JP2020140053A - エレクトロクロミック素子、表示素子、調光素子、エレクトロクロミック組成物及び硬化膜 - Google Patents

Abstract

【課題】マゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性及び連続駆動安定性が良好なエレクトロクロミック素子を提供する。【解決手段】エレクトロクロミック素子１０Ａは、第１の電極１２と、第１の電極１２に対向する第２の電極１６と、第１の電極１２と第２の電極１６との間に形成されている電解質層１４Ａを有し、第１の電極１２と電解質層１４Ａの間に、特定の化学式で表される化合物、又は、特定の化学式で表される化合物を含む組成物の硬化物を含む第１のエレクトロクロミック層１３が形成されている。【選択図】図１

Description

本発明は、エレクトロクロミック素子、表示素子、調光素子、エレクトロクロミック組成物及び硬化膜に関する。

エレクトロクロミズムを引き起こすエレクトロクロミック材料の発色及び消色（以下、発消色ということがある）を用いたエレクトロクロミック素子は、電子ペーパー、遮光手段等の表示装置の有力な候補として、研究開発が進められている。

エレクトロクロミック素子は、一般に、一対の電極の間に、電解質層とエレクトロクロミック層が形成されている。エレクトロクロミック素子では、エレクトロクロミック層に順電圧又は逆電圧を印加することにより、エレクトロクロミック材料が発消色する。

エレクトロクロミック素子は、原理的に、無色の消色状態及びカラーの発色状態を、可逆的に変化させることができる。エレクトロクロミック素子は、例えば、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）等の多層の発色層を積層することによって、様々な色を発色することができる。このため、多色カラー表示が可能な素子として期待されている。

エレクトロクロミック素子を透明な表示デバイスや多色カラー表示が可能なデバイスに適用するためには、エレクトロクロミック材料は、消色状態において、無色透明である必要がある。

中性状態で無色透明であり、酸化状態で発色するエレクトロクロミック材料としては、例えば、トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含むエレクトロクロミック組成物を重合した重合物が知られている（例えば、特許文献１参照）。

しかしながら、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性及び連続駆動安定性を向上させることが望まれている。

本発明の一態様は、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性及び連続駆動安定性が良好なエレクトロクロミック素子を提供することを目的とする。

本発明の一態様は、エレクトロクロミック素子において、第１の電極と、前記第１の電極に対向する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成されている電解質層を有し、一般式（１）

（一般式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ａは、一般式（１−１）〜（１−４）

（一般式（１−１）〜（１−４）中、Ｒ_１４、Ｒ_１６、Ｒ_１８又はＲ_２０は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_１５、Ｒ_１７、Ｒ_１９又はＲ_２１は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_３０、Ｒ_３２、Ｒ_３４又はＲ_３６は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_３１、Ｒ_３３、Ｒ_３５又はＲ_３７は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_４２、Ｒ_４３、Ｒ_４４又はＲ_４５は、窒素原子と結合する単結合であり、窒素原子と結合する単結合以外のＲ_６〜Ｒ_５２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ｘ_１、Ｘ_２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子又は一般式（１−５）

（一般式（１−５）中、Ｒ_５３、Ｒ_５４は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基であり、Ｒ_５３とＲ_５４が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）
で表される基であり、Ｘ_３、Ｘ_４は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子であり、Ｘ_５は、酸素原子又は硫黄原子である。）
のいずれかで表される基である。）
で表される化合物、又は、前記一般式（１）で表される化合物を含む組成物の硬化物を含む。

本発明の他の態様は、エレクトロクロミック素子において、第１の電極と、前記第１の電極に対向する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成されている電解質層を有し、セレン原子、硫黄原子又は酸素原子を有するトリアリールアミン化合物、又は、前記トリアリールアミン化合物を含む組成物の硬化物を含み、発色時に、マゼンタ、シアン又は緑色を呈する。

本発明の一態様によれば、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性及び連続駆動安定性が良好なエレクトロクロミック素子を提供することができる。

本実施形態のエレクトロクロミック素子の一例を示す断面図である。 本実施形態のエレクトロクロミック素子の他の例を示す断面図である。 実施例２−１のエレクトロクロミック素子の発色時における可視吸収スペクトルである。 実施例２−２のエレクトロクロミック素子の発色時における可視吸収スペクトルである。 実施例２−５のエレクトロクロミック素子の発色時における可視吸収スペクトルである。 実施例２−１〜２−５のエレクトロクロミック素子の発色時におけるａ^＊とｂ^＊を示す図である。

以下、実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、適宜変更することができる。

［エレクトロクロミック組成物］
本実施形態のエレクトロクロミック組成物は、一般式（１）

（一般式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ａは、一般式（１−１）〜（１−４）

（一般式（１−１）〜（１−４）中、Ｒ_１４、Ｒ_１６、Ｒ_１８又はＲ_２０は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_１５、Ｒ_１７、Ｒ_１９又はＲ_２１は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_３０、Ｒ_３２、Ｒ_３４又はＲ_３６は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_３１、Ｒ_３３、Ｒ_３５又はＲ_３７は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_４２、Ｒ_４３、Ｒ_４４又はＲ_４５は、窒素原子と結合する単結合であり、窒素原子と結合する単結合以外のＲ_６〜Ｒ_５２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ｘ_１、Ｘ_２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子又は一般式（１−５）

（一般式（１−５）中、Ｒ_５３、Ｒ_５４は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基であり、Ｒ_５３とＲ_５４が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）
で表される基であり、Ｘ_３、Ｘ_４は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子であり、Ｘ_５は、酸素原子又は硫黄原子である。）
のいずれかで表される基である。）
で表される化合物を含む。

（一般式（１）で表される化合物）
一般式（１）で表される化合物は、トリアリールアミン骨格を有する重合性化合物であるため、後述する本実施形態のエレクトロクロミック素子に適用することができる。

Ｒ_１〜Ｒ_５２におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

Ｒ_１〜Ｒ_５２における一価の有機基としては、例えば、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、カルボニル基、アミド基、アミノカルボニル基、スルホン酸基、スルホニル基、スルホンアミド基、アミノスルホニル基、アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリール基、シリル基等が挙げられる。これらは、置換基を有していてもよい。

置換基を有する一価の有機基としては、例えば、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、モノアルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、モノアリールアミノカルボニル基、ジアリールアミノカルボニル基等のカルボニル基；アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、モノアルキルアミノスルホニル基、ジアルキルアミノスルホニル基、モノアリールアミノスルホニル基、ジアリールアミノスルホニル基等のスルホニル基；モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基等のアルキルアミノ基；アルキル基、アルケニル基；アルキニル基；アリール基；アルコキシ基；アリールオキシ基；アルキルチオ基；アリールチオ基；ヘテロアリール基等が挙げられる。

これらの中でも、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基及びヘテロアリールオキシ基が好ましい。

Ｒ_１〜Ｒ_５４におけるアルキル基は、直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又は環状のアルキル基である。

アルキル基の炭素数は、例えば、原料の入手性の点から、１以上３０以下であることが好ましく、１以上１８以下であることがより好ましい。

アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、２−ブチルオクチル基、オクタデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等が挙げられる。

Ｒ_１〜Ｒ_５２におけるアルコキシ基としては、例えば、上記アルキル基と酸素原子が結合した基等が挙げられる。

Ｒ_１〜Ｒ_５２におけるアルケニル基は、アルキル基と同様に、直鎖、分岐鎖又は環状のアルケニル基である。

アルケニル基の炭素数は、２以上３０以下であることが好ましく、２以上１８以下であることがより好ましい。

アルケニル基としては、例えば、ビニル基（エテニル基）、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプタニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基、オクタデセニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。

Ｒ_１〜Ｒ_５２におけるアルキニル基は、アルキル基と同様に、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキニル基である。

アルケニル基の炭素数は、２以上３０以下であることが好ましく、２以上１８以下であることがより好ましい。

アルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、デシニル基、ドデシニル基、オクタデシニル基等が挙げられる。

Ｒ_１〜Ｒ_５４におけるアリール基としては、例えば、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｐ−トリフルオロフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、フルオレニル基、ベンゾピレニル基、クリセニル基等が挙げられる。

Ｒ_１〜Ｒ_５２におけるヘテロアリール基の炭素数は、２以上１２以下であることが好ましい。

ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ケイ素原子、セレン原子等が挙げられる。これらの中でも、窒素原子、硫黄原子及び酸素原子が好ましい。

ヘテロアリール基としては、例えば、単環系ヘテロアリール基、多環系ヘテロアリール基等が挙げられる。

単環系ヘテロアリール基を構成する環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、テトラジン、チオフェン環、フラン環、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、チアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、トリアジン環、テトラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。

多環系ヘテロアリール基としては、例えば、キノリン基、イソキノリン基、キナリゾン基、フタラジン基、インドール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾフラン基、ベンゾイミダゾール基、ベンゾチオジアゾール基、アクリジン基、フェノキサジン基、フェノチアジン基、カルバゾール基、ベンゾジチオフェン基、ベンゾジフラン基、ジベンゾフラン基、ジベンゾチオフェン基等が挙げられる。

多環系ヘテロアリール基は、アリール基及びヘテロアリール基が共有結合を介して結合している基であってもよいし、アリール基及びヘテロアリール基が互いに縮環している基であってもよい。これらの基としては、例えば、ビフェニル基、ターフェニル基、１−フェニルナフタレン基、２−フェニルナフタレン基等が挙げられる。

