KR100497149B1 - 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름 및 이를포함하는 플라즈마 디스플레이 필터 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름 및 이를포함하는 플라즈마 디스플레이 필터 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 (a) 폴리술폰 바인더 수지; 및 (b) 아미늄 염 염료, 이모늄 염 염료와 메탈 콤플렉스 염료로 이루어진 군으로부터 선택된 근적외선 흡수염료를 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터에 관한 것이다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름은 바인더 수지로 폴리술폰 바인더 수지를 사용하고 근적외선 흡수염료로 아미늄 염 염로, 이모늄 염 염료 또는 메탈 콤플렉스 염료를 사용하여 제조된 것으로서, 고온에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하고 열적 안정성 또한 우수하다. 또한 이러한 근적외선 흡수필름을 포함하는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 필터 또한 열적 안정성이 우수하다.

Description

플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터{NEAR INFRARED ABSORBING FILM FOR PLASMA DISPLAY FILTER AND PLASMA DISPLAY FILTER COMPRISING THE SAME}
[산업상 이용 분야]
본 발명은 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고온에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하고 열적 안정성 또한 우수한 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터에 관한 것이다.
[종래 기술]
최근, 디지털 텔레비전을 비롯한 고품위/대화면의 텔레비전에 대한 기대가 높아지고 있는 추세에 음극선관(CRT), 액정 디스플레이(LCD) 및 플라즈마 디스플레이(PDP) 등의 분야별로 개발이 진행되고 있다.
기존에 텔레비전의 디스플레이로 널리 사용되고 있는 음극선관은 해상도 및 화질에 대해서는 우수하지만 화면의 크기에 따라 길이 및 중량이 커지는 단점으로 인해 40 인치 이상의 대화면에는 적합하지 않다.
또한, 액정 디스플레이의 경우에는 소비전력이 적고, 구동전압도 우수한 장점이 있으나, 대화면을 제작하는데 기술상의 난점을 갖고 있으며, 시야각의 한계를 갖는 단점이 있다.
한편, 플라즈마 디스플레이의 경우에는 대화면을 실현할 수 있으며, 이미 60 인치 정도의 제품도 개발되어 있는 상태이다.
플라즈마 디스플레이 패널 소자는 하판상에 구획된 격벽을 형성한 다음 격벽의 홈에 적색, 녹색 및 청색의 형광체층을 형성하고, 상기 하판의 전극과 상판의 전극이 마주보는 상태로 평행하게 배치될 수 있도록 상판이 겹쳐지게 하고, 방전가스를 봉입하여 형성하며, 기체를 방전할 때 발생하는 플라즈마로부터 방사되는 빛을 이용하여 영상을 제공하는 방식으로 방전되는 플라즈마는 미세한 격벽에 의해 격리되어 단위 셀을 구성하게 된다.
상기 플라즈마 디스플레이 패널 소자는 구동방식에 따라 크게 직류형(DC)과 교류형(AC)으로 분류되며, 직류형의 경우에는 전극이 방전 공간에 노출되는데 반하여 교류형의 경우에는 전극상에 유전체 유리층이 형성되어 있다.
플라즈마 디스플레이 패널에는 리모컨의 오작동을 유발하는 근적외선과 인체에 유해한 전자파를 차폐하고, 플라즈마 디스플레이 패널에서 방출되는 특유의 오렌지 스펙트럼에 의한 레드 스펙트럼의 순도 저하를 보정하기 위하여 필터가 설치되어 있다.
플라즈마 디스플레이 필터는 일반적으로 유리 위에 여러 장의 필름이 적층된 구조를 가지며, 특히 근적외선 흡수필름은 근적외선 흡수염료가 혼합된 고분자 수지가 투명기재 위에 코팅된 구조를 가진다.
이때 상기 염료가 포함된 필름(염료층)은 고온이나 고습조건에서도 양호한 내구성을 가지는 것이 바람직하다.
근적외선 흡수필름의 내구성이 우수하다는 것은 염료층을 포함하는 필름에 대하여 투과율(transmittance)을 측정하고 난 후, 다시 고온이나 고습조건에서 일정시간 노출시킨 후의 투과율을 측정하여 그 변화율로서 판단하며, 이때 투과율의 변화율이 적을수록 내구성이 우수하다고 말한다. 내구성은 염료 자체뿐만 아니라 필름 형성에 사용되는 바인더 수지의 종류에 따라서도 크게 달라진다.
