KR20060049096A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 브러시의 양단을 회전 가능하게 지지하는 한쌍의 스핀들을 중심의 어긋남 없이 처리조(處理槽)의 폭 방향을 따라 설치할 수 있도록 되어 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것에 있다. 처리조 내에서 반송(搬送)되는 기판을, 이 처리조 내에 설치된 브러시 유닛(11)에 의해 처리하는 처리 장치로서, 브러시 유닛은, 동일 수직면 상에 수평 방향으로 소정 간격 이격되는 제1 장착부(17)와 제2 장착부(18)를 가지는 프레임(12)과, 축선이 평행하게 되도록 상하 방향으로 배치되는 제1 상부 브러시(32) 및 제1 하부 브러시(33)와, 제1 장착부와 제2 장착부에 장착되고, 제1 상부 브러시의 축 방향 양 단부를 회전 가능하게 지지하는 한쌍의 제1 스핀들(27)과, 제1 장착부와 제2 장착부에 장착되고, 제2 하부 브러시의 축 방향 양 단부를 회전 가능하게 지지하는 한쌍의 제2 스핀들(28)을 구비한다.
기판 처리 장치, 브러시 유닛, 프레임, 스핀들.

Description

기판 처리 장치 {APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATES}
도 1은 본 발명의 일실시예의 처리 장치를 나타낸 종단면도이다.
도 2는 브러시 유닛의 분해 사시도이다.
도 3은 처리조 내에서 기판을 소정 방향으로 반송하는 반송 기구와 브러시 유닛과의 배치 관계의 설명도이다.
도 4는 브러시 유닛의 길이 방향 일단부를 확대하여 나타낸 정면도이다.
도 5는 브러시 유닛의 상하 구동 기구를 제거한 평면도이다.
도 6은 브러시 유닛의 각 브러시와 세정액을 분사 공급하는 노즐의 배치 관계를 나타낸 설명도이다.
본 발명은 기판을 처리조(處理槽) 내에 설치된 브러시 유닛에 의해 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치에 사용되는 유리제의 기판에는 회로 패턴이 형성된다. 기판에 회로 패턴을 형성하는 데는 리소그라피 프로세스가 채용된다. 리소그라피 프로세스는 주지(周知)와 같이 상기 기판에 레지스트를 도포하고, 이 레지스트에 회로 패턴이 형성된 마스크를 통하여 광을 조사한다.
다음에, 레지스트의 광이 조사(照射)되지 않은 부분 또는 광이 조사된 부분을 제거하고, 레지스트가 제거된 부분을 에칭한다. 그리고, 에칭 후에 기판으로부터 레지스트를 제거하는 일련의 공정을 복수회 반복함으로써, 상기 기판에 회로 패턴을 형성한다.
이와 같은 리소그라피 프로세스에 있어서는, 상기 기판에 현상액, 에칭액 또는 에칭 후에 레지스트를 제거하는 박리액(剝離液) 등의 처리액에 의해 기판을 처리하는 공정, 또한 처리액에 의한 처리 후에 세정액에 의해 세정하는 공정이 필요하다.
기판을 세정하는 세정 공정에 있어서, 예를 들어 기판에 부착된 처리액을 세정 제거하도록 한 경우에는, 처리조 내에서 반송(搬送)되는 기판에 대하여, 샤워 노즐에 의해 세정액을 분사함으로써, 기판으로부터 처리액을 세정 제거할 수 있다.
그러나, 기판에 파티클 등의 오염이 견고하게 부착되어 있는 같은 경우, 기판에 단지 세정액을 분사하는 것만으로는 오염을 확실하게 세정 제거할 수 없다. 따라서, 그와 같은 경우에는 처리조 내에서 반송되는 기판을 브러시 유닛에 의해 세정하는 것이 행해진다.
상기 브러시 유닛은, 반송되는 기판의 상면을 브러싱하는 상부 브러시와, 하면을 브러싱하는 하부 브러시를 가진다. 각 브러시는, 축 방향의 양 단부가 각각 스핀들에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다. 그리고, 각 브러시의 축 방향 일단부에 설치된 스핀들과, 타단부에 설치된 스핀들은 각각 좌우 한쌍의 브래킷에 장착 되어 고정된다. 좌우 한쌍의 브래킷은 기판의 반송 방향에 대하여 직교하는 폭 방향으로 배치되고, 하단이 처리 장치를 구성하는 빔에 고정되어 수직설치된다.
