각 일치하였다.
실시예 3-10: 처리될 금속 표면상의 물 접촉 각도
실시예 1에서 제조된 생성물을 0.2 중량 퍼센트 농도로 이소프로필 알코올로 희석하고, HFE 7100로 0.1 중량 퍼센트로 희석하여, 두 개의 코팅 용액을 제조하였다. 각 구리-, 크롬- 및 니켈-코팅된 실리콘 웨이퍼 1/4 조각들을 UV/오존 챔버에 5분간 노출시켜 세정하였다. UV/오존 챔버는 5 인치 x 5 인치 (12.5 cm x 12.5 cm)의 자외선 램프(상표명 "UV GRID LAMP", 모델 88-9102-02, 미국 캘리포니아주 클레어몬트의 BHK사 제품)를 포함하고, 작은 박판 금속 상자(13 cm 폭 x 14 cm 깊이 x 15 cm 폭)에 담아, 램프가 상자 바닥 위 8 cm 위치에 현수되도록 하였다. 작은 실험실용 잭을 사용하여, 세정할 금속 웨이퍼 조각을 물리적으로 램프를 접촉하지 않도록 자외선 램프에 가능한 한 가까이 위치시켰다. 상자의 앞면은 상부에 경첩되어 시료가 삽입 및 제거되도록 한 문이다. 산소원을 상자 한쪽의 작은 구멍에 부착하고, 산소를 상자로 분당 대략 1 내지 5 표준 리터로 주입하였다.
금속-코팅된 실리콘 웨이퍼 조각을 하기 방법들 중 하나에 의해 실시예 1에서 제조한 생성물 용액으로 처리하였다. 제1 방법은 금속-코팅된 실리콘 웨이퍼 조각을 각 용액에 1시간 동안 침지한 뒤, 용매로 헹구고 질소 기체 스트림 하에서 건조하는 단계를 수반한다. 제2 방법은 금속-코팅된 실리콘 웨이퍼를 CEE 모델 100 스핀코터(미국 미주리주 브루어 사이언스 오브 롤라(Brewer Science of Rolla) 사 제품)를 사용하여 각 용액을 먼저 500 rpm에서 5초간, 그 뒤 2000 rpm에서 15초간 스핀-코팅하고, 코팅된 웨이퍼를 표면 온도 150 ℃인 CEE 모델 1100 진공 열판(미국 미주리주 브루어 사이언스 오브 롤라 사 제품)상에서 3분간 가열하고, 웨이퍼를 용매로 헹구고, 질소 기체 스트림 하에서 웨이퍼를 건조하는 단계를 수반한다. 처리되는 표면 상에의 탈이온수의 정지, 전진 및 후퇴 접촉 각도는 모델 VCA-2500XE 비디오 접촉 각도 분석기(미국 매사추세츠주 빌레리카 AST 프로덕츠(AST Products) 제품)를 사용하여 측정하였고, 전진 접촉 각도 측정을 위한 5 마이크로리터, 그리고 전진 및 후퇴 접촉 각도 측정을 위한 1-3 마이크로리터 부피 액적을 측정하였다. 데이터를 표 1에 도시하였다. 표 1에서, "IPA"는 이소프로필 알코올을, "HFE"는 HFE 7100을, "S"는 정지 접촉 각도를, "A"는 전진 접촉 각도를, "R"은 후퇴 접촉 각도를 의미하며, 메탈-코팅된 실리콘 웨이퍼는 금속의 원소 기호로 식별하였다. 대조군으로 비교하기 위해, 세정한, 코팅되지 않은 금속 웨이퍼 상의 물 접촉 각도는 측정하기에 너무 낮았다(20o 미만).
