CN101722476B - 化学机械抛光清洗装置 - Google Patents
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Abstract
一种化学机械抛光清洗装置,包括第一压缩干燥空气管、第二压缩干燥空气管和至少一组清洗刷,所述每组清洗刷包括第一刷子和第二刷子,每个刷子具有两端部,所述第一、第二压缩干燥空气管对应于每个刷子的每个端部设有一支路,所述端部与支路之间通过一气动执行部件相连,所述第一、第二压缩干燥空气管连接至每一刷子端部的支路上皆设置一针形阀,本发明在每个压缩干燥空气管上加装针型阀,使得压缩干燥空气可同时到达每个气动执行部件,另外还能有效的减小作用于气动执行部件上的压力。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗装置,且特别涉及一种化学机械抛光清洗装置。
背景技术
IC制造工艺中平坦化技术已成为与光刻和刻蚀同等重要且相互依赖的不可缺少的关键技术之一。而化学机械抛光(CMP)工艺便是目前最有效、最成熟的平坦化技术。化学机械抛光系统是集清洗、干燥、在线检测、终点检测等技术于一体的化学机械平坦化技术。CMP清洗的重点是去除研磨过程中带来的所有污染物。研磨过程中晶圆会接触到腐蚀性化学品并承受较大的外界压力,导致其表面或次表面区域发生变形或破坏,将影响到器件的稳定性,所以CMP清洗的主要目的是去除研磨剂残留、金属污染物以及游离态离子,去除硅片表面的污染物,首先要通过机械方法克服范德华力或者用化学腐蚀污染物表面以减小污染物与基底的接触,然后通过改变表面电荷性能以避免颗粒重新粘附到硅片表面。
目前清洗设备可分为非接触式清洗(超声波清洗)、接触式清洗(PVC刷洗)。超声波清洗(Megasonic)是由超声波发生器发出的高频振荡信号,通过换能器转换成高频机械振荡而传播到介质,超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射,使液体流动而产生数以万计的微小气泡,存在于液体中的微小气泡(空化核)在声场的作用下振动,当声压达到一定值时,气泡迅速增长,然后突然闭合,在气泡闭合时产生冲击波,在其周围产生上千个大气压力,破坏不熔性污物而使它们分散于清洗液中,当团体粒子被油污裹着而粘附在清洗件表面时,油被乳化,固体粒子脱离,从而达到清洗件表面净化的目的;目前接触式清洗的设备至少包括一组清洗刷,清洗刷示意图请参考图1,每组清洗刷包括相互平行的两个刷子11,两刷子11两端皆和一气动执行部件10相连,每个气动执行部件10皆和两根压缩干燥空气(CDA)管13相连,压缩干燥空气管13为气动执行部件10提供动力,控制两个刷子11的位置,待清洗的物质放置于两个刷子11之间便可进行双面清洗,然而,这种装置的缺点是非常明显的,由于压缩干燥空气从产生的源头到达各个气动执行部件10的路程不同,再加上气动执行部件10所受的压力太大,容易出现两个刷子11两端启动不同步导致刷子的损坏,以及气动执行部件10因所受压力太大易裂开的现象,这样会大大降低机台正常运行的时间。
发明内容
为了克服已有技术中存在的刷子两端启动不同步和气动执行部件端所受压力过大的问题,本发明提供一种具有使得刷子两端同步运行和有效降低气动执行部件端所受压力的清洗装置。
为了实现上述目的,本发明提出一种化学机械抛光清洗装置,包括第一压缩干燥空气管、第二压缩干燥空气管和至少一组清洗刷,所述每组清洗刷包括第一刷子和第二刷子,每个刷子具有两端部,所述第一、第二压缩干燥空气管对应于每个刷子的每个端部设有一支路,所述端部与支路之间通过一气动执行部件相连,所述第一、第二压缩干燥空气管连接至每一刷子端部的支路上皆设置一针形阀。
可选的,所述第一刷子和所述第二刷子平行放置。
可选的,所述第一压缩干燥空气管给与其相连的所述气动执行部件提供动力,控制两个刷子相互靠近。
可选的,所述第二压缩干燥空气管给与其相连的所述气动执行部件提供动力,控制两个刷子相互远离。
可选的,每个所述针形阀距离对应的所述压缩干燥空气管和所述气动执行部件连接处的长度相等。
本发明所述的化学机械抛光清洗装置的有益效果主要表现在:在每个压缩干燥空气管上加装针型阀,使得压缩干燥空气可同时到达每个气动执行部件,另外还能有效的减小作用于气动执行部件上的压力,使压力可以调节到一个合理的范围。
附图说明
图1为现有技术的结构示意图;
图2为本发明化学机械抛光清洗装置实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对发明作进一步的描述。
