KR20060103853A - 플라즈마 디스플레이 장치 및 그 처리 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 계조의 선형성을 유지하고, 및/또는 동화 의사 윤곽의 발생을 방지할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그 처리 방법을 제공하는 것을 과제로 한다. 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록, 제1 화상 신호를 제2 화상 신호로 비선형 변환하고, 제2 화상 신호를 실부 및 오차부로 표현하는 비선형 변환 회로(102)와, 제2 화상 신호의 오차부가 0이 아닐 때에는 그 오차부를 공간적 또는 시간적으로 확산하는 오차 확산 회로(103)와, 오차 확산된 제2 화상 신호를 기초로 서브필드의 점등 패턴을 선택할 때에, 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고 다른 서브필드 점등 패턴을 선택하는 서브필드 패턴 변환 회로(104)를 갖는 플라즈마 디스플레이 장치가 제공된다.
비선형 계조, 서스테인 펄스, 서브필드 점등 패턴, 동화 의사 윤곽, 오차 확산

Description

플라즈마 디스플레이 장치 및 그 처리 방법{PLASMA DISPLAY DEVICE AND PROCESSING METHOD THEREOF}
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 구성예를 도시하는 도면.
도 2의 (a)∼(c)는 표시 셀의 단면 구성예를 도시하는 도면.
도 3은 화상의 1필드의 구성예를 나타내는 도면.
도 4는 비선형 게인 회로가 저계조부의 비선형 계조 영역을 변환하는 예를 나타내는 도면.
도 5는 비선형 게인 회로가 중고계조부의 비선형 계조 영역을 변환하는 예를 나타내는 도면.
도 6은 1필드가 4개의 서브필드로 이루어지는 경우의 계조치의 예를 나타내는 도면.
도 7은 비선형 게인 회로가 행하는 비선형 변환의 예를 나타내는 도면.
도 8은 비선형 게인 회로의 구성예를 나타내는 도면.
도 9는 본 발명의 제2 실시 형태에 의한 6개의 서브필드를 이용한 서브필드 점등 패턴을 나타내는 도면.
도 10은 도 9에 나타내는 서브필드 점등 패턴의 입력 화상 신호 및 휘도의 관계를 나타내는 도면.
도 11은 동화 의사 윤곽 발생 방지를 위해 사용 가능한 서브필드 점등 패턴을 나타내는 도면.
도 12는 도 11에 나타내는 서브필드 점등 패턴의 입력 화상 신호 및 휘도와의 관계를 나타내는 도면.
도 13은 서브필드 점등 패턴 (0, 0, 1, 1)을 제외하는, 15개의 사용 가능한 서브필드 점등 패턴을 나타내는 도면.
도 14는 도 13의 서브필드 점등 패턴에 기초하여, 비선형 게인 회로가 행하는 비선형 변환의 예를 나타내는 도면.
도 15는 본 발명의 제4 실시 형태에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 구성예를 도시하는 도면.
도 16은 입력 화상 신호 및 휘도와의 관계를 나타내는 도면.
도 17은 도 15의 비선형 게인 회로의 구성예를 나타내는 도면.
도 18은 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 처리예를 나타내는 플로우차트.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
101: 역감마 변환 처리 회로
102: 비선형 게인 회로
103: 오차 확산 회로
104: 서브필드 변환 회로
105: 서브필드마다의 표시 부하율 검출 회로
106: 서스테인 펄스수 설정 회로
107: 서스테인 펄스 신호 생성 회로
121: 어드레스 제어 회로
122: X전극 제어 회로
123: Y전극 제어 회로
124: 플라즈마 디스플레이 패널
[특허 문헌 1] 일본 특허 제3518205호 공보
본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치 및 그 처리 방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 장치는 고화질화가 진행되고 있고, 특히 고휘도화 및 안정 발광을 위하여 서스테인 펄스의 주기 또는 폭을 변화시키는 경우가 있다. 이와 같이 서스테인 펄스의 제어를 행하면, 각 서브필드의 서스테인 펄스 1개당의 발광 휘도가 상이할 가능성이 있다. 플라즈마 디스플레이 장치의 계조는, 복수의 서브필드의 조합에 의해 표현되기 때문에, 특히 저계조부에서 계조의 선형성이 무너져 버리게 된다.
또한, 특허 문헌 1에는, 입력 화상 신호를 공통의 입력으로 하는 복수의 비 선형 변환 수단과, 상기 복수의 비선형 변환 수단의 출력의 1개를 선택하는 선택 수단과, 상기 선택 수단을 제어하는 선택 제어 수단과, 상기 선택 수단의 출력을 입력으로 하는 표시 장치를 구비하는 화상 표시 장치가 기재되어 있다.
계조의 선형성이 무너지면, 적, 녹 및 청의 각 화소의 휘도 비율이 이상치로부터 어긋나, 착색이나 색 얼룩이 발생하여 화질이 손상된다. 특히, 저계조부에서 선형성이 무너지기 쉽다. 또한, 플라즈마 디스플레이 장치 특유의 과제로서 동화 의사 윤곽이 발생하여 화질의 저하를 초래하는 경우가 있다.
본 발명의 목적은, 계조의 선형성을 유지하고, 및/또는 동화 의사 윤곽의 발생을 방지할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그 처리 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 관점에 따르면, 1필드가 가중치 부여된 서스테인 펄스수를 갖는 복수의 서브필드로 이루어지고, 복수의 서브필드 중 점등하는 서브필드의 패턴을 선택함으로써 화상을 계조 표현하는 표시부와, 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록, 제1 화상 신호를 제2 화상 신호로 비선형 변환하고, 제2 화상 신호를 실부 및 오차부로 표현하는 비선형 변환 회로와, 제2 화상 신호의 오차부가 0이 아닐 때에는 그 오차부를 공간적 또는 시간적으로 확산하는 오차 확산 회로와, 오차 확산된 제2 화상 신호를 기초로 서브필드의 점등 패턴을 선택할 때에, 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고 다른 서브필드 점등 패턴을 선택하는 서브필 드 패턴 변환 회로를 갖는 플라즈마 디스플레이 장치가 제공된다.
(제1 실시 형태)
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 구성예를 도시하는 도면이다. 어드레스 제어 회로(121)는 어드레스 전극(A1, A2,…)에 소정의 전압을 공급한다. 이하, 어드레스 전극(A1, A2,…)의 각각을 또는 그들의 총칭을, 어드레스 전극(Aj)이라 하고, j는 첨자를 의미한다.
X전극 제어 회로(122)는 X전극(X1, X2,…)에 소정의 전압을 공급한다. 이하, X전극(X1, X2,…)의 각각을 또는 그들의 총칭을, X전극(Xi)이라 하고, i는 첨자를 의미한다.
