JP2007521627A

JP2007521627A - Ｐｄｐフィルタ用フィルム、それを備えるｐｄｐフィルタ及びｐｄｐフィルタを使用して製造されたｐｄｐ

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Publication number: JP2007521627A
Application number: JP2006549155A
Authority: JP
Inventors: サン−ヒュン・パク; イェオン−クン・イ
Original assignee: LG Chem Ltd
Current assignee: LG Chem Ltd
Priority date: 2004-08-28
Filing date: 2005-08-27
Publication date: 2007-08-02
Also published as: EP1782450A1; WO2006025673A9; WO2006025673A1; EP1782450A4; US20060051586A1

Abstract

スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）共重合体のバインダー樹脂と、近赤外線（ＮＩＲ）吸収染料、ネオンカット染料、色補正染料、及びこれらの混合物からなる群から選択される染料とを含むＰＤＰフィルタ用フィルムを提供する。ＰＤＰフィルタ用フィルムは、バインダー樹脂としてＳＡＮ共重合体を含むため、高温及び高温高湿度の条件での透過率の変化が小さく、耐久性に優れ、熱的安定性に優れ、可視領域の透過率が高い。また、フィルムの製造時、一般的な有機溶媒を使用可能であるので、環境汚染の問題が低減するだけでなく、有害な溶媒を除去する工程が不要であるので、フィルム製造工程が単純化できる。

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）フィルタに関し、さらに詳細には、熱安定性に優れるため、透過率の変化がほとんどないＰＤＰフィルタ用フィルム、それを備えるＰＤＰフィルタ及び前記ＰＤＰフィルタを使用して製造されたＰＤＰに関する。

平板パネルディスプレイ装置のうち、大型画面として、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が注目されている。図１は、ＰＤＰ構造を示す斜視図であり、ＰＤＰのうち、パネル組立体１３の概略図を図２７に詳細に示した。ＰＤＰ組立体は、下板上に区画された隔壁を形成した後に隔壁の溝に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の蛍光体層を形成し、前記下板の電極と上板の電極とが対向する状態で平行に配置されるように、上板を重ね合わせ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅなどの放電ガスを封入して形成する。ＰＤＰは、陽極及び陰極に電圧を印加して、気体を放電させる時に発生するプラズマから放射される紫外線が蛍光体に衝突して発生する光を組合わせて画像を提供する次世代ディスプレイである。

図２７に示したように、ＰＤＰは、前面ガラスの全面に信号及び電源を供給する電極が位置していて、駆動時に他のディスプレイに比べて大量の電磁波が発生し、また、近赤外線が発生する。該近赤外線領域の光を通信に使用するので、リモートコントロールや、赤外線通信ポート（ＩｒＤＡ）の誤作動が発生する。また、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅなどの放電ガスをＰＤＰに封入した後、真空紫外線による赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）それぞれの蛍光体の発光を利用して三原色の発光を行う。この場合、ネオン原子が励起された後に基底状態に戻る時に５９０ｎｍ付近のオレンジ光を発光するので鮮明な赤色が得られないという問題がある。

このようなＰＤＰの問題を解決するために、パネル組立体１３の前面部にＰＤＰフィルタ１４を設置する。図２及び図３は、ＰＤＰフィルタの最終的な設置目的を示す概略図である。図２及び図３に示したように、ＰＤＰフィルタを設置すれば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の可視光線は、そのままフィルタを透過し、画面の解像度を低下させる５９０ｎｍのオレンジ色のネオン波長及び８００〜１０００ｎｍ波長帯域の近赤外線（ＮＩＲ）が遮断される。

ＰＤＰフィルタは、一般的に様々なフィルム（反射防止フィルム（ＡＲフィルム）、近赤外線（ＮＩＲ）シールド層（ＮＩＲ吸収フィルムまたはＮＩＲフィルム）、ネオンカット層（ネオンカットフィルムまたは色補正層）、電磁波シールドフィルム（ＥＭＩフィルム）など）を備える。ＮＩＲ吸収フィルム及びネオンカットフィルムは、それぞれＮＩＲ吸収染料、ネオンカット染料、及び色補正染料を高分子樹脂に添加し、透明基材上にこの混合物をコーティングして形成される。

ＰＤＰフィルタ用ＮＩＲシールドフィルムは、高温や高温・高湿度条件のいずれでも良好な耐久性を有しなければならず、８００〜１２００ｎｍ、特に、８５０〜１０００ｎｍの波長を有するＮＩＲの吸収率が高く、かつＵＶに対する透過率は６０％以上である。また、ネオンカットフィルムも５７０〜６００ｎｍ付近で最大吸収波長を有しなければならず、これらの半値幅は狭いほど良いが、主に４０ｎｍ以下であることが望ましい。

ＮＩＲ吸収フィルムまたはＮＩＲ吸収／色補正複合材フィルムの製造に使われるバインダー樹脂としては、一般的に透明フィルムを形成させうる樹脂を使用できる。具体的には、ポリエステル系、アクリル系、メラミン系、ウレタン系、ポリカーボネート系、ポリオレフィン系、ポリビニル系、ポリビニルアルコール系、ポリスチレン系およびこれら樹脂の共重合体が使われている。