Ｒ_１〜Ｒ_５２における重合性官能基は、炭素−炭素二重結合を有し、重合することが可能な基であれば、特に限定されない。

重合性官能基としては、例えば、１−置換エチレン官能基、１，１−置換エチレン官能基等が挙げられる。

１−置換エチレン官能基としては、例えば、一般式（ｉ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ_１−・・・（ｉ）
（一般式（ｉ）中、Ｘ_１は、単結合、置換基を有していてもよいアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、一般式
−ＣＯＮ（Ｒ_１００）−
（式中、Ｒ_１００は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基である。）
で表される基又はチオ基である。）
で表される基が挙げられる。

Ｘ_１におけるアリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。

Ｘ_１におけるアルケニレン基としては、例えば、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基等が挙げられる。

Ｒ_１００におけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる。

Ｒ_１００におけるアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等が挙げられる。

Ｒ_１００におけるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

一般式（ｉ）で表される基の具体例としては、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、ビニルチオ基等が挙げられる。

一般式（ｉ）で表される官能基の具体例としては、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基又はビニルチオエーテル基が挙げられる。

１，１−置換エチレン官能基としては、例えば、一般式（ｉｉ）
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｙ）−Ｘ_２−・・・（ｉｉ）
（一般式（ｉｉ）中、Ｙは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基又は一般式
−ＣＯＯＲ_１０１
（式中、Ｒ_１０１は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は一般式
−ＣＯＮＲ_１０２Ｒ_１０３
（式中、Ｒ_１０２及びＲ_１０３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基である。）
で表される基であり、Ｘ_２は、一般式（ｉ）におけるＸ₁と同一である基又はアルキレン基である。ただし、Ｙ及びＸ_２の少なくとも一方が、オキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基又は芳香族環を含む。）
で表される基が挙げられる。

Ｙ、Ｒ_１０１、Ｒ_１０２、Ｒ_１０３におけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる。

Ｙ、Ｒ_１０１、Ｒ_１０２、Ｒ_１０３におけるアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等が挙げられる。

Ｙ、Ｒ_１０１、Ｒ_１０２、Ｒ_１０３におけるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

Ｙにおけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ビス（オキシエチレン）基、ビス（オキシプロピレン）基、トリス（オキシエチレン）基、トリス（オキシプロピレン）基、テトラキス（オキシエチレン）基、テトラキス（オキシプロピレン）基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基等が挙げられる。

一般式（ｉｉ）で表される基の具体例としては、α−クロロアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノビニル基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。

一般式（ｉ）、（ｉｉ）における置換基としては、例えば、ハロゲン原子；ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基等のアリールオキシ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。

重合性官能基は、合成が容易で安定に取り扱うことができ、光重合、熱重合の効率が高い点で、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましく、光重合の効率が高い点で、アクリロイルオキシ基であることが特に好ましい。

重合性官能基を含む一価の有機基は、酸化還元に対する耐性が高い点から、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基で置換されているアリール基が、重合性官能基で置換されている基であることが好ましく、炭素数２以上のアルキル基が重合性官能基で置換されている基であることがより好ましい。

一般式（１）で表される化合物は、トリフェニルアミン骨格の窒素原子に対するパラ位が、水素原子以外であることが好ましい。これは、トリフェニルアミン骨格の窒素原子に対するパラ位は、電子密度が高く、反応活性が高いためである。

即ち、一般式（１）で表される化合物は、トリフェニルアミン骨格の窒素原子に対するパラ位が、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又は重合性官能基を含む基であることが好ましい。これにより、一般式（１）で表される化合物は、色彩が変化しにくくなり、発色時に分子間の副反応が生じるのを抑制することができる。

一般式（１）で表される化合物は、Ａが一般式（１−４）で表される基であり、Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_４８〜Ｒ_５２のうち、１個以上が、重合性官能基を含む基であることが好ましい。これは、本実施形態の化合物に重合性を付与すると共に、置換基を容易に導入することができるためである。

Ｒ_１からＲ_５２における一価の有機基は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はヘテロアリールオキシ基であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基であることがより好ましい。

Ｒ_１からＲ_５２における一価の有機基は、一個以上のアリール基又はヘテロアリール基が共有結合を介して結合している基であってもよいし、一個以上のアリール基又はヘテロアリール基が互いに縮環している基であってもよい。これらの基の炭素数は、通常、１００以下であり、５０以下であることが好ましく、３６以下であることがより好ましい。また、これらの基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。エレクトロクロミック材料としての消色時の透明性を考慮すると、これらの基の単体での吸収端は、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３８０ｎｍ以下であることがより好ましい。一般式（１）で表される化合物が有するこれらの基の数は、通常、１〜６であるが、発色効率やコストの観点から、１〜３であることが好ましく、１〜２であることがより好ましい。

なお、一般式（１−２）〜（１−４）中、Ｘ_１〜Ｘ_５は、４価の原子（例えば、炭素原子等）を含む基、酸素原子、カルコゲン原子（例えば、硫黄原子、セレン原子、テルル原子等）、好ましくは、炭素原子を含む基、酸素原子又は硫黄原子であってもよい。ここで、炭素原子を含む基は、一般式（１−５）で表される基であることが好ましい。また、Ｘ_１〜Ｘ_５は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。

一般式（１）で表される化合物は、Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_６〜Ｒ_１３のうち、１個以上が重合性官能基を含む基であり、Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_１４〜Ｒ_２９のうち、１個以上が重合性官能基を含む基であり、Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_３０〜Ｒ_４１のうち、１個以上が重合性官能基を含む基であり、Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_４２〜Ｒ_５２のうち、１個以上が重合性官能基を含む基であることが好ましく、Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_４８〜Ｒ_５２のうち、１個以上が重合性官能基を含む基であることがより好ましい。

一般式（１）で表される化合物は、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性がさらに良好であり、合成が容易である点で、一般式（２−１）〜（２−５）

のいずれかで表されることが好ましい。

一般式（１）で表される化合物は、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性がさらに良好であり、合成が容易である点で、Ｘ_１及びＸ_２が同一であり、Ｘ_３及びＸ_４が同一であることが好ましい。

一般式（１）で表される化合物は、化合物の入手性及び毒性の点から、例えば、一般式（３）

（一般式（３）中、Ｈａｌは、ハロゲン原子又はトリフラート基である。）
で表される化合物と、一般式（３−１）、（３−２）、（３−３）又は（３−４）

で表される化合物とを、パラジウム触媒、ニッケル触媒、銅触媒等の金属触媒、必要に応じて、塩基の存在下、溶媒中で、逐次、炭素−窒素間のクロスカップリング反応させることにより、合成することができる。

重合性官能基を含む基は、一般式（３）で表される化合物に導入してもよいし、一般式（３−１）、（３−２）、（３−３）又は（３−４）で表される化合物に導入してもよい。これらは、公知の方法を用いて、容易に合成することができる。

一般式（３）におけるハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中でも、塩素原子、臭素原子が好ましい。

塩基としては、例えば、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等が挙げられる。

溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、ジオキサン、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、テトラヒドロフラン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、キノリン等が挙げられる。

触媒としては、例えば、酢酸パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、ビス（ベンジリデンアセトン）パラジウム、銅、酸化銅等が挙げられる。

なお、触媒は、適当なリガンドと組み合わせてもよい。

リガンドとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン等のリン系配位子；エチレンジアミン、シクロヘキシルジアミン、フェナントロリン、ビピリジル等の窒素系配位子等が挙げられる。

得られた粗生成物は、公知の精製方法を用いて、精製することができる。

精製方法としては、例えば、溶媒洗浄、再結晶、カラムクロマトグラフィー、再沈殿、昇華精製等が挙げられる。

以下に、一般式（１）で表される化合物の具体例として、重合性官能基を有するトリアリールアミン化合物１−１〜１−１２、重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−１〜２−７を例示する。

本実施形態のエレクトロクロミック組成物中の一般式（１）で表される化合物の含有量は、１０質量％以上１００質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましい。本実施形態のエレクトロクロミック組成物中の一般式（１）で表される化合物の含有量が１０質量％以上であると、後述するエレクトロクロミック素子のマゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性及び連続駆動安定性を向上させることができる。

（他の重合性化合物）
本実施形態のエレクトロクロミック組成物は、一般式（１）で表される化合物のうち、重合性官能基を有する化合物以外の重合性化合物（以下、他の重合性化合物という）をさらに含むことが好ましい。これにより、相溶性、イオン伝導性等の物性を向上させることができる。また、機械的強度及び耐溶剤性が高い硬化膜を形成することができる。

他の重合性化合物は、１個以上の重合性官能基を有する。

他の重合性化合物としては、例えば、１官能の重合性化合物、２官能の重合性化合物、３官能以上の重合性化合物、機能性モノマー、重合性オリゴマー等が挙げられる。これらの中でも、２官能以上の重合性化合物が好ましい。

他の重合性化合物における重合性官能基は、一般式（１）で表される化合物における重合性官能基と同様である。これらの中でも、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基が好ましい。

１官能の重合性化合物としては、例えば、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレン等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

２官能の重合性化合物としては、例えば、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

３官能以上の重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレート等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

なお、ＥＯ変性は、エチレンオキシ変性を意味し、ＰＯ変性は、プロピレンオキシ変性を意味する。

機能性モノマーとしては、例えば、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチルアクリレート等の含フッ素モノマー；特公平５−６０５０３号公報、特公平６−４５７７０号公報に記載されているシロキサン繰り返し単位が２０〜７０のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチル等の含ケイ素モノマーが挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系オリゴマー、ウレタンアクリレート系オリゴマー、ポリエステルアクリレート系オリゴマー等が挙げられる。