근적외선 흡수필름 제조에 널리 사용되는 바인더 수지로는 일반적으로 투명 필름을 형성하기 위하여 사용되는 수지인 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리에스테르 등을 예로 들 수 있다.
또한 현재 널리 사용되는 근적외선 흡수필름 제조용 염료로는 암모늄(ammonium), 아미늄(amium), 디이모늄(diimmonium), 퀴논(quinone), 프탈로시아닌(phthalocyanine), 나프탈로시아닌(naphthalocyanine), 시아닌(cyanine), 메탈 콤플렉스(metal complex) 등을 예로 들 수 있다(미국특허 제5,804,102호 또는 미국특허공개 제2001-0005278호 참조).
근적외선 흡수필름 제조에 필요한 염료는 가시광 영역에서 흡수 피크를 가지는 염료와 근적외선 영역에서 흡수 피크를 가지는 염료를 예로 들 수 있으며, 이 근적외선 흡수염료는 열이나 빛에 의한 내구성이 약한 것으로 알려져 있다.
한편, 지금까지 알려진 근적외선 흡수필름 제조방법은 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리에스테르 수지와 암모늄(ammonium), 아미늄(amium), 디이모늄(diimmonium), 퀴논(quinone), 프탈로시아닌(phthalocyanine), 나프탈로시아닌(naphthalocyanine), 시아닌(cyanine), 메탈 콤플렉스(metal complex) 등을 혼합하는 방법이다.
특히, 플라즈마 디스플레이 필터에 널리 사용되는 근적외선 흡수염료는 플라즈마 디스플레이 패널에서 발생되는 발열로 인하여 특히 열적 안정성이 중요하므로 상기 염료 중 열적 안정성이 우수한 디씨올(dithiol)계 메탈 콤플렉스 염료(metal complex dye)가 바람직한 것으로 알려져 있다.
그러나 디씨올(dithiol)계 메탈 콤플렉스 염료(metal complex dye)는 피크가 뾰족(sharp)하여 넓은 범위의 근적외선 영역의 빛을 흡수할 수 없으며, 넓은 범위의 근적외선 영역의 빛을 흡수하기 위하여 다량의 디씨올(dithiol)계 메탈 콤플렉스 염료(metal complex dye)가 필요하며, 이 디씨올(dithiol)계 메탈 콤플렉스 염료(metal complex dye)의 가격이 또한 고가이므로 근적외선 흡수필름의 제조 단가가 상승한다는 문제점이 있다.
이에 반하여 아미늄 또는 이모늄 염 염료의 경우 피크가 넓고(broad), 가격면에서도 디씨올계 염료에 비해 저렴하므로 근적외선 흡수필름의 제조 단가를 낮출 수 있다는 장점이 있으나, 아미늄 또는 이모늄 염료를 폴리메틸메타크릴레이트 수지와 혼합하여 제조된 근적외선 흡수필름은 아미늄 또는 이모늄 염료의 낮은 열적 안정성으로 인하여 내구성 실험 결과, 투과율의 변화가 커다는 문제점이 있었다.
한편, 바인더 수지로 폴리카보네이트 수지를 사용하면, 바인더 수지로 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 사용한 경우와 비교하였을 때, 동일한 양의 염료를 사용하여도 투과율의 변화가 거의 없을 정도로 내구성이 우수한 근적외선 흡수필름을 제조할 수 있었다. 또한 염료의 투과율 변화 정도가 폴리카보네이트 수지와 염료의 무게비에 따라 크게 좌우되고, 염료와 폴리카보네이트 수지의 무게비를 변화시켜가면서 코팅하여 고온에서의 투과율 변화 결과를 특정해 본 결과, 폴리카보네이트의 무게가 커질수록 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하였다.
그러나 고온에서도 근적외선 흡수필름이 내구성을 가지기 위하여, 폴리카보네이트의 함량을 늘리면 일정 함량 이상의 염료를 첨가할 수 없어, 원하는 농도의 염료 코팅 층을 얻기 위해서는 코팅 층의 두께를 두껍게 제조하여야 한다는 문제점이 있었다.