Y전극 제어 회로(123)는 Y전극(Y1, Y2,…)에 소정의 전압을 공급한다. 이하, Y전극(Y1, Y2,…)의 각각을 또는 그들의 총칭을, Y전극(Yi)이라 하고, i는 첨자를 의미한다.
플라즈마 디스플레이 패널(표시부)(124)에서는, Y전극(Yi) 및 X전극(Xi)이 수평 방향으로 병렬로 연장되는 행을 형성하고, 어드레스 전극(Aj)이 수직 방향으로 연장되는 열을 형성한다. Y전극(Yi) 및 X전극(Xi)은 수직 방향으로 교대로 배치된다.
Y전극(Yi) 및 어드레스 전극(Aj)은 i행 j열의 2차원 행렬을 형성한다. 표시 셀(Cij)은 Y전극(Yi) 및 어드레스 전극(Aj)의 교차점 및 그에 대응하여 인접하는 X전극(Xi)에 의해 형성된다. 이 표시 셀(Cij)이 화소에 대응하여, 패널(124)은 2차원 화상을 표시할 수 있다.
도 2의 (a)는, 도 1의 표시 셀(Cij)의 단면 구성예를 도시하는 도면이다. X전극(Xi) 및 Y전극(Yi)은 전면 유리 기판(211)상에 형성되어 있다. 그 위에는, 방전 공간(217)에 대하여 절연하기 위한 유전체층(212)이 피착됨과 함께, 그 위에 MgO(산화 마그네슘) 보호막(213)이 더 피착되어 있다.
한편, 어드레스 전극(Aj)은 전면 유리 기판(211)과 대향하여 배치된 배면 유리 기판(214)상에 형성되고, 그 위에는 유전체층(215)이 피착되고, 또 그 위에 형광체가 피착되어 있다. MgO 보호막(213)과 유전체층(215) 사이의 방전 공간(217)에는, Ne+Xe 페닝 가스 등이 봉입되어 있다.
도 2의 (b)는 교류 구동형 플라즈마 디스플레이의 패널 용량(Cp)을 설명하기 위한 도면이다. 용량(Ca)은 X전극(Xi)과 Y전극(Yi) 사이의 방전 공간(217)의 용량이다. 용량(Cb)은 X전극(Xi)과 Y전극(Yi) 사이의 유전체층(212)의 용량이다. 용량(Cc)은 X전극(Xi)과 Y전극(Yi) 사이의 전면 유리 기판(211)의 용량이다. 이들 용량(Ca, Cb, Cc)의 합계에 의해, 전극(Xi 및 Yi)간의 패널 용량(Cp)이 정해진다.
도 2의 (c)는 교류 구동형 플라즈마 디스플레이의 발광을 설명하기 위한 도면이다. 리브(216)의 내면에는 적, 청, 녹색의 형광체(218)가 스트라이프 형상으로 각 색마다 배열, 도포되어 있고, X전극(Xi) 및 Y전극(Yi)간의 방전에 의해 형광체(218)를 여기하여 광(221)이 생성되도록 되어 있다.
도 3은 화상의 1필드(FD)의 구성예를 나타내는 도면이다. 화상은, 예를 들면 60필드/초로 형성된다. 1필드(FD)는 제1 서브필드(SF1), 제2 서브필드(SF2),…, 제n 서브필드(SFn)에 의해 형성된다. 이 n은, 예를 들면 10이며, 계조 비트수 에 상당한다. 서브필드 SF1, SF2 등의 각각을 또는 그들의 총칭을, 이하, 서브필드(SF)라고 한다.
각 서브필드(SF)는 리셋 기간(Tr), 어드레스 기간(Ta) 및 서스테인(유지 방전) 기간(Ts)에 의해 구성된다. 리셋 기간(Tr)에서는, 표시 셀의 초기화를 행한다. 어드레스 기간(Ta)에서는, 어드레스 전극(Aj) 및 Y전극(Yi)간의 어드레스 방전에 의해 각 표시 셀의 발광 또는 비발광을 선택할 수 있다. 서스테인 기간(Ts)에서는, 선택된 표시 셀의 X전극(Xi) 및 Y전극(Yi)간에서 서스테인 방전을 행하여, 발광을 행한다. 각 서브필드(SF)에서는, X전극(Xi) 및 Y전극(Yi)간의 서스테인 펄스수에 대응하는 발광 횟수(서스테인 기간(Ts)의 길이)가 상이하다. 이에 따라, 계조치를 결정할 수 있다.
도 6은, 설명을 간단히 하기 위해 1필드(FD)가 4개의 서브필드(SF1∼SF4)로 이루어지는 경우의 계조치의 예를 나타내는 도면이다. 예를 들면, 서브필드(SF1)는 가중치가 1, 서브필드(SF2)는 가중치가 3, 서브필드(SF3)는 가중치가 6, 서브필드(SF4)는 가중치가 12이다. 이 가중치의 비는, 서스테인 펄스수의 비에 상당한다. 서브필드 점등 패턴은 (SF4, SF3, SF2, SF1)로 나타내며, 「1」이 점등을 나타내고, 「0」이 소등을 나타낸다. 계조치(S2)는 점등이 선택된 서브필드의 가중치의 합계치가 된다. 서브필드 점등 패턴이 (0, 0, 0, 1)일 때에는, 계조치(S2)가 1이 된다. 서브필드 점등 패턴이 (0, 0, 1, 0)일 때에는, 계조치(S2)가 3이 된다. 서브필드 점등 패턴이 (0, 0, 1, 1)일 때에는, 계조치(S2)가 4가 된다.
도 1의 구성을 설명한다. 패널(124)은 1필드가 가중치 부여된 서스테인 펄 스수를 갖는 복수의 서브필드로 이루어지고, 그 복수의 서브필드 중 점등하는 서브필드의 패턴을 선택함으로써 화상을 계조 표현할 수 있다.
역감마 변환 처리 회로(101)는 디지털 형식의 화상 신호(S1)를 입력하고, 역감마 변환하여, 선형 특성을 갖는 화상 신호(S2)를 출력한다.
비선형 게인(변환) 회로(102)는 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록, 화상 신호(S2)를 화상 신호(S3)로 비선형 변환하고, 화상 신호(S3)를 정수부(실부) 및 소수부(오차부)로 표현한다.
오차 확산 회로(103)는 화상 신호(S3)를 입력하고, 화상 신호(S3)의 소수부가 0이 아닐 때에는 그 소수부를 공간적 또는 시간적으로 확산하여, 의사적으로 계조 표현을 행하기 위한 화상 신호(S4)를 출력한다.
서브필드 변환 회로(104)는 오차 확산된 화상 신호(S4)를 기초로 서브필드의 점등 패턴을 선택할 때에, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고 다른 서브필드 점등 패턴을 선택하여, 서브필드 점등 패턴 신호(S5)를 생성한다. 어드레스 제어 회로(121)는 서브필드 점등 패턴 신호(S5)에 따라, 각 화소에 대해 점등시키는 서브필드를 선택하기 위한 어드레스 전극(Aj)의 전압을 생성한다.