그런데, 기판의 반송 방향과 직교하는 폭 방향으로 좌우 한쌍의 브래킷을 수직설치하고, 이들 브래킷에 상하 한쌍의 브러시의 축 방향 일단부와 타단부에 설치된 스핀들을 장착하여 고정하는 구조에 의하면, 좌우 한쌍의 브래킷을 기판의 반송 방향과 직교하는 방향의 동일 직선 상에 정밀하게 위치 결정 고정하는 것, 즉 한쌍의 브래킷을 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 중심의 어긋남 없이 위치 결정 고정하는 것은 어렵다.
좌우 한쌍의 브래킷에 중심의 어긋남이 생기면, 각 브래킷에 장착되어 브러시의 축 방향 일단부와 타단부를 회전 가능하게 지지하는 좌우 한쌍의 스핀들의 축선에도 어긋남이 생긴다. 스핀들의 축선에 어긋남이 생긴 상태에서 브러시를 회전 구동시키면, 스핀들이나 브러시의 축에 응력이 발생하게 되기 때문에, 스핀들의 손상이나 브러시 축의 손상이 초래되는 경우가 있다.
또한, 처리조 내의 좁은 공간에서 좌우 한쌍의 브래킷을 빔에 장착하여 고정하거나, 이들 브래킷에 브러시의 양 단부에 설치된 스핀들을 장착하여 고정하는 등의 작업을 행하지 않으면 안되므로, 작업성이 좋지 않다는 점도 있었다.
본 발명은, 상하 브러시의 축 방향 양단을 회전 가능하게 지지하는 좌우 한쌍의 스핀들을, 기판의 반송 방향에 대하여 직교하는 방향으로 중심의 어긋남 없이 정밀하게 위치 결정하여 설치하는 것이 가능하도록 한 기판 처리 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명은, 처리조 내에서 반송되는 기판을, 이 처리조 내에 설치된 브러시 유닛에 의해 처리하는 처리 장치로서,
상기 브러시 유닛은,
동일 수직면 상에 수평 방향으로 소정 간격 이격되는 제1 장착부와 제2 장착부를 가지는 프레임과,
축선이 평행하게 되도록 상하 방향으로 배치되는 제1 상부 브러시 및 제1 하부 브러시와,
상기 제1 장착부와 제2 장착부에 장착되고, 상기 제1 상부 브러시의 축 방향 양 단부를 회전 가능하게 지지하는 한쌍의 제1 스핀들과,
상기 제1 장착부와 제2 장착부에 장착되고, 상기 제1 하부 브러시의 축 방향 양 단부를 회전 가능하게 지지하는 한쌍의 제2 스핀들
을 구비한 기판 처리 장치이다.
본 발명에 의하면, 프레임에 동일 수직면 상에 위치하여 수평 방향으로 소정 간격으로 이격되는 한쌍의 장착부를 형성하고, 이들 장착부에 상부 브러시의 축 방향 양 단부와 하부 브러시의 축 방향 양 단부를 각각 회전 가능하게 지지하는 각 한쌍의 스핀들을 상하 방향으로 대응하여 설치하도록 했다.
그러므로, 각 한쌍의 스핀들을 중심의 어긋남 없이 설치하는 것이 가능해지기 때문에, 이들 스핀들이나 스핀들에 지지되는 상하 한쌍의 브러시 축에 응력이 발생하여 손상이 초래되는 것을 방지할 수 있다.
이하, 본 발명의 일실시예를 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 처리 장치의 종단면도로서, 이 처리 장치는 처리조(1)를 구비하고 있다. 이 처리조(1) 내에는 도 3에 나타낸 바와 같이 복수개의 반송 롤러(2)로 이루어지는 반송 기구(3)가 형성되어 있다. 이들 반송 롤러(2)는 소정 방향으로 회전 구동된다. 상기 처리조(1)의 일단에는 반입구(4)가 형성되고, 이 반입구(4)로부터 처리조(1) 내에 반입된, 예를 들어 액정 표시 패널 등에 사용되는 유리제의 기판 W는 상기 반송 롤러(2)에 의해 반송되고, 상기 처리조(1)의 타단에 설치된 반출구(5)로부터 반출되도록 되어 있다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 상기 처리조(1)는 상면에 형성된 개구부(7)가 커버체(6)에 의해 개폐될 수 있는 구성으로 되어 있다. 상기 처리조(1) 내에는, 이 처리조(1) 내를 상기 반송 롤러(2)에 의해 반송되는 기판 W(도 3에 나타냄)를 브러시 세정하는 브러시 유닛(11)이 후술하는 바와 같이 설치되어 있다. 또한, 처리조(1)의 저부는 배액관(排液管)(8)을 통하여 폐액(廢液) 탱크(9)에 접속되어 있다.