硬化膜を形成する点から、一般式（１）で表される化合物及び／又は他の重合性化合物は、重合性官能基を２個以上有することが好ましい。

（フィラー）
本実施形態のエレクトロクロミック組成物は、フィラーをさらに含むことが好ましい。

フィラーは、無機フィラー及び有機フィラーのいずれであってもよい。

無機フィラーを構成する材料としては、例えば、銅、スズ、アルミニウム、インジウム等の金属；酸化ケイ素（シリカ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化カルシウム、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）又は錫をドープした酸化インジウム等の金属酸化物；フッ化錫、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウム等の金属フッ化物等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、透明性、安定性及び表面処理の容易性等の点から、金属酸化物が好ましく、シリカ、アルミナ及びアンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）が特に好ましい。

有機フィラーを構成する材料としては、例えば、ポリエステル、ポリエーテル、ポリスルフィド、ポリオレフィン、シリコーン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等の樹脂、脂肪酸等の低分子化合物、フタロシアニン等の有機顔料が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、透明性及び不溶性の点から、樹脂が好ましい。

フィラーの平均一次粒子径は、１μｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１μｍ以下であることがより好ましい。フィラーの平均一次粒子径が１μｍ以下であると、表面平滑性に優れる膜を形成することができる。

重合性化合物の総量に対するフィラーの質量比は、０．３％以上１．５％以下であることが好ましく、０．６％以上０．９％以下であることがより好ましい。重合性化合物の総量に対するフィラーの質量比が０．３％以上であると、成膜性が向上し、１．５％以下であると、後述するエレクトロクロミック素子の電気化学特性が向上する。

（重合開始剤）
本実施形態のエレクトロクロミック組成物は、硬化反応を効率よく進行させるために、重合開始剤をさらに含むことが好ましい。

重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤等を用いることができるが、重合効率の観点から、光重合開始剤が好ましい。

熱重合開始剤としては、例えば、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（パーオキシベンゾイル）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルベルオキサイド、ｔ−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の過酸化物系開始剤；アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、４，４'−アゾビス−４−シアノ吉草酸等のアゾ系開始剤等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

光重合開始剤としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、（１−ヒドロキシシクロヘキシル）フェニルケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルホリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤；ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤；２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤が挙げられる。

その他の光重合開始剤としては、例えば、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

なお、光重合促進剤を光重合開始剤と併用してもよい。

光重合促進剤としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４'−ジメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。

重合性化合物の総量に対する重合開始剤の質量比は、０．５％以上４０％以下であることが好ましく、１％以上２０％以下であることがより好ましい。

（架橋剤）
本実施形態のエレクトロクロミック組成物は、架橋剤をさらに含んでいてもよい。

架橋剤としては、例えば、イソシアネート類、アミノ樹脂、フェノール樹脂、アミン類、エポキシ化合物等が挙げられる。これらの中でも、イソシアネート類が好ましく、イソシアネート基を複数有するポリイソシアネートが特に好ましい。

（他の成分）
本実施形態のエレクトロクロミック組成物は、必要に応じて、上記以外の成分（以下、他の成分という）をさらに含んでいてもよい。

他の成分としては、例えば、溶媒、可塑剤、レベリング剤、増感剤、分散剤、界面活性剤、酸化防止剤等が挙げられる。

［エレクトロクロミック素子］
本実施形態のエレクトロクロミック素子は、第１の電極と、第１の電極に対向する第２の電極と、第１の電極と第２の電極との間に形成されている電解質層を有し、必要に応じて、上記以外の部材（以下、他の部材という）をさらに有していてもよい。

本実施形態のエレクトロクロミック素子は、一般式（１）で表される化合物、若しくは、一般式（１）で表される化合物を含む組成物の硬化物を含む、又は、セレン原子、硫黄原子又は酸素原子を有するトリアリールアミン化合物、若しくは、トリアリールアミン化合物を含む組成物の硬化物を含み、発色時に、マゼンタ、シアン若しくは緑色を呈する。

本実施形態のエレクトロクロミック素子は、第１の電極と電解質層の間に、一般式（１）で表される化合物、又は、一般式（１）で表される化合物を含む組成物の硬化物を含むエレクトロクロミック層が形成されている、又は、電解質層が、一般式（１）で表される化合物、又は、一般式（１）で表される化合物を含む組成物の硬化物を含むことが好ましい。

図１に、本実施形態のエレクトロクロミック素子の一例を示す。

エレクトロクロミック素子１０Ａは、第１の支持体１１と、表示電極（第１の電極）１２と、第１のエレクトロクロミック層１３と、電解質層１４Ａと、第２のエレクトロクロミック層１５と、対向電極（第２の電極）１６と、第２の支持体１７とを有する。これらの部材は、第１の支持体１１の側から、この順に積層して構成される。

表示電極１２は、第１の支持体１１上に設けられており、第１のエレクトロクロミック層１３は、表示電極１２上に設けられている。一方、対向電極１６は、第２の支持体１７上に設けられており、第２のエレクトロクロミック層１５は、対向電極１６上に設けられている。表示電極１２と対向電極１６は、所定の間隔を隔てて対向して設けられており、電解質層１４Ａは、第１のエレクトロクロミック層１３と第２のエレクトロクロミック層１５の間に形成されている。

エレクトロクロミック素子１０Ａでは、第１のエレクトロクロミック層１３に含まれるエレクトロクロミック材料が酸化還元することにより発消色し、第２のエレクトロクロミック層１５に含まれるエレクトロクロミック材料が酸化還元することにより発消色する。

以下、エレクトロクロミック素子１０Ａを構成する各部材について説明する。

（第１のエレクトロクロミック層）
第１のエレクトロクロミック層１３は、一般式（１）で表される化合物、又は、一般式（１）で表される化合物を含む組成物（本実施形態のエレクトロクロミック組成物）の硬化物を含む。

第１のエレクトロクロミック層１３は、第１の電極１２上に、一層積層されているが、複数層積層されていてもよい。

また、第１のエレクトロクロミック層１３は、第１の電極１２の全面に形成されているが、第１の電極１２の一部に形成されていてもよい。

第１のエレクトロクロミック層１３の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。

第１のエレクトロクロミック層１３を構成する材料が塗布液を形成することができる場合、第１のエレクトロクロミック層１３の形成方法として、印刷法を用いることができる。

印刷法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等が挙げられる。

第１のエレクトロクロミック層１３の平均厚さは、０．１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、０．４μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。

（第１の電極及び第２の電極）
第１の電極１２及び第２の電極１６を構成する材料としては、導電性を有し、透明であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

第１の電極１２及び第２の電極１６を構成する材料としては、例えば、スズをドープした酸化インジウム（以下、「ＩＴＯ」と称する）、フッ素をドープした酸化スズ（以下、「ＦＴＯ」と称する）、アンチモンをドープした酸化スズ（以下、「ＡＴＯ」と称する）、酸化亜鉛等が挙げられる。これらの中でも、ＩｎＳｎＯ、ＧａＺｎＯ、ＳｎＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３及びＺｎＯが好ましい。

第１の電極１２及び／又は第２の電極１６として、透明性を有するカーボンナノチューブ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ等の導電性の非透明材料等を微細なネットワーク状に形成して、透明度を保持した電極を用いてもよい。

第１の電極１２及び第２の電極１６の厚さは、第１のエレクトロクロミック層１３及び第２のエレクトロクロミック層１５における酸化還元反応に必要な電気抵抗値が得られるように調整される。例えば、第１の電極１２及び第２の電極１６を構成する材料として、ＩＴＯを用いる場合、第１の電極１２及び第２の電極１６厚さは、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。

第１の電極１２及び第２の電極１６の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。

第１の電極１２及び第２の電極１６を構成する材料が塗布液を形成することができる場合、第１の電極１２及び第２の電極１６の形成方法として、塗布法を用いることができる。

塗布法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等が挙げられる。

（電解質層）
電解質層１４Ａは、第１のエレクトロクロミック層１３と第２のエレクトロクロミック層１５の間に、電解質を挟持することにより形成される。例えば、第１のエレクトロクロミック層１３と第２のエレクトロクロミック層１５の間に設けられている、複数の注入孔を有する封止材から、電解質液を充填する。

電解質としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、４級アンモニウム塩、酸類又はアルカリ類の支持塩を用いることができる。

電解質の具体例としては、ＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＡｓＦ_６、ＬｉＰＦ_６、ＬｉＣＦ_３ＳＯ_３、ＬｉＣＦ_３ＣＯＯ、ＫＣｌ、ＮａＣｌＯ_３、ＮａＣｌ、ＮａＢＦ_４、ＮａＳＣＮ、ＫＢＦ_４、Ｍｇ（ＣｌＯ_４）_２、Ｍｇ（ＢＦ_４）_２等が挙げられる。

電解質としては、イオン性液体を用いてもよい。

イオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体であるため、有機のイオン性液体であることが好ましい。

有機のイオン性液体のカチオン成分としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾール塩、Ｎ，Ｎ−メチルエチルイミダゾール塩、Ｎ，Ｎ−メチルプロピルイミダゾール塩等のイミダゾール誘導体；Ｎ，Ｎ−ジメチルピリジニウム塩、Ｎ，Ｎ−メチルプロピルピリジニウム塩等のピリジニウム誘導体；トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩等の脂肪族４級アンモニウム塩等が挙げられる。

有機のイオン性液体のアニオン成分は、大気中における安定性を考慮すると、フッ素原子を含むことが好ましい。

有機のイオン性液体のアニオン成分としては、例えば、ＢＦ_４ ⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻、ＰＦ_４ ⁻、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ⁻、テトラシアノボロンアニオン（Ｂ（ＣＮ）_４ ⁻）等が挙げられる。