現在広く使われるＮＩＲ吸収染料の例としては、ＮＩＲを吸収し、可視光線を透過させる、ジインモニウム塩、キノン、フタロシアニン、ナフタロシアニン、金属錯体系染料、およびシアニン系染料（ポリメチン系染料）が挙げられる。一方、ポリメチン系染料またはポルフィリン系染料は、ネオンカット染料として広く使われている。

このようなＮＩＲ吸収染料またはネオンカット染料は、所望の所定範囲の波長吸収率が高く、可視光線の透過率が高く、特にＰＤＰから発生する熱に対する安定性があり、バインダー樹脂と混合してフィルムを製造した場合に、優れた耐久性を示す。前述したＮＩＲ染料のうち、フタロシアニン、ナフタロシアニン、ジチオールベースの金属錯体系染料などが熱的安定性で優れていると知られている。しかし、前記染料の場合、ＮＩＲ吸収ピークが鋭いため、広範囲のＮＩＲ領域の光を吸収できず、高コストであるので、ＮＩＲ吸収フィルムの製造コストが上昇するという短所がある。また、シアニン系染料の場合には、高温及び高湿度条件で長時間保存する時に耐久性が低下するなど、保存安定性がよくないという問題点がある。

これに対して、ジインモニウム塩系染料を使用する場合、ＮＩＲ吸収ピークが広く、可視光の透過度が高く、コスト面でも前記フタロシアニン、ナフタロシアニン、ジチオールベースの金属錯体系染料に比べて低いので、ＮＩＲ吸収フィルムの製造コストを低くするという長所がある。しかし、ジインモニウム塩系染料の場合にも、高温や高温高湿度の条件で長時間保存する時にＮＩＲ吸収能力が低下し、可視領域での透過率ばどの染料の機械的特性が変化して、ＮＩＲ吸収フィルムの耐久性が劣化するという問題点がある。このようなＮＩＲ吸収フィルムの耐久性は、染料自体だけでなく、フィルム形成に使われるバインダー樹脂の種類にも左右されるが、ジインモニウム塩系染料の耐久性を改善するために様々なバインダー樹脂が開発されている。

米国特許公報６１１７３７０号明細書には、バインダー樹脂としてポリカーボネート樹脂を使用し、ＮＩＲ吸収染料としてジインモニウム系染料を使用して製造されたＮＩＲ吸収フィルタが開示されている。成膜時に溶媒としてクロロホルムを使用するため、オゾン層の破壊などの恐れがあって、前記溶媒として使われて余ったクロロホルム全量の回収システムを別途に備えねばならなかった。前記ジインモニウム系染料の熱安定性の改善があまり大きくないため、高温高湿度の条件で長期間経保存したとき、透過率の変化が依然として大きいという問題があった。

また、米国特許公報６５２２４６３号明細書には、バインダー樹脂としてポリエステル共重合樹脂を使用し、ＮＩＲ吸収染料としてジインモニウム系染料を使用して製造されたＮＩＲ吸収フィルタが開示されている。米国特許公報６１１７３７０号明細書と同様に、ジインモニウム系染料の低い熱安定性によって透過率の変化が依然として大きいという問題があった。
米国特許公報６１１７３７０号明細書米国特許公報６５２２４６３号明細書

本発明は、高温または高温高湿度の条件で透過率の変化が小さくて耐久性に優れ、フィルムの製造時に一般的な有機溶媒を使用可能であるため、環境汚染の問題が低減したＰＤＰフィルタ用フィルムを提供する。

本発明は、前記フィルムを備えるＰＤＰフィルタを提供する。

本発明は、前記ＰＤＰフィルタを使用して製造したＰＤＰを提供する。

本発明の一態様によれば、スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）共重合体からなるバインダー樹脂と、近赤外線（ＮＩＲ）吸収染料、ネオンカット染料、色補正染料、及びこれらの混合物からなる群から選択される染料とを含むＰＤＰフィルタ用フィルムが提供される。

また、前記バインダー樹脂中のアクリロニトリル単位の含量は、１０〜５０重量％でありうる。

また、前記ＳＡＮバインダー樹脂の重量平均分子量は、１０,０００〜１,０００,０００であり、ガラス転移温度が１００〜１２０℃でありうる。

前記ＮＩＲ吸収染料は、ジインモニウム塩、キノン、金属錯体、フタロシアニン、ナフタロシアニン、ポリメチン系（シアニン）染料、及びこれらの混合物からなる群から選択される染料でありうる。

