KR20060048986A - Pdp 필터용 필름, 이를 포함하는 pdp 필터 및 상기pdp 필터를 사용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

Pdp 필터용 필름, 이를 포함하는 pdp 필터 및 상기pdp 필터를 사용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널 Download PDF

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KR20060048986A
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Abstract

본 발명은 SAN 공중합체로 이루어진 바인더 수지; 및 근적외선 흡수 염료, 네온 컷 염료, 색보정 염료 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 염료를 포함하는 PDP 필터용 필름을 제공한다.
본 발명에 따른 PDP 필터용 필름은 바인더 수지로 SAN 공중합체를 포함하고 있기 때문에, 고온 및 고온고습 조건에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하고 열적 안정성이 우수하며 가시영역의 투과율도 높다. 또한, 상기 필름 제조시 일반적인 유기용매가 사용 가능하므로 환경 오염의 문제가 경감될 뿐만 아니라, 별도로 유독성 용매를 제거하는 공정을 생략할 수 있으므로 공정이 단순해 진다는 장점이 있다.
PDP 필터

Description

PDP 필터용 필름, 이를 포함하는 PDP 필터 및 상기 PDP 필터를 사용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널{Film for PDP filter, PDP filter comprising the same and Plasma display panel produced by using the PDP filter}
도 1은 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타내는 개략도이다.
도 2는 PDP 필터의 역할을 보여주는 개략도이다.
도 3은 PDP 필터의 역할을 보여주는 스펙트럼이다.
도 4는 실시예 1에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 5는 실시예 1에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 6은 실시예 2에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 7은 실시예 2에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 8은 실시예 3에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 9는 실시예 3에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 10은 실시예 4에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 11은 실시예 4에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 12는 실시예 5에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 13은 실시예 5에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 14는 실시예 6에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 15는 실시예 6에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 16은 실시예 7에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 17은 실시예 7에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 18은 비교예 1에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 19은 비교예 1에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 20은 비교예 2에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 21는 비교예 2에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 22은 비교예 3에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 23은 비교예 3에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 24는 비교예 4에서 제조된 필름에 대한 80℃, 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 25은 비교예 4에서 제조된 필름에 대한 60℃, RH 90% 500시간 내구성 테스트 전후의 투과 스펙트럼이다.
도 26는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 대한 개략적인 분해 사시도이다.
도 27는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 사용되는 패널 조립체의 개략도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
11, 31...케이스, 12, 32...회로기판
13, 33...패널조립체 14, 34...PDP 필터
15...커버 21...전면기판
22...배면기판 23a...어드레스 전극
23b...공통 전극 23c...주사 전극
24a, 24b...유전체층 25...격벽
28...버스 전극 29....MgO층
35...반사방지필름 36...기판
37...전자파 차폐필름 38...PDP 필터용 필름
본 발명은 PDP 필터에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 열안정성이 우수하기 때문에 투과율 변화가 거의 없는 플라즈마 디스플레이 패널 필터(이하 PDP 필터라 한다)용 필름, 이를 포함하는 PDP 필터 및 상기 PDP 필터를 사용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
최근 평판 패널 디스플레이 중 대형 화면을 구현함에 있어, 플라즈마 디스플레이 패널이 각광 받고 있다. 도 1은 플라즈마 디스플레이 패널 구조를 나타낸 도면이이며, 플라즈마 디스플레이 패널 중 패널 조립체(13)의 개략도를 도 27에 상세히 나타내었다. 플라즈마 디스플레이 패널 조립체는 하판상에 구획된 격벽을 형성한 다음 격벽의 홈에 적색, 녹색 및 청색의 형광체층을 형성하고, 상기 하판의 전 극과 상판의 전극이 마주보는 상태로 평행하게 배치될 수 있도록 상판이 겹쳐지게 하고, Ne, Ar, Xe 등의 방전가스를 봉입하여 형성하며, 양극과 음극의 전극에 전압을 인가하여 기체를 방전시킬 때 발생하는 플라즈마로부터 방사되는 자외선이 형광체에 부딪히면서 발생되는 빛을 조합하여 영상을 제공하는 차세대 디스플레이다.
도 27에 나타낸 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 유리 전체면에 신호 및 전원을 공급하는 전극이 위치해 있어, 구동시 다른 디스플레이에 비해 많은 양의 전자파가 발생하고 또한 근적외선이 발생하여 해당 근적외선 영역의 빛을 통신에 사양한 리모트 콘트롤, 적외선 통신 포트의 오작동이 발생한다. 또한 Ne, Ar, Xe 등의 방전가스를 봉입한 후 진공 자외선에 의한 적색, 청색, 녹색 각각의 형광체의 발광을 이용하여 삼원색 발광을 구현하고 있어 네온 원자가 여기된 후에 기저 상태에 돌아가는 때에 590 ㎚ 부근의 네온 오렌지 빛의 발광이 있어 선명한 적색을 얻을 수 없다는 문제점이 있다.
이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널의 문제점을 해결하기 위하여 패널 조립체(13) 전면부에 플라즈마 디스플레이 패널 필터(이하 PDP 필터라고 함:14)를 설치한다. 도 2와 도 3은 PDP 필터의 궁극적인 설치목적을 나타내주는 도면이다. 도 2와 도 3에 나타난 바와 같이, PDP 필터를 설치하면 R, G, B의 가시광선은 그대로 필터를 투과하고, 화면의 해상도를 저하시키는 590 ㎚ 파장의 오렌지 색상의 네온파장과 800 내지 1000 ㎚ 파장대의 근적외선이 차단된다.
PDP 필터는 일반적으로 여러 장의 필름(반사방지 필름(AR 필름), 근적외선 차폐층(NIR 필름), 네온 컷층(네온 컷 필름 또는 색 보정층), 전자파 차폐 필름 (EMI 필름) 등)이 적층된 구조를 가지며, 근적외선 흡수필름과 네온 컷 필름은 각각 근적외선 흡수염료와 네온 컷 염료(Neon cut dye)와 추가로 색보정 염료(color control dye)가 고분자 수지에 첨가되어 투명기재 위에 코팅된 구조를 가진다.
근적외선 차폐층(근적외선 흡수필름, NIR 필름)은 모두 고온이나 고온ㅇ고습 조건에서도 양호한 내구성을 가져야 하고 또한, 800 내지 1200 ㎚ 특히, 850 내지 1000 ㎚의 파장을 가진 근적외선의 흡수율이 높아야 하며, 430 내지 700 ㎚ 파장의 가시광선에 대한 투과율은 60% 이상이어야 PDP 필터에 바람직하게 사용될 수 있다. 또한 네온 컷 염료도 570~600nm 부근에서 최대 흡수 파장을 가져야 하며, 이들의 하프 위드쓰 밴드(Half Width Band (반치폭))는 좁을수록 좋은데, 주로 40nm 이하인 것이 바람직하다.