イオン性液体は、光重合性モノマー、オリゴマー及び液晶材料のいずれかに直接溶解させてもよい。

なお、イオン性液体の溶解性が低い場合は、イオン性液体が溶媒に溶解している溶液を、光重合性モノマー、オリゴマー及び液晶材料のいずれかと混合すればよい。

溶媒としては、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

電解質層４Ａの形態としては、例えば、ゲル状、高分子架橋型、液晶分散型等が挙げられる。

電解質層４Ａをゲル状又は固体状とすることで、エレクトロクロミック素子１０Ａの強度、信頼性を向上させることができる。

電解質層４Ａを形成する際には、電解質液を樹脂中に保持することが好ましい。これにより、エレクトロクロミック素子１０Ａのイオン伝導度と強度を向上させることができる。

樹脂は、光硬化型樹脂であることが好ましい。これにより、低温環境下、短時間でエレクトロクロミック素子１０Ａを製造することができる。

電解質層４Ａの平均厚さは、１００ｎｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。

（第２のエレクトロクロミック層）
第２のエレクトロクロミック層１５は、第２の電極１６上に、一層形成されているが、複数層積層されていてもよい。

また、第２のエレクトロクロミック層１５は、第２の電極１６の全面に形成されているが、第２の電極１６の一部に形成されていてもよい。

第２のエレクトロクロミック層１５は、エレクトロクロミック化合物として、一般式（Ｉ）

（一般式（Ｉ）中、Ｒ_１、Ｒ_２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１４までのアリール基、ヘテロアリール基、炭素原子数１０までの分岐アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又は水酸基に対して結合することが可能な官能基であり、ｎ、ｍは、それぞれ独立に、０〜１０の整数であり、Ｘ⁻は、１価のアニオンである。）
で表されるビオロゲン化合物を含むことが好ましい。ビオロゲン化合物は、エレクトロクロミック素子に適用されると、主に青色を発光する。

また、第２のエレクトロクロミック層１５は、エレクトロクロミック化合物として、特開２０１７−１１１４３４号公報に記載されている一般式（ＩＩ）

で表されるホスホン酸化合物、直鎖アルキルホスホン酸等の化合物を、単独又はビオロゲン化合物と共に、含んでいてもよい。

第２のエレクトロクロミック層１５の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。

第２のエレクトロクロミック層１５を構成する材料が塗布液を形成することができる場合、第２のエレクトロクロミック層１５の形成方法として、印刷法を用いることができる。

印刷法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等が挙げられる。

第２のエレクトロクロミック層１５の平均厚さは、０．２μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましい。第２のエレクトロクロミック層１５の平均厚さが０．２μｍ以上であると、発色濃度が向上し、５．０μｍ以下であると、製造コストの増大が抑えられると共に、着色による視認性の低下を抑制することができる。

（ビオロゲン化合物）
ビオロゲン化合物は、Ｒ_１及び／又はＲ_２が、水酸基と結合することが可能な官能基であることが好ましい。これにより、第２の電極１６（例えば、ＩＴＯ電極）に、ビオロゲン化合物を結合させることができる。また、第２の電極１６上に、後述する劣化防止層を形成する場合は、劣化防止層に、ビオロゲン化合物を結合させることができる。

水酸基と結合することが可能な官能基としては、例えば、ホスホン酸基、リン酸基、カルボキシル基、スルホニル基、シリル基、シラノール基等が挙げられる。これらの中でも、合成の簡便さ、金属酸化物粒子に対する吸着性及び化合物の安定性の点から、ホスホン酸基、リン酸基及びカルボキシル基が好ましく、ホスホン酸基がより好ましい。

また、ビオロゲン化合物がシリル基又はシラノール基を有する場合、ビオロゲン化合物は、シロキサン結合を介して、第２の電極１６（例えば、ＩＴＯ電極）又は劣化防止層と結合することができる。

ホスホン酸基としては、例えば、メチルホスホン酸基、エチルホスホン酸基、プロピルホスホン酸基、ヘキシルホスホン酸基、オクチルホスホン酸基、デシルホスホン酸基、ドデシルホスホン酸基、オクタデシルホスホン酸基、ベンジルホスホン酸基、フェニルエチルホスホン酸基、フェニルプロピルホスホン酸基、ビフェニルホスホン酸基等が挙げられる。

リン酸基としては、例えば、メチルリン酸基、エチルリン酸基、プロピルリン酸基、ヘキシルリン酸基、オクチルリン酸基、デシルリン酸基、ドデシルリン酸基、オクタデシルリン酸基、ベンジルリン酸基、フェニルエチルリン酸基、フェニルプロピルリン酸基、ビフェニルリン酸基等が挙げられる。

カルボキシル基としては、例えば、メチルカルボキシル基、エチルカルボキシル基、プロピルカルボキシル基、ヘキシルカルボキシル基、オクチルカルボキシル基、デシルカルボキシル基、ドデシルカルボキシル基、オクタデシルカルボキシル基、ベンジルカルボキシル基、フェニルエチルカルボキシル基、フェニルプロピルカルボキシル基、ビフェニルカルボキシル基、４−プロピルフェニルカルボキシル基、４−プロピルビフェニルカルボキシル基等が挙げられる。

スルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、デシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、オクタデシルスルホニル基、ベンジルスルホニル基、フェニルエチルスルホニル基、フェニルプロピルスルホニル基、ビフェニルスルホニル基等が挙げられる。

シリル基としては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、プロピルシリル基、ヘキシルシリル基、オクチルシリル基、デシルシリル基、ドデシルシリル基、オクタデシルシリル基、ベンジルシリル基、フェニルエチルシリル基、フェニルプロピルシリル基、ビフェニルシリル基等が挙げられる。

シラノール基としては、例えば、メチルシラノール基、エチルシラノール基、プロピルシラノール基、ヘキシルシラノール基、オクチルシラノール基、デシルシラノール基、ドデシルシラノール基、オクタデシルシラノール基、ベンジルシラノール基、フェニルエチルシラノール基、フェニルプロピルシラノール基、ビフェニルシラノール基等が挙げられる。

Ｘ⁻における１価のアニオンとしては、例えば、臭化物イオン（Ｂｒ⁻）、塩化物イオン（Ｃｌ⁻）、ヨウ化物イオン（Ｉ⁻）、トリフラートイオン（ＯＴｆ⁻）、過塩素酸イオン（ＣｌＯ_４ ⁻）、ヘキサフルオロリン酸イオン（ＰＦ_６ ⁻）、テトラフルオロホウ酸イオン（ＢＦ_４ ⁻）等が挙げられる。

ビオロゲン化合物は、ｍ及びｎが同一であり、４以上１０以下であることが好ましい。

以下に、ビオロゲン化合物の具体例として、水酸基と結合することが可能な官能基を有するビオロゲン化合物Ａ〜Ｋを示す。

（第１の支持体及び第２の支持体）
第１の支持体１１及び第２の支持体１７は、第１の電極１２、第１のエレクトロクロミック層１３、第２の電極１６、第２のエレクトロクロミック層１５を支持する機能を有する。

第１の支持体１１及び第２の支持体１７を構成する材料としては、透明であれば、特に制限はなく、有機材料及び無機材料を用いることができる。

無機材料としては、例えば、無アルカリガラス、硼珪酸ガラス、フロートガラス、ソーダ石灰ガラス等のガラスが挙げられる。

有機材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリイミド系樹脂等の樹脂が挙げられる。

第１の支持体１１及び第２の支持体１７は、水蒸気バリア性、ガスバリア性、紫外線耐性、視認性等を向上させるために、透明絶縁層、ＵＶカット層、反射防止層等が表面に形成されていてもよい。

第１の支持体１１及び第２の支持体１７の平面形状としては、例えば、長方形、円形等が挙げられる。

第１の支持体１１及び第２の支持体１７は、積層体であってもよい。例えば、２枚のガラス基板の積層体にすることで、水蒸気バリア性及びガスバリア性を向上させることができる。

（他の部材）
他の部材としては、例えば、絶縁性多孔質層、劣化防止層、保護層等が挙げられる。

（絶縁性多孔質層）
絶縁性多孔質層は、第１の電極１２と第２の電極１６が電気的に絶縁されるように隔離すると共に、電解質層１４Ａを保持する機能を有する。

絶縁性多孔質層を構成する材料としては、特に制限はなく、絶縁性及び耐久性が高く、成膜性に優れる有機材料、無機材料及びそれらの複合体を用いることが好ましい。

絶縁性多孔質層の形成方法としては、例えば、焼結法（有機粒子又は無機粒子に、バインダ等を添加して部分的に融着させ、粒子間に細孔を形成する）、抽出法（溶剤に可溶な有機材料又は無機材料と、溶剤に溶解しないバインダ等で構成層を形成した後に、溶剤で有機材料又は無機材料を溶解させ、細孔を形成する）、発泡法、良溶媒と貧溶媒を操作して高分子化合物の混合物を相分離させる相転換法、各種放射線を輻射して、細孔を形成する放射線照射法等が挙げられる。

（劣化防止層）
劣化防止層は、導電性又は半導性のナノ構造体であり、第１のエレクトロクロミック層１３及び第２のエレクトロクロミック層１５とは逆の反応を起こし、電荷のバランスをとって、第１の電極１２、第２の電極１６が不可逆的な酸化還元反応により、腐食したり、劣化したりすることを抑制する機能を有する。

なお、導電性又は半導性のナノ構造体とは、ナノ粒子、ナノポーラス構造体等のナノスケールの凹凸を有する構造体を意味する。

また、逆の反応とは、劣化防止層が酸化還元反応する場合に加え、キャパシタとして作用する場合も含む。

導電性又は半導性のナノ構造体は、透明であることが好ましい。

ナノ粒子の平均一次粒子径は、３０ｎｍ以下であることが好ましい。これにより、ナノ構造体に対する光の透過率が向上し、ナノ構造体の単位体積当たりの表面積、即ち、比表面積が大きくなる。ナノ構造体の比表面積が大きくなると、エレクトロクロミック化合物がナノ構造体に効率的に結合し、発消色の表示コントラスト比が向上する。ナノ構造体の比表面積は、１００ｍ^２／ｇ以上であることが好ましい。