前記ＮＩＲ吸収染料がジインモニウム系染料である場合、前記バインダー樹脂とＮＩＲ吸収染料との重量比は、５：１〜２００：１でありうる。

また、前記ネオンカット染料は、最大吸収波長が５７０〜６００ｎｍであり、ポリメチン系染料またはポルフィリン系染料でありうる。

本発明の第二の態様によれば、前記フィルムを備えるＰＤＰフィルタが提供される。

本発明の第三の態様によれば、前記ＰＤＰフィルタを使用して製造されたＰＤＰが提供される。

本発明の実施形態に係るＰＤＰフィルタ用フィルムは、バインダー樹脂としてＳＡＮ共重合体を含んでいるため、高温及び高温高湿度の条件での透過率の変化が小さく、耐久性に優れ、熱的安定性に優れ、可視領域の透過率が高い。また、前記フィルムの製造時、一般的な有機溶媒を使用可能であるので、環境汚染の問題が低減するだけでなく、有害な溶媒を除去する工程が不要であるので、フィルム製造工程が単純化できるという長所がある。

以下、本発明をさらに詳細に説明する。

本発明の実施形態に係るＰＤＰフィルタ用フィルムは、バインダー樹脂としてスチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）共重合体を含み、ジインモニウム塩系染料など従来のＮＩＲ吸収染料の熱安定性を改善させることで、透過率の変化をほとんどなくすことができる。ＳＡＮ共重合体に関して、溶媒として一般的な有機溶媒を使用できるため、フィルムの製造が容易であり、かつ環境汚染の問題を軽減させるという長所がある。

ＳＡＮ共重合体は、光学的透過性、耐熱性、寸法安定性などに優れている。特に、高温及び高温高湿度の条件での透過率の変化が小さくて、耐久性及び熱的安定性に優れるという長所がある。

ＳＡＮ共重合体の重量平均分子量は、１０,０００〜１,０００,０００であってよく、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、１００〜１２０℃である。ＳＡＮ共重合体の重量平均分子量が１０,０００未満であると、耐熱性、耐薬品性などが不十分であり、１,０００,０００を超えると、ＳＡＮ共重合体製造時に、粘度、重合温度、反応熱が高くて、重合が難しいという問題点がある。また、ＳＡＮ共重合体のＴｇが１００℃未満であると、耐熱性が不十分であってフィルムの製造後にフィルムの耐久性が劣化する。ＳＡＮ共重合体のＴｇが１２０℃を超えると、溶解性及びハンドリングが難しくなるという問題がある。一方、ＳＡＮ共重合体のアクリロニトリル単位の含量は、１０〜５０重量％であってよい。ＳＡＮ共重合体中のアクリロニトリル単位の含量が１０重量％未満であると、樹脂の耐熱性及び耐薬品性が低下し、フィルム製造後の耐久性が劣化する。ＳＡＮ共重合体中のアクリロニトリ単位の含量が５０重量％を超えると、樹脂の製造時にブラックスポットが発生して、透明な光学用材料として使用できないという問題点がある。

本発明で使用される前記ＮＩＲ吸収染料は、ジインモニウム塩、キノン、フタロシアニン、ナフタロシアニン、金属錯体、シアニン系染料、及びこれらの混合物からなる群から選択される染料でありうる。

ＮＩＲ吸収染料がジインモニウム系染料である場合、バインダー樹脂とＮＩＲ吸収染料との重量比は、５：１〜２００：１でありうる。バインダー樹脂とＮＩＲ吸収染料との重量比が５：１未満であると、製造されたフィルムの耐久性が向上せず、バインダー樹脂とＮＩＲ吸収染料との重量比が２００：１を超えると染料の量が減少して、ＮＩＲ吸収率が低下する。

ジインモニウム塩系染料は、下記式（１）で表されるジインモニウム陽イオンを含む化合物でありうる。

式中、Ｒ^１〜Ｒ^８は、それぞれ独立に水素原子、置換または非置換のＣ_１〜１６のアルキル基、または置換または非置換のＣ_６〜３０のアリール基である。

ジインモニウム塩系染料は、式（１）のジインモニウム陽イオンと有機酸または無機酸の１価または２価の陰イオンとから構成されうる。

有機酸の１価陰イオンは、有機カルボン酸イオン、例えば、酢酸イオン、乳酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン及びステアリン酸イオン；有機スルホン酸イオン、例えば、メタルスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンモノスルホン酸イオン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオン及びトリフルオロメタンスルホン酸イオン；有機ホウ酸イオン、例えば、テトラフェニルホウ酸イオン及びブチルトリフェニルホウ酸イオン；及びトリフルオロスルホイミドイオンを含む。また、有機酸の２価陰イオンとしては、ナフタレン−１,５−ジスルホン酸、ナフタレン−１,６−ジスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸誘導体などを使用できる。

無機酸の１価陰イオンは、ハロゲン化物イオン、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、バナジン酸イオン、リン酸イオン、ホウ酸イオンなどを含む。