서브필드마다의 표시 부하율 검출 회로(105)는, 서브필드 점등 패턴 신호(S5)를 기초로, 서브필드마다의 표시 부하율(T2)을 연산한다. 표시 부하율은 발광하는 화소수 및 그 발광하는 화소의 계조치를 기초로 검출된다. 예를 들면, 화상의 전체 화소가 최대 계조치로 표시되고 있는 경우는 표시 부하율이 100%이다. 또한, 화상의 전체 화소가 최대 계조치의 1/2로 표시되고 있는 경우는 표시 부하율이 50%이다. 또한, 화상의 절반(50%)의 화상만이 최대 계조치로 표시되고 있는 경우에도, 표시 부하율이 50%이다.
서스테인 펄스수 설정 회로(106)는 타이밍 신호(T1) 및 표시 부하율(T2)을 입력하고, 1필드의 표시 부하율에 따라 전력 일정 제어에 의한 1필드의 총 서스테인 펄스수를 연산한다. 전력 일정 제어는, 1필드의 표시 부하율에 따라 1필드의 총 서스테인 펄스수가 제어된다. 표시 부하율에 관계없이 1필드의 총 서스테인 펄스수를 일정하게 하면, 표시 부하율이 클수록 전력이 커져 버려 열량이 증가해 버린다. 그 때문에, 1필드의 표시 부하율이 클 때에는, 1필드의 총 서스테인 펄스수를 줄이도록 연산하여, 전력 일정 제어를 행한다.
서스테인 펄스 신호 생성 회로(107)는 그 총 서스테인 펄스수를 각 서브필드의 가중치의 비가 되도록 분할하여, 표시를 위한 서스테인 펄스 신호를 생성한다. X전극 제어 회로(122) 및 Y전극 제어 회로(123)는, 그 서스테인 펄스 신호에 따라, X전극(Xi) 및 Y전극(Yi)의 전압을 생성한다. 어드레스 전극(Aj)에 의해 선택된 표시 셀은, X전극(Xi) 및 Y전극(Yi)간에 서스테인 방전하여 발광한다.
도 4는, 도 1의 비선형 게인 회로(102)가 저계조부의 비선형 계조 영역을 변환하는 예를 나타내는 도면이다. 횡축이 입력 화상 신호(S2)이고, 종축이 휘도이다. 각 서브필드의 휘도비가 정확하게 정수비로 되지 않는 경우, 각 서브필드의 조합에 의해 표현되는 계조는 선형인 특성으로 되지 않는다. 도 4는, 서브필드(SF1 및 SF2)가 다른 서브필드보다 밝은 경우의 예를 나타내고, 검은 원으로 표시된 실선이 단순하게 각 서브필드를 조합하여 점등했을 경우의 휘도이다. 입력 화 상 신호(S2)의 값이 「1, 3, 5」인 경우에 비선형 부분이 현저하게 되어 있다. 흰 원으로 표시한 파선이 비선형 게인 회로(102)의 출력 화상 신호(S3)이며, 입력 화상 신호(S2)가 「0, 2, 4, 6, 7」일 때에는 그대로 화상 신호(S3)로서 출력한다. 입력 화상 신호(S2)가 「1」일 때에는 입력 화상 신호(S2)의 값 「0」과 「2」를 합계가 1이 되는 비율로 배분하여, 화상 신호(S3)를 생성한다. 입력 화상 신호(S2)가 「3」일 때에는 입력 화상 신호(S2)의 값 「2」와 「4」를 합계가 1이 되는 비율로 배분하여, 화상 신호(S3)를 생성한다. 입력 화상 신호(S2)가 「5」일 때에는 입력 화상 신호(S2)의 값 「4」와 「6」을 합계가 1이 되는 비율로 배분하여, 화상 신호(S3)를 생성한다.
도 5는, 도 1의 비선형 게인 회로(102)가 중고계조부의 비선형 계조 영역을 변환하는 예를 나타내는 도면이다. 횡축이 입력 화상 신호(S2)이고, 종축이 휘도이다. 도 5의 예는, 입력 화상 신호(S2)가 「32」일 때에 휘도가 전후의 화상 신호(S2)의 휘도와 비교하여 높은 경우이다. 이 경우, 「32」의 화상 신호(S2)의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고, 전후의 선형성이 유지되고 있는 계조치 「31」 및 「33」을 합계가 1이 되는 비율로 배분하여, 화상 신호(S3)를 생성한다. 이에 따라, 계조의 선형성을 유지할 수 있다.
플라즈마 디스플레이 장치의 고화질화가 진행되고, 특히 고휘도화 및 안정 발광을 위해 표시 부하율 등에 따라 서스테인 펄스의 주기 또는 폭을 바꾸는 일이 있다. 이러한 서스테인 펄스의 제어에 수반하여, 각 서브필드의 서스테인 펄스 1개당의 발광 휘도가 상이할 가능성이 있다. 플라즈마 디스플레이 장치의 계조는 복수의 서브필드의 조합에 의해 표현되기 때문에, 특히 저계조부에서 계조의 선형성이 무너져 버리게 된다. 즉, 적, 녹 및 청의 각 화소의 휘도 비율이 이상치로부터 어긋나 착색이나 색 얼룩이 발생하여 화질이 손상된다. 특히, 저계조부에서 선형성이 무너지기 쉽다.
본 실시 형태에서는, 연속하는 복수의 서브필드 점등 패턴 중에서, 비선형인 계조로 되는 1개 이상의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고, 그 외의 서브필드 점등 패턴만을 사용하여, 사용하지 않았던 서브필드 점등 패턴에서 표현되고 있던 계조를, 그 외의 서브필드 점등 패턴을 이용하여 오차 확산에 의해 표현한다. 이에 따라, 계조의 선형성을 실현할 수 있다.
도 6에, 화상 신호 S2 및 S3의 관계의 예를 나타낸다. 4개의 서브필드(SF1∼SF4)를 이용하면, 16개의 서브필드 점등 패턴이 존재한다. 예를 들면, 서브필드(SF1)는 가중치가 1, 서브필드(SF2)는 가중치가 3, 서브필드(SF3)는 가중치가 6, 서브필드(SF4)는 가중치가 12이다. 계조치(S2)는 점등이 선택된 서브필드의 가중치의 합계치가 된다. 화상 신호(S3)의 계조치는, 휘도 순으로, 순차적으로 서브필드 점등 패턴에 번호 부여된다.