상기 브러시 유닛(11)은 도 2, 도 4 및 도 5에 나타낸 바와 같이 프레임(12)을 가진다. 이 프레임(12)은 연결부(13) 및 이 연결부(13)의 양단에 일체 형성된 한쌍의 다리부(14)에 의해 측면 형상이 문형상(門形狀)으로 설치되어 있다. 연결부(13) 및 다리부(14)의 단면 형상은 윗쪽 및 외측이 개방된 U 자형으로 되어 있다.
한쌍의 다리부(14)의 하단에는 연결판(15)이 장착되어 고정되어 있고, 상기 연결부(13)의 길이 방향 중도부에는 도 1에 나타낸 바와 같이 프레임(12)을 체인 블록 등에 반송 수단에 의해 매달 때 사용되는 매다는 금속부재(16)가 형성되어 있다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 한쪽의 상기 다리부(14)의 일측면은 제1 장착부(17)에 형성되고, 다른 쪽의 상기 다리부(14)의 일측면은 제2 장착부(18)에 형성되어 있다. 제1 장착부(17)와 제2 장착부(18)는 후술하는 바와 같이 동일 수직면 상에 위치하고, 수평 방향으로 소정 간격, 즉 상기 기판 W의 폭 치수보다 큰 간격으로 이격되도록 형성되어 있다.
또한, 한쪽의 상기 다리부(14)의 타측면에는 상기 제1 장착부(17)와 평행하게 제3 장착부(19)가 형성되고, 다른 쪽의 상기 다리부(14)의 타측면에는 상기 제2 장착부(18)와 평행하게 제4 장착부(20)가 설치되어 있다. 따라서, 제3 장착부(19)와 제4 장착부(20)는 제1, 제2 장착부(17, 18)와 마찬가지로, 동일 수직면 상에 위치하여 수평 방향으로 소정 간격 이격되어 있다.
도 4 및 도 5에 나타낸 바와 같이, 제1 내지 제4 장착부(17)~(20)를 형성하는 한쌍의 다리부(14)의 양쪽의 동일 수직면 상에 위치하는 기준면(21)에는, 각각 한쌍의 리니어 가이드(22)가 평행하게 또한 상하 방향을 따라 설치되어 있다.
각 한쌍의 리니어 가이드(22)에는 각각 상부 가동판(23)과 하부 가동판(24)이 이들 내면에 고정된 2개로 쌍을 이루는 한쌍의 슬라이더(25)를 슬라이드 가능하게 걸어맞추어 형성되어 있다. 즉, 상부 가동판(23)과 하부 가동판(24)은 상기 리니어 가이드(22)를 따라 상하 이동 가능하게 되어 있다.
그에 따라, 제1 장착부(17)와 제2 장착부(18)에 설치된 각각 한쌍의 상부 가동판(23)과 하부 가동판(24)의 판면은 상기 기준면(21)에 준해 동일 수직면 상에 위치하고 있다. 또한, 제3 장착부(19)와 제4 장착부(20)에 설치된 각각 한쌍의 상부 가동판(23)과 하부 가동판(24)의 판면은, 동일하게 상기 기준면(21)에 준해 동일 수직면 상에 위치하고 있다.
한쌍의 다리부(14)의 제1, 제2 장착부(17, 18)에 설치된 2개의 상부 가동판(23)에는 각각 제1 스핀들(27)이 그 일측면을 고정하여 설치되고, 동일하게 2개의 하부 가동판(24)에는 각각 제2 스핀들(28)이 일측면을 고정하여 형성되어 있다.
한쌍의 다리부(14)의 제3, 제4 장착부(19, 20)에 설치된 2개의 상부 가동판(23)에는 각각 제3 스핀들(29)이 그 일측면을 고정하여 설치되고, 동일하게 2개의 하부 가동판(24)에는 각각 제4 스핀들(30)이 일측면을 고정하여 형성되어 있다.
한쌍의 제1 스핀들(27)에는 제1 상부 브러시(32)의 축 방향 양 단부가 회전 가능하게 지지되고, 한쌍의 제2 스핀들(28)에는 제1 하부 브러시(33)의 축 방향 양 단부가 회전 가능하게 지지되어 있다.
또한, 한쌍의 제3 스핀들(29)에는 제2 상부 브러시(34)의 축 방향 양 단부가 회전 가능하게 지지되고, 한쌍의 제4 스핀들(30)에는 제2 하부 브러시(35)의 축 방향 양 단부가 회전 가능하게 지지되어 있다.