本発明に使用される金属錯体系染料は、下記式（２）または（３）で表される化合物でありうる。

式中、Ａ_１〜Ａ_８は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、チオシアナート基、シアナート基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアルコキシ基、置換または非置換のアリールオキシ基、置換または非置換のアルキルチオ基、置換または非置換のアリールチオ基、置換または非置換のアルキルアミノ基、置換または非置換のアリールアミノ基、置換または非置換のアルキルカルボニルアミノ基、または置換または非置換のアリールカルボニルアミノ基であり、置換基は、ハロゲン原子、Ｃ_１〜５のアルコキシ基、Ｃ_６〜１０のアリールオキシ基、またはＣ_１〜１６のアルキルアミノ基であり、Ｙ_１及びＹ_２は、それぞれ独立に酸素または硫黄であり、Ｘ^＋は、４級アンモニウムまたは４級ホスホニウムであり、Ｍ^１は、Ｎｉ、Ｐｔ、ＰｄまたはＣｕである。

式中、Ｂ^１〜Ｂ^４は、それぞれ独立に水素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、フルオロアルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のナフチル基であり、置換基は、ハロゲン原子、アルキルチオ基、Ｃ_１〜５のアルコキシ基、Ｃ_６〜１０のアリールオキシ基、Ｃ_１〜１６のアルキルアミノ基であり、Ｍ^２は、Ｎｉ、Ｐｔ、ＰｄまたはＣｕである。

本発明に使用されるＮＩＲ吸収染料のうち、フタロシアニン系染料は、下記式（４）で表される化合物であり、ナフタロシアニン系染料は、下記式（５）で表される化合物でありうる。

式中、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアルコキシ基、置換または非置換のアリールオキシ基、少なくとも１個の窒素原子を有する置換または非置換の五員環であり、置換基は、ハロゲン原子、アルキルチオ基、Ｃ_１〜５のアルコキシ基、Ｃ_６〜１０のアリールオキシ基、またはＣ_１〜１６のアルキルアミノ基である。

本発明に使用されるＮＩＲ吸収染料のうち、シアニン系染料は、下記式（１０）で表される化合物でありうる。

Ａｒ_１−Ａ−Ａｒ_２（１０）

式中、Ａは、共役二重結合を形成する、置換または非置換のＣ_５〜７のヒドロカルビレン基であり、Ａｒ_１及びＡｒ_２は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基、置換または非置換のヘテロ環式基、または置換または非置換のヘテロ環を含む多環式基である。

Ａは、特に、下記式で表わされてよい。

式中、Ｚは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ_１〜８のアルキル基、またはＣ_６〜１０のアリール基であり、Ｅは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホニル基、カルボキシル基、Ｃ_２〜８のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、カルボキシレート基、Ｃ_１〜８のアルキル基、Ｃ_１〜８のアルコキシ基、またはＣ_６〜３０のアリール基である。

特にＡｒ_１及びＡｒ_２は、下記式で表されてよい。

式中、Ｘは、芳香族環のどこに置換されてよく、例として、ハロゲン原子、ニトロ基、シアニン基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホニル基、カルボキシル基、Ｃ_２〜８のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、カルボキシレート基、Ｃ_１〜８のアルキル基、Ｃ_１〜８のアルコキシ基、およびＣ_６〜３０のアリール基を含み、Ｒは、式（５）で定義されたものである。

本発明に使用されるシアニン系染料は、下記式（１１）〜（１８）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物でありうる。

本発明に使用されるネオンカット染料は、最大吸収波長が５７０〜６００ｎｍであり、下記式（６）、（７）または（８）のポリメチン系染料、または下記式（９）のポルフィリン系染料でありうる。

式中、Ｒは、水素原子またはＣ_１〜１６の脂肪族炭化水素であり、Ａは、水素原子、Ｃ_１〜８のアルキル基、またはＣ_６〜３０のアリール基であり、Ｙは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアニン基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホニル基、カルボキシル基、Ｃ_２〜８のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、カルボキシレート基、Ｃ_１〜８のアルキル基、Ｃ_１〜８のアルコキシ基、またはＣ_６〜３０のアリール基であり、Ｚは、水素原子、ハロゲン基、シアノ基、Ｃ_１〜８のアルキル基、またはＣ_６〜１０のアリール基であり、Ｘ_１〜Ｘ_５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、任意にＣ_１〜１６のアルキル基が置換されたアミン基、アルコキシ基、アリール基、またはアリールオキシ基である。

式中、Ｒ_１〜Ｒ_８は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアルコキシ基、置換または非置換のアリールオキシ基、または少なくとも１個の窒素原子を有する、置換または非置換の五員環であり、置換基は、ハロゲン原子、アルキルチオ基、Ｃ_１〜５のアルコキシ基、Ｃ_６〜１０のアリールオキシ基、Ｃ_１〜１６のアルキルアミノ基であり、Ｍは、２個の水素原子、酸素原子、ハロゲン原子またはヒドロキシ基が配位された２価、３価または４価の金属原子、または非配位の金属原子である。

２価の金属原子は、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｄ、Ｐｄ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｔｉなどを含む。酸素原子で置換された金属原子は、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯなどを含む。１置換された３価の金属原子は、Ａｌ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｒｕ−Ｃｌなどを含む。２置換された４価の金属原子は、ＳｉＣｌ２、ＧａＣｌ２、ＴｉＣｌ２、ＳｎＣｌ２、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｇｅ（ＯＨ）２、Ｍｎ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２などを含む。