실시예 3-10의 물 접촉 각도 데이터
실시예 용매 금속 코팅 제조 방법 물 접촉 각도 (S, A, R)
3 IPA Cu 침지 120o, 126o, 116o
4 IPA Cr 스핀코팅 136o, 145o, 115o
5 HFE Cu 침지 120o, 123o, 113o
6 HFE Cu 스핀코팅 117o, 127o, 101o
7 HFE Cr 침지 118o, 121o, 50o
8 HFE Cr 스핀코팅 136o, 143o, 114o
9 HFE Ni 침지 124o, 135o, 109o
10 HFE Ni 스핀코팅 124o, 134o, 113o
실시예 11-16: 처리될 금속 표면 상의 헥사데칸 접촉 각도
생성물을 HFE 7100로 0.1 중량 퍼센트로 희석하여, 실시예 1에서 제조된 생성물 용액을 제조하였다. 실시예 3-10에서 기재한 대로, 각 구리-, 크롬- 및 니켈-코팅된 실리콘 웨이퍼 1/4 조각들을 UV/오존 챔버에 5분간 노출시켜 세정하였다. 금속-코팅된 실리콘 웨이퍼 조각을 하기 방법들 중 하나에 의해 실시예 1에서 제조한 생성물 용액으로 처리하였다. 제1 방법은 금속 산화물이 코팅된 실리콘 웨이퍼 조각을 용액에 1시간 동안 침지한 뒤, 용매로 헹구고 질소 기체 스트림 하에서 건조하는 단계를 수반한다. 제2 방법은 금속-코팅된 실리콘 웨이퍼를 CEE 모델 100 스핀코터(미국 미주리주 브루어 사이언스 오브 롤라 사 제품)를 사용하여 각 용액을 먼저 500 rpm에서 5초간, 그 뒤 2000 rpm에서 15초간 스핀-코팅하고, 코팅된 웨이퍼를 표면 온도 150 ℃인 CEE 모델 1100 진공 열판(미국 미주리주 브루어 사이언스 오브 롤라 사 제품)상에서 3분간 가열하고, 웨이퍼를 용매로 헹구고, 질소 기체 스트림 하에서 웨이퍼를 건조하는 단계를 수반한다. 처리되는 표면 상에의 헥사데칸 전진 및 후퇴 접촉 각도는 모델 VCA-2500XE 비디오 접촉 각도 분석기(미국 매사추세츠주 빌레리카 AST 프로덕츠 제품)를 사용하여, 1-3 마이크로리터 부피 액적을 측정하였다. 데이터를 표 2에 도시하였다. 표 2에서, "A"는 전진 접촉 각도를, "R"은 후퇴 접촉 각도를 각각 의미하며, 그리고 금속-코팅된 실리콘 기판은 금속의 원소 기호로 식별하였다. 대조군으로 비교하기 위해, 세정한, 코팅되지 않은 금속 웨이퍼 상의 헥사데칸 접촉 각도는 측정하기에 너무 낮았다(20o 미만).
실시예 11-16의 헥사데칸 접촉 각도 데이터
실시예 금속 코팅 제조 방법 헥사데칸 접촉 각도 (A, R)
11 Cu 침지 76o, 65o
12 Cu 스핀코팅 77o, 62o
13 Cr 침지 82o, 38o
14 Cr 스핀코팅 85o, 48o
15 Ni 침지 79o, 63o
16 Ni 스핀코팅 80o, 59o
실시예 17-18: 처리될 금속 표면 상의 물 및 헥사데칸 접촉 각도
생성물을 HFE 7100로 0.1 중량 퍼센트로 희석하여, 실시예 2에서 제조된 생성물 용액을 제조하였다. 실시예 3-10에서 기재한 대로, 각 구리-, 크롬- 및 니켈-코팅된 실리콘 웨이퍼 1/4 조각들을 UV/오존 챔버에 5분간 노출시켜 세정하였다. 금속-코팅된 실리콘 웨이퍼 조각을 하기 방법들 중 하나에 의해 실시예 2에서 제조한 생성물 용액으로 처리하였다. 제1 방법은 구리-코팅된 실리콘 웨이퍼 조각을 용액에 1시간 동안 침지한 뒤, 용매로 헹구고 질소 기체 스트림 하에서 건조하는 단계를 수반한다. 제2 방법은 크롬-코팅된 웨이퍼를 CEE 모델 100 스핀코터(미국 미주리주 브루어 사이언스 오브 롤라 사 제품)를 사용하여 각 용액을 먼저 500 rpm에서 5초간, 그 뒤 2000 rpm에서 15초간 스핀-코팅하고, 코팅된 웨이퍼를 표면 온도 150 ℃인 CEE 모델 1100 진공 열판(미국 미주리주 브루어 사이언스 오브 롤라 사 제품)상에서 3분간 가열하고, 웨이퍼를 용매로 헹구고, 질소 기체 스트림 하에서 웨이퍼를 건조하는 단계를 수반한다. 