화상 신호(S3)가 「0」일 때, 서브필드 점등 패턴이 (0, 0, 0, 0)이고, 화상 신호(S2)가 0이 된다. 화상 신호(S3)가 「1」일 때, 서브필드 점등 패턴이 (0, 0, 0, 1)이고, 화상 신호(S2)가 1이 된다. 화상 신호(S3)가 「2」일 때, 서브필드 점등 패턴이 (0, 0, 1, 0)이고, 화상 신호(S2)가 3이 된다. 화상 신호(S3)가 「3」일 때, 서브필드 점등 패턴이 (0, 0, 1, 1)이고, 화상 신호(S2)가 4가 된다. 화상 신호(S3)가 「4」일 때, 서브필드 점등 패턴이 (0, 1, 0, 0)이고, 화상 신호(S2)가 6이 된다. 화상 신호(S3)가 「15」일 때, 서브필드 점등 패턴이 (1, 1, 1, 1)이고, 화상 신호(S2)가 22로 된다.
이 경우, 화상 신호(S2)의 값 「2, 5」 등이 존재하지 않는다. 이들 값 「2, 5」 등을 존재시키기 위해서는, 서브필드(SF1)의 가중치를 1, 서브필드(SF2)의 가중치를 2, 서브필드(SF3)의 가중치를 4, 서브필드(SF4)의 가중치를 8로 하면 된다. 그러나, 이 경우, 화상 신호(S2)는 0∼15의 값을 표현 가능한 16계조만 표현할 수 있다. 도 6에 나타내는 바와 같은 가중치를 부여함으로써, 화상 신호(S2)는 0∼22의 값을 표현 가능한 23계조를 실현하여, 다이나믹 레인지를 확대할 수 있다.
도 7은 비선형 게인 회로(102)가 행하는 비선형 변환의 예를 나타내는 도면이다. 비선형 게인 회로(102)는 화상 신호(S2)를 입력하고, 화상 신호(S3)를 출력한다. 예를 들면, 화상 신호(S2 및 S3)는 23계조의 신호이고, 화상 신호(S3 및 S4)는 16계조의 신호이다.
화상 신호(S2)는 0∼22의 값을 취할 수 있다. 도 6의 테이블에 존재하는 16개의 서브필드 점등 패턴에 대해서는, 화상 신호(S2 및 S3)의 관계를 유지한다. 도 6의 테이블에 존재하지 않는 패턴에 대해서는, 보간에 의해 구한다. 예를 들면, 화상 신호(S2)가 「2」일 때에는, 화상 신호(S3)는 「1」 및 「2」의 중간이므로, 「1.5」가 된다. 마찬가지로 하여, 화상 신호(S2)가 5일 때에는, 화상 신호(S3)가 「3.5」가 된다. 화상 신호(S3)는 정수부(SA) 및 소수부(SB)로 이루어진다.
도 8은 비선형 게인 회로(102)의 구성예를 나타내는 도면이다. 룩업 테이블(801)은, 도 7에 나타내는 테이블을 기억하여, 입력 화상 신호(S2)를 입력하고, 그것에 대응하는 정수부(SA) 및 소수부(SB)를 출력한다. 가산기(804)는 정수부(SA)와 소수부(SB)를 가산하여, 화상 신호(S3)를 출력한다.
여기에서, 도 6에서, 예를 들면, 화상 신호(S3)가 「3」일 때의 서브필드 점등 패턴 (0, 0, 1, 1)이 비선형의 계조가 되기 때문에, 사용하지 않는 경우를 예로 설명한다.
도 13은 서브필드 점등 패턴 (0, 0, 1, 1)을 제외하는, 15개의 사용 가능한 서브필드 점등 패턴을 나타내는 도면이다. 도 13의 서브필드 점등 패턴은, 도 6의 서브필드 점등 패턴으로부터 사용하지 않는 서브필드 점등 패턴 (0, 0, 1, 1)을 삭제하고, 화상 신호(S3)의 값을 다시 번호 부여한 것이다.
도 14는, 도 13의 서브필드 점등 패턴에 기초하여, 비선형 게인 회로(102)가 행하는 비선형 변환의 예를 나타내는 도면이다. 비선형 게인 회로(102)는 화상 신호(S2)를 입력하고, 화상 신호(S3)를 출력한다.
화상 신호(S2)는 0∼22의 값을 취할 수 있다. 도 13의 테이블에 존재하는 15개의 서브필드 점등 패턴에 대해서는, 화상 신호(S2 및 S3)의 관계를 유지한다. 도 13의 테이블에 존재하지 않는 패턴에 대해서는, 도 7과 마찬가지로, 보간에 의해 구한다. 예를 들면, 화상 신호(S2)의 값 「4」 및 「5」가 존재하지 않는다. 이러한 값은, 화상 신호(S3)의 값 「2」 및 「3」을 이용하여 보간된다. 화상 신호(S2)의 값 「4」는, 화상 신호(S3)가 2×(2/3)+3×(1/3)=2.33…으로서, 정수부 (SA)가 2이고, 소수부(SB)가 0.33…이다. 화상 신호(S2)의 값 「5」는, 화상 신호(S3)가 2×(1/3)+3×(2/3)=2.66…으로서, 정수부(SA)가 2이고, 소수부(SB)가 0.66…이다.
도 1의 오차 확산 회로(103)는 비선형 게인 회로(102)로부터 화상 신호(S3)를 입력한다. 화상 신호(S3)는 정수부(SA) 및 소수부(SB)를 갖는다. 오차 확산 회로(103)는 소수부(SB)를 오차로 하여 공간적 또는 시간적으로 확산한다.
우선, 공간적으로 오차 확산하는 경우를 설명한다. 대상 화소의 소수부(SB)는 그 주변의 화소에 오차로서 전파된다. 대상 화소는 자기의 소수부(SB)와 주변 화소로부터 전파된 오차를 가중치 부여하여 가산하고, 그 가산 결과 및 자기의 정수부(SA)를 가산하여, 그 가산치의 정수부를 화상 신호(S4)로서 생성한다. 가산치의 소수부는, 자기 화소의 오차로서 주변의 화소에 전파된다. 이와 같이, 오차를 공간적으로 확산함으로써, 정수부(SA) 및 소수부(SB)로 이루어지는 화상 신호(S3)를 표현할 수 있다.
다음으로, 시간적으로 오차 확산하는 경우를 설명한다. 이 경우는, 대상 필드 전후의 필드에 확산한다. 현실적으로는, 다음 필드에 오차를 확산하는 것이 바람직하다. 그 외의 점은 공간적인 오차 확산과 동일하다.
이상과 같이, 오차 확산을 행함으로서, 도 13에 나타내는 15개의 서브필드 점등 패턴을 사용하여, 23계조를 표현할 수 있다. 사용하지 않는 특정의 서브필드 점등 패턴은, 도 4 및 도 5에 나타내는 바와 같이, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하여 휘도치가 커지도록 어긋나 있고, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하면 화상 신호(S2)에 대하여 휘도가 비선형으로 된다. 본 실시 형태는, 비선형 특성을 갖는 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않기 때문에, 선형 특성을 갖는 계조 표현을 실현할 수 있다.