本発明に使用される色補正染料は、アントラキノン、フタロシアニンまたはチオインジゴ系染料でありうる。

本実施形態に係るＰＤＰフィルタ用フィルムは、ＮＩＲ吸収染料、ネオンカット染料及び色補正染料を同時に投入することによって、ＮＩＲ吸収フィルムとネオンカットフィルムとを一体化して形成することができる。この場合、ＰＤＰフィルタの製造工程が単純化するという長所がある。

本実施形態に係るＰＤＰフィルタ用フィルムは、公知のＰＤＰフィルタ用フィルムの製造方法で製造でき、例えば、ＳＡＮ共重合体を溶媒に溶解させてバインダー溶液を製造した後、この溶液にＮＩＲ吸収染料、ネオンカット染料、色補正染料またはこれらの混合染料を混合し、フィルタ基材に混合物をコーティングした後に乾燥させる方法で製造できる。コーティング方法としては、スプレーコーティング、ロールコーティング、バーコーティング、またはスピンコーティングなど様々な方法が使用可能である。また、溶媒としては、汎用の有機溶媒が使用可能である。例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アセトン、酢酸エチル（ＥＡ）、トルエンなどの有機溶媒が望ましく使用される。従来のプラズマディスプレイフィルタ用フィルムの製造の場合、溶媒として環境汚染の主原因であり、かつ規制対象であるクロロホルムを使用しなければならなかった。本発明では、一般的に使われる有機溶媒を使用できるので、溶媒回収システムが
不要である。したがって、フィルムの製造が容易であり、製造コストを低下できるという工程上の利点がある。

本発明の他の実施形態に係るＰＤＰフィルタは、ＰＤＰフィルタ用フィルムと、反射防止フィルム（ＡＲフィルム）、電磁波シールドフィルム（ＥＭＩフィルム）を備え、黒色酸化処理層をさらに備えるが、このようなＰＤＰフィルタは、ＮＩＲを吸収するだけでなく、パネル保護、反射防止、色補正、色再現性及びコントラストの向上、電磁波シールド及びネオン光シールドなどの機能を有する。

本発明の他の実施形態に係るＰＤＰは、上記プラズマディスプレイフィルタを備えるＰＤＰを提供する。

以下、望ましい実施例として本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲は、これによって制限されるものではない。

［実施例１］
ＮＩＲ吸収フィルムの製造
ＴＨＦ７３ｇに重量平均分子量が１４０,０００、Ｔｇが１０５℃であり、アクリロニトリル単位の含量が２７重量％であるＳＡＮ共重合体（ＬＧ化学製）２７ｇを溶解させて、２７％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に前記混合液を、バーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収フィルムを製造した。表１に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃相対湿度（ＲＨ）９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図４及び図５には、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。ＰＤＰフィルタ用フィルムの耐久性は、高温または高温高湿度の条件でフィルムを暴露させた前後の、染料を含むフィルムの透過率の変化を測定して判断した。透過率の変化が小さいほど耐久性に優れるとみなした。