상기 각 브러시(32)~(35)는 도 5에 나타낸 바와 같이 중공축(36)의 외주면에 브러시 모(毛)(37)가 형성되어 있는 동시에, 상기 중공축(36)의 양단에 지지축(39)이 연결되어 있고, 상기 지지축(39)이 각 스핀들(27)~(30)에 회전 가능하게 지지되 어 있다.
각 브러시(32)~(35)의 축 방향 양 단부를 회전 가능하게 지지한 각 한쌍의 제1 내지 제4 스핀들(27)~(30)의 한쪽의 축 방향의 일단면에는 각각 구동원(40)이 설치되어 있다. 각 구동원(40)은 각 브러시(32)~(35)의 지지축(39)에 연결되고, 이들 브러시(32)~(35)를 소정 방향으로 회전 구동시킨다.
즉, 각 한쌍의 상부 브러시(32, 34)와 하부 브러시(33, 35)는 역방향으로 회전 구동된다. 각 한쌍의 브러시의 회전 방향은, 통상, 기판 W의 반송 방향에 대하여 역방향으로 회전 구동되지만, 브러시의 주속도(周速度)와 기판 W의 반송 속도가 다르면, 각 브러시의 회전 방향은 기판 W의 반송 방향과 동일 방향이라도 된다. 또, 한쪽의 한쌍의 상하 브러시(32, 33)와 다른 쪽의 한쌍의 상하 브러시(34, 35)의 한쪽을 기판 W의 반송 방향과 동일 방향, 다른 쪽을 역방향으로 해도 된다.
상기 제1 상부 브러시(32)와 제1 하부 브러시(33)는, 제1 상하 구동 기구(41)에 의해 별개로 상하 방향으로 구동하여 위치 결정이 조정 가능하도록 되어 있고, 상기 제2 상부 브러시(34)와 제2 하부 브러시(35)는, 상기 제1 상하 구동 기구(41)와 같은 구성의 제2 상하 구동 기구(42)에 의해 별개로 상하 방향으로 구동하여 위치 결정이 조정 가능하도록 되어 있다.
상기 제1, 제2 위치 결정 기구(41, 42)는 상기 프레임(12)의 한쌍의 다리부(14)의 상단에 축선을 수평으로 하여 장착된 한쌍의 제1 지지체(44)를 가진다. 도 4에 나타낸 바와 같이 한쌍의 제1 지지체(44)(한쪽만 도시)에는 가동 블록(45)이 슬라이드 가능하게 지지되어 있다. 이 가동 블록(45)에는 구동축(46)의 상단부가 슬라이드 가능하게 지지되어 있는 각 구동축(46)의 하단은, 한쌍의 제1 스핀들(27) 및 제3 스핀들(29)이 설치된 상기 상부 가동판(23)의 상단에 연결되어 고정되어 있다. 구동축(46)의 상단부에는 롤러(47)가 설치되고, 이 롤러(47)는 상기 가동 블록(45)에 상하 방향을 따라 경사지게 형성된 경사홈(48)에 걸어맞추어져 있다. 그에 따라, 상기 가동 블록(45)이 축방향으로 슬라이드하면, 상기 경사홈(48)을 따라 롤러(47)가 상하 이동하고, 그 상하 이동에 구동축(46)이 연동하기 때문에, 이 구동축(46)에 연결된 상부 가동판(23)이 리니어 가이드(22)를 따라 상하 구동된다.
좌우 한쌍의 상부 가동판(23)은, 한쌍의 제1 스핀들(27)을 통하여 제1 상부 브러시(32) 및 한쌍의 제3 스핀들(29)을 통하여 제2 상부 브러시(34)가 회전 가능하게 지지되어 있다. 따라서, 상부 가동판(23)을 상하 구동하면, 상기 제1, 제2 상부 브러시(32, 34)를 상하 이동시켜 위치 결정할 수 있다.
좌우 한쌍의 가동 블록(45)의 일단은 연동축(51)에 의해 연결되어 있다. 한쪽의 가동 블록(45)의 타단에는 슬라이드축(52)(도 4에 나타냄)의 일단이 연결되어 있다. 이 슬라이드축(52)은 한쪽의 다리부(14)에 브래킷(50)에 의해 장착된 제2 지지체(53)에 슬라이드 가능하게 지지되어 있다.