처리되는 표면 상에의 탈이온수의 정지, 전진 및 후퇴 접촉 각도 및, 헥사데칸 전진 및 후퇴 접촉 각도는 모델 VCA-2500XE 비디오 접촉 각도 분석기(미국 매사추세츠주 빌레리카 AST 프로덕츠(AST Products) 제품)를 사용하여 측정하였고, 정지 접촉 각도 측정을 위한 5 마이크로리터, 그리고 전진 및 후퇴 접촉 각도 측정을 위한 1-3 마이크로리터 부피 액적을 측정하였다. 데이터를 표 3에 도시하였다. 표 3에서, "S"는 정지 접촉 각도를, "A"는 전진 접촉 각도를, "R"은 후퇴 접촉 각도를 의미하며, 금속-코팅된 실리콘 기재는 금속의 원소 기호로 식별하였다. 대조군으로 비교하기 위해, 세정한, 코팅되지 않은 금속 웨이퍼 상의 접촉 각도는 측정하기에 너무 낮았다(20o 미만).
실시예 17-18의 헥사데칸 및 탈이온수 접촉 각도 데이터
실시예 금속 코팅 제조 방법 헥사데칸 접촉 각도 (A, R) 물 접촉 각도 (S, A, R)
17 Cu 침지 75o, 64o 122o, 126o, 104o
18 Cr 스핀코팅 83o, 53o 133o, 142o, 117o
본 발명이 바람직한 실시태양과 관련하여 기재되었으나, 당업자는 본 발명의 취지 및 범위를 벗어나지 않은 채 형태 및 세부 사항의 변경이 이루어질 수 있음을 인식할 것이다.

Claims (21)

  1. 하기 화학식 I에 따른 화합물.
    <화학식 I>
    Rf-(Y-BTA)j
    상기 식에서, Rf는 1가 또는 2가 퍼플루오로폴리에테르기이고;
    Y는 공유결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합 (여기서, 알킬렌, 헤테로알킬렌 또는 아릴렌기는 비치환되거나, 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환됨)으로부터 선택되는 2가 유기 연결기이고;
    j는 1 또는 2이고;
    BTA는 하기 구조식 중에서 선택되는 1가 벤조트리아졸릴기이며,
    Figure 112006062670449-PCT00021
    여기서 벤조트리아졸릴기는 비치환되거나 알킬, 알콕시 또는 이들의 조합으로 치환된다.
  2. 제1항에 있어서, Rf가 1가이고, 하기 화학식 II로 표시되는 화합물.
    <화학식 II>
    Figure 112006062670449-PCT00022
  3. 제2항에 있어서, 하기 화학식 VI으로 표시되는 화합물.
    <화학식 VI>
    Figure 112006062670449-PCT00023
    상기 식에서, n은 0 내지 50의 정수이다.
  4. 제1항에 있어서, Rf가 1가이고 하기 화학식 III으로 표시되는 화합물.
    <화학식 III>
    Figure 112006062670449-PCT00024
  5. 제4항에 있어서, 하기 화학식 VII로 표시되는 화합물.
    <화학식 VII>
    Figure 112006062670449-PCT00025
    상기 식에서, n은 0 내지 50의 정수이다.
  6. 제1항에 있어서, Rf가 1가이고 하기 화학식 IV로 표시되는 화합물.
    <화학식 IV>
    Figure 112006062670449-PCT00026
  7. 제1항에 있어서, Rf가 1가이고 하기 화학식 V로 표시되는 화합물.
    <화학식 V>
    Figure 112006062670449-PCT00027
  8. 용매와 하기 화학식 I에 따른 화합물을 포함하는 조성물.