근적외선 흡수필름 또는 근적외선 흡수/색보정 복합화 필름 제조에 사용되는 바인더 수지로는 일반적으로 투명 필름을 형성시킬 수 있는 수지를 사용할 수 있는데, 구체적으로는 폴리에스테르계, 아크릴계, 멜라민계, 우레탄계, 폴리카보네이트계, 폴리올레핀계, 폴리비닐계, 폴리비닐알코올계, 폴리스티렌계 또는 이들 수지의 공중합체 등이 사용되고 있다.
한편, 현재 널리 사용되는 근적외선 흡수필름 제조용 염료로는 근적외선을 흡수하고, 가시광선을 투과시키는 디이모늄(diimmonium) 염, 퀴논(quinone), 프탈로시아닌(phthalocyanine), 나프탈로시아닌(naphthalocyanine) 메탈 콤플렉스(metal complex) 염료, 또는 시아닌계 염료 (폴리메틴계 염료) 등을 예로 들 수 있다. 한편, 네온 컷 염료로서는 폴리메틴(polymethine)계 염료 또는 포피린 (porphyrine)계 염료 등이 널리 사용되고 있다.
이러한 근적외선 흡수염료 또는 네온 컷 염료는, 의도하는 소정 범위의 파장 흡수율이 높아야 하고, 가시광선의 투과율이 우수해야 하며, PDP에서 발생되는 열에 대한 안정성이 특히 중요하며, 바인더 수지와 혼합하여 필름으로 제조하였을 경우에 내구성이 우수해야 한다. 상기에서 나열한 근적외선 염료 중 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌, 디티올(dithiol)계 메탈 콤플렉스 염료 등이 열적 안정성 면에서 우수한 것으로 알려져 있다. 그러나 상기 염료 들의 경우 근적외선 흡수피크가 뾰족(sharp)하기 때문에 넓은 범위의 근적외선 영역의 빛을 흡수할 수 없으며, 가격이 고가이므로 근적외선 흡수필름의 제조 단가가 높아진다는 단점이 있다. 또한, 시아닌계 염료의 경우에는 고온 및 고습 조건에서 장시간 보관시 내구성이 저하되는 등 보관안정성이 좋지 않다는 문제점이 있다.
이에 반하여 디이모늄 염 염료를 사용할 경우 근적외선 흡수피크가 넓고(broad) 가시광의 투과도가 우수하며, 가격면에서도 상기 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌, 디티올계 메탈 콤플렉스 염료 등에 비해 저렴하므로 근적외선 흡수필름의 제조 단가를 낮출 수 있다는 장점이 있다. 그러나, 디이모늄 염 염료의 경우에도 고온이나 고온고습 조건에서 장시간 보관시 근적외선 흡수 능력이 떨어지고, 가시영역에서의 투과율이 변형되는 등 염료의 물성이 변화되어 필름의 내구성이 열화된다는 문제점이 있다. 이러한 근적외선 흡수 필름의 내구성은 염료 자체뿐만 아니라 필름 형성에 사용되는 바인더 수지의 종류에 따라서도 크게 달라지는데, 디이모늄 염 염료의 내구성을 개선시키기 위하여 여러 바인더 수지가 개발되었다.
미국 특허공보 US6117370호에는 바인더 수지로서 폴리카보네이트 수지를 사용하고 근적외선 흡수 염료로서 디이모늄 염료를 사용하여 제조된 근적외선 흡수 필터가 개시되어 있으나, 제막시 용매로서 클로로포름을 사용하기 때문에 오존층 파괴 등의 염려가 있어서, 상기 용매로서 사용되고 남은 클로로포름 전량의 회수 시스템을 별도로 구비해야 하며, 상기 디이모늄 염료의 열안정성의 개선이 그리 크지 않기 때문에 고온 고습 조건에서 장기간 경과시 투과율의 변화가 여전히 크다는 문제점이 있었다.
또한, 미국 특허공보 US6522463호에는 바인더 수지로서 폴리에스테르 공중합 수지를 사용하고 근적외선 흡수 염료로서 디이모늄 염료를 사용하여 제조된 근적외선 흡수 필터가 개시되어 있으나, 상기 US6117370호와 마찬가지로 디이모늄 염료의 낮은 열안정성으로 인하여 투과율의 변화가 여전히 크다는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 첫 번째 기술적 과제는 고온 또는 고온고습 조건에서 투과율의 변화가 적어 내구성이 우수하고, 필름 제조시 일반적인 유기용매가 사용 가능하기 때문에 환경 오염 문제를 감소시킨 PDP 필터용 필름을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 두 번째 기술적 과제는 상기 필름을 포함하는 PDP 필터를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 세 번째 기술적 과제는 상기 PDP 필터를 사용하여 제조된 PDP를 제공하는 것이다.
본 발명은 상기 첫 번째 기술적 과제를 달성하기 위하여,
SAN 공중합체로 이루어진 바인더 수지; 및
근적외선 흡수 염료, 네온 컷 염료, 색보정 염료 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 염료를 포함하는 PDP 필터용 필름을 제공한다.
또한, 상기 SAN 공중합체 내의 아크릴로니트릴 단위의 함량은 10~50 wt%일 수 있다.
또한, 상기 SAN 바인더 수지의 중량평균 분자량은 10,000~1,000,000이고 유리전이온도가 100~120℃일 수 있다.
본 발명의 다른 구현예에 의하면, 상기 근적외선 흡수염료는 디이모늄 염, 퀴논, 메탈 콤플렉스, 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌, 폴리메틴계 (시아닌계) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나일 수 있다.
본 발명의 다른 구현예에 의하면, 상기 근적외선 흡수염료가 디이모늄계 염료인 경우에 상기 바인더 수지와 근적외선 흡수염료의 중량비가 5:1 내지 200:1인 것이 바람직하다.
또한, 상기 네온 컷 염료는 최대흡수파장이 570~600nm에서 가지며, 폴리메틴계 염료 또는 포피린계 염료일 수 있다.
본 발명은 상기 두 번째 기술적 과제를 달성하기 위하여, 상기 필름을 포함하는 PDP 필터를 제공한다.
본 발명은 상기 세 번째 기술적 과제를 달성하기 위하여, 상기 PDP 필터를 사용하여 제조된 PDP를 제공한다.
이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 PDP 필터용 필름은 바인더 수지로서 SAN 공중합체를 사용함으로써, 디이모늄 염 염료 등 종래의 근적외선 흡수 염료의 열안정성을 향상시킬 수 있어 투과율의 변화가 거의 없다는 특징이 있으며, 상기 SAN 공중합체의 경우 용매로서 일반적인 유기용매를 사용할 수 있기 때문에 필름의 제조가 용이하며 환경오염 문제를 경감시킬 수 있다는 장점이 있다.