제2 지지체(53)에는 제1 조작축(54)의 상단부가 회전 가능하게 지지되어 있다. 이 제1 조작축(54)의 상단부에는 상기 슬라이드축(52)에 설치된 종동 기어에 서로 맞물리는 구동 기어(모두 도시하지 않음)가 설치되어 있다. 그리고, 제1 조작축(54)의 하단에 설치된 조작 노브(55)에 의해 이 제1 조작축(54)을 회전시키면, 그 회전에 따라 상기 슬라이드축(52)을 축방향으로 구동할 수 있다.
상기 슬라이드축(52)을 축방향으로 구동시키면, 거기에 제1 블록(45)이 연동하여 슬라이드하기 때문에, 전술한 바와 같이 제1 상부 브러시(32)와 제2 상부 브러시(34)의 상하 방향의 위치를 조정할 수 있다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 상기 제2 지지체(53)에는 상승용 레버(56)가 중도부를 핀(56a)에 의해 회동 가능하게 연결되어 설치되어 있다. 이 조작 레버(56)의 상단은 상기 슬라이드축(52)의 상기 제2 지지체(53)에 지지된 부분에 핀(56b)에 의해 회동 가능한 동시에 상대적으로 상하 방향으로 슬라이드 가능하게 연결되어 있다.
따라서, 상기 조작 레버(56)를 도 4에 화살표로 나타낸 반시계 방향인, 상단이 후퇴하는 방향으로 회동시키면, 이 조작 레버(56)에 의해 슬라이드축(52)를 강제적으로 후퇴 방향으로 구동시킬 수 있다. 그에 따라, 제1, 제2 상부 브러시(32, 34)를 상기 제1 조작축(54)의 회전 조작에 비해 신속히 큰 치수로 상승시키는 것이 가능하도록 되어 있다.
상기 제1, 제2 상하 구동 기구(41, 42)에 의한 상기 제1, 제2 하부 브러시(33, 35)의 상하 구동은, 제1, 제2 상부 브러시(32, 34)와 대략 같은 구성의 기구에 의해 행해진다. 즉, 자세한 것은 도시하지 않지만, 도 2에 나타낸 바와 같이 프레임(12)의 한쌍의 다리부(14)의 상단에 장착된 한쌍의 제1 지지체(44A)를 가지고, 한쪽의 지지체(44A)에는 제1 블록(도시하지 않음)이 슬라이드 가능하게 형성되어 있다.
상기 제1 블록은 제2 지지체(53A)에 슬라이드 가능하게 설치된 슬라이드축( 도시하지 않음)에 연결되어 있다. 제2 지지체(53A)에는 제2 조작축(54A)의 상단이 회전 가능하게 지지되고, 이 제2 조작축(54A)을 조작 노브(55A)에 의해 회전시킴으로써, 상기 슬라이드축을 통하여 상기 제1 블록(45A)을 슬라이드시키는 것이 가능하도록 되어 있다.
좌우 한쌍의 제1 블록(45A)은 연동축(51A)에 의해 연결되어 있다. 각 제1 블록에 형성된 경사홈(도시하지 않음)에는 롤러를 통하여 구동축(모두 도시하지 않음)이 상하 이동 가능하게 형성되어 있다. 한쌍의 구동축은 프레임(4)의 한쌍의 다리부(14)의 일측면과 타측면에 각각 상하 방향으로 이동 가능하게 설치된 상기 하부 가동판(24)에 연결되어 있다.
그에 따라, 상기 제2 조작축(54A)을 회전시키면, 그 회전에 연동하여 상하 동하는 구동축 및 하부 가동판(24)에 장착된 각 한쌍의 제2, 제4 스핀들(28, 30)을 통하여 제1 하부 브러시(33)와 제2 하부 브러시(35)를 상하 이동시키는 것이 가능하도록 되어 있다.
즉, 제1 상하 구동 기구(41)와 제2 구동 기구(42)에 의해 제1, 제2 상부 브러시(32, 34) 및 제1, 제2 하부 브러시(33, 35)의 상하 방향의 위치, 즉 브러시 간격을 조정할 수 있다. 그에 따라, 상하 한쌍의 브러시 사이에 이송되는 기판 W의 상하면에 대한 브러시 모(37)의 접촉력을 조정할 수 있다.
그리고, 이와 같이 구성된 브러시 유닛(11)은, 도 1에 나타낸 바와 같이 프레임(12)의 한쌍의 다리부(14)의 하단에 설치된 연결판(15)을, 상기 처리조(1)의 폭 방향 양측에 설치된 빔(57)의 상면에 착탈 가능하게 장착되어 설치된다.