즉, 폴리메틸메타크릴레이트계 수지의 경우 2 내지 3 ㎛의 코팅두께에서도 원하는 투과율을 얻을 수 있으나, 폴리카보네이트 수지의 경우 적어도 10 ㎛ 이상의 코팅 두께가 필요하고, 이 코팅의 두께가 두꺼워질수록 코팅 후 용매의 건조시 불균일 건조 등의 문제점에 의하여 균일한 코팅이 이루어지기 힘들다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 고온에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하고 열적 안정성 또한 우수한 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 또한, 상기 근적외선 흡수필름을 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 (a) 폴리술폰 바인더 수지; 및 (b) 아미늄 염 염료, 이모늄 염 염료와 메탈 콤플렉스 염료로 이루어진 군으로부터 선택된 근적외선 흡수염료를 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 근적외선 흡수필름을 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터를 제공한다.
이하 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명자들은 폴리술폰 고분자를 바인더 수지로 사용하고, 아미늄 염 염료, 이모늄 염 염료, 메탈 콤플렉스 염료 또는 이들의 혼합 염료를 근적외선 흡수염료로 하여 이를 혼합하고 건조시켜 제조된 근적외선 흡수필름의 열적 안정성이 우수하다는 점에 착안하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 필터 중 근적외선 흡수필름에 있어서, 상기 필름이 바인더 수지로 폴리술폰 고분자를 포함하고 염료로 아미늄(aminium) 염 염료, 이모늄(imonium) 염 염료, 메탈 콤플렉스 염료 또는 이들의 혼합 염료를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름에는 종래 널리 사용되어 오던 폴리카보네이트 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리스티렌, 폴리에스테르 대신 폴리술폰 고분자 수지가 바인더 수지로 사용된다. 이 폴리술폰 고분자 수지는 비스페놀-A(bisphenol-A) 및 디클로로페닐 술폰(dichlorophenyl sulfone)의 축합반응으로 제조되며 전기저항성이 우수하고 온도변화에 대하여 안정하고 팽창계수가 낮아 플라즈마 디스플레이 필터용 필름으로 바람직하게 사용될 수 있다. 따라서 본 발명의 폴리술폰 고분자 바인더 수지는 종래 바인더 수지로 사용되어 왔던 폴리카보네이트 수지의 바인더와 염료의 비율에 따라 상당한 차이를 보이는 불안한 열적 안정성을 개선할 수 있다는 장점이 있다.
또한 본 발명에서 사용되는 근적외선 흡수염료로는 아미늄 염, 이모늄 염 또는 메탈 콤플렉스 염료가 바람직하며, 아미늄 염으로는 하기 화학식 1의 아미늄 양이온을 포함하는 염이 바람직하고, 이모늄 염으로는 N,N,N'N'-테트라키스-(p-디-n-부틸아미노페닐)-p-벤조퀴논-비스(이모늄 헥사플루오로안티모네이트) 또는 하기 화학식 2의 디이모늄 양이온을 포함하는 염이 바람직하다.
(상기 화학식 1 및 2에서,
m은 1 내지 2의 정수이고,
환 A에 결합된 2개의 질소 원자(화학식 2에서는 4급 질소 원자)가 4개의 B 페닐 그룹(임의로 치환되는 4개의 아미노 그룹이 그의 4-위치에 각각 치환되어 있음)에 결합되며, 4개의 아미노 그룹 중 적어도 하나는 치환체로서 시아노알킬 그룹을 가지고 있다.)
여기서 상기 화학식 1 또는 화학식 2의 아미늄 또는 디이모늄 양이온과 결합될 수 있는 음이온으로는 유기산 1가 또는 2가 음이온과 무기산 1가 또는 2가 음이온이 바람직하다.
유기산 1가 음이온은 유기 카복실산 이온 예를 들면, 아세테이트 이온, 락테이트 이온, 트리플루오로아세테이트 이온, 프로피오네이트 이온, 벤조에이트 이온, 옥살레이트 이온, 숙시네이트 이온 및 스테아레이트 이온; 유기 설폰산 이온 예를 들면, 메탈설포네이트 이온, 톨루엔 설포테이트 이온, 나프탈렌 모노설포네이트 이온, 클로로벤젠 설포네이트 이온, 니트로벤젠 설포네이트 이온, 도데실벤젠 설포네이트 이온, 벤존 설포베이트 이온, 에탄 설포네이트 이온 및 트리플루오로메탄 설포네이트 이온; 및 유기 붕산 이온 예를 들면, 테트라페닐보레이트 이온 및 부틸트리페닐보레이트 이온이 바람직하다.