なお、ナノ粒子の平均一次粒子径を求める際には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて、任意に１００個のナノ粒子の投影面積を測定し、投影面積から円相当径を計算して粒子径を求める。

劣化防止層を構成する材料としては、透明性及び導電性の点から、金属酸化物が好ましい。

金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、酸化インジウム、アルミノケイ酸塩等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、発消色の応答速度に優れることから、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム及び酸化タングステンが好ましく、酸化チタンがより好ましい。

金属酸化物以外の劣化防止層を構成する材料としては、例えば、酸化ホウ素、リン酸カルシウム等が挙げられる。

劣化防止層は、例えば、金属酸化物粒子を、アクリル系、アルキド系、イソシアネート系、ウレタン系、エポキシ系、フェノール系等のバインダにより、第１の電極１２、第２の電極１６に固定化することで、形成することができる。

（保護層）
保護層は、外的応力や洗浄工程の薬品からエレクトロクロミック素子１０Ａを保護すること、電解質の漏洩を防ぐこと、大気中の水分、酸素等のエレクトロクロミック素子１０Ａが安定的に動作するために不要なものの侵入を防ぐこと等の機能を有する。

保護層を構成する材料としては、例えば、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系樹脂等の紫外線硬化型又は熱硬化型の樹脂を用いることができる。

保護層の平均厚さは、１μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。

（エレクトロクロミック素子の製造方法）
エレクトロクロミック素子１０Ａの製造方法の一例を説明する。

まず、第１の支持体１１上に、第１の電極１２を形成する。その後、一般式（１）で表される化合物と、他の重合性化合物と、重合開始剤を含む塗布液を、第１の電極１２上に塗布する。これにより、第１の支持体１１上に、順次、第１の電極１２、第１のエレクトロクロミック層１３が積層されている第１の積層体を作製する。

塗布液は、必要に応じて、溶媒で希釈する。

溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテル等のエーテル系溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

なお、溶媒による希釈率は、一般式（１）で表される化合物の溶解性、塗布液の塗布方法、第１のエレクトロクロミック層１３の厚さ等に応じて、適宜選択することができる。

塗布液の塗布方法としては、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法等が挙げられる。

また、第１の電極１２上に、塗布液を塗布した後、外部からエネルギーを付与して、硬化させて、第１のエレクトロクロミック層１３を形成してもよい。

エネルギーとしては、例えば、熱、光、放射線等が挙げられる。

外部から熱を付与する方法としては、例えば、空気、窒素等の気体、蒸気、各種熱媒体、赤外線、電磁波等を用いて、加熱する方法等が挙げられる。

加熱温度は、６０℃以上１７０℃以下であることが好ましい。

外部から光を付与する際には、主に紫外線（ＵＶ）に発光波長を有する高圧水銀灯、メタルハライドランプ等のＵＶ照射光源を用いることができるが、一般式（１）で表される化合物、他の重合性化合物、光重合開始剤等の吸収波長に応じて、可視光照射光源を用いることもできる。

ＵＶの照射光量は、５ｍＷ／ｃｍ^２以上１５，０００ｍＷ／ｃｍ^２以下であることが好ましい。

次に、第２の支持体１７上に、第２の電極１６を形成する。その後、エレクトロクロミック化合物を含む塗布液を、第２の電極１６上に塗布する。これにより、第２の支持体１７上に、順次、第２の電極１６、第２のエレクトロクロミック層１５が積層されている第２の積層体を作製する。

次に、第１の積層体と第２の積層体の間に、電解質液を挟持して、電解質層１４Ａを形成し、エレクトロクロミック素子１０Ａが製造される。光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の硬化性樹脂を含む電解質液を用いる場合、電解質液を挟持した後に、硬化性樹脂を硬化させる。

なお、エレクトロクロミック素子１０Ａの製造方法は、必要に応じて、上記以外の工程をさらに含んでいてもよい。

例えば、エレクトロクロミック素子１０Ａが絶縁性多孔質層を有する場合、第１のエレクトロクロミック層１３上、及び／又は、第２のエレクトロクロミック層１５上に、絶縁性多孔質層を形成する。

また、エレクトロクロミック素子１０Ａが劣化防止層、保護層を有する場合、エレクトロクロミック素子１０Ａに、劣化防止層、保護層を形成する。

図２に、本実施形態のエレクトロクロミック素子の他の例を示す。

第２の実施形態に係るエレクトロクロミック素子について説明する。本実施形態に係るエレクトロクロミック素子１０Ｂは、上述の図１に示す第１の実施形態に係るエレクトロクロミック素子１０Ａの第１のエレクトロクロミック層１３及び第２のエレクトロクロミック層１５を設けていないものである。そして、本実施形態に係るエレクトロクロミック素子１０Ｂは、第１の実施形態に係るエレクトロクロミック素子１０Ａの電解質層１４Ａに代えて、本実施形態に係るエレクトロクロミック組成物を含んだ電解質層を用いたものである。

図２は、第２の実施形態に係るエレクトロクロミック素子の構成の一例を示す図である。

エレクトロクロミック素子１０Ｂは、第１のエレクトロクロミック層１３、第２のエレクトロクロミック層１５を省略し、電解質層１４Ａの代わりに、一般式（１）で表される化合物を含む電解質層１４Ｂが形成されている以外は、エレクトロクロミック素子１０Ａと同様である。

（エレクトロクロミック素子の製造方法）
エレクトロクロミック素子１０Ｂの製造方法の一例を説明する。

第１の支持体１１上に、第１の電極１２を形成し、第１の積層体を作製する。

次に、第２の支持体１７上に、第２の電極１６を形成し、第２の積層体を作製する。

次に、表示電極１２と対向電極１６の間に、一般式（１）で表される化合物及び電解質を含む電解質液を挟持して、電解質層１４Ｂを形成し、エレクトロクロミック素子１０Ｂが製造される。

（エレクトロクロミック素子の用途）
本実施形態のエレクトロクロミック素子は、例えば、エレクトロクロミックディスプレイ、株価の表示板等の大型表示板等の表示素子、防眩ミラー、調光ガラス等の調光素子に適用することができる。

また、本実施形態のエレクトロクロミック素子は、タッチパネル式キースイッチ等の低電圧駆動素子、光スイッチ、光メモリー、電子ペーパー、電子アルバム等に適用することができる。

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。

［実施例１−１］
（エレクトロクロミック組成物の調製）
重合性官能基を有するトリアリールアミン化合物１−１（５０質量部）、光重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（ＢＡＳＦジャパン社製）（５質量部）、両末端にアクリロイルオキシ基を有するポリエチレングリコールＰＥＧ４００ＤＡ（日本化薬社製）（５０質量部）、メチルエチルケトン（９００質量部）を混合し、エレクトロクロミック組成物を得た。

（第１の積層体の作製）
膜厚約１００ｎｍのＩＴＯ膜付きガラス基板（４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．７ｍｍ）上に、スピンコート法により、エレクトロクロミック組成物を塗布した。得られた塗布膜に、ＵＶ照射装置ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ（ウシオ電機社製）を用いて、１０ｍＷで６０秒間、波長２５０ｎｍの紫外線を照射した後、６０℃で１０分間アニール処理し、平均厚さ４００ｎｍの第１のエレクトロクロミック層を形成し、第１の積層体を得た。

（第２の積層体の作製）
膜厚約１００ｎｍのＩＴＯ膜付きガラス基板（４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．７ｍｍ）上に、スピンコート法により、平均一次粒子径約２０ｎｍの酸化チタンナノ粒子分散液ＳＰ２１０（昭和タイタニウム社製）を塗布した後、１２０℃で１５分間アニール処理し、厚さ１．０μｍの劣化防止層を形成した。

水酸基と結合することが可能な官能基を有するビオロゲン化合物Ａ（２０質量部）、テトラフルオロプロパノール（９８０質量部）を混合して、塗布液を得た。

劣化防止層上に、スピンコート法により、塗布液を塗布して吸着させた後、メタノールで洗浄し、第２のエレクトロクロミック層を形成し、第２の積層体を得た。

（電解質液の調製）
光重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（ＢＡＳＦジャパン社製）（５質量部）、両末端にアクリロイルオキシ基を有するポリエチレングリコールＰＥＧ４００ＤＡ（日本化薬社製）（１００質量部）、電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラシアノボレート（メルク社製）（５０質量部）を混合し、電解質液を得た。

（エレクトロクロミック素子の作製）
マイクロピペットで３０ｍｇ測り取った電解質液を、第２の積層体の第２のエレクトロクロミック層に滴下した後、電極の引き出し部分があるように、第１の積層体の第１のエレクトロクロミック層と貼り合わせた。次に、ＵＶ照射装置ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ（ウシオ電機社製）を用いて、１０ｍＷで６０秒間、波長２５０ｎｍの紫外線を照射し、エレクトロクロミック素子を得た。

［実施例１−２〜１−９］
重合性官能基を有するトリアリールアミン化合物１−１を、重合性官能基を有するトリアリールアミン化合物１−２〜１−９に変更した以外は、実施例１−１と同様にして、エレクトロクロミック素子を作製した。

［比較例１−１〜１−６］
重合性官能基を有するトリアリールアミン化合物１−１を、重合性官能基を有するトリアリールアミン化合物１−１'〜１−６'に変更した以外は、実施例１−１と同様にして、エレクトロクロミック素子を作製した。