즉, 브러시 유닛(11)은, 프레임(12)을 처리조(1)의 폭 방향인 기판 W의 반송 방향에 대하여 직교하는 방향으로 설치되어 있고, 도 3에 나타낸 바와 같이 이 프레임(12)의 제1, 제2 장착부(17, 18)에 설치된 제1 상부 브러시(32)와 제1 하부 브러시(33)를 동 도면에 화살표로 나타낸 기판 W의 반송 방향 상류측에 위치시켜, 제3, 제4 장착부(19, 20)에 설치된 제2 상부 브러시(34)와 제2 하부 브러시(35)를 기판 W의 반송 방향 하류측에 위치시켜 형성되어 있다.
도 6은 처리조(1) 내에 설치된 브러시 유닛(11)의 부분에 있어서의 세정액을 공급하는 노즐의 배치 상태를 나타내고 있다. 즉, 제1 노즐(61)에 의해 제1 상부 브러시(32)를 향해 세정액이 분사 공급되고, 제2 노즐(62)에 의해 제2 상부 브러시(34)를 향해 세정액이 분사 공급되도록 되어 있다. 또한, 기판 W의 각 한쌍의 상하 브러시 사이에 위치하는 부분의 상면에는 2세트의 제3 노즐(63)에 의해 세정액이 분사 공급되도록 되어 있다. 그리고, 제1 내지 제3 노즐(61)~(63)은 브러시의 축방향을 따라 소정 간격으로 복수개 배치되어 있다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 상기 제1, 제2 상하 구동 기구(41, 42)의 제1, 제2 조작축(54, 54A) 및 조작 레버(56)는 처리조(1)의 외부에 돌출되어 있다. 그에 따라, 상부 브러시(32, 34)와 하부 브러시(33, 35)의 상하 위치의 조정이 외부로부터 행해지도록 되어 있다.
상기 처리조(1)의 일측 외측에는 도 1에 나타낸 바와 같이 크레인 장치(71)의 지주(72)가 수직설치되어 있다. 이 지주(72)의 상단에는 가로 부재(73)의 일단부가 고정되어 있다. 이 가로 부재(73)는 상기 처리조(1)의 위쪽에, 이 처리조(1) 의 폭 방향을 따라 수평으로 설치되어 있다.
상기 지주(72)의 높이 방향 중도부에는 조작부(74a)에 의해 조작되는 윈치(winch)(74)가 형성되어 있다. 상기 가로 부재(73)의 일단과 타단에는 각각 풀리(75)가 회전 가능하게 설치되어 있다. 한쌍의 풀리(75)에는 상기 윈치(74)에 의해 권취되거나, 계속 내보내지는 와이어(76)가 걸어맞추어져 있다. 와이어(76)의 선단에는 훅(77)이 설치되어 있다.
상기 훅(77)은 상기 브러시 유닛(11)이 매달리는 금속 부재(16)에 형성된 걸어맞춤공(16a)에 걸어맞출 수 있다. 훅(77)을 매달리는 금속 부재(16)에 걸어맞춘다. 그리고, 상기 빔(57)에 대한 브러시 유닛(11)의 고정 상태를 해제하고, 처리조(1)로부터 커버체(6)를 분리한 상태에서, 상기 와이어(76)를 윈치(74)에 의해 권취하면, 상기 브러시 유닛(11)을 도 1에 실선으로 나타낸 장착 위치로부터 쇄선으로 나타낸 바와 같이 처리조(1)의 위쪽으로 매달아 올릴 수가 있다. 따라서, 상기 브러시 유닛(11)의 수리 점검 등을 용이하게 행하는 것이 가능해진다.
이와 같이 구성된 처리 장치에 의하면, 한쌍의 상부 브러시(32, 34) 및 한쌍의 하부 브러시(33, 35)는 프레임(12)에 의해 일체화되어 있다. 그러므로, 처리조(1)에 내장하기 전에 일체화하여 두면, 처리조(1) 내에서는 프레임(12)의 다리부(14)의 하단에 설치된 연결판(15)을 빔(57)에 장착하여 고정하는 것만의 작업으로 해결된다. 따라서, 처리조(1) 내에 브러시 유닛(11)을 내장하는 작업을 용이하고, 또한 신속히 행할 수 있다.