［実施例２］
ＮＩＲ吸収フィルムの製造
ＭＥＫ７０ｇに重量平均分子量が１４０,０００、Ｔｇが１０５℃であり、アクリロニトリルの含量が２７重量％であるＳＡＮ共重合体（ＬＧ化学製）３０ｇを溶解させて、３０％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液を、バーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収フィルムを製造した。表１に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図６及び７には、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［実施例３］
ＮＩＲ吸収フィルムの製造
ＴＨＦ７３ｇに重量平均分子量が１４０,０００、Ｔｇが１０５℃であり、アクリロニトリルの含量が２７重量％であるＳＡＮ共重合体（ＬＧ化学製）２７ｇを溶解させて、２７％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇとジチオールベースのＮｉ錯体系染料（Epoin製、製品名：Ｖ−６３）０．２５ｇを、添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液をバーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収フィルムを製造した。表２に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図８及び９には、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［実施例４］
ＮＩＲ吸収フィルムの製造
ＭＥＫ７０ｇに重量平均分子量が１４０,０００、Ｔｇが１０５℃であり、アクリロニトリルの含量が２７重量％であるＳＡＮ共重合体（ＬＧ化学製）３０ｇを溶解させて、３０％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇとフタロシアニン系染料（日本触媒製、製品名：ＩＲ１２）０．２ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液をバーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収フィルムを製造した。表２に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図１０及び１１には、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［実施例５］
ＮＩＲ吸収／ネオンカット複合材フィルムの製造
ＴＨＦ７３ｇに重量平均分子量が１４０,０００、Ｔｇが１０５℃であり、アクリロニトリルの含量が２７重量％であるＳＡＮ共重合体（ＬＧ化学製）２７ｇを溶解させて、２７％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇとジチオールベースのＮｉ錯体系染料（Epoin製、製品名：Ｖ−６３）０．２５ｇとポリメチン系染料（旭電化製、製品名：ＴＹ１０２）０．０３ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液を、バーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収／ネオンカット複合材フィルムを製造した。表３に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図１２及び１３に、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［実施例６］
ＮＩＲ吸収／ネオンカット複合材フィルムの製造
ＭＥＫ７０ｇに重量平均分子量が１４０,０００、Ｔｇが１０５℃であり、アクリロニトリルの含量が２７重量％であるＳＡＮ共重合体（ＬＧ化学製）３０ｇを溶解させて、３０％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇとフタロシアニン系染料（日本触媒製、製品名：ＩＲ１２）０．２ｇ及びポリメチン系染料（旭電化製、製品名：ＴＹ１０２）０．０３ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液を、バーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収／ネオンカット複合材フィルムを製造した。表３に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％の５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図１４及び１５には、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［実施例７］
ＮＩＲ吸収／ネオンカット複合材フィルムの製造
ＭＥＫ７０ｇに重量平均分子量が１４０,０００、Ｔｇが１０５℃であり、アクリロニトリルの含量が２７重量％であるＳＡＮ共重合体（ＬＧ化学製）３０ｇを溶解させて、３０％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにＮＩＲ吸収染料としてジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．６３ｇとシアニン系染料（林原製、製品名：ＮＫＸ２７６６）０．０５２ｇ、及びネオンカット染料としてポルフィリン系染料（三井化学製、製品名：ＰＤ３１９）０．０３８ｇ、Ｖ−ＴＲ（ＣＩＢＡ製）０．０６５ｇ、Ｂ−Ａｎ（日本化薬製）０．０２５ｇ、Ｂ−ＲＲ（Ｂａｙｅｒ製）０．００５ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液をバーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収／ネオンカット複合材フィルムを製造した。表４に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図１６及び１７に、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［比較例１］
ＮＩＲ吸収フィルムの製造
１,３−ジオキソナル７０ｇにポリエステル樹脂（東洋紡製、製品名：ｖｙｌｒｏｎ）３０ｇを溶解させて、３０％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液をバーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収フィルムを製造した。表５に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図１８及び１９に、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［比較例２］
１,３−ジオキソナル９０ｇにポリカーボネート樹脂（ＬＧ化学製、グレード：２０１−１５）１０ｇを溶解させて、１０％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液をバーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収フィルムを製造した。表５に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図２０及び２１には、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［比較例３］
１,３−ジオキソナル９０ｇにポリスルホン樹脂（ＢＡＳＦ製）１０ｇを溶解させて、１０％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液をバーコーティングを使用して、乾燥厚さが１５μｍとなるようにコーティングした。その後、１２０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収フィルムを製造した。表６に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図２２及び２３に、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

［比較例４］
ＭＥＫ７４ｇに重量平均分子量５０,０００であるポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂２６ｇを溶解させて、２６％のバインダー溶液を製造した。その後、バインダー溶液１００ｇにジインモニウム塩系染料（ＡＤＳ１０６５Ａ）０．４ｇとフタロシアニン系染料０．２ｇとを添加して攪拌して混合液を製造した。次いで、透明ＰＥＴフィルム上に混合液を、バーコーティングを使用して、乾燥厚さが２０μｍとなるようにコーティングした。その後、１５０℃で５分間乾燥させてＮＩＲ吸収フィルムを製造した。表６に、８０℃で５００時間放置前後と６０℃、ＲＨ９０％で５００時間放置前後の透過率の変化を表す。図２４及び図２５には、それぞれの耐久性テストの前後で得られた透過率スペクトルを示す。

表１〜６のデータを参照すれば、比較例１〜４で得られたフィルムは、透過率の変化が−９.９〜１４であり、耐久性がわるいことを示すのに比べて、実施例１〜７で得られたフィルムは、透過率の変化がほとんどなく、長時間高温または高温高湿度条件下にあっても耐久性が非常に優れていることを示している。

図２６は、本発明の実施形態に係るＰＤＰの分解斜視図である。図面符号Ａで表示された円内に拡大して示したように、ＰＤＰフィルタ３４は、基板３６、基板３６の前面に形成されたＡＲフィルム３５、基板３６の背面に形成されたＥＭＩフィルム３７、及びＥＭＩフィルム３７上に形成されたＰＤＰフィルタ用ＮＩＲ吸収フィルムまたはＮＩＲ吸収／ネオンカットフィルム３８を備えてよい。ＰＤＰフィルタ３４において、基板３６は、ガラスまたはプラスチック基板であってよい。ＥＭＩフィルム３７は、薄い金属板を一定形状にエッチングさせた後に、コントラストを高めるために黒色酸化処理を行って基板３６に堆積させるか、または基板３６上に伝導性ファイバを付着させる方法で形成される。