SAN 공중합체란 스티렌-아크릴로니트릴의 공중합체를 의미하며, 광학적 투명성, 내열성, 내약품성, 치수안정성 등이 우수한 특징을 가지고, 특히 고온 및 고온고습 조건에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하고 열적 안정성이 우수하다는 장점이 있다.
본 발명에 사용되는 SAN 공중합체의 중량평균 분자량은 10,000~1,000,000인 것이 바람직하며, 유리전이온도(Tg)는 100~120℃인 것이 바람직한데, 상기 중량평균분자량이 10,000미만인 때에는 내열성, 내화학성 등이 충분하지 않고, 1,000,000을 초과하는 때에는 중합생산시 점도, 중합온도, 반응열 등이 높아 중합이 어렵다는 문제점이 있다. 또한 Tg가 100℃미만인 때에는 내열성이 충분하지 않아 필름의 제조 후 필름의 내구성이 나빠지게 되고, Tg가 120℃를 초과하면 용해성 및 핸들링이 어려워지는 문제가 있기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 상기 SAN 공중합체의 아크릴로니트릴 단위의 함량은 10~50 wt%인 것이 바람직한데, 상기 아크릴로니트릴 단위의 함량이 10 wt% 미만인 때에는 수지의 내열성 및 내화학성이 떨어지고, 필름 제조후 내구성이 급격히 나빠지며, 상기 함량이 50 wt%를 초과하는 때에는 수지제조시 블랙 스폿(black spot)이 발생하여 투명한 광학용 재료로 사용하지 못하는 문제점이 있다.
본 발명에서 사용될 수 있는 상기 근적외선 흡수염료는 디이모늄 염, 퀴논, 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌, 메탈 콤플렉스, 시아닌계 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 PDP 필터용 필름에서 근적외선 흡수염료가 디이모늄계 염료인 경우에는 상기 바인더 수지와 근적외선 흡수염료의 중량비는 5:1 내지 200:1일 수 있는데, 바인더 수지가 5 중량부 미만으로 포함될 경우 제조된 필름의 내구성 향상 효과를 기대할 수 없고, 또한 염료 1 중량부 기준으로 바인더 수지가 200 중량부를 초과하는 경우에는 바인더 함량에 비하여 염료의 양이 상대적으로 줄어들어 근적외선 흡수율이 저하되는 경향이 있다.
본 발명에서, 상기 디이모늄 염 염료는 하기 화학식 1의 디이모늄 양이온을 포함하는 화합물일 수 있다.
<화학식 1>
Figure 112005042289240-PAT00001
(상기 화학식 1에서,
R1 ~ R8은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1??16의 치환 내지 미치환 알킬기 또는 탄소수 6~30의 치환 내지 미치환 아릴기임.)
본 발명에 사용되는 디이모늄 염 염료는 상기 화학식 1의 디이모늄 양이온과 유기산 1가 또는 2가 음이온 내지 무기산 1가 또는 2가 음이온이 결합된 형태일 수 있다.
유기산 1가 음이온은 유기 카복실산 이온 예를 들면, 아세테이트 이온, 락테이트 이온, 트리플루오로아세테이트 이온, 프로피오네이트 이온, 벤조에이트 이온, 옥살레이트 이온, 숙시네이트 이온 및 스테아레이트 이온; 유기 설폰산 이온 예를 들면, 메탈설포네이트 이온, 톨루엔 설포테이트 이온, 나프탈렌 모노설포네이트 이온, 클로로벤젠 설포네이트 이온, 니트로벤젠 설포네이트 이온, 도데실벤젠 설포네이트 이온, 벤존 설포베이트 이온, 에탄 설포네이트 이온 및 트리플루오로메탄 설포네이트 이온; 유기 붕산 이온 예를 들면, 테트라페닐보레이트 이온 및 부틸트리페닐보레이트 이온; 및 트리플로오로 설포이미드 이온이 바람직하다. 또한 유기산 2가 음이온으로는 나프탈렌-1,5-디설폰산, 나프탈렌-1,6-디설폰산, 나프탈렌 디설폰산 유도체 등을 사용할 수 있다.
한편, 무기산 1가 음이온으로는 할로게나이트 이온 예를 들면, 플루오라이드 이온, 클로라이드 이온, 브로마이드 이온, 요오다이드 이온, 티오시아네이트 이온, 헥사플루오로안티모노네이트 이온, 퍼클로레이트 이온, 퍼요오데이트 이온, 니트레이트 이온, 테트라플루오로보레이트 이온, 헥사플로오로포스페이트 이온, 몰리브데 이트 이온, 텅스테이트 이온, 티타네이트 이온, 바나데이트 이온, 포스페이트 이온 또는 보레이트 이온 등을 사용할 수 있다.
본 발명에 사용될 수 있는 메탈 콤플렉스 염료는 하기 화학식 2 또는 3의 화합물일 수 있다.
<화학식 2>
Figure 112005042289240-PAT00002
(상기 화학식 2에서,
A1 ~ A8은 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원소, 니트로, 시아노, 티오시아나토, 시아나토, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 치환 또는 비치환된 알킬, 치환 또는 비치환된 아릴, 치환 또는 비치환된 알콕시, 치환 또는 비치환된 아릴옥시, 치환 또는 비치환된 알킬티오, 치환 또는 비치환된 아릴티오, 치환 또는 비치환된 알킬아미노, 치환 또는 비치환된 아릴아미노, 치환 또는 비치환된 알킬카보닐아미노 또는 치환 또는 비치환된 아릴카보닐아미노기이며, 상기에서 치환기는 할로겐원자, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기 또는 탄소수 1~16의 알킬아미노기이고;
Y1과 Y2는 각각 독립적으로 산소 또는 황이며;
X+ 는 4급 암모늄 (Ammonium) 또는 4급 포스포늄 (Phosphonium) 을 나타내 고;
M1은 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
<화학식 3>
Figure 112005042289240-PAT00003
(상기 화학식 3에서,
B1 ~ B4는 각각 독립적으로 수소, 시아노, 하이드록시, 니트로, 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오, 플루오로알킬, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 또는 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 나프틸기이고, 상기 치환기는, 할로겐 원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 1~16의 알킬아미노기이며,
M2는 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
본 발명에 사용될 수 있는 근적외선 흡수염료중 상기 프탈로시아닌 (phthalocyanine) 염료는 하기 화학식 4의 화합물이며, 상기 나프탈로시아닌 (naphthalocyanine)염료는 하기 화학식 5의 화합물일 수 있다.