    <화학식 I>
    Rf-(Y-BTA)j
    상기 식에서, Rf는 1가 또는 2가 퍼플루오로폴리에테르기이고;
    Y는 공유결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합 (여기서, 알킬렌, 헤테로알킬렌 또는 아릴렌기는 비치환되거나, 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환됨)으로부터 선택되는 2가 유기 연결기이고;
    j는 1 또는 2이고;
    BTA는 하기 구조식 중에서 선택되는 1가 벤조트리아졸릴기이며,
    Figure 112006062670449-PCT00028
    여기서 벤조트리아졸릴기는 비치환되거나 알킬, 알콕시 또는 이들의 조합으로 치환된다.
  9. 제8항에 있어서, 상기 용매가 하기 화학식 VIII로 표시되는 히드로플루오로에테르를 포함하는 것인 조성물.
    <화학식 VIII>
    Figure 112006062670449-PCT00029
    상기 식에서, a는 1 내지 3의 정수이고;
    Rf 1 기는 퍼플루오로알칸, 퍼플루오로에테르, 또는 퍼플루오로폴리에테르로부터 유도된 1가, 2가, 또는 3가 잔기이고;
    Rh는 알킬 또는 헤테로알킬이고;
    Rf 1 기 중의 탄소 원자의 개수 및 Rh 기 중의 탄소 원자의 개수의 합은 4보다 크거나 같다.
  10. 기재, 및 기재 표면에 부착된 하기 화학식 I에 따른 화합물을 포함하는 제품.
    <화학식 I>
    Rf-(Y-BTA)j
    상기 식에서, Rf는 1가 또는 2가 퍼플루오로폴리에테르기이고;
    Y는 공유결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합 (여기서, 알킬렌, 헤테로알킬렌 또는 아릴렌기는 비치환되거나, 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환됨)으로부터 선택되는 2가 유기 연결기이고;
    j는 1 또는 2이고;
    BTA는 하기 구조식 중에서 선택되는 1가 벤조트리아졸릴기이며,
    Figure 112006062670449-PCT00030
    여기서 벤조트리아졸릴기는 비치환되거나 알킬, 알콕시 또는 이들의 조합으로 치환된다.
  11. 제10항에 있어서, Rf가 1가이며, 화합물이 하기 화학식 II로 표시되는 것인 제품.
    <화학식 II>
    Figure 112006062670449-PCT00031
  12. 제11항에 있어서, 상기 화학식 II에 따른 화합물이 하기 화학식 VI으로 표시되는 것인 제품.
    <화학식 VI>
    Figure 112006062670449-PCT00032
    상기 식에서, n은 0 내지 50의 정수이다.
  13. 제10항에 있어서, Rf가 1가이며, 상기 화학식 I에 따른 화합물이 하기 화학식 III으로 표시되는 것인 제품.
    <화학식 III>
    Figure 112006062670449-PCT00033
  14. 제13항에 있어서, 상기 화학식 III에 따른 화합물이 하기 화학식 VII로 표시되는 것인 제품.
    <화학식 VII>
    Figure 112006062670449-PCT00034
    상기 식에서, n은 0 내지 50의 정수이다.
  15. 제10항에 있어서, Rf가 1가이며, 상기 화학식 I에 따른 화합물이 하기 화학식 IV로 표시되는 것인 제품.
    <화학식 IV>
    Figure 112006062670449-PCT00035
  16. 제10항에 있어서, Rf가 1가이며, 상기 화학식 I에 따른 화합물이 하기 화학식 V로 표시되는 것인 제품.
    <화학식 V>
    Figure 112006062670449-PCT00036
  17. 제10항에 있어서, 상기 기재가 금속 산화물을 포함하는 외층을 가지는 것인 제품.
  18. 기재를 제공하는 단계; 및
    상기 기재 표면에 하기 화학식 I에 따른 화합물을 포함하는 코팅 조성물을 도포하는 단계를 포함하는, 제품 제조 방법.