(제2 실시 형태)
본 발명의 제2 실시 형태를 설명한다. 본 실시 형태가 제1 실시 형태와 상이한 점을 설명한다.
도 9는 6개의 서브필드(SF1∼SF6)를 이용한 서브필드 점등 패턴을 나타내는 도면이고, 도 10은 입력 화상 신호(S2) 및 휘도의 관계를 나타내는 도면이다. 예로서 입력 화상 신호(S2)는 27∼40의 값을 나타내고, 휘도는 27∼40의 값을 나타내며, 양자는 선형 특성을 갖는다. 서브필드(SF1)는 가중치가 1, 서브필드(SF2)는 가중치가 2, 서브필드(SF3)은 가중치가 4, 서브필드(SF4)는 가중치가 8, 서브필드(SF5)는 가중치가 16, 서브필드(SF6)는 가중치가 32이다. 그러나, 이 서브필드 점등 패턴을 사용하면, 동화 의사 윤곽이 발생해 버린다.
다음으로, 동화 의사 윤곽에 대하여 설명한다. 특정의 서브필드 점등 패턴은, 인접하는 화소의 서브필드 점등 패턴과 서로 작용하여, 인간의 눈에는 동화 시에 큰 계조치의 의사 윤곽이 존재하는 것 같이 보여 버린다. 이 현상이 동화 의사 윤곽이다. 이 동화 의사 윤곽을 방지하기 위하여, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록 하고, 그 특정의 서브필드 점등 패턴은 다른 서브필드 점등 패턴으로 치환하여 오차 확산 처리를 행한다.
예를 들면, 어느 화소에 서브필드 점등 패턴 (0, 1, 1, 1, 1, 1)이 표시되 고, 그 인접하는 화소에 서브필드 점등 패턴 (1, 0, 0, 0, 0, 0)이 표시되면, 그 양 화소의 계조치의 차는 1이다. 그러나, 동화 시에 그 양 화소가 서로 작용하여 고계조치의 1개의 화소로 보여, 거기에 윤곽이 존재하는 것 같이 보인다. 이것이 동화 의사 윤곽이다. 이러한 동화 의사 윤곽이 발생하기 쉬운 서브필드 점등 패턴은, 서브필드 점등 패턴을 계조치 순으로 나열했을 때, 보다 큰 가중치의 서브필드가 처음으로 점등하는 계조치의 전후의 계조치이다. 환언하면, 서브필드 점등 패턴의 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴과의 사이에서 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남이 커지는 패턴이다. 1필드는 예를 들면 서브필드(SF1∼SF6)가 시간 순으로 나열된다. 예를 들면, 서브필드(SF1∼SF6)의 순으로 점등한다. 입력 화상 신호(S2)의 계조치(27∼31)는, 시간적 발광 중심이 서브필드(SF3)의 시간적 위치 부근에서 조금 오차가 생길 뿐이다. 그러나, 입력 화상 신호(S2)의 계조치 「32」는 시간적 발광 중심이 서브필드(SF6)의 위치가 되어, 계조치(27∼31)에 비해 시간적 발광 중심이 크게 어긋난다. 이러한 경우에 동화 의사 윤곽이 발생하기 쉽다. 따라서, 동화 의사 윤곽 발생의 방지를 위해, 계조치 「32」의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않는다. 사용하지 않는 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴에 대하여 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남이, 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴간의 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남의 평균치보다 큰 패턴이다.
도 11은 동화 의사 윤곽 발생 방지를 위해 사용 가능한 서브필드 점등 패턴을 나타내는 도면으로, 도 9와 비교하여 계조치(32∼35)의 서브필드 점등 패턴을 사용 불가로 하기 위해 삭제하고 있다. 계조치(32∼35)의 서브필드 점등 패턴을 사용 불가로 함으로써, 동화 의사 윤곽의 발생을 저감할 수 있다.
도 12는, 도 11에 나타내는 서브필드 점등 패턴의 입력 화상 신호(S2) 및 휘도의 관계를 나타내는 도면이다. 입력 화상 신호(S2)의 계조치(32∼35)의 서브필드 점등 패턴을 사용할 수 없기 때문에, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 계조치(32∼35)는 계조치(31 및 36)의 서브필드 점등 패턴을 이용하여 오차 확산에 의해 표현한다. 이에 따라, 계조수를 유지하면서, 동화 의사 윤곽을 저감할 수 있다.
이상과 같이, 도 9의 서브필드 점등 패턴에서는, 계조치(31 및 32)간의 시간적 발광 중심의 변동이 크기 때문에 동화 의사 윤곽이 발생한다. 그 때문에, 이러한 계조치의 서브필드 점등 패턴은 사용할 수 없다. 또한, 상기의 이유에 의해, 종래의 플라즈마 디스플레이 장치는, 무거운 서브필드의 휘도 가중치를, 그것보다 1개 작은 휘도 가중치를 갖는 서브필드에 대해 충분히 크게 할 수 없는 문제점이 있었다. 본 실시 형태의 비선형 게인 회로(102)는, 이러한 휘도 가중치를 갖는 서브필드 배열에 대해, 계조치(32, 33, 34, 35)를, 계조치(31 및 36)의 서브필드 점등 패턴을 합계가 1이 되는 비율로 배분하여 점등함으로써 계조수를 유지한 채로 동화 의사 윤곽을 저감한다.
동화 의사 윤곽을 저감하기 위해, 시간적 발광 중심이 크게 변동하는 서브필드 점등 패턴의 조합 가운데, 한쪽의 서브필드 점등 패턴(계조치 32)을 사용하지 않고, 다른 한쪽의 서브필드 점등 패턴(계조치 31)과 2개 이상 떨어진 별개의 서브필드 점등 패턴(계조치 36) 사이에서 오차 확산함으로써, 의사적으로 상기 사용하 지 않았던 서브필드 점등 패턴의 계조를 표현한다.