本実施形態に係るＰＤＰは、上記実施例で製造されたＮＩＲ吸収フィルムまたはＮＩＲ吸収／ネオンカット複合材フィルムを備えるＰＤＰフィルタ３４を使用したことを除いては、一般的なＰＤＰの構造をそのまま採用している。図２６を参照すれば、ＰＤＰは、画像が表示されるパネル組立体３３と、パネル組立体３３の背面に配置されたものであって、ＰＤＰ駆動のための電子部品が実装された印刷回路基板３２、パネル組立体３３の前面に配置されたＰＤＰフィルタ３４及びパネル組立体３３、印刷回路基板３２及びＰＤＰフィルタ３４を内側に収容するケース３１を備え、前記ＰＤＰフィルタ３４の上部にカバー（図示せず）を備える。

図２７は、本発明の実施形態に係るＰＤＰに使われるパネル組立体３３の概略図である。図２７に示したように、互いに対向した前面基板２１及び背面基板２２を備える。背面基板２２上には、アドレス電極２３ａが形成され、誘電体層２４ｂがアドレス電極２３ａを覆っている。この誘電体層２４ｂ上には、放電距離を維持し、画素間の電気光学的クロストークを防止する隔壁２５が形成されている。この隔壁２５によって区画された放電空間内の少なくとも片面には、蛍光体層２６が形成されている。前面基板２１には、アドレス電極２３ａと直交するように、共通電極２３ｂと走査電極２３ｃとが配置されている。そして、前面基板２１の下面には、共通電極２３ｂと走査電極２３ｃを覆う誘電体層２４ａが形成されており、その上には、ＭｇＯ層２９が形成されている。背面基板２２及び前面基板２１によって区画された放電空間には、所定のガスが注入されている。

プラズマ表示装置において、アドレス電極２３ａと走査電極２３ｃに電圧が印加されると、これらの間で予備放電が発生して前面基板２１の誘電体層２４ａの下面に荷電粒子が形成される。この状態で維持放電が起こる。この維持放電は、共通電極２３ｂと走査電極２３ｃとの間に所定の電圧が印加されることによって、前面基板の誘電体層２４ａの表面で発生する。このとき、ガス層でプラズマが形成されることによって発生する紫外線によって、蛍光体が励起されて画素を形成する。したがって、共通電極２３ｂと走査電極２３ｃの対が一放電セル、すなわち、一つの画素を構成する。一方、前面基板２１に形成された共通電極２３ｂと走査電極２３ｃは、透明電極で構成されている。その線抵抗を減らすために、透明電極より幅の狭いバス電極２８が、共通電極２３ｂと走査電極２３ｃの上に形成されている。

本発明の実施形態に係るＰＤＰフィルタ用フィルムは、バインダー樹脂としてＳＡＮ共重合体を含むため、高温及び高温高湿度の条件での透過率の変化が小さく、耐久性に優れ、熱的安定性に優れ、可視領域の透過率が高い。また、フィルムの製造時、一般的な有機溶媒が使用可能であるので、環境汚染の問題が低減するだけでなく、有害な溶媒を除去する工程が不要であるので、フィルム製造工程が単純化できる。

本発明は記載された例示的な実施形態を参照に説明したが、本発明の範疇及び技術思想範囲内で当業者にとって多様な変形及び修正が可能であることは明らかであり、このような変形及び修正が特許請求範囲に属することも当然である。

本発明は、高温及び高温高湿度の条件での透過率の変化が小さいので、耐久性に優れ、かつフィルムの製造時、一般的な有機溶媒が使用可能であるので、環境汚染の問題が低減したＰＤＰフィルタ用フィルムを提供する。

プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の概略図である。ＰＤＰフィルタの役割を示す概略図である。ＰＤＰフィルタの役割を示すスペクトルである。実施例１で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例１で製造されたフィルムに対する６０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例２で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例２で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例３で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例３で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例４で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例４で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例５で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例５で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例６で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例６で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例７で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。実施例７で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。比較例１で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。比較例１で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。比較例２で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。比較例２で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。比較例３で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。比較例３で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。比較例４で製造されたフィルムに対する８０℃、５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。比較例４で製造されたフィルムに対する６０℃、ＲＨ９０％で５００時間の耐久性テスト前後の透過スペクトルである。本発明の実施形態に係るＰＤＰの分解斜視図である。本発明の実施形態に係るＰＤＰに使われるパネル組立体の概略図である。

Claims

スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）共重合体からなるバインダー樹脂と、
近赤外線（ＮＩＲ）吸収染料、ネオンカット染料、色補正染料、及びこれらの混合物からなる群から選択される染料とを含むプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）フィルタ用フィルム。
前記バインダー樹脂内のアクリロニトリル単位の含量が、１０〜５０重量％である、請求項１に記載のフィルム。
前記バインダー樹脂の重量平均分子量が１０,０００〜１,０００,０００であり、ガラス転移温度が１００〜１２０℃である、請求項１に記載のフィルム。
前記ＮＩＲ吸収染料が、ジインモニウム塩、キノン、金属錯体、フタロシアニン、ナフタロシアニン、シアニン系染料、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載のフィルム。
前記ＮＩＲ吸収染料が、ジインモニウム系染料である場合、前記バインダー樹脂とＮＩＲ吸収染料との重量比が５：１〜２００：１である、請求項４に記載のフィルム。
前記ジインモニウム塩系染料が、下記式（１）：