    <화학식 I>
    Rf-(Y-BTA)j
    상기 식에서, Rf는 1가 또는 2가 퍼플루오로폴리에테르기이고;
    Y는 공유결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합 (여기서, 알킬렌, 헤테로알킬렌 또는 아릴렌기는 비치환되거나, 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환됨)으로부터 선택되는 2가 유기 연결기이고;
    j는 1 또는 2이고;
    BTA는 하기 구조식 중에서 선택되는 1가 벤조트리아졸릴기이며,
    Figure 112006062670449-PCT00037
    여기서 벤조트리아졸릴기는 비치환되거나 알킬, 알콕시 또는 이들의 조합으로 치환된다.
  19. 제18항에 있어서, 상기 기재가 금속 산화물을 포함하는 외층을 가지는 것인 방법.
  20. 기재를 제공하는 단계; 및
    상기 기재 표면에 하기 화학식 I에 따른 화합물을 포함하는 코팅 조성물을 도포하는 단계를 포함하는, 기판 처리 방법.
    <화학식 I>
    Rf-(Y-BTA)j
    상기 식에서, Rf는 1가 또는 2가 퍼플루오로폴리에테르기이고;
    Y는 공유결합이거나, 알킬렌, 아릴렌, 헤테로알킬렌, 카르보닐, 카르보닐옥시, 카르보닐이미노, 술폰아미도 또는 이들의 조합 (여기서, 알킬렌, 헤테로알킬렌 또는 아릴렌기는 비치환되거나, 알킬, 아릴, 할로 또는 이들의 조합으로 치환됨)으로부터 선택되는 2가 유기 연결기이고;
    j는 1 또는 2이고;
    BTA는 하기 구조식 중에서 선택되는 1가 벤조트리아졸릴기이며,
    Figure 112006062670449-PCT00038
    여기서 벤조트리아졸릴기는 비치환되거나 알킬, 알콕시 또는 이들의 조합으로 치환된다.
  21. 제20항에 있어서, 상기 기재가 금속 산화물을 포함하는 외층을 가지는 것인 방법.
KR1020067017534A 2004-01-30 2005-01-03 퍼플루오로폴리에테르 벤조트리아졸 유도체 및 그의코팅으로서의 용도 KR20060135791A (ko)

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Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1127381B1 (en) 1998-11-02 2015-09-23 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
US7148360B2 (en) * 2004-01-30 2006-12-12 3M Innovative Properties Company Perfluoropolyether benzotriazole compounds
EP2078103B1 (en) * 2006-10-20 2010-02-24 3M Innovative Properties Company Method for easy-to-clean substrates and articles therefrom
US20080114177A1 (en) * 2006-11-15 2008-05-15 3M Innovative Properties Company Method for preparing fluorinated benzotriazole compounds
EP2125361B1 (en) 2006-12-28 2019-01-23 3M Innovative Properties Company Nucleation layer for thin film metal layer formation
WO2008123958A2 (en) * 2007-04-04 2008-10-16 Aculon, Inc. Inorganic substrates with hydrophobic surface layers
US20080315459A1 (en) * 2007-06-21 2008-12-25 3M Innovative Properties Company Articles and methods for replication of microstructures and nanofeatures
US20090114618A1 (en) * 2007-06-21 2009-05-07 3M Innovative Properties Company Method of making hierarchical articles
WO2009010533A1 (en) * 2007-07-18 2009-01-22 Solvay Solexis S.P.A. Aromatic hydrogenated polymers containing fluorine
US7732068B2 (en) * 2007-08-28 2010-06-08 Alcoa Inc. Corrosion resistant aluminum alloy substrates and methods of producing the same
US8309237B2 (en) * 2007-08-28 2012-11-13 Alcoa Inc. Corrosion resistant aluminum alloy substrates and methods of producing the same
WO2009058607A1 (en) * 2007-10-30 2009-05-07 3M Innovative Properties Company Multi-stack optical bandpass film with electro magnetic interference shielding for optical display filters
US20090162544A1 (en) * 2007-12-20 2009-06-25 Garesche Carl E Method of surface coating to enhance durability of aesthetics and substrate component fatigue
EP2240285A4 (en) * 2007-12-31 2012-08-01 3M Innovative Properties Co DEVICE FOR APPLYING A COATING MATERIAL
US8350451B2 (en) 2008-06-05 2013-01-08 3M Innovative Properties Company Ultrathin transparent EMI shielding film comprising a polymer basecoat and crosslinked polymer transparent dielectric layer