이에 따라, 종래는 동화 의사 윤곽이 발생하기 쉽기 때문에 사용할 수 없었던 서브필드의 가중치의 조합을 사용할 수 있게 되어, 결과적으로, 계조수를 늘릴 수 있다. 예를 들면, 서브필드 수가 6인 경우, 각 서브필드의 가중치를 (SF6, SF5, SF4, SF3, SF2, SF1)=(32, 16, 8, 4, 2, 1)로 하면, 계조수는 64계조가 되지만, 계조치 31을 표현하는 점등 패턴 (0, 1, 1, 1, 1, 1)과 계조치 32를 표현하는 점등 패턴 (1, 0, 0, 0, 0, 0) 사이에서 동화 의사 윤곽이 강하게 발생한다. 즉, 최대 가중치의 서브필드(SF6)가 단독 점등하도록 하는 점등 패턴 (1, 0, 0, 0, 0, 0)은 사용할 수 없다. 동화 의사 윤곽을 저감하기 위해, 최대 가중치의 서브필드(SF6)가 점등하는 경우는, 반드시 다른 서브필드도 점등시키는 방법도 생각할 수 있다. 그러나, 이 경우는 사용할 수 있는 서브필드 점등 패턴이 제한되기 때문에 계조수가 감소한다. 예를 들면, 각 서브필드의 가중치를 (SF6, SF5, SF4, SF3, SF2, SF1)=(24, 16, 8, 4, 2, 1)로 하면, 계조치 32는 점등 패턴 (1, 0, 1, 0, 0, 0)으로 표현된다. 본 실시 형태의 비선형 게인 회로(102)에서는, 각 서브필드의 가중치를 (SF6, SF5, SF4, SF3, SF2, SF1)=(32, 16, 8, 4, 2, 1)인 대로 하고, 서브필드 점등 패턴 (1, 0, 0, 0, 0, 0)을 사용하지 않고, 대신에 계조치 36을 표현하는 서브필드 점등 패턴 (1, 0, 0, 1, 0, 0)과 계조치 31을 표현하는 서브필드 점등 패턴 (0, 1, 1, 1, 1, 1)의 합계가 1이 되는 비율의 조합에 의해 계조치 32를 표현한다. 이 경우, 동화 의사 윤곽은 저감되어 계조수도 증가한다.
본 실시 형태는, 고계조치측일수록 확산 처리에서 표현하는 계조치를 많게 하고, 저계조치측은 확산 처리를 하지 않거나, 또는 확산 처리하는 계조치를 줄인다. 고계조치측일수록 확산 처리에서 표현하는 계조치를 많게 하는 목적은, 동화 의사 윤곽의 저감이다. 저계조치측은 확산 처리를 하지 않거나, 또는 확산 처리하는 계조치를 줄이는 목적은, 저계조치부를 고밀도의 점등 화소로 표시하는 것이다. 전체 계조치에서 동화 의사 윤곽을 저감하기 위해, 저계조치측에서도 확산 처리하는 계조치를 허용하고 있다. 즉, 화상 신호(S2)의 계조치가 전체 계조의 중간치보다 큰 영역은, 전체 계조의 중간치보다 작은 영역에 비하여, 소수부(오차부)(SB)가 0이 아닌 화상 신호(S3)로 변환되는 계조치의 수가 많다.
(제3 실시 형태)
도 18은, 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 처리예를 나타내는 플로우차트이다. 본 실시 형태는, 제1 및 제2 실시 형태를 조합한 것이다. 우선, 스텝 S1801에서는 화상 신호를 입력한다. 다음으로, 스텝 S1802에서는, 제1 실시 형태와 같이 휘도가 비선형인 계조인지의 여부를 판단한다. 비선형인 계조이면 스텝 S1804로 진행하고, 비선형인 계조가 아니면 스텝 S1803으로 진행한다. 스텝 S1803에서는, 제2 실시 형태와 같이 시간적 발광 중심이 크게 변동하는 계조인지의 여부를 판단한다. 크게 변동하는 계조이면 스텝 S1804로 진행하고, 크게 변동하는 계조가 아니면 스텝 S1805로 진행한다. 스텝 S1805에서는, 모든 서브필드 점등 패턴이 사용 가능하므로, 입력 화상 신호에 따른 서브필드 점등 패턴을 선택하고, 스텝 S1806으로 진행한다. 스텝 S1804에서는, 제1 및 제2 실시 형태와 같이, 비선형 게인 회로(102)가 오차 확산하기 위한 중간 화상 신호(S3)를 생성하여, 서브필드 변환 회로(104)가 그것에 대응하는 서브필드 점등 패턴을 선택하고, 스텝 S1806으로 진행한다. 스텝 S1806에서는, 어드레스 제어 회로(121), X전극 제어 회로(122) 및 Y전극 제어 회로(123)에 신호를 출력한다.
(제4 실시 형태)
도 15는, 본 발명의 제4 실시 형태에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 구성예를 도시하는 도면이며, 도 1에 대하여 표시 부하율(T3)이 비선형 게인 회로(102)에 공급되는 점이 상이하다. 이하, 본 실시 형태가 제1 실시 형태와 상이한 점을 설명한다.
서스테인 펄스수 설정 회로(106)는 서브필드마다의 표시 부하율(T2)을 입력하고, 필드마다의 표시 부하율(T3)을 출력한다. 비선형 게인 회로(102)는 표시 부하율(T3)에 따라, 화상 신호(S2)로부터 화상 신호(S3)에의 복수 종류의 비선형 변환 중 어느 1개를 선택하여 화상 신호(S3)를 출력한다.
본 실시 형태는, 상기의 전력 일정 제어에 의해 표시 부하율에 따라 서스테인 펄스수를 변동시킨다. 서스테인 펄스수 설정 회로(106)는, 총 서스테인 펄스수를 각 서브필드의 휘도 가중치와 거의 동일한 정수비로 각 서브필드에 배분하지만, 총 서스테인 펄스수의 값에 따라서는 각 서브필드의 휘도 가중치와 거의 동일한 정수비로 되지 않을 가능성이 있다. 예를 들면, 서브필드수가 6이고 휘도 가중치가 (SF6, SF5, SF4, SF3, SF2, SF1)=(32, 16, 8, 4, 2, 1)이며, 저부하 시의 총 서스테인 펄스수가 252개인 경우, 전력 일정 제어에 의해 총 서스테인 펄스수가 220개로 되는 경우를 설명한다. 그 경우, 소수점 이하는 사사오입하는 것으로 하여, 각 서브필드의 서스테인 펄스수는, SF6=32/252×220=28, SF5=16/252×220=14, SF4=8/252×220=7, SF3=4/252×220=3, SF2=2/252×220=2, SF1=1/252×220=1이 된다. 서브필드(SF3)의 휘도비는, 4에서 3으로 변화하게 되어, 계조의 선형성이 무너진다. 특히, 저계조 영역에서 계조의 비선형성이 눈에 띈다. 이것을 회피하기 위하여, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 도 16과 같이 비선형이 되는 계조치 2 및 3의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록 하고, 계조치 2 및 3은 계조 1 및 4의 서브필드 점등 패턴의 합계가 1이 되는 비율로 배분하여 표현한다. 도 16의 검은 원으로 표시되는 실선은, 상기의 총 서스테인 펄스수 220개 시의 저계조에서의 휘도를 나타내고, 흰 원으로 표시되는 파선은 비선형 게인 회로(102)에서 변환 후의 화상 신호(S3)의 휘도를 나타낸다.
도 17은, 도 15의 비선형 게인 회로(102)의 구성예를 나타내는 도면이며, 이하 도 8과 상이한 점을 설명한다. 2개의 룩업 테이블(801a 및 801b)은 도 8의 룩업 테이블(801)에 대응한다. 선택 회로(1701)는 새롭게 추가된다.