なお、化合物１−１及び１−４については、以下のようにして、合成することができる。また、化合物１−１'については、特開２０１７−００８０２５号公報に記載されている方法で合成することができる。さらに、化合物１−６'については、特開２０１８−０７０４７５号公報に記載されている方法で合成することができる。その他の化合物については、本実施例に記載されている方法に準じて、市販の中間体より容易に合成することができる。

［重合性官能基を有するトリアリールアミン化合物１−１の合成］
中間体１−１（１０−（４−（３−クロロプロピル）フェニル）−１０Ｈ−フェノセレナジン）の合成
５０ｍＬのシュレンクフラスコに、１０Ｈ−フェノセレナジン（３９３ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−４−（３−クロロプロピル）ベンゼン（３７３ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（１０．６ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート（４１．９ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３０８ｍｇ，３．２ｍｍｏｌ）を入れた後、窒素置換した。次に、脱水トルエン（１５ｍＬ）を加えた後、１００℃で５時間加熱撹拌した。次に、室温まで降温した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。得られた生成物をトルエンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバポレーターを用いて、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：トルエン＝２：１，ｖ／ｖ）により、精製し、中間体１−１（薄い黄色のオイル状）を得た（収量：６１７ｍｇ、収率：９７％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ［ｐｐｍ］＝７．３４（ｄｄ，Ｊ＝６．５，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２３−７．２８（ｍ，２Ｈ），７．１４−７．１９（ｍ，２Ｈ），６．９７−７．０１（ｍ，２Ｈ），６．８９（ｄｄｄ，Ｊ＝７．５，７．５，１．３Ｈｚ，２Ｈ），６．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．１Ｈｚ，２Ｈ），３．５９（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ），２．８５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），２．１１−２．１８（ｍ，２Ｈ）．
上記^１Ｈ ＮＭＲの分析結果より、中間体１−１の構造と矛盾がないことを確認することができた。

化合物１−１（３−（４−（１０Ｈ−フェノセレナジン−１０−イル）フェニル）プロピルアクリレート）の合成
２５ｍＬのシュレンクフラスコに、中間体１−１（１０１ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）、アクリル酸（５６．３ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１２６ｍｇ，０．９１ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルクレゾール（０．１ｍｇ，１ｃｒｙｓｔａｌ）、脱水ＤＭＦ（１．２５ｍＬ）を入れた後、遮光下、９０℃で１７時間加熱攪拌し、室温まで降温した。次に、得られた生成物を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバポレーターを用いて、遮光下、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝４：１，ｖ／ｖ）により、精製し、化合物１−１を得た（収量：８８．９ｍｇ、収率：８１％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ［ｐｐｍ］＝７．３４（ｄｄ，Ｊ＝６．３，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２５−７．２８（ｍ，４Ｈ），６．８８（ｄｄｄ，Ｊ＝７．４，７．４，１．３Ｈｚ，２Ｈ），６．５６（ｄｄ，Ｊ＝８．３，１．３Ｈｚ，２Ｈ），６．４３（ｄｄ，Ｊ＝１７．３，１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，Ｊ＝１７．４，１０．４Ｈｚ，１Ｈ），５．８５（ｄｄ，Ｊ＝１０．３，１．５Ｈｚ，１Ｈ），４．２４（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），２．７９（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ），２．０４−２．１１（ｍ，２Ｈ）．
上記^１Ｈ ＮＭＲの分析結果より、化合物１−１の構造と矛盾がないことを確認することができた。

［重合性官能基を有するトリアリールアミン化合物１−４の合成］
中間体１−４−１（Ｎ−（４−（３−クロロプロポキシ）フェニル）ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−２−アミン）の合成
３０ｍＬのシュレンクフラスコに、ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−２−アミン（４５８ｍｇ，２．５ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−４−（３−クロロプロポキシ）ベンゼン（６２０ｍｇ，２．５ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（１６．８ｍｇ，０．０７５ｍｍｏｌ）、２，２'−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１'−ビナフチル（１４１ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３６１ｍｇ，３．８ｍｍｏｌ）を入れた後、窒素置換した。次に、脱水トルエン（５ｍＬ）を加えた後、１１０℃で１４時間半加熱撹拌した。次に、室温まで降温した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。得られた生成物をトルエンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバポレーターを用いて、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：ジクロロメタン＝１：１，ｖ／ｖ）により、精製し、中間体１−４−１（白色の固体）を得た（収量：５６２ｍｇ、収率：６４％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ［ｐｐｍ］＝８．０５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．９１（ｓ，１Ｈ），７．６２−７．７０（ｍ，２Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４５−７．４９（ｍ，１Ｈ），７．３３（ｄｄ，Ｊ＝７．４，７．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０５−７．１３（ｍ，２Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．０５（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），３．８０（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），２．１２−２．１９（ｍ，２Ｈ）．
上記^１Ｈ ＮＭＲの分析結果より、中間体１−４−１の構造と矛盾がないことを確認することができた。

中間体１−４−２（Ｎ−（４−（３−クロロプロポキシ）フェニル）−Ｎ−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−２−イル）ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−２−アミン）の合成
５０ｍｌのシュレンクフラスコに、中間体１−４−１（３５２ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、２−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン（２４８ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（９．５０ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）、エスフォス（８．１０ｍｇ，０．０２０ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（１９２ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を入れた後、窒素置換した。次に、脱水トルエン（１２ｍＬ）を加えた後、１００℃で１８時間加熱撹拌した。次に、室温まで降温した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。得られた生成物をトルエンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバポレーターを用いて、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：ジクロロメタン＝４：１，ｖ／ｖ）により、精製し、中間体１−４−２（黄色の固体）を得た（収量：４３０ｍｇ、収率：９３％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ［ｐｐｍ］＝８．０７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．８１（ｓ，２Ｈ），７．６６（ｍ，４Ｈ），７．４８−７．５２（ｍ，２Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝７．７，７．７Ｈｚ，２Ｈ），７．１８−７．２１（ｍ，２Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），４．０８（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），２．１７（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ）．
上記^１Ｈ ＮＭＲスペクトルの分析結果より、中間体１−４−２の構造と矛盾がないことを確認することができた。

化合物１−４（３−（４−（ビス（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−２−イル）アミノ）フェノキシ）プロピルアクリレート）の合成
２５ｍｌのシュレンクフラスコに、中間体１−４−２（１０３ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、アクリル酸（４３．５ｍｇ，０．６０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（９９．７ｍｇ，０．７２ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルクレゾール（０．１ｍｇ，１ｃｒｙｓｔａｌ）、脱水ＤＭＦ（１ｍＬ）を入れた後、遮光下、９０℃で１９時間加熱攪拌し、室温まで降温した。得られた生成物を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバポレーターを用いて、遮光下、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝４：１，ｖ／ｖ）により、精製し、化合物１−４（黄色の固体）を得た（収量：７７．７ｍｇ、収率：７０％）。

１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ［ｐｐｍ］＝７．７８−７．８０（ｍ，２Ｈ），７．６４（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５２−７．５６（ｍ，２Ｈ），７．４１−７．４６（ｍ，４Ｈ），７．１９−７．３１（ｍ，４Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），６．８３−６．８７（ｍ，２Ｈ），６．４３（ｄｄ，Ｊ＝１７．３，１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１４（ｄｄ，Ｊ＝１７．３，１０．３Ｈｚ，１Ｈ），５．８３−５．８６（ｍ，１Ｈ），４．３８（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），４．０５−４．１３（ｍ，２Ｈ），２．１５−２．２１（ｍ，２Ｈ）．
次に、実施例１−１〜１−９、比較例１−１〜１−６のエレクトロクロミック素子の発消色を確認した。

［発消色］
第１の電極の引き出し部分と、第２の電極の引き出し部分の間に、−２Ｖの電圧を５秒間印加したところ、第１の電極と第２の電極の重なった部分に、第１のエレクトロクロミック層に由来する発色、第２のエレクトロクロミック層に由来する青色発色が確認された。次に、第１の電極の引き出し部分と、第２の電極の引き出し部分の間に、＋２Ｖの電圧を５秒間印加したところ、第１の電極と第２の電極の重なった部分が無色透明になり、消色が確認された。

次に、実施例１−１〜１−９、比較例１−１〜１−６のエレクトロクロミック素子の色彩の再現性を、後述する実施例２−１〜２−６のエレクトロクロミック素子の色彩の再現性と同様にして、評価した。なお、第１のエレクトロクロミック層の発色時における可視吸収スペクトルは、エレクトロクロミック素子の発色時における可視吸収スペクトルから、第２のエレクトロクロミック層の発色時における可視吸収スペクトル及び第１のエレクトロクロミック層の消色時における可視吸収スペクトルを減じることにより得られる。

次に、実施例１−１〜１−９、比較例１−１〜１−６のエレクトロクロミック素子の繰り返し耐久性、連続駆動安定性を評価した。

［繰り返し耐久性］
第１の電極の引き出し部分と、第２の電極の引き出し部分の間に、−２Ｖの電圧を５秒間印加した後、＋２Ｖの電圧を５秒間印加する発消色駆動操作を１００００回繰り返した。このとき、小型ファイバ光学分光器ＵＳＢ４０００（オーシャンオプティクス社製）を用いて、可視領域（波長４００〜８００ｎｍ）の極大吸収波長λ_ｍａｘの吸光度の変化を測定し、下記基準で判定した。