상기 프레임(12)의 한쌍의 다리부(14)의 일측면에는 제1 장착부(17)으로 제2 장착부(18)를 동일 수직면 상에 설치하고, 타측면에는 제3 장착부(19)와 제4 장착부(20)를 동일하게 동일 수직면 상에 설치하도록 했다. 구체적으로는, 제1, 제2 장착부(17, 18)과 제3, 제4 장착부(19, 20)를 구성하는, 프레임(12)의 다리부(14)의 측면에 형성된 기준면(21)을 기준으로 하여 각각 한쌍의 상부 가동판(23)과 하부 가동판(24)의 판면을 동일 수직면 상에 위치시키도록 했다.
그러므로, 상부 가동판(23)과 하부 가동판(24)의 판면을 기준으로 하여 각각 한쌍의 제1 스핀들(27)과 제2 스핀들(28) 및 제3 스핀들(29)과 제4 스핀들(30)을 장착하고 고정하면, 각각 한쌍의 스핀들(27)~(30)을 축심이 어긋나는 일 없이 상기 프레임(12)에 장착하는 것이 가능하다.
각각 한쌍의 스핀들(27)~(30)을 축심이 어긋나는 일 없이 상기 프레임(12)에 장착할 수 있으면, 이들 스핀들(27)~(30)에 양단이 회전 가능하게 지지된 브러시(32)~(35)를 구동원(40)에 의해 회전 구동해도, 각 스핀들(27)~(30)이나 브러시(32)~(35)에 응력이 발생하여 손상되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 프레임(12)의 한쌍의 다리부(14)의 일측면에 설치된 각 한쌍의 제1, 제2 스핀들(27, 28)은 제1 상하 구동 기구(41)에 의해 연동축(51)을 통하여 일체적으로 상하 구동시킬 수 있다.
또, 프레임(12)의 한쌍의 다리부(14)의 타측면에 설치된 각 한쌍의 제3, 제4 스핀들(29, 30)은 제2 구동 기구(42)에 의해 연동축(51A)를 통하여 일체적으로 상하 구동시킬 수 있다.
그러므로, 한쌍의 다리부(14)의 일측면과 타측면에 설치된 각 한쌍의 제1 내 지 제4 스핀들(27)~(30)은 중심의 어긋남이 생기지 않는 외에, 상하 방향으로 위치 어긋남이 생기지도 않으므로, 그에 따라서도, 브러시(32)~(35)를 회전시킴으로써 이 브러시의 축이나 각 스핀들(27)~(30)에 응력이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
상기 일실시예에서는, 프레임의 일측면과 타측면에 각각 상하 한쌍의 브러시를 설치한 브러시 유닛에 대하여 설명하였으나, 본 발명은 프레임의 일측면에만 상하 한쌍의 브러시를 설치하는 구성의 브러시 유닛으로서도 구현된다.
본 발명에 의하면, 프레임에 동일 수직면 상에 위치하여 수평 방향으로 소정 간격으로 이격되는 한쌍의 장착부를 형성하고, 이들 장착부에 상부 브러시의 축 방향 양 단부와 하부 브러시의 축 방향 양 단부를 각각 회전 가능하게 지지하는 각 한쌍의 스핀들을 상하 방향으로 대응하여 설치하도록 했다.
그러므로, 각 한쌍의 스핀들을 중심의 어긋남 없이 설치하는 것이 가능해지기 때문에, 이들 스핀들이나 스핀들에 지지되는 상하 한쌍의 브러시 축에 응력이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

Claims (7)

  1. 처리조(處理槽) 내에서 반송(搬送)되는 기판을 상기 처리조 내에 설치된 브러시 유닛에 의해 처리하는 기판 처리 장치로서,
    상기 브러시 유닛은,
    동일 수직면 상에 수평 방향으로 소정 간격 이격되는 제1 장착부와 제2 장착부를 가지는 프레임과,
    축선이 평행하게 되도록 상하 방향으로 배치되는 제1 상부 브러시 및 제1 하부 브러시와,
    상기 제1 장착부와 제2 장착부에 장착되고, 상기 제1 상부 브러시의 축 방향 양 단부를 회전 가능하게 지지하는 한쌍의 제1 스핀들과,
    상기 제1 장착부와 제2 장착부에 장착되고, 상기 제1 하부 브러시의 축 방향 양 단부를 회전 가능하게 지지하는 한쌍의 제2 스핀들을 구비한, 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 스핀들 및 제2 스핀들은 상기 제1 장착부와 제2 장착부에 각각 상하 이동 가능하게 설치되고, 제1 상하 구동 기구에 의해 각각 상기 각 장착부에 상하 방향의 위치 결정이 조정 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 프레임에는 상기 제1 장착부와 평행한 제3 장착부와, 상기 제2 장착부와 평행하며 상기 제3 장착부에 대하여 소정 간격으로 이격된 제4 장착부가 설치되고,
    상기 제3 장착부와 제4 장착부에는 제3 스핀들과 제4 스핀들이 각각 상하 방향으로 대응하여 설치되고,