（式中、
Ｒ^１〜Ｒ^８は、それぞれ独立に水素原子、置換または非置換のＣ_１〜１６のアルキル基、または置換または非置換のＣ_６〜３０のアリール基である）
で表されるジインモニウム陽イオンを含む化合物である、請求項４に記載のフィルム。
前記金属錯体系染料が、下記式（２）：

（式中、
Ａ_１〜Ａ_８は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、チオシアナート基、シアナート基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアルコキシ基、置換または非置換のアリールオキシ基、置換または非置換のアルキルチオ基、置換または非置換のアリールチオ基、置換または非置換のアルキルアミノ基、置換または非置換のアリールアミノ基、置換または非置換のアルキルカルボニルアミノ基、または置換または非置換のアリールカルボニルアミノ基であり、前記置換基は、ハロゲン原子、Ｃ_１〜５のアルコキシ基、Ｃ_６〜１０のアリールオキシ基、またはＣ_１〜１６のアルキルアミノ基であり、
Ｙ_１及びＹ_２は、それぞれ独立に酸素または硫黄であり、
Ｘ^＋は、４級アンモニウムまたは４級ホスホニウムであり、
Ｍ^１は、Ｎｉ、Ｐｔ、ＰｄまたはＣｕである）
または下記式（３）：

（式中、
Ｂ^１〜Ｂ^４は、それぞれ独立に水素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、フルオロアルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、または置換または非置換のアリール基、置換または非置換のナフチル基であり、前記置換基は、ハロゲン原子、アルキルチオ基、Ｃ_１〜５のアルコキシ基、Ｃ_６〜１０のアリールオキシ基、またはＣ_１〜１６のアルキルアミノ基であり、
Ｍ^２は、Ｎｉ、Ｐｔ、ＰｄまたはＣｕである）
で表される化合物である、請求項４に記載のフィルム。
前記フタロシアニン系染料が下記式（４）で表される化合物であり、前記ナフタロシアニン系染料が下記式（５）：

（式中、
Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアルコキシ基、置換または非置換のアリールオキシ基、または少なくとも１個の窒素原子を有する、置換または非置換の五員環であり、前記置換基は、ハロゲン原子、アルキルチオ基、Ｃ_１〜５のアルコキシ基、Ｃ_６〜１０のアリールオキシ基、Ｃ_１〜１６のアルキルアミノ基である）
で表される化合物である、請求項４に記載のフィルム。
前記シアニン系染料が、下記式（１０）：
Ａｒ_１−Ａ−Ａｒ_２（１０）
（式中、
Ａは、共役二重結合を形成する、置換または非置換のＣ_５〜７のヒドロカルビレン基であり、Ａｒ_１及びＡｒ_２は、それぞれ独立に置換または非置換のアリール基、置換または非置換のヘテロ環式基、または置換または非置換のヘテロ環を含む多環式基である）
で表される化合物であってよい、請求項４に記載のフィルム。
前記シアニン系染料が、下記式（１１）〜（１８）：

で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物である、請求項４に記載のフィルム。
前記ネオンカット染料が、最大吸収波長が５７０〜６００ｎｍであり、下記式（６）、（７）または（８）：

（式中、Ｒは、水素原子またはＣ_１〜１６の脂肪族炭化水素であり、
Ａは、水素原子、Ｃ_１〜８のアルキル基、またはＣ_６〜３０のアリール基であり、
Ｙは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアニン基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホニル基、カルボキシル基、Ｃ_２〜８のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、カルボキシレート基、Ｃ_１〜８のアルキル基、Ｃ_１〜８のアルコキシ基、またはＣ_６〜３０のアリール基であり、
Ｚは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ_１〜８アルキル基、またはＣ_６〜１０のアリール基であり、
Ｘ_１〜Ｘ_５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、任意にＣ_１〜１６のアルキル基で置換されたアミン基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基である）
のポリメチン系染料、または下記式（９）：

（式中、Ｒ_１〜Ｒ_８は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアルコキシ基、置換または非置換のアリールオキシ基、少なくとも１個の窒素原子を有する、置換または非置換の五員環であり、前記置換基は、ハロゲン原子、アルキルチオ基、Ｃ_１〜５のアルコキシ基、Ｃ_６〜１０のアリールオキシ基、Ｃ_１〜１６のアルキルアミノ基であり、
Ｍは、２個の水素原子、酸素原子、ハロゲン原子またはヒドロキシ基に配位された２価〜４価の金属原子、または非配位の金属原子である）
のポルフィリン系染料である、請求項１に記載のフィルム。
前記色補正染料が、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、またはチオインジゴ系染料である、請求項１に記載のフィルム。
一体化された、ＮＩＲ吸収フィルムとネオンカットフィルムを備える、請求項１に記載のフィルム。
請求項１〜１３のいずれか一項に記載のフィルムと、
反射防止層と、
電磁波シールドフィルム
を備える、ＰＤＰフィルタ。
請求項１４に記載のＰＤＰフィルタを使用して製造したプラズマディスプレイパネル。