<화학식 4>
Figure 112005042289240-PAT00004
<화학식 5>
Figure 112005042289240-PAT00005
(상기 화학식 4 및 5에서,
상기 R은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며, 상기 치환기는 할로겐원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기임)
본 발명에 사용될 수 있는 근적외선 흡수 염료 중에서 시아닌계 염료는 하기 화학식 10의 화합물일 수 있다.
<화학식 10>
Ar1-A-Ar2
상기 화학식 10에서, A는 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 7의 공액 이중결합을 형성하는 하이드로카르빌렌기이며; Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로고리기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리를 포함하는 복소수고리기이다.
상기 A는 보다 구체적으로는 하기에 표시되는 바와 같이
Figure 112005042289240-PAT00006
를 예로 들 수 있다. 상기에서 Z 는 화학식 6에 정의된 바와 같으며, E도 화학식 6의 Y와 동일한 치환기를 가질 수 있다.
상기 Ar1 및 Ar2는 보다 구체적으로는 하기에 표시되는 바와 같이
Figure 112005042289240-PAT00007
를 예로 들 수 있다.
상기에서, 치환기 X는 아로마틱링(Aromatic ring)의 어디에도 치환될 수 있으며, 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술포닐기, 카르복실기, 탄소수 2~8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1~8의 알킬기, 탄소수 1~8의 알콕시기 또는 탄소수 6~30의 아릴기 등을 예로 들 수 있으며, 상기에서 R은 화학식 5에 기재된 R과 동일하다.
본 발명의 사용될 수 있는 상기 시아닌계 염료로는 바람직하게는 하기 화학식 11 내지 18의 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 화합물일 수 있다.
<화학식 11>
Figure 112005042289240-PAT00008
<화학식 12>
Figure 112005042289240-PAT00009
<화학식 13>
Figure 112005042289240-PAT00010
<화학식 14>
Figure 112005042289240-PAT00011
<화학식 15>
Figure 112005042289240-PAT00012
<화학식 16>
Figure 112005042289240-PAT00013
<화학식 17>
Figure 112005042289240-PAT00014
<화학식 18>
Figure 112005042289240-PAT00015
본 발명에 사용될 수 있는 상기 네온 컷 염료는 최대흡수파장이 570-600nm에서 가지며, 하기 화학식 6 내지 8의 폴리메틴계 염료 또는 하기 화학식 10의 포피린계 염료일 수 있다.
<화학식 6>
Figure 112005042289240-PAT00016
<화학식 7>
Figure 112005042289240-PAT00017
<화학식 8>
Figure 112005042289240-PAT00018
(상기 화학식 6 내지 8 중 R은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1~16의 지방족 탄화 수소이고;
A는 수소원자, 탄소수 1~8의 알킬기 또는 6~30의 아릴기이며;
Y는 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술포닐기, 카르복실기, 탄소수 2~8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1~8의 알킬기, 탄소수 1~8의 알콕시기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이고;
Z는 수소 원자 또는 할로겐기, 시아노기, 탄소수 1~8 알킬기 또는 탄소수 6~10의 아릴기이며;
X1~X5는 독립적이며, 수소원자, 하이드록시기, 알킬기, 탄소수 1~16의 알킬기가 치환 또는 비치환된 아민기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기 또는 할로겐기 임).
<화학식 9>
Figure 112005042289240-PAT00019
(상기 화학식 9에서 R1??R8 은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며, 상기 치환기는 할로겐 원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이고;
M은 2개의 수소원자, 산소원자, 할로겐원자 또는 수산기로 배위된 2가 내지 4가의 금속원자이거나, 비배위된 금속원자임)
상기 금속원자의 예를 들면, 2가의 금속원자로서는 Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Rd, Pd, Mn, Sn, Mg, Ti 등이 있고, 산소원자로 치환된 금속원자로는 VO, MnO, TiO 등을 들수 있고, 3가 1치환 금속원자로서는 Al-Cl, Ga-Cl, In-Cl, Fe-Cl, Ru-Cl 등이 있으며, 4가 2치환 금속원자로는 SiCl2, GaCl2, TiCl2, SnCl2, Si(OH)2, Ge(OH)2, Mn(OH)2, Sn(OH)2 등을 들수 있다.
본 발명에 사용될 수 있는 상기 색보정 염료는 안트라퀴논, 프탈로시아닌 또는 티오인디고계 염료일 수 있다.
본 발명에 따른 PDP 필터용 필름은 근적외선 흡수염료, 네온 컷 염료 및 색보정 염료를 동시에 투입함으로써 근적외선 흡수필름과 네온 컷 필름이 일체화되어 구성된 것일 수 있다. 이 경우, PDP 필터의 제조 공정이 줄어 드는 장점이 있다.
본 발명에 따른 PDP 필터용 필름은 공지된 PDP 필터용 필름의 제조방법으로 제조할 수 있으며, 예컨대, SAN 공중합체를 용매에 용해 시켜 바인더 용액을 제조한 후 이 용액에 근적외선 흡수염료, 네온 컷 염료, 색보정 염료 또는 이들의 혼합 염료를 혼합하고, 필터의 기재에 코팅한 다음 건조시키는 방법으로 제조할 수 있다. 상기 코팅방법으로는 스프레이코팅, 롤코팅, 바코팅, 스핀코팅 등 여러 방법이 사용 가능하고, 또한 용매로는 범용 유기용매가 사용가능한데, 예를 들면, 메틸에틸케톤(MEK), 테트라하이드로퓨란(THF), 아세톤 (Acetone), 에틸 아세테이트(EA), 톨루엔(toluene) 등의 유기용매가 바람직하게 사용될 수 있다. 종래 플라즈마 디스 플레이 필터용 필름 제조의 경우, 용매로서 환경오염의 주범이며 규제 대상인 클로로포름을 사용하여야만 했으나, 본 발명에서는 통상적으로 사용되는 유기용매를 사용할 수 있으므로 별도로 용매회수 시스템을 도입할 필요가 없어 필름 제조가 용이하고 제조단가를 낮출 수 있다는 공정상의 이점이 있다.
본 발명에 따른 PDP 필터는 상기한 PDP 필터용 필름 이외에도, 반사방지필름 (AR 필름), 전자파 차폐 필름(EMI 필름)을 포함하고 흑화면 처리층을 더 포함할 수 있는데, 이러한 PDP 필터는 근적외선을 흡수할 뿐만 아니라 패널 보호, 반사 방지, 색보정, 색재현성 및 콘트라스트 향상, 전자파 차단 및 네온광 차단 등의 기능을 한다.
본 발명은 또한 상기 플라즈마 디스플레이 필터를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
이하, 바람직한 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명이 이에 의해 제한되는 것은 아니다.