룩업 테이블(801a)은 표시 부하율(T3)이 임계치보다 작을 때의 비선형 변환을 행하기 위한 테이블로서, 정수부(SA1) 및 소수부(SB1)를 출력한다. 룩업 테이블(801b)은 표시 부하율(T3)이 임계치 이상일 때의 비선형 변환을 행하기 위한 테이블로서, 정수부(SA2) 및 소수부(SB2)를 출력한다.
선택 회로(1701)는 표시 부하율(T3)을 입력하고, 표시 부하율(T3)이 임계치보다 작을 때에는 정수부(SA1) 및 소수부(SB1)를 선택하여 정수부(SA) 및 소수부(SB)로서 출력하고, 표시 부하율(T3)이 임계치 이상일 때에는 정수부(SA2) 및 소수 부(SB2)를 선택하여 정수부(SA) 및 소수부(SB)로서 출력한다. 가산기(804)는 도 8과 동일한 처리를 행한다.
비선형 게인 회로(102)는 복수의 룩업 테이블(801a 및 801b)을 갖고, 표시 부하율(T3)에 따라, 룩업 테이블(801a 또는 801b)을 선택한다. 즉, 비선형 게인 회로(102)는 표시 부하율(T3)에 따라, 화상 신호(S2)로부터 화상 신호(S3)에의 복수 종류의 비선형 변환 테이블(801a, 801b) 중 어느 하나를 선택하여 화상 신호(S3)를 출력한다. 이에 따라, 표시 부하율(T3)에 따라, 비선형 변환을 행하여, 계조의 선형성을 유지할 수 있다.
이상과 같이, 제1∼제4 실시 형태에 따르면, 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하면, 계조의 선형 특성이 무너지거나 동화 의사 윤곽이 발생하는 일이 있다. 그 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않음으로써, 계조의 선형 특성을 유지하여 동화 의사 윤곽의 발생을 저감할 수 있다. 또한, 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용할 수 없어도, 다른 서브필드 점등 패턴을 이용한 오차 확산 처리에 의해, 계조수는 줄어들지 않고 해결되어, 고화질을 실현할 수 있다.
또, 상기 실시 형태는, 어느 것도 본 발명을 실시하는데 있어서의 구체화의 예를 기술한 것에 지나지 않고, 이들에 의해 본 발명의 기술적 범위가 한정적으로 해석되어서는 안 된다. 즉, 본 발명은 그 기술 사상, 또는 그 주요한 특징으로부터 일탈하지 않고, 여러 가지 형태로 실시할 수 있다.
본 발명의 실시 형태는, 예를 들면 이하와 같이 여러 가지의 적용이 가능하다.
(부기 1)
1필드가 가중치 부여된 서스테인 펄스수를 갖는 복수의 서브필드로 이루어지고, 상기 복수의 서브필드 중 점등하는 서브필드의 패턴을 선택함으로써 화상을 계조 표현하는 표시부와,
특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록, 제1 화상 신호를 제2 화상 신호로 비선형 변환하고, 상기 제2 화상 신호를 실부 및 오차부로 표현하는 비선형 변환 회로와,
상기 제2 화상 신호의 오차부가 0이 아닐 때에는 그 오차부를 공간적 또는 시간적으로 확산하는 오차 확산 회로와,
상기 오차 확산된 제2 화상 신호를 기초로 상기 서브필드의 점등 패턴을 선택할 때에, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고 다른 서브필드 점등 패턴을 선택하는 서브필드 패턴 변환 회로를 갖는 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 2)
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하여 휘도치가 어긋나 있고, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하면 상기 제1 화상 신호에 대하여 휘도가 비선형이 되는 부기 1 기재의 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 3)
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하여 휘도치가 커지도록 어긋나 있는 부기 2 기재의 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 4)
상기 1필드는 상기 복수의 서브필드가 시간 순으로 나열되고,
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴에 대하여 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남이, 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴간의 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남의 평균치보다 큰 부기 1 기재의 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 5)
상기 제1 화상 신호의 계조치가 전체 계조의 중간치보다 큰 영역은, 전체 계조의 중간치보다 작은 영역에 비해, 오차부가 0이 아닌 상기 제2 화상 신호로 변환되는 계조치의 수가 많은 부기 4 기재의 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 6)
상기 비선형 변환 회로는 상기 제1 화상 신호를 상기 제2 화상 신호로 변환하기 위한 테이블을 갖는 부기 1 기재의 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 7)
상기 비선형 변환 회로는 상기 제1 화상 신호로부터 상기 제2 화상 신호로의 복수 종류의 비선형 변환 중 어느 하나를 선택하여 제2 화상 신호를 출력하는 부기 1 기재의 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 8)
표시 부하율을 검출하는 검출 회로를 더 갖고,
상기 비선형 변환 회로는, 상기 표시 부하율에 따라, 상기 복수 종류의 비선 형 변환 중 어느 하나를 선택하여 제2 화상 신호를 출력하는 부기 7 기재의 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 9)
상기 비선형 변환 회로는 상기 복수 종류의 비선형 변환을 행하기 위한 복수의 테이블을 갖는 부기 8 기재의 플라즈마 디스플레이 장치.
(부기 10)
1필드가 가중치 부여된 서스테인 펄스수를 갖는 복수의 서브필드로 이루어지고, 상기 복수의 서브필드 중 점등하는 서브필드의 패턴을 선택함으로써 화상을 계조 표현하는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법으로서,
특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록, 제1 화상 신호를 제2 화상 신호로 비선형 변환하고, 상기 제2 화상 신호를 실부 및 오차부로 표현하는 비선형 변환 스텝과,
상기 제2 화상 신호의 오차부가 0이 아닐 때에는 그 오차부를 공간적 또는 시간적으로 확산하는 오차 확산 스텝과,
상기 오차 확산된 제2 화상 신호를 기초로 상기 서브필드의 점등 패턴을 선택할 때에, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고 다른 서브필드 점등 패턴을 선택하는 서브필드 패턴 변환 스텝을 갖는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
(부기 11)
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하 여 휘도치가 어긋나 있고, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하면 상기 제1 화상 신호에 대하여 휘도가 비선형으로 되는 부기 10 기재의 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
(부기 12)
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하여 휘도치가 커지도록 어긋나 있는 부기 11 기재의 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
(부기 13)
상기 1필드는 상기 복수의 서브필드가 시간 순으로 나열되고,
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴에 대하여 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남이, 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴간의 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남의 평균치보다 큰 부기 10 기재의 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
(부기 14)
상기 제1 화상 신호의 계조치가 전체 계조의 중간치보다 큰 영역은, 전체 계조의 중간치보다 작은 영역에 비해, 오차부가 0이 아닌 상기 제2 화상 신호로 변환되는 계조치의 수가 많은 부기 13 기재의 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
(부기 15)
상기 비선형 변환 스텝은 테이블을 이용하여 상기 제1 화상 신호를 상기 제2 화상 신호로 변환하는 부기 10 기재의 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
(부기 16)
상기 비선형 변환 스텝은 상기 제1 화상 신호로부터 상기 제2 화상 신호로의 복수 종류의 비선형 변환 중 어느 하나를 선택하여 제2 화상 신호를 출력하는 부기 10 기재의 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
(부기 17)
표시 부하율을 검출하는 검출 스텝을 더 갖고,
상기 비선형 변환 스텝은, 상기 표시 부하율에 따라, 상기 복수 종류의 비선형 변환 중 어느 하나를 선택하여 제2 화상 신호를 출력하는 부기 16 기재의 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
(부기 18)
상기 비선형 변환 스텝은 복수의 테이블을 이용하여 상기 복수 종류의 비선형 변환을 행하는 부기 17 기재의 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하면, 계조의 선형 특성이 무너지거나 동화 의사 윤곽이 발생하는 경우가 있다. 그 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않음으로써, 계조의 선형 특성을 유지하여, 동화 의사 윤곽의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용할 수 없더라도, 다른 서브필드 점등 패턴을 이용한 오차 확산 처리에 의해, 계조수는 줄어들지 않고 해결되어, 고화질을 실현할 수 있다.