◎：λ_ｍａｘの吸光度が初期状態に比べて、９０％以上である場合
○：λ_ｍａｘの吸光度が初期状態に比べて、８０％以上９０％未満である場合
△：λ_ｍａｘの吸光度が初期状態に比べて、７０％以上８０％未満である場合
×：λ_ｍａｘの吸光度が初期状態に比べて、７０％未満である場合
［連続駆動安定性］
第１の電極の引き出し部分と、第２の電極の引き出し部分の間に、−２Ｖの電圧を印加し、発色状態を４８時間維持した。このとき、小型ファイバ光学分光器ＵＳＢ４０００（オーシャンオプティクス社製）を用いて、電圧を印加する前後の可視領域（波長４００〜８００ｎｍ）の吸光度を測定した後、イエローインデックス（ＹＩ）の差分ΔＹＩを算出し、下記基準で判定した。

◎：ΔＹＩが１未満である場合
○：ΔＹＩが１以上５未満である場合
△：ΔＹＩが５以上１０未満である場合
×：ΔＹＩが１０以上である場合
表１に、エレクトロクロミック素子の繰り返し耐久性、連続駆動安定性の評価結果を示す。

表１から、実施例１−１〜１−９のエレクトロクロミック素子は、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性、連続駆動安定性に優れることがわかる。

これに対して、比較例１−１〜１−６のエレクトロクロミック素子は、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性、連続駆動安定性のいずれかが不十分である。

［実施例２−１］
（第１の積層体の作製）
膜厚約１００ｎｍのＩＴＯ膜付きガラス基板（４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．７ｍｍ）上に、平均粒子径８０μｍのギャップ制御粒子ミクロパールＧＳ（積水化学社製）のイソプロパノール分散液を塗布した後、８０℃で３分間乾燥させ、第１の積層体を得た。

（第２の積層体の作製）
膜厚約１００ｎｍのＩＴＯ膜付きガラス基板（４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．７ｍｍ）上に、スピンコート法により、平均一次粒子径約２０ｎｍの酸化チタンナノ粒子分散液ＳＰ２１０（昭和タイタニウム社製）を塗布した後、１２０℃で１５分間アニール処理し、厚さ１．０μｍの劣化防止層を形成し、第２の積層体を得た。

（電解質液の調製）
重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−１（５０質量部）、電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビスフルオロスルホニルイミド（メルク社製）（１００質量部）、炭酸プロピレン（６００質量部）を混合し、電解質液を得た。

（エレクトロクロミック素子の作製）
第１の積層体と、第２の積層体を、電極の引き出し部分があるように、５ｍｍずらした状態で、電極が形成されている側の面を対向させて、貼り合わせた。次に、２箇所の注入孔を除いて端面に封止材ＴＢ３０５０Ｂ（スリーボンド社製）を塗布した後、ＵＶ照射装置ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ（ウシオ電機社製）を用いて、１０ｍＷで６０秒間、波長２５０ｎｍの紫外線を照射した。

マイクロピペットで３０ｍｇ測り取った電解質液を注入孔から注入し、注入孔を封止材で塞いだ後、ＵＶ照射装置ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ（ウシオ電機社製）を用いて、１０ｍＷで６０秒間、波長２５０ｎｍの紫外線を照射し、エレクトロクロミック素子を得た。

［実施例２−２〜２−７］
重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−１を、重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−２〜２−７に変更した以外は、実施例２−１と同様にして、エレクトロクロミック素子を作製した。

［比較例２−１〜２−６］
重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−１を、重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−１'〜２−６'に変更した以外は、実施例２−１と同様にして、エレクトロクロミック素子を作製した。

なお、化合物２−１〜２−５については、以下のようにして、合成することができる。その他の化合物については、本実施例に記載されている方法に準じて、市販の中間体より容易に合成することができる。

［重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−１（１０−（ｐ−トリル）−１０Ｈ−フェノセレナジン）の合成］
２５ｍＬのシュレンクフラスコに、１０Ｈ−フェノセレナジン（４８ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、４−ヨードトルエン（４９ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（２．６ｍｇ，０．０１２ｍｍｏｌ）、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート（９．１ｍｇ，０．０３１ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３９ｍｇ，０．４０ｍｍｏｌ）を入れた後、窒素置換した。次に、脱水トルエン（２ｍＬ）を加えた後、１００℃で１６時間加熱撹拌した。次に、室温まで降温した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。得られた生成物をトルエンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバボレーターを用いて、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：トルエン＝３：１，ｖ／ｖ）により、精製し、化合物２−１（白色固体）を得た（収量：５２ｍｇ、収率：７９％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ［ｐｐｍ］＝７．３４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２７−７．２２（ｍ，４Ｈ），６．９４（ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，２Ｈ），６．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，２Ｈ），６．５１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），２．４４（ｓ，３Ｈ）．
ＭＳ（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）：ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１９Ｈ１５ＮＳｅ：３３７．０４ ［Ｍ］^＋：ｆｏｕｎｄ ３３６．９８．
［重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−２（Ｎ−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−２−イル）−Ｎ−（ｐ−トリル）ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−２−アミン）の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコに、ｐ−トルイジン（１０８ｍｇ，１．０１ｍｍｏｌ）、２−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン（６１８ｍｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（３．９ｍｇ，０．００５６ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２．９ｍｇ，０．０１１ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２８９ｍｇ，３．０１ｍｍｏｌ）を入れた後、窒素置換した。次に、窒素バブリングにより、脱酸素したｏ−キシレン（８ｍｌ）を加えた後、１５５℃で１７時間加熱撹拌した。次に、室温まで降温した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。得られた生成物をジクロロメタンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバボレーターを用いて、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：ジクロロメタン＝４：１，ｖ／ｖ）で精製した後、ゲル浸透クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）で精製し、化合物２−２（白色固体）を得た（収量：３０８ｍｇ，収率：７０％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ［ｐｐｍ］＝７．７８−７．８１（ｍ，２Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５２−７．５６（ｍ，２Ｈ），７．４１−７．４７（ｍ，４Ｈ），７．２４−７．２９（ｍ，４Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．００−７．０３（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｓ，３Ｈ）．
ＭＳ（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）：ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３１Ｈ２１ＮＯ２：４３９．１６ ［Ｍ］^＋：ｆｏｕｎｄ ４３９．０８．
［重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−３（Ｎ−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−３−イル）−Ｎ−（ｐ−トリル）ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−３−アミン）の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコに、ｐ−トルイジン（１０７ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）、３−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン（６１７ｍｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（３．９ｍｇ，０．００５６ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３．１ｍｇ，０．０１２ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２９１ｍｇ，３．０２ｍｍｏｌ）を入れた後、窒素置換した。次に、窒素バブリングにより、脱酸素したｏ−キシレン（８ｍｌ）を加えた後、１５５℃で２０時間加熱撹拌した。次に、室温まで降温した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。得られた生成物をジクロロメタンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバボレーターを用いて、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：ジクロロメタン＝４：１，ｖ／ｖ）で精製した後、ゲル浸透クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）で精製し、化合物２−３（白色固体）を得た（収量：１３２ｍｇ，収率：３０％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ［ｐｐｍ］＝７．８５−７．８７（ｍ，２Ｈ），７．７６−７．７９（ｍ，２Ｈ），７．４８−７．５０（ｍ，２Ｈ），７．３６−７．４０（ｍ，２Ｈ），７．２８−７．３３（ｍ，４Ｈ），７．０９−７．１５（ｍ，６Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ）．
ＭＳ（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）：ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３１Ｈ２１ＮＯ２：４３９．１６ ［Ｍ］^＋：ｆｏｕｎｄ ４３９．２４．
［重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−４の合成］
１００ｍｌのシュレンクフラスコに、ｐ−トルイジン（１０９ｍｇ，１．０２ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−９，９−ジメチル−９Ｈ−フルオレン（６８３ｍｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（３．８ｍｇ，０．００５４ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２．５ｍｇ，０．００９５ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２８９ｍｇ，３．０１ｍｍｏｌ）を入れた後、窒素置換した。次に、窒素バブリングにより、脱酸素したｏ−キシレン（８ｍｌ）を加えた後、１５５℃で２０時間加熱撹拌した。次に、室温まで降温した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。得られた生成物をジクロロメタンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバボレーターを用いて、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：ジクロロメタン＝４：１，ｖ／ｖ）で精製した後、ゲル浸透クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）で精製し、化合物２−４（白色固体）を得た（収量：４１７ｍｇ，収率：８３％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝７．６３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３０（ｄｄｄ，Ｊ＝７．４，７．４，１．３Ｈｚ，２Ｈ），７．２４−７．２６（ｍ，２Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｓ，４Ｈ），７．０３（ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．１Ｈｚ，２Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），１．４０（ｓ，１２Ｈ）．
ＭＳ（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）：ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３７Ｈ３３Ｎ：４９１．２６ ［Ｍ］^＋：ｆｏｕｎｄ ４９１．０８．
［重合性官能基を有さないトリアリールアミン化合物２−５の合成］
５０ｍｌのシュレンクフラスコに、ｐ−トルイジン（１０８ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−９，９−スピロビ［フルオレン］（９８８ｍｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（３．６ｍｇ，０．００５１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２．８ｍｇ，０．０１１ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２８９ｍｇ，３．００ｍｍｏｌ）を入れた後、窒素置換した。次に、窒素バブリングにより、脱酸素したｏ−キシレン（８ｍｌ）を加えた後、１５５℃で１８時間加熱撹拌した。次に、室温まで降温した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。得られた生成物をジクロロメタンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え、乾燥させた。次に、ろ過により、硫酸ナトリウム水和物を除いた後、エバボレーターを用いて、ろ液を濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン）で精製した後、ゲル浸透クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）で精製し、化合物２−５（白色固体）を得た（収量：６２８ｍｇ，収率：８５％）。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ［ｐｐｍ］＝７．７４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，４Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５４（ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．２６−７．３３（ｍ，６Ｈ），７．０９（ｄｄｄ，Ｊ＝７．５，７．５，１．０Ｈｚ，４Ｈ），６．９８−７．０２（ｍ，２Ｈ），６．８８（ｄｄ，Ｊ＝８．３，２．０Ｈｚ，２Ｈ），６．７０−６．７４（ｍ，６Ｈ），６．５９−６．６２（ｍ，４Ｈ），６．４３（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ）．
ＭＳ（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ）：ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ５７Ｈ３７Ｎ：７３５．２９ ［Ｍ］^＋：ｆｏｕｎｄ ７３５．２８
次に、実施例２−１〜２−７、比較例２−１〜２−６のエレクトロクロミック素子の発消色を確認した。