실시예 1
근적외선 흡수 필름의 제조
THF 73 g에 중량평균 분자량이 140,000 이고 Tg가 105 ℃이며, 아크릴로니트릴 단위의 함량이 27wt%인 SAN 공중합체(LG화학 제조) 27 g을 용해시켜 27 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료(ADS1065A) 0.4 g을 첨가하고 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15㎛가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수필름을 제조하였다. 표 1에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃ RH(Relative Humidity) 90%에서 500 시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 4 및 5에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다. PDP 필터용 필름의 내구성이 우수하다는 것은 염료층을 포함하는 필름에 대하여 투과율(transmittance)을 측정하고 난 후, 다시 고온이나 고온고습 조건에서 일정시간 노출시킨 후의 투과율을 측정하여 그 변화율로서 판단하며, 이때 투과율의 변화가 적을수록 내구성이 우수하다고 할 수 있다.
실시예 2
근적외선 흡수필름의 제조
MEK 70 g에 중량평균 분자량이 140,000 이고 Tg가 105 ℃이며, 아크릴로 니트릴의 함량이 27 wt%인 SAN 공중합체(LG화학 제조) 30 g을 용해시켜 30 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료(ADS1065A) 0.4 g을 첨가하고 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15 ㎛가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수필름을 제조하였다. 표 1에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 6 및 7에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
구분 가시광선 영역(㎚) 근적외선 영역 (㎚)
430 450 550 586 628 850 950
실시예 1 초기(%) 82.0 84.7 92.3 92.9 92.8 46.1 13.0
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 81.5 84.2 92.0 92.6 92.5 46.8 13.7
변화율(%) -0.5 -0.5 -0.3 -0.3 -0.3 +0.7 +0.7
실시예 1 초기(%) 81.6 84.4 92.3 92.8 92.6 44.3 11.9
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 81.0 83.7 92.2 92.7 92.6 44.3 11.8
변화율(%) -0.6 -0.7 -0.1 -0.1 0.0 0.0 -0.1
실시예 2 초기(%) 83.6 86.2 92.3 93.0 92.9 44.9 11.9
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 83.8 85.4 91.9 92.6 92.4 45.1 12.4
변화율(%) +0.2 -0.8 -0.4 -0.4 -0.5 +0.2 +0.5
실시예 2 초기(%) 83.8 86.3 92.4 93.1 93.0 45.4 12.2
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 83.3 85.7 92.4 93.1 93.0 45.4 12.4
변화율(%) -0.5 -0.6 0.0 0.0 0.0 0.0 +0.2
실시예 3
근적외선 흡수필름의 제조
THF 73 g에 중량평균 분자량이 140,000 이고 Tg가 105 ℃이며 아크릴로 니트릴의 함량이 27 wt%인 SAN 공중합체 27 g을 용해시켜 27 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료 0.4 g와 디티올(dithiol)계 니켈 컴플렉스(nickel complex) 염료(Epoin사 제조 제품명: V-63) 0.25g을 첨가하여 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15㎛ 가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수필름을 제조하였다. 표 2에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 8 및 9에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
실시예 4
근적외선 흡수필름의 제조
MEK 70 g에 중량평균 분자량이 140,000 이고 Tg가 105 ℃이며 아크릴로 니트릴의 함량이 27 wt%인 SAN 공중합체 30 g을 용해시켜 30 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료 0.4 g와 프탈로시아닌(phthalocyanine)계 염료(일본촉매사 제조, 제품명 : IR12) 0.2 g 을 첨가하여 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15㎛ 가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수필름을 제조하였다. 표 2에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 10 및 11에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
구분 가시광선 영역(㎚) 근적외선 영역(㎚)
430 450 550 586 628 850 950
실시예 3 초기(%) 67.6 74.0 86.0 84.8 85.2 13.1 5.6
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 66.4 72.9 85.6 84.5 85.0 14.2 6.4
변화율(%) -1.2 1.1 -0.4 -0.3 -0.2 + 1.1 +0.8
실시예 3 초기(%) 70.1 76.1 87.2 86.2 86.5 15.9 7.3
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 69.1 75.1 86.8 85.8 86.2 16.0 7.5
변화율(%) -1.0 -1.0 -0.4 -0.4 -0.3 +0.1 +0.2
실시예 4 초기(%) 67.7 73.8 79.1 78.2 78.2 15.4 4.5
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 66.6 72.9 78.8 77.9 77.8 16.2 4.9
변화율(%) -1.1 -0.9 -0.3 -0.3 -0.4 +0.8 +0.4
실 시예 4 초기(%) 71.3 76.8 81.6 80.9 80.9 20.2 7.0
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 70.2 75.7 81.4 80.6 80.5 20.2 7.1
변화율(%) -1.1 -1.1 -0.2 -0.3 -0.4 0.0 +0.1
실시예 5
근적외선 흡수/네온 컷 복합필름의 제조
THF 73 g에 중량평균 분자량이 140,000 이고 Tg가 105 ℃이며 아크릴로 니트릴의 함량이 27 wt%인 SAN 공중합체 27 g을 용해시켜 27 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료 0.4 g와 디티올계 니켈 컴플렉스 염료 0.25g 와 폴리메틴(polymethine)계 염료(Asahi Denka사 제조, 제품명: TY102) 0.03 g 을 첨가하여 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15 ㎛ 가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수/네온 컷 복합필름을 제조하였다. 표 3에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 12 및 13에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
실시예 6
근적외선 흡수/네온 컷 복합필름의 제조
MEK 70 g에 중량평균 분자량이 140,000 이고 Tg가 105 ℃이며 아크릴로 니트릴의 함량이 27 wt%인 SAN 공중합체 30 g을 용해시켜 30 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료 0.4 g와 프탈로시아닌계 염료 0.2 g 와 폴리메틴계 염료 0.03 g 을 첨가하여 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15 ㎛ 가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수/네온 컷 복합필름을 제조하였다. 표 3에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 14 및 15에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
구분 가시광선 영역(㎚) 근적외선 영역(㎚)
430 450 550 586 628 850 950
실시예 5 초기(%) 68.2 74.7 57.1 33.2 84.8 17.3 8.2
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 67.5 73.9 57.0 33.1 84.7 17.9 8.6
변화율(%) -0.7 -0.8 -0.1 -0.1 -0.1 +0.6 +0.4
실시예 5 초기(%) 65.5 72.3 53.7 29.4 83.2 14.5 6.2