Claims (18)

1필드가 가중치 부여된 서스테인 펄스수를 갖는 복수의 서브필드로 이루어지고, 상기 복수의 서브필드 중 점등하는 서브필드의 패턴을 선택함으로써 화상을 계조 표현하는 표시부와,
특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록, 제1 화상 신호를 제2 화상 신호로 비선형 변환하고, 상기 제2 화상 신호를 실부 및 오차부로 표현하는 비선형 변환 회로와,
상기 제2 화상 신호의 오차부가 0이 아닐 때에는 그 오차부를 공간적 또는 시간적으로 확산하는 오차 확산 회로와,
상기 오차 확산된 제2 화상 신호를 기초로 상기 서브필드의 점등 패턴을 선택할 때에, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고 다른 서브필드 점등 패턴을 선택하는 서브필드 패턴 변환 회로
를 갖는 플라즈마 디스플레이 장치.
제1항에 있어서,
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하여 휘도치가 어긋나 있고, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하면 상기 제1 화상 신호에 대하여 휘도가 비선형이 되는 플라즈마 디스플레이 장치.
제2항에 있어서,
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하여 휘도치가 커지도록 어긋나 있는 플라즈마 디스플레이 장치.
제1항에 있어서,
상기 1필드는 상기 복수의 서브필드가 시간 순으로 나열되고,
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴에 대하여 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남이, 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴간의 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남의 평균치보다 큰 플라즈마 디스플레이 장치.
제4항에 있어서,
상기 제1 화상 신호의 계조치가 전체 계조의 중간치보다 큰 영역은, 전체 계조의 중간치보다 작은 영역에 비해, 오차부가 0이 아닌 상기 제2 화상 신호로 변환되는 계조치의 수가 많은 플라즈마 디스플레이 장치.
제1항에 있어서,
상기 비선형 변환 회로는 상기 제1 화상 신호를 상기 제2 화상 신호로 변환하기 위한 테이블을 갖는 플라즈마 디스플레이 장치.
제1항에 있어서,
상기 비선형 변환 회로는 상기 제1 화상 신호로부터 상기 제2 화상 신호로의 복수 종류의 비선형 변환 중 어느 하나를 선택하여 제2 화상 신호를 출력하는 플라즈마 디스플레이 장치.
제7항에 있어서,
표시 부하율을 검출하는 검출 회로를 더 갖고,
상기 비선형 변환 회로는, 상기 표시 부하율에 따라, 상기 복수 종류의 비선형 변환 중 어느 하나를 선택하여 제2 화상 신호를 출력하는 플라즈마 디스플레이 장치.
제8항에 있어서,
상기 비선형 변환 회로는 상기 복수 종류의 비선형 변환을 행하기 위한 복수의 테이블을 갖는 플라즈마 디스플레이 장치.
1필드가 가중치 부여된 서스테인 펄스수를 갖는 복수의 서브필드로 이루어지고, 상기 복수의 서브필드 중 점등하는 서브필드의 패턴을 선택함으로써 화상을 계조 표현하는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법으로서,
특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않도록, 제1 화상 신호를 제2 화상 신호로 비선형 변환하고, 상기 제2 화상 신호를 실부 및 오차부로 표현하는 비선형 변환 스텝과,
상기 제2 화상 신호의 오차부가 0이 아닐 때에는 그 오차부를 공간적 또는 시간적으로 확산하는 오차 확산 스텝과,
상기 오차 확산된 제2 화상 신호를 기초로 상기 서브필드의 점등 패턴을 선택할 때에, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하지 않고 다른 서브필드 점등 패턴을 선택하는 서브필드 패턴 변환 스텝
을 갖는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
제10항에 있어서,
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하여 휘도치가 어긋나 있고, 상기 특정의 서브필드 점등 패턴을 사용하면 상기 제1 화상 신호에 대하여 휘도가 비선형으로 되는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
제11항에 있어서,
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그것에 대응하는 화상 신호의 값에 대하여 휘도치가 커지도록 어긋나 있는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
제10항에 있어서,
상기 1필드는 상기 복수의 서브필드가 시간 순으로 나열되고,
상기 특정의 서브필드 점등 패턴은, 그 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴에 대하여 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남이, 휘도치가 인접하는 서브필드 점등 패턴간의 시간적 발광 중심의 시간적 어긋남의 평균치보다 큰 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
제13항에 있어서,
상기 제1 화상 신호의 계조치가 전체 계조의 중간치보다 큰 영역은, 전체 계조의 중간치보다 작은 영역에 비해, 오차부가 0이 아닌 상기 제2 화상 신호로 변환되는 계조치의 수가 많은 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
제10항에 있어서,
상기 비선형 변환 스텝은 테이블을 이용하여 상기 제1 화상 신호를 상기 제2 화상 신호로 변환하는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
제10항에 있어서,
상기 비선형 변환 스텝은 상기 제1 화상 신호로부터 상기 제2 화상 신호로의 복수 종류의 비선형 변환 중 어느 하나를 선택하여 제2 화상 신호를 출력하는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
제16항에 있어서,
표시 부하율을 검출하는 검출 스텝을 더 갖고,
상기 비선형 변환 스텝은, 상기 표시 부하율에 따라, 상기 복수 종류의 비선형 변환 중 어느 하나를 선택하여 제2 화상 신호를 출력하는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
제17항에 있어서,
상기 비선형 변환 스텝은 복수의 테이블을 이용하여 상기 복수 종류의 비선형 변환을 행하는 플라즈마 디스플레이 장치의 처리 방법.
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