请参考图2,图2是本发明化学机械抛光清洗装置实施例的结构示意图,如图2所示列举的化学机械抛光清洗装置包括一组清洗刷,如有两组或两组以上的清洗刷,可并排放置,每组清洗刷包括第一刷子130、第二刷子140和四个气动执行部件110,第一刷子130和第二刷子140两端皆和一个气动执行部件110相连,第一刷子130和第二刷子140平行放置,每个气动执行部件110皆和第一压缩干燥空气管160和第二压缩干燥空气管150相连,由压缩干燥空气管为其提供动力,控制第一刷子130和第二刷子140的运动,其中第一压缩干燥空气管160提供的动力控制第一刷子130和第二刷子140相互靠近,如图所示,当第一压缩干燥空气管160工作时,第一刷子130和第二刷子140都向两个刷子的中间位置移动,即第一刷子130在图上往右边移动,第二刷子140往左边移动,第二压缩干燥空气管150提供的动力控制第一刷子130和第二刷子140分开,如图所示,当第二压缩干燥空气管150工作时,第一刷子130和第二刷子140都远离两个刷子的中间位置移动,即第一刷子130在图上往左移动,第二刷子140往右边移动。
为了控制压缩干燥空气同时到达刷子两端的气动执行部件,以及降低气动执行部件上的压力,在每个和气动执行部件相连的第一压缩干燥空气管160和第二压缩干燥空气管150上,皆设置有一个针型阀120,在本实施例中,每个针型阀120到气动执行部件110和压缩干燥空气管连接处的距离都是相等的,即针型阀120在每个压缩干燥空气管上所处的位置是相同的,这样更加易于控制压缩干燥空气同时到达刷子两端的气动执行部件,实际使用时,先将针型阀120关闭,将待清洗的物品放置在两个刷子之间,需要清洗时,使第一压缩干燥空气管160先工作,然后同时打开第一压缩干燥空气管160上的针型阀120,由于针型阀120到对应的气动执行部件110的距离是相等的,压缩干燥空气是同时到达刷子两端的气动执行部件110,两个刷子合起,进行清洗的过程,另外,为了控制压缩干燥空气到达气动执行部件的压力大小,我们也可在针型阀120和气动执行部件110之间加装一个压力测试器(图中未示),一般我们会控制到达气动执行部件110的压力为11PSI至13PSI,这样能保证气动执行部件110不被压碎,而经过测试,直接从压缩干燥空气管到达气动执行部件110的压力能达到20PSI左右,待清洗完毕后,第一压缩干燥空气管160停止工作,同时关闭其上的针型阀120,使第二压缩干燥空气管150开始工作,之后同时打开第二压缩干燥空气管150上的针型阀120,第二压缩干燥空气管150为与其相连的气动执行部件110提供动力使得两个刷子分开,最后取出清洗完毕的物品即可。
针型阀在压缩干燥空气管上的具体位置不作为对本发明的限制,本实施例只是选择了一种常见的情况来说明,加装针型阀的目的是为了实现作用于气动执行部件的压缩干燥空气同时到达以及有效的减小作用于气动执行部件上的压力,比如两个针型阀离其所对应的气动执行部件距离不一样,离得远的针型阀可先打开,离得近的针型阀可稍后再打开。
虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中具有通常知识者,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作各种的更动与润饰。因此,本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
Claims (4)
1.一种化学机械抛光清洗装置,包括第一压缩干燥空气管、第二压缩干燥空气管和至少一组清洗刷,所述每组清洗刷包括第一刷子和第二刷子,每个刷子具有两端部,所述第一、第二压缩干燥空气管对应于每个刷子的每个端部设有一支路,所述端部与支路之间通过一气动执行部件相连,其特征在于:所述第一、第二压缩干燥空气管连接至每一刷子端部的支路上皆设置一针形阀,每个所述针型阀和对应的所述压缩干燥空气管和所述气动执行部件的连接处距离相等。
2.根据权利要求1所述一种化学机械抛光清洗装置,其特征在于所述第一刷子和所述第二刷子平行放置。
3.根据权利要求1所述一种化学机械抛光清洗装置,其特征在于所述第一压缩干燥空气管给与其相连的所述气动执行部件提供动力,控制两个刷子相互靠近。
4.根据权利要求1所述一种化学机械抛光清洗装置,其特征在于所述第二压缩干燥空气管给与其相连的所述气动执行部件提供动力,控制两个刷子相互远离。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN1778478A (zh) * | 2004-10-22 | 2006-05-31 | 芝浦机械电子株式会社 | 基板处理装置 |
CN101130187A (zh) * | 2006-08-24 | 2008-02-27 | 株式会社日立高科技 | 基板清洗装置、基板清洗方法以及基板的制造方法 |
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