WO2010002788A1 (en) * 2008-06-30 2010-01-07 3M Innovative Properties Company Solvent assisted method of microcontact printing
US8901263B2 (en) * 2008-12-11 2014-12-02 3M Innovative Properties Company Amide-linked perfluoropolyether thiol compounds and processes for their preparation and use
US8975445B2 (en) 2009-04-06 2015-03-10 Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. Process for the manufacture of functional PFPE derivative
US20120127578A1 (en) 2009-08-03 2012-05-24 Bright Clark I Antireflective transparent emi shielding optical filter
EP2635614B1 (en) 2010-11-04 2015-08-12 3M Innovative Properties Company Fluorinated composition comprising phosphorus containing acid group and alkoxy silane group
US8628869B2 (en) 2012-01-30 2014-01-14 HGST Netherlands B.V. Magnetic media and magnetic recording devices using fluorine compounds
DE102012107959A1 (de) * 2012-08-29 2014-03-20 Jacobs University Bremen Ggmbh Halbleiterbauelement mit geschützter Funktionsschicht
US10921072B2 (en) 2013-05-02 2021-02-16 Nbd Nanotechnologies, Inc. Functional coatings enhancing condenser performance
US20150048526A1 (en) 2013-05-02 2015-02-19 The Board Of Regents Of The Nevada System Of Higher Education On Behalf Of The University Of Ne Functional coatings enhancing condenser performance
JP5673885B1 (ja) * 2013-08-02 2015-02-18 ダイキン工業株式会社 不飽和基を有する新規化合物及びこの化合物を含む組成物
JP5737466B1 (ja) 2013-08-02 2015-06-17 ダイキン工業株式会社 重合性官能基及び架橋性官能基からなる群より選択される少なくとも１種の基を含有する含フッ素重合体を含む組成物及び塗装物品
CN104876823A (zh) * 2015-05-05 2015-09-02 湖南晟通纳米新材料有限公司 可聚合全氟聚醚单体合成方法
WO2018131656A1 (ja) * 2017-01-12 2018-07-19 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物を含む表面処理剤
CN107129557B (zh) * 2017-04-21 2019-03-22 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地 一种含氟自清洁聚合物及其在疏水抗污涂料中的应用
CN108893176A (zh) * 2018-06-12 2018-11-27 天津大学 一种全氟聚醚润滑油及其制备方法
CN115322362B (zh) * 2022-08-29 2023-07-25 深圳莱宝高科技股份有限公司 含全氟聚醚基的硅烷化合物及其制备方法和表面处理剂

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1044148A (en) * 1963-09-16 1966-09-28 Lubrizol Corp Carbonated calcium sulfonate complexes
GB1065995A (en) 1963-12-06 1967-04-19 Geigy Uk Ltd Benzotriazoles and their production
US3350808A (en) 1965-07-14 1967-11-07 Edward C Mitchell Goose decoy
DE3767605D1 (de) 1986-07-31 1991-02-28 Ciba Geigy Ag Verfahren zur inhibierung von metalloberflaechenkorrosion durch verwendung von perfluoralkyl enthaltenden triazolen.
US4788292A (en) 1986-07-31 1988-11-29 Ciba-Geigy Corporation Perfluoroalkyl substituted benzotriazoles
DE4302461A1 (de) 1993-01-29 1994-08-04 Bayer Ag Fluorierte Benzotriazole
US6245804B1 (en) * 1997-05-30 2001-06-12 Schering Aktiengesellschaft Nonsteroidal gestagens
US5851674A (en) 1997-07-30 1998-12-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation
WO1999037626A1 (en) 1998-01-27 1999-07-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluorochemical benzotriazoles
US6824882B2 (en) 2002-05-31 2004-11-30 3M Innovative Properties Company Fluorinated phosphonic acids
US7148360B2 (en) * 2004-01-30 2006-12-12 3M Innovative Properties Company Perfluoropolyether benzotriazole compounds

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Publication number Publication date
WO2005075441A1 (en) 2005-08-18
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