또한 무기 1가 음이온은 할로게나이트 이온 예를 들면, 플루오라이드 이온, 클로라이드 이온, 브로마이드 이온, 요오다이드 이온, 티오시아네이트 이온, 헥사플루오로안티모노네이트 이온, 퍼클로레이트 이온, 퍼요오데이트 이온, 니트레이트 이온, 테트라플루오로보레이트 이온, 헥사플로오로포스페이트 이온, 몰리브데이트 이온, 텅스테이트 이온, 티타네이트 이온, 바나데이트 이온, 포스페이트 이온 및 보레이트 이온이 바람직하다.
또한 2가 음이온으로는 나프탈렌-1,5-디설폰산, 나프탈렌-1,6-디설폰산, 나프탈렌 디설폰산 유도체 등이 바람직하다.
또한, 상기 화학식 2의 디이모늄 양이온을 포함하는 디이모늄 염으로는 하기 화학식 3의 화합물이 바람직하다.
(상기 화학식 3에서,
R1 ~ R8은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이고, 특히 부틸기가 바람직하다.)
또한, 상기 메탈 콤플렉스 염료로는 하기 화학식 4 또는 5의 화합물이 바람직하다.
(상기 화학식 4에서,
A1 ~ A8은 각각 독립적으로 수소(hydrogen), 할로겐 원소(halogen atom), 니트로(nitro), 시아노(cyano), 티오시아나토(thoicyanato), 시아나토(cyanato), 아실(acyl), 카바모일(carbamoyl), 알킬아미노카보닐(alkylaminocarbonyl), 알콕시카보닐(alkoxycarbonyl), 아릴옥시카보닐(aryloxycarbonyl), 치환 또는 치환되지 않은 알킬(alkyl), 아릴(aryl), 알콕시(alkoxy), 아릴옥시(aryloxy), 알킬티오(alkylthio), 아릴티오(arylthio), 알킬아미노(alkylamino), 아릴아미노(arylamino), 알킬카보닐아미노(alkylcarbonylamino) 또는 아릴카보닐아미노기(arylcarbonylamino)이고,
Y1과 Y2는 각각 독립적으로 산소 또는 황이고,
R9 ~ R12는 각각 독립적으로 치환 또는 치환되지 않은 알킬 또는 아릴기이고,
M1은 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리이고,
X는 질소 또는 인이다.)
(상기 화학식 5에서,
B1 ~ B4는 각각 독립적으로 수소(hydrogen), 시아노(cyano), 아실(acyl), 카바모일(carbamoyl), 알킬아미노카보닐(alkylaminocarbonyl), 알콕시카보닐(alkoxycarbonyl), 아릴옥시카보닐(aryloxycarbonyl), 치환 또는 치환되지 않은 아릴기(aryl)이고,
M2는 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리이다.)
이상 설명한 상기 아미늄, 이모늄 또는 메탈 콤플렉스 염료를 폴리술폰 바인더 수지와 혼합할 경우 폴리술폰 바인더 수지의 우수한 열적 안정성으로 인하여 상기 아미늄, 이모늄 또는 메탈 콤플렉스 염료의 낮은 열적 안정성이 보완될 수 있다는 장점이 있다.
이때 상기 폴리술폰 바인더 수지와 아미늄 염, 이모늄 염 또는 메탈 콤플렉스 염료의 혼합 중량비가 5:1 내지 50:1 일 경우 근적외선 흡수량이 줄어들지 않음과 동시에 근적외선 흡수필름으로 요구되는 내광성, 내열성 등 여러 가지의 물성을 동시에 만족할 수 있어 보다 바람직하다.
또한, 상기 근적외선 흡수필름의 두께가 2 내지 10 ㎛ 일 경우 상기 근적외선 흡수필름으로 요구되는 여러 물성을 만족하며 바인더 대비 상대적 고가인 염료의 사용량을 다소 줄일 수 있어 보다 바람직하다.
이상 설명한 본 발명의 근적외선 흡수필름의 제조방법은 먼저 폴리술폰 바인더 수지를 용매에 용해시켜 바인더 용액을 제조하고 아미늄 염, 이모늄 염 또는 메탈 콤플렉스 염료를 바인더 용액에 첨가하여 혼합물을 제조한다. 이때 폴리술폰 바인더 수지 고형분 함량에 대하여 1/5 배 내지 1/50 배의 아미늄 염, 이모늄 염 또는 메탈 콤플렉스 염료를 바인더 용액에 첨가하는 것이 보다 바람직하다.