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 65.1 71.6 53.9 29.7 83.3 14.4 6.5
변화율(%) -0.4 -0.7 +0.2 +0.3 +0.1 -0.1 +0.3
실시예 6 초기(%) 69.2 75.2 55.6 34.4 77.9 17.6 5.8
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 67.8 73.8 55.0 34.2 77.2 18.0 6.2
변화율(%) -1.4 -1.4 -0.6 -0.2 -0.7 +0.4 +0.4
실 시예 6 초기(%) 70.4 76.2 57.4 36.6 78.9 19.7 7.0
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 69.7 75.3 57.1 36.6 78.7 19.5 7.3
변화율(%) -0.7 -0.9 -0.3 0.0 -0.2 -0.2 +0.3
실시예 7
근적외선 흡수/네온 컷 복합필름의 제조
MEK 70 g에 중량평균 분자량이 140,000 이고 Tg가 105 ℃이며 아크릴로 니트릴의 함량이 27 wt%인 SAN 공중합체 30 g을 용해시켜 30 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 근적외선 흡수 염료로써 디이모늄 염 염료 0.63와 시아닌계 (하야시바라 제조, 제품명:NKX2766) 0.052g 와 네온 컷 염료로써 포피린계 염료(미쯔이 화학 제조, 제품명:PD319) 0.038 g 을 그 외에 색보정 염료로서 V-TR (CIBA사 제조)0.065g, B-An (일본화약 제조)0.025g, B-RR (Bayer사) 0.005g을 첨가하여 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15 ㎛ 가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수/네온 컷 복합필름을 제조하였다. 표 4 에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 16 및 17 에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
구분 가시광선 영역(㎚) 근적외선 영역(㎚)
430 450 550 585 628 850 950
실시예 7 초기(%) 60.9 64.1 53.9 30.2 70.2 8.4 3.2
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 60.6 63.7 54.0 30.3 70.2 8.8 3.4
변화율(%) 0.9 1.3 -0.3 -0.5 -0.3 -1.7 -1.6
실시예 7 초기(%) 59.3 62.5 52.1 28.4 68.8 7.5 2.7
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 59.2 62.1 52.5 28.7 69.1 7.5 2.7
변화율(%) 0.2 1.2 -1.1 -0.8 -1.0 -0.1 0.2
비교예 1
근적외선 흡수필름의 제조
1,3-디옥사날(Dioxonal) 70 g에 폴리에스테르 수지(Toyobo사 제조, 제품명; vylron) g을 용해시켜 30 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료 0.4 g 을 첨가하여 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15 ㎛가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수필름을 제조하였다. 표 5에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 16 및 17에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
비교예 2
1,3-디옥사날(Dioxonal) 90 g에 폴리카보네이트 수지(LG화학제조, grade:201-15) 10 g을 용해시켜 10 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료 0.4 g 을 첨가하여 교반하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15 ㎛ 가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수필름을 제조하였다. 표 5에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 18 및 19에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
구분 가시광선 영역(㎚) 근적외선 영역(㎚)
430 450 550 586 628 850 950
비교예 1 초기(%) 77.8 79.4 85.7 85.6 84.8 34.8 7.9
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 69.3 72.2 86.2 85.8 84.6 39.7 14.0
변화율(%) -8.5 -7.2 +0.5 +0.2 -0.2 +4.9 +6.1
비교예 1 초기(%) 83.9 84.8 88.1 88.3 88.1 52.2 21.3
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 74.0 76.0 89.0 88.5 87.8 58.5 35.3
변화율(%) -9.9 -8.8 +0.9 +0.2 -0.3 +6.3 +14.0
비교예 2 초기(%) 74.7 76.7 78.3 81.5 81.4 25.9 4.9
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 66.7 70.3 80.8 81.4 81.0 36.7 11.2
변화율(%) -8.0 -6.4 +2.5 -0.1 -0.4 +10.8 +6.3
비교예 2 초기(%) 75.2 77.1 81.0 81.8 81.7 27.6 5.9
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 70.6 73.1 80.8 81.6 81.5 32.1 8.4
변화율(%) -4.6 -4.0 -0.2 -0.2 -0.2 +4.5 +2.5
비교예 3
1,3-디옥사날 90 g에 폴리술폰 수지(BASF사 제조) 10 g을 용해시켜 10 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료 0.4 g 을 첨가하여 교반하며 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 15 ㎛ 가 되도록 코팅한 후, 120 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수필름을 제조하였다. 표 6에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 20 및 21에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
비교예 4
메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone:MEK) 74 g에 중량평균 분자량 50,000인 폴리메틸메타크릴레이트 (polymethylmethacrylate:PMMA) 수지 26 g을 용해시켜 26 %의 바인더 용액을 제조한 후 상기 바인더 용액 100g에 디이모늄 염 염료 0.4 g 과 프탈로시아닌계 염료 0.2 g 을 첨가하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로, 투명 PET필름상에 상기 혼합액을 바코팅을 사용하여 건조두께 20 ㎛ 가 되도록 코팅한 후, 150 ℃에서 5분간 건조시켜 근적외선 흡수필름을 제조하였다. 표 6에는 80℃에서 500시간 방치 전후와 60℃, RH 90% 500시간 방치 전후의 투과율 변화를 나타내었으며, 도 22 및 23에는 각각의 테스트에 대하여 그 테스트 전후의 투과율 스펙트럼을 나타내었다.
구분 가시광선 영역(㎚) 근적외선 영역(㎚)
430 450 550 586 628 850 950
비교예 3 초기(%) 71.3 74.1 77.9 78.9 78.8 24.4 3.5
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 65.1 69.4 77.2 77.9 77.5 27.6 5.8
변화율(%) -6.2 -4.7 0.7 -1.0 -1.3 +3.2 +2.3
비교예 3 초기(%) 71.3 74.1 78.0 78.9 78.8 23.9 3.4
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 65.5 69.3 77.2 78.1 77.8 27.0 5.2
변화율(%) -5.8 -4.8 -0.8 -0.8 -1.0 +3.1 +1.8
비교예 4 초기(%) 70.9 73.9 76.8 76.3 75.7 12.8 5.8
80℃ 500시간 방치 후 투과율(%) 67.0 71.5 76.8 76.3 75.7 13.9 8.8
변화율(%) -2.9 -2.4 0.0 0.0 0.0 +1.1 +3.0
비교예 4 초기(%) 67.6 71.0 74.8 74.1 73.5 9.3 3.7
60℃ RH 90% 500시간 방치 후 투과율(%) 60.1 65.0 73.8 73.2 72.7 10.3 6.5
변화율(%) -7.5 -6.0 -1.0 -0.9 -0.8 +1.0 +2.8
상기 표 1 내지 6의 데이터를 살펴보면, 비교예의 경우에는 투과율의 변화가 -9.9 내지 14에까지 이르러 내구성이 열악함에 비해, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 7의 경우에는, 투과율의 변화가 거의 없으며, 장시간 동안 고온 또는 고온고습 과정을 거치더라도 내구성이 매우 우수하다는 것을 알 수 있다.