    상기 제3 장착부와 제4 장착부에 설치된 한쌍의 제3 스핀들에는 제2 상부 브러시의 축 방향 양 단부가 회전 가능하게 지지되고, 한쌍의 제4 스핀들에는 제2 하부 브러시의 축 방향 양 단부가 회전 가능하게 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제3 스핀들 및 제4 스핀들은 상기 제3 장착부와 제4 장착부에 각각 상하 이동 가능하게 설치되고, 제2 상하 구동 기구에 의해 각각 상기 각 장착부에 상하 방향의 위치 결정이 조정 가능하게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 프레임은 연결부 및 이 연결부의 양단에 설치된 한쌍의 다리부에 의해 문형상(門形狀)으로 설치되어 있고,
    상기 제1 장착부와 제2 장착부는 상기 한쌍의 다리부의 일측면에 형성되고,
    상기 제3 장착부와 제4 장착부는 상기 한쌍의 다리부의 상기 일측부와 평행한 타측면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 처리조의 폭 방향 양측에는 빔이 설치되고, 상기 브러시 유닛은 상기 빔에 착탈(着脫) 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제1항에 있어서
    상기 처리조의 상면에는 커버체에 의해 개폐되는 개구부가 형성되어 있고, 상기 브러시 유닛은 상기 상부 브러시와 하부 브러시의 상기 스핀들에 의해 지지된 양 단부가 상기 처리조의 외부에 위치하고, 양 단부 이외의 부분이 상기 개구부로부터 상기 처리조 내에 수용되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4919733B2 (ja) * 2006-08-24 2012-04-18 株式会社日立ハイテクノロジーズ 基板洗浄装置、基板洗浄方法、及び基板の製造方法
CN101722476B (zh) * 2008-10-27 2012-05-23 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 化学机械抛光清洗装置
CN102479669B (zh) * 2010-11-29 2013-09-11 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶片毛刷清洗装置及晶片毛刷清洗方法
CN102274844B (zh) * 2011-06-24 2013-01-16 张家港青尼罗河曼迪科机械有限公司 金属板材生产线刷洗设备中刷辊的设置结构
CN102962215A (zh) * 2012-11-13 2013-03-13 江西稀有稀土金属钨业集团有限公司 一种钢带清扫装置
CN103785633B (zh) * 2013-11-13 2016-07-13 东莞市佳的自动化设备科技有限公司 一种电池极片刷粉装置
KR102156741B1 (ko) * 2013-12-27 2020-09-16 세메스 주식회사 기판처리장치
KR102250364B1 (ko) * 2014-07-08 2021-05-13 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
KR102634033B1 (ko) * 2019-04-05 2024-02-08 주식회사 디엠에스 기판처리유닛의 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5475889A (en) * 1994-07-15 1995-12-19 Ontrak Systems, Inc. Automatically adjustable brush assembly for cleaning semiconductor wafers
JP2963963B2 (ja) * 1996-01-12 1999-10-18 極東産機株式会社 畳の清浄装置
US6230753B1 (en) * 1996-07-15 2001-05-15 Lam Research Corporation Wafer cleaning apparatus
US5924154A (en) * 1996-08-29 1999-07-20 Ontrak Systems, Inc. Brush assembly apparatus
JP3533884B2 (ja) * 1997-06-03 2004-05-31 日立電子エンジニアリング株式会社 基板洗浄装置
JP3185753B2 (ja) * 1998-05-22 2001-07-11 日本電気株式会社 半導体装置の製造方法
US6055694A (en) * 1998-11-30 2000-05-02 Tsk America, Inc. Wafer scrubbing machine
DE19910790C1 (de) * 1999-03-11 2000-07-13 Wesumat Gmbh Fahrzeugwaschanlage zum Waschen von Kraftfahrzeugen
US6711775B2 (en) * 1999-06-10 2004-03-30 Lam Research Corporation System for cleaning a semiconductor wafer
JP4602567B2 (ja) * 2000-12-15 2010-12-22 芝浦メカトロニクス株式会社 基板の洗浄装置
JP2003145060A (ja) * 2001-11-15 2003-05-20 Shibaura Mechatronics Corp 洗浄用ブラシ、洗浄装置

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