상기 용매로는 바인더 수지를 용해시킬 수 있는 유기용매는 모두 사용될 수 있으며, 특히 방향족 탄화수소, 케톤 등이 바람직하며 클로로포름이 더욱 바람직하다.
그 다음 상기 혼합물을 투명 필름 위에 코팅한다. 코팅 방법으로는 스프레이코팅, 롤코팅, 바코팅, 스핀코팅 등 여러 가지 방법이 사용될 수 있다. 또한 투명 필름 위에 코팅된 혼합물에서 유기용매를 제거하는 등 건조 단계를 더욱 실시할 수 있다.
이와 같은 방법으로 제조된 본 발명의 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름은 바인더 수지로 폴리술폰 바인더 수지를 사용하고 근적외선 흡수염료로 아미늄 염 염로, 이모늄 염 염료 또는 메탈 콤플렉스 염료를 사용하여 제조되어, 고온에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하고 열적 안정성 또한 우수하여 투과율변화가 적다. 또한 이러한 근적외선 흡수필름을 포함하는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 필터 또한 열적 안정성이 우수하다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 하기 실시예 및 비교예는 본 발명을 보다 명확히 표현하기 위한 목적으로 기재될 뿐 본 발명의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1 내지 4)
폴리술폰 바인더 수지를 클로로포름 용매에 용해시켜 10 중량%의 바인더 수지 용액을 제조하였다. 이 용액에 하기 화학식 6의 디이모늄 염료를 바인더 수지 고형분에 대하여 차례로 1/10, 1/20, 1/30 및 1/40이 되게 첨가하여 균일하게 혼합하여 근적외선 흡수필름 코팅 조성물을 제조하였다.
그 다음 상기 근적외선 흡수필름 코팅 조성물을 유리 위에 바코팅기(bar coater)를 이용하여 두께 3 ㎛의 필름을 형성하였다.
(상기 화학식 4에서,
R1 ~ R8은 모두 부틸기이다.)
(비교예 1)
폴리메틸메타크릴레이트 바인더 수지를 메틸에틸케톤(MEK)에 용해시켜 20 중량%의 바인더 수지 용액을 제조하였다. 이 용액에 상기 화학식 6의 디이모늄 염료를 바인더 수지 고형분에 대하여 1/15의 무게만큼 첨가한 다음 균일하게 혼합하여 근적외선 흡수필름 코팅 조성물을 제조하였다.
그 다음 상기 근적외선 흡수필름 코팅 조성물을 유리 위에 바코팅기(bar coater)를 이용하여 두께 3 ㎛의 필름을 형성하였다.
(비교예 2 내지 5)
폴리카보네이트 바인더 수지를 클로로포름 용매에 용해시켜 10 중량%의 바인더 수지 용액을 제조하였다. 이 용액에 상기 화학식 3의 디이모늄 염료를 바인더 수지 고형분에 대하여 차례로 1/10, 1/20, 1/30 및 1/40이 되게 첨가하여 균일하게 혼합하여 근적외선 흡수필름 코팅 조성물을 제조하였다.
그 다음 상기 근적외선 흡수필름 코팅 조성물을 유리 위에 바코팅기(bar coater)를 이용하여 두께 3 ㎛의 필름을 형성하였다.
(투과율 평가)
상기 실시예 1과 4 및 비교예 1과 2에서 제조한 필름을 80 ℃에서 5분간 건조시킨 후 투과율을 측정하고 다시 80 ℃의 오븐에 500 시간 동안 노출시킨 후 꺼내어 투과율을 측정하여 그 투과율 변화를 하기 표 1에 나타내었다.