한편, 도 26에는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 대한 개략적인 분해 사시도를 나타내었다. 도 24의 도면 부호 A로 표시된 원내에 확대되어 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 PDP 필터용 필름을 포함하는 PDP 필터(34)는 기판(36)과, 상기 기판(36)의 표면에 부착된 반사방지 필름(AR 필름:35), 상기 기판(36)의 배면에 형성된 전자파 차폐 필름(EMI 필름:37) 및 그 위에 상기 PDP 필터용 필름(근적외선 흡수 또는 근적외선 흡수/네온 컷:38)을 포함할 수 있다. 상기 PDP 필터(34)에 있어서, 상기 기판(36)은 유리 또는 플라스틱 기판을 사용하게 되고, 전자파 차폐 필름(37)은 구리와 같은 얇은 금속판을 일정 형태로 에칭시킨 후에 콘트라스트를 높이기 위해서 블랙 산화막 처리를 하여 기판에 부착하거나, 또는 섬유에 전도성을 부여하여 이를 기판에 부착시키는 방법으로 제조된다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 상기 실시예에서 제조된 근적외선 흡수필름 또는 근적외선/네온 컷 복합필름을 포함하는 PDP 필터(34)를 사용한 것을 제외하고는 통상적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 그대로 채용하고 있다. 도 24를 참조하면 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 표시되는 패널 조립체(33)와, 상기 패널 조립체(33)의 배면에 배치된 것으로서 패널 구동을 위한 전자 부품이 장착된 인쇄회로 기판(32)과, 상기 패널 조립체(33)의 전면에 배치된 본 발명에 따른 PDP 필터(34) 및 상기 패널 조립체(33), 인쇄회로 기판(32) 및 PDP 필터(34)를 내측에 수용하는 케이스(31)을 구비하며, 상기 PDP 필터(34)의 상부에 커버(미도시)를 구비한다.
도 27에는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 사용되는 패널 조립체(33)의 개략도를 나타내었다. 도 27에 도시된 바와 같이 서로 대향된 전면기판(21) 및 배면기판(22)을 구비하며, 상기 배면기판(22) 위에는 소정의 패턴으로 형성된 어드레스 전극(23a)들과, 유전체층(24b)이 순차로 형성되고, 이 유전체층(24b) 상에는 방전거리를 유지시키고 화소 간의 전기적 광학적 크로스 토크를 방지하는 격벽(25)이 형성되고, 이 격벽(25)에 의해 구획된 방전공간 내의 적어도 일측에는 형광체층(26)이 형성된다. 상기 배면기판(22)과 결합되는 전면기판(21)에는 상기 어드레스 전극(23a)과 직교하도록 소정의 패턴의 공통 전극(23b)들과 주사 전극(23c)들이 구비된다. 그리고 상기 전면기판(21)의 하면에는 상기 공통 및 주사 전극들이 매립되는 유전체층(24a)이 형성되며, 그 하부로는 MgO 등으로 구비된 MgO층(29)이 형성된다. 상기와 같은 배면기판(22)과 전면기판(21)에 의해 구획된 방전공간에는 소정의 가스가 주입된다.
이렇게 구성된 플라즈마 표시장치는 상기 어드레스 전극(23a)과 주사 전극(23c)에 전압이 인가됨에 따라 이들 사이에서 예비방전이 일어나 전면기판(21)의 유전체층(24a) 하면에 하전입자가 형성된다. 이 상태에서 유지 방전이 이루어지는데, 이 유지방전은 해당되는 공통 전극(23b)과 주사 전극(23c) 사이에 소정의 전압이 인가됨으로써 전면기판의 유전체층(24a) 표면에서 이루어진다. 이때에 가스층에서 플라즈마가 형성됨으로써 형성되는 자외선에 의해 형광체가 여기되어 화소를 형성하게 된다. 따라서 상기 공통 및 주사 전극(23b, 23c)이 일 방전 셀, 즉, 하나의 화소를 구성한다. 한편, 상기 전면기판(21)에 형성되는 전극들(23b, 23c)은 투명전극으로 형성되는 데, 그 라인 저항을 줄이기 위하여 그 폭이 상기 투명 전극들보다 좁은 버스 전극들(28)이 형성되어 있다.
본 발명에 따른 PDP 필터용 필름은 바인더 수지로 SAN 공중합체를 포함하고 있기 때문에, 고온 및 고온고습 조건에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하고 열적 안정성이 우수하며 가시영역의 투과율도 높다. 또한, 상기 필름 제조시 일반적인 유기용매가 사용 가능하므로 환경 오염의 문제가 경감될 뿐만 아니라, 별도로 유독성 용매를 제거하는 공정을 생략할 수 있으므로 공정이 단순해 진다는 장점이 있다.

Claims (15)

  1. SAN 공중합체로 이루어진 바인더 수지; 및
    근적외선 흡수 염료, 네온 컷 염료, 색보정 염료 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 염료를 포함하는 PDP 필터용 필름.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 SAN 바인더 수지내의 아크릴로니트릴 단위의 함량이 10~50 wt%인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 SAN 바인더 수지의 중량평균 분자량은 10,000~1,000,000이고 유리전이온도가 100~120℃인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 근적외선 흡수염료는 디이모늄 염, 퀴논, 메탈 콤플렉스, 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌, 시아닌계 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 근적외선 흡수염료가 디이모늄계 염료인 경우에 상기 바인더 수지와 근적외선 흡수염료의 중량비가 5:1 내지 200:1인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
  6. 제 4항에 있어서, 상기 디이모늄 염 염료는 하기 화학식 1의 디이모늄 양이온을 포함하는 화합물인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
    <화학식 1>
    Figure 112005042289240-PAT00020
    (상기 화학식 1에서,
    R1 ~ R8은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1~16의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기임)
  7. 제 4항에 있어서, 상기 메탈 콤플렉스 염료는 하기 화학식 2 또는 3의 화합물인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
    <화학식 2>
    Figure 112005042289240-PAT00021
    (상기 화학식 2에서,
    A1 ~ A8은 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원자, 니트로, 시아노, 티오시아나토, 시아나토, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 치환 또는 비치환된 알킬, 치환 또는 비치환된 아릴, 치환 또는 비치환된 알콕시, 치환 또는 비치환된 아릴옥시, 치환 또는 비치환된 알킬티오, 치환 또는 비치환된 아릴티오, 치환 또는 비치환된 알킬아미노, 치환 또는 비치환된 아릴아미노, 치환 또는 비치환된 알킬카보닐아미노 또는 치환 또는 비치환된 아릴카보닐아미노기이며, 상기 치환기는 할로겐원자, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기 또는 탄소수 1~16의 알킬아미노기이고;
    Y1과 Y2는 각각 독립적으로 산소 또는 황이며;
    X+ 는 4급 암모늄 또는 4급 포스포늄을 나타내고;
    M1은 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
    <화학식 3>
    Figure 112005042289240-PAT00022
    (상기 화학식 3에서,
    B1 ~ B4는 각각 독립적으로 수소, 시아노, 하이드록시, 니트로, 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오, 플루오로알킬, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 또는 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 나프틸기이고, 상기 치환기는, 할로겐 원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 1~16의 알킬아미노기이며,
    M2는 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
  8. 제 4항에 있어서, 상기 프탈로시아닌(phthalocyanine) 염료는 하기 화학식 4의 화합물이며, 상기 나프탈로시아닌 (naphthalocyanine)염료는 하기 화학식 5의 화합물인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
    <화학식 4>
    Figure 112005042289240-PAT00023
    <화학식 5>
    Figure 112005042289240-PAT00024
    (상기 화학식 4 및 5에서,
    상기 R은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며상기 치환기는 할로겐원자, 알킬 티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이고.)