［発消色］
第１の電極の引き出し部分と、第２の電極の引き出し部分の間に、−２Ｖの電圧を５秒間印加したところ、第１の電極と第２の電極の重なった部分に、電解質層に由来する発色が確認された。次に、第１の電極の引き出し部分と、第２の電極の引き出し部分の間に、＋２Ｖの電圧を５秒間印加したところ、第１の電極と第２の電極の重なった部分が無色透明になり、消色が確認された。

次に、実施例２−１〜２−５のエレクトロクロミック素子の色彩の再現性を評価した。

［色彩の再現性］
第１の電極の引き出し部分と、第２の電極の引き出し部分の間に、−２Ｖの電圧を印加し、発色時における可視領域（波長３８０〜８００ｎｍ）の吸光度を、小型ファイバ光学分光器ＵＳＢ４０００（オーシャンオプティクス社製）を用いて、測定した。

図３〜６に、実施例２−１、２−２、２−５のエレクトロクロミック素子の発色時における可視吸収スペクトルを示す。なお、可視吸収スペクトルは、極大吸収波長を１として、規格化した。

また、実施例２−１〜２−５のエレクトロクロミック素子の発色時における可視吸収スペクトルをＣＩＥ Ｌａｂ色座標に変換し、（ａ^＊，ｂ^＊）をプロットした（図６参照）。

なお、図６には、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）のＣＩＥ Ｌａｂ色空間における基準値の（ａ^＊，ｂ^＊）も示す。このとき、Ｌは固定値とする。

さらに、式
ｂ^＊／ａ^＊
で表されるＹ値を求めた。なお、図６において、原点と、各色の基準値又は各実施例のエレクトロクロミック素子の（ａ^＊，ｂ^＊）を結ぶ直線の傾きがＹ値に相当する。

表２に、実施例２−１〜２−５のエレクトロクロミック素子のＹ値の測定結果を示す。なお、表２には、各色の基準値のＹ値も示す。

表２より、実施例２−１のエレクトロクロミック素子は、マゼンタの再現性が良好であることがわかる。

実施例２−２のエレクトロクロミック素子は、シアンの再現性が良好であることがわかる。

実施例２−３のエレクトロクロミック素子は、緑色の再現性が良好であることがわかる。

実施例２−４、２−５のエレクトロクロミック素子は、緑色の再現性が良好であることがわかる。

したがって、本実施形態のエレクトロクロミック素子のＹ値は、０．１６〜−０．０９６（マゼンタの基準値）、０．９〜１．４６（シアンの基準値）、−１．３〜−０．３９５（緑色の基準値）のいずれかの範囲内であるといえる。

なお、本実施形態のエレクトロクロミック素子は、原点と各実施例のエレクトロクロミック素子の（ａ^＊，ｂ^＊）を結ぶ直線、原点と各実施例のエレクトロクロミック素子の再現性が良好な色の基準値（ａ^＊，ｂ^＊）を結ぶ直線、各色の基準値をＲ、Ｍ、Ｂ、Ｃ、Ｇ、Ｙ、Ｒの順に結ぶ六角形がなす線から形成される三角形の内部に、（ａ^＊，ｂ^＊）が存在することが好ましい。

表３に、エレクトロクロミック素子の色彩の再現性、繰り返し耐久性、連続駆動安定性の評価結果を示す。

表３より、実施例２−１〜２−７のエレクトロクロミック素子は、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性、連続駆動安定性に優れることがわかる。

これに対し、比較例２−１〜２−６のエレクトロクロミック素子は、マゼンタ、シアン又は緑色の再現性、繰り返し耐久性、連続駆動安定性のいずれかが不十分である。

１０Ａ、１０Ｂ エレクトロクロミック素子
１１ 第１の支持体
１２ 表示電極（第１の電極）
１３ 第１のエレクトロクロミック層
１４Ａ、１４Ｂ 電解質層
１５ 第２のエレクトロクロミック層
１６ 対向電極（第２の電極）
１７ 第２の支持体

特開２０１６−３８５７２号公報

Claims (15)

1. 第１の電極と、
   前記第１の電極に対向する第２の電極と、
   前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成されている電解質層を有し、
   一般式（１）
   

   

   （一般式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ａは、一般式（１−１）〜（１−４）
   

   

   

   

   

   （一般式（１−１）〜（１−４）中、Ｒ_１４、Ｒ_１６、Ｒ_１８又はＲ_２０は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_１５、Ｒ_１７、Ｒ_１９又はＲ_２１は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_３０、Ｒ_３２、Ｒ_３４又はＲ_３６は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_３１、Ｒ_３３、Ｒ_３５又はＲ_３７は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_４２、Ｒ_４３、Ｒ_４４又はＲ_４５は、窒素原子と結合する単結合であり、窒素原子と結合する単結合以外のＲ_６〜Ｒ_５２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ｘ_１、Ｘ_２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子又は一般式（１−５）
   

   

   （一般式（１−５）中、Ｒ_５３、Ｒ_５４は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基であり、Ｒ_５３とＲ_５４が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）
   で表される基であり、Ｘ_３、Ｘ_４は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子であり、Ｘ_５は、酸素原子又は硫黄原子である。）
   のいずれかで表される基である。）
   で表される化合物、又は、前記一般式（１）で表される化合物を含む組成物の硬化物を含む、エレクトロクロミック素子。
2. 前記第１の電極と前記電解質層の間に、前記一般式（１）で表される化合物、又は、前記一般式（１）で表される化合物を含む組成物の硬化物を含むエレクトロクロミック層が形成されている、請求項１に記載のエレクトロクロミック素子。
3. 前記電解質層は、前記一般式（１）で表される化合物、又は、前記一般式（１）で表される化合物を含む組成物の硬化物を含む、請求項１に記載のエレクトロクロミック素子。
4. 前記Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_６〜Ｒ_１３のうち、１個以上が重合性官能基を含む一価の有機基であり、
   前記Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_１４〜Ｒ_２９のうち、１個以上が重合性官能基を含む一価の有機基であり、
   前記Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_３０〜Ｒ_４１のうち、１個以上が重合性官能基を含む一価の有機基であり、
   前記Ｒ_１〜Ｒ_５、Ｒ_４２〜Ｒ_５２のうち、１個以上が重合性官能基を含む一価の有機基であり、
   前記一般式（１）で表される化合物を含む組成物の硬化物を含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。
5. 前記組成物は、前記一般式（１）で表される化合物以外の重合性化合物をさらに含む、請求項４に記載のエレクトロクロミック素子。
6. 前記重合性官能基を含む一価の有機基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基で置換されているアリール基が、前記重合性官能基で置換されている基である、請求項４又は５に記載のエレクトロクロミック素子。
7. 前記重合性官能基は、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基である、請求項４乃至６のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。
8. 前記一般式（１）で表される化合物は、一般式（２−１）〜（２−５）
   

   

   

   

   

   

   のいずれかで表される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。
9. 前記Ｘ_１及び前記Ｘ_２が同一であり、
   前記Ｘ_３及び前記Ｘ_４が同一である、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。
10. 第１の電極と、
    前記第１の電極に対向する第２の電極と、
    前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成されている電解質層を有し、
    セレン原子、硫黄原子又は酸素原子を有するトリアリールアミン化合物、又は、前記トリアリールアミン化合物を含む組成物の硬化物を含み、
    発色時に、マゼンタ、シアン又は緑色を呈する、エレクトロクロミック素子。
11. 前記マゼンタ、前記シアン及び前記緑色は、式
    ｂ^＊／ａ^＊
    で表されるＹ値が、それぞれ０．１６〜−０．０９６、０．９〜１．４６及び−１．３〜−０．３９５である、請求項１０に記載のエレクトロクロミック素子。
12. 請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子を有する、表示素子。
13. 請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子を有し、
    前記第１の電極、前記第２の電極及び前記電解質層が透明である、調光素子。
14. 一般式（１）
    

    

    （一般式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ａは、一般式（１−１）〜（１−４）
    

    

    

    

    

    （一般式（１−１）〜（１−４）中、Ｒ_１４、Ｒ_１６、Ｒ_１８又はＲ_２０は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_１５、Ｒ_１７、Ｒ_１９又はＲ_２１は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_３０、Ｒ_３２、Ｒ_３４又はＲ_３６は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_３１、Ｒ_３３、Ｒ_３５又はＲ_３７は、窒素原子と結合する単結合であり、Ｒ_４２、Ｒ_４３、Ｒ_４４又はＲ_４５は、窒素原子と結合する単結合であり、窒素原子と結合する単結合以外のＲ_６〜Ｒ_５２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ｘ_１、Ｘ_２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子又は一般式（１−５）
    

    

    （一般式（１−５）中、Ｒ_５３、Ｒ_５４は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基であり、Ｒ_５３とＲ_５４が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。）
    で表される基であり、Ｘ_３、Ｘ_４は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子であり、Ｘ_５は、酸素原子又は硫黄原子である。）
    のいずれかで表される基である。）
    で表される化合物を含む、エレクトロクロミック組成物。
15. 請求項１４に記載のエレクトロクロミック組成物が硬化している、硬化膜。

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