500 시간 노출 전 500 시간 노출 후 투과율 변화(%)
950 ㎚ 1100 ㎚ 950 ㎚ 1100 ㎚ 950 ㎚ 1100 ㎚
실시예 1 6.1 3.7 9.9 6.6 3.8 2.9
실시예 4 12.1 7.6 16.7 11.5 4.6 3.9
비교예 1 14.5 11.3 30.3 26.4 15.8 15.1
비교예 2 10.8 8.6 33.6 28.5 22.8 19.9
상기 표 1에 나타난 바와 같이, 폴리술폰 바인더 수지에 디이모늄 염료를 첨가하여 제조된 실시예 1과 4의 근적외선 흡수필름의 경우 950 및 1100 ㎚에서의 투과율 변화가 2.9 내지 4.6이고, 폴리카보네이트 수지를 바인더 수지로 사용하여 제조한 비교예 1과 2의 근적외선 흡수필름의 950 및 1100 ㎚에서의 투과율 변화가 15.1 내지 22.8임을 알 수 있었다. 폴리카보네이트 바인더 수지 자체의 열적 내구성은 우수하나, 이 폴리카보네이트 바인더 수지에 염료를 첨가하여 제조된 근적외선 흡수필름은 바인더 수지와 염료의 비율이 달라짐에 따라 투과율 변화가 커진다는 단점이 있다. 그러나 폴리술폰 바인더 수지에 디이모늄 염료를 사용하여 제조된 본 발명 근적외선 흡수필름은 고온에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름은 바인더 수지로 폴리술폰 바인더 수지를 사용하고 근적외선 흡수염료로 아미늄 염 염로, 이모늄 염 염료 또는 메탈 콤플렉스 염료를 사용하여 제조된 것으로서, 고온에서의 투과율 변화가 적어 내구성이 우수하고 열적 안정성 또한 우수하다. 또한 이러한 근적외선 흡수필름을 포함하는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 필터 또한 열적 안정성이 우수하다.

Claims (10)

  1. (a) 폴리술폰 바인더 수지; 및
    (b) 아미늄 염 염료, 이모늄 염 염료와 메탈 콤플렉스 염료로 이루어진 군으로부터 선택된 근적외선 흡수염료
    를 포함하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 폴리술폰 바인더 수지와 근적외선 흡수염료의 중량비가 5:1 내지 50:1인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 필름의 두께가 2 내지 10 ㎛인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 아미늄 염 또는 이모늄 염은 각각 시아노-치환된 알킬 그룹을 가진 아미노 그룹으로 치환되어 있는 아미늄 양이온 또는 디이모늄 양이온을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 이모늄 염은 N,N,N'N'-테트라키스-(p-디-n-부틸아미노페닐)-p-벤조퀴논-비스(이모늄 헥사플루오로안티모네이트)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 아미늄 양이온은 하기 화학식 1의 화합물인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름:
    [화학식 1]
    (상기 화학식 1에서,
    m은 1 내지 2의 정수이고,
    환 A에 결합된 2개의 질소 원자가 4개의 B 페닐 그룹(임의로 치환되는 4개의 아미노 그룹이 그의 4-위치에 각각 치환되어 있음)에 결합되며, 4개의 아미노 그룹 중 적어도 하나는 치환체로서 시아노알킬 그룹을 가지고 있다.)
  7. 제4항에 있어서,
    상기 디이모늄 양이온은 하기 화학식 2의 화합물인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름:
    [화학식 2]
    (상기 화학식 2에서,
    m은 1 내지 2의 정수이고,
    환 A에 결합된 2개의 4급 질소 원자가 4개의 B 페닐 그룹(임의로 치환되는 4개의 아미노 그룹이 그의 4-위치에 각각 치환되어 있음)에 결합되며, 4개의 아미노 그룹 중 적어도 하나는 치환체로서 시아노알킬 그룹을 가지고 있다.)
  8. 제1항에 있어서,
    상기 디이모늄 염은 하기 화학식 3의 화합물인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름:
    [화학식 3]
    (상기 화학식 3에서,
    R1 ~ R8은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이다.)
  9. 제1항에 있어서,
    상기 메탈 콜플렉스 염료는 하기 화학식 4 또는 5의 화합물인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터용 근적외선 흡수필름:
    [화학식 4]
    (상기 화학식 4에서,
    A1 ~ A8은 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원소, 니트로, 시아노, 티오시아나토, 시아나토, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 치환 또는 치환되지 않은 알킬, 아릴, 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오, 아릴티오, 알킬아미노, 아릴아미노, 알킬카보닐아미노 또는 아릴카보닐아미노기이고,
    Y1과 Y2는 각각 독립적으로 산소 또는 황이고,
    R9 ~ R12는 각각 독립적으로 치환 또는 치 환되지 않은 알킬 또는 아릴기이고,
    M1은 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리이고,
    X는 질소 또는 인이다.)
    [화학식 5]
    (상기 화학식 5에서,
    B1 ~ B4는 각각 독립적으로 수소, 시아노, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 치환 또는 치환되지 않은 아릴기이고,
    M2는 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리이다.)
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항 기재의 근적외선 흡수필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 필터.
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