  9. 제 4 항에 있어서, 상기 시아닌계 염료는 하기 화학식 10의 화합물인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
    <화학식 10>
    Ar1-A-Ar2
    상기 화학식 10에서,
    A는 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 7의 공액 이중결합을 형성하는 하이드로카르빌렌기이며;
    Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로고리기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리를 포함하는 복소수고리기이다.
  10. 제 4 항에 있어서, 상기 시아닌계 염료가 하기 화학식 11 내지 18의 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필 름.
    <화학식 11>
    Figure 112005042289240-PAT00025
    <화학식 12>
    Figure 112005042289240-PAT00026
    <화학식 13>
    Figure 112005042289240-PAT00027
    <화학식 14>
    Figure 112005042289240-PAT00028
    <화학식 15>
    Figure 112005042289240-PAT00029
    <화학식 16>
    Figure 112005042289240-PAT00030
    <화학식 17>
    Figure 112005042289240-PAT00031
    <화학식 18>
    Figure 112005042289240-PAT00032
  11. 제 1항에 있어서, 상기 네온 컷 염료는 최대흡수파장이 570-600nm에서 가지며, 하기 식 6 내지 8의 폴리메틴계 염료 또는 하기식 9의 포피린계 염료인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
    <화학식 6>
    Figure 112005042289240-PAT00033
    <화학식 7>
    Figure 112005042289240-PAT00034
    <화학식 8>
    Figure 112005042289240-PAT00035
    (상기 식 중 R은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1~16의 지방족 탄화 수소이고;
    A는 수소원자, 탄소수 1~8의 알킬기 또는 6~30의 아릴기이며;
    Y는 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술폰닐기, 카르복실기, 탄소수 2~8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1~8의 알킬기, 탄소수 1~8의 알콕시기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이고;
    Z는 수소 원자 또는 할로겐기, 시아노기, 탄소수 1~8알킬기 또는 탄소수 6~10의 아릴기이며;
    X1~X5는 독립적이며, 수소원자, 하이드록시기, 알킬기, 탄소수 1~16의 알킬기가 치환 또는 비치환된 아민기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기 또는 할로겐기 임).
    <화학식 9>
    Figure 112005042289240-PAT00036
    (상기 식 9에서 R1~R8 은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며, 상기 치환기는 할로겐 원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이고;
    M은 2개의 수소원자, 산소원자, 할로겐원자 또는 수산기로 배위된 2가 내지 4가의 금속원자이거나, 비배위된 금속원자임)
  12. 제 1항에 있어서, 상기 색보정 염료는 안트라퀴논, 프탈로시아닌 또는 티오인디고 계 염료인 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
  13. 제 1항에 있어서, 상기 필름은 근적외선 흡수필름과 네온 컷 필름이 일체화되어 구성된 것을 특징으로 하는 PDP 필터용 필름.
  14. 제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 따른 필름;
    반사방지층; 및,
    전자파 차폐필름;
    을 포함하는 PDP 필터.
  15. 제 14항에 따른 PDP 필터를 사용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널.
KR1020050070056A 2004-08-28 2005-07-30 Pdp 필터용 필름, 이를 포함하는 pdp 필터 및 상기pdp 필터를 사용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널 KR100753479B1 (ko)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US10901125B2 (en) 2014-05-23 2021-01-26 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10955697B2 (en) 2018-11-28 2021-03-23 Eyesafe Inc. Light emission modification
US10971660B2 (en) 2019-08-09 2021-04-06 Eyesafe Inc. White LED light source and method of making same
US11126033B2 (en) 2018-11-28 2021-09-21 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11592701B2 (en) 2018-11-28 2023-02-28 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11810532B2 (en) 2018-11-28 2023-11-07 Eyesafe Inc. Systems for monitoring and regulating harmful blue light exposure from digital devices

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106714538A (zh) * 2017-01-03 2017-05-24 哈尔滨工业大学 红外波段三带通光学窗电磁屏蔽结构
CN106793733A (zh) * 2017-01-03 2017-05-31 哈尔滨工业大学 双网孔式红外波段双带通光学窗电磁屏蔽结构
CN106793731A (zh) * 2017-01-03 2017-05-31 哈尔滨工业大学 中点式红外波段双带通光学窗电磁屏蔽结构

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002249600A (ja) * 2001-02-23 2002-09-06 Sekisui Chem Co Ltd ノルボルネン系樹脂フィルム及びその製造方法
JP3404027B2 (ja) * 2001-04-23 2003-05-06 日本ゼオン株式会社 液晶ディスプレイ用偏光フィルムの製造方法
US7553892B2 (en) 2004-05-12 2009-06-30 Adeka Corporation Optical film

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10642087B2 (en) 2014-05-23 2020-05-05 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10871671B2 (en) 2014-05-23 2020-12-22 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10901125B2 (en) 2014-05-23 2021-01-26 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US11686968B2 (en) 2014-05-23 2023-06-27 Eyesafe Inc. Light emission reducing compounds for electronic devices
US11947209B2 (en) 2014-05-23 2024-04-02 Eyesafe Inc. Light emission reducing compounds for electronic devices
US10955697B2 (en) 2018-11-28 2021-03-23 Eyesafe Inc. Light emission modification
US11126033B2 (en) 2018-11-28 2021-09-21 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11347099B2 (en) 2018-11-28 2022-05-31 Eyesafe Inc. Light management filter and related software
US11592701B2 (en) 2018-11-28 2023-02-28 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11810532B2 (en) 2018-11-28 2023-11-07 Eyesafe Inc. Systems for monitoring and regulating harmful blue light exposure from digital devices
US10971660B2 (en) 2019-08-09 2021-04-06 Eyesafe Inc. White LED light source and method of making same
US10998471B2 (en) 2019-08-09 2021-05-04 Eyesafe Inc. White LED light source and method of making same

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