KR20060007003A - 투명 기판의 오류 검출 검사장치 - Google Patents

Abstract

유리 시트와 같은 투명 기판에서 오류 검출을 위한 방법, 장치 및 시스템이 개시된다. 상기 방법, 장치 및 시스템은 100nm이하의 투명 기판에서 광경로 길이 변화를 검출할 수 있다.

Description

투명 기판의 오류 검출 검사장치{Inspection apparatus for detecting defects in transparent substrates}

본 발명은 오류를 결정하기 위한 기판 검사용 시스템, 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 특히 유리 시트에서 1차원 광경로 길이 변화의 측정에 유용하다.

유리시트와 같은 투명 기판에서의 오류는 통상적으로 사람의 검사 및 수동 방법을 이용하여 검출된다. 예를 들어, 액정 디스플레이(LCD)에 사용되는 유리 기판에서의 코드 및 스트릭(streak)과 같은 오류 검출에서, 오류를 검출하기 위해 쉐도우 방법이 사용된다. 이 방법에 따르면 한장의 유리 시트(통상적으로 폭 약 1미터 x 길이 2미터)가 자유 회전하는 L-브래킷 스탠드에 실장되고, 제논 광원에 의해 조명된다. 광원은 전체 시트를 조명하기 위해 진로를 벗어나게 된다. 유리의 쉐도우는 검사자에 의해 배색 스크린 상에 보여진다. 이 오류는 스크린 상의 콘트라스트의 1차원 라인으로 보인다. 이 라인들의 방향은 예컨대 유리 시트가 제조되는 다운유도(downdraw) 장치에서 유리 시트가 유도되는 방향과 평행하다. 스트릭 오류는 통상적으로 단일 분리 라인처럼 보이는 반면에, 코드 오류는 수 밀리미터 정도로 이격된 다수의 라인들로 구성된다.

코드 오류는 통상적으로 수 밀리미터의 주기로 수 나노 미터 정도의 작은 광 경로 길이(OPL;optical path length) 변화로 구성된다. 이러한 작은 변화는 두께 또는 굴절률 변화에 기인하고, 렌싱이라 불리는 효과에 의해 스크린 상의 광 세기를 변조한다. 코드 및 스트릭 오류의 반복가능하고 신뢰성 있는 시각 검사는, 특히 수동 방법을 사용할 때는 매우 어려운 것으로 판명되었다. 따라서, 투명 기판의 1차원 광경로 길이 변화를 측정할 수 있는 장치, 시스템 및 방법을 제공하는 것이 바람직할 것이다.

본 발명은 유리 시트와 같은 투명 기판에서 광 경로 길이 변화를 측정하는 시스템, 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 투명 기판에서 두께를 변화를 측정하는데 사용될 수 있다. 현존하는 방법에 비해 스트릭 오류와 먼지가 코드보다 쉽게 구별될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 과 경로 길이 변화는 유리를 매우 공간적으로 일관된(coherent) 빔으로 조명함으로써 간접적으로 관측된다. 콘트라스트 패턴의 해석을 복잡하게 할 수 있는 간섭 효과 일시적으로 비일관된(incoherent) 빔, 즉 매우 짧은 일관성 길이를 갖는 빔을 사용하여 감소된다. 다른 실시예에 따르면, OPL 변화는 빔 사이즈와 동일하거나 그 이하의 주기를 갖는 경우에, 광 경로 길이 변환은 측정될 수 있는 빔에서의 위상 왜곡을 야기하고, 경로 길이의 변화(약 10nm 스케일에서)와 관련된 물리적 효과를 제공한다.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 위상 왜곡의 측정은 예컨대, 단일 모드 섬유에 연결된 수퍼발광 다이오드(SLD) 광원을 사용함으로써 광을 공간적으로 필터링함으로써 수행된다. SLD는 바람직하게는 유리를 통한 광 경로 길이보다 짧은 일관성 길이를 제공하고 간섭 효과를 감소시키기에 충분히 넓은 파장 스펙트럼을 갖는다. 고 공간 간섭은 단일 모드 섬유를 사용함으로써 제공될 수 있다. 바람직하게는, 빔은 섬유로부터 런칭(launching)되고, 섬유 끝단으로부터 한 초점 길이만큼 떨어진 렌즈는 콜리메이트된 빔을 생성한다. 광섬유를 사용하는 대신에, 공간 필터링은 또한 광을 작은 개구부를 통해 전달함으로써, 바람직하게는 직경이 50 마이크론 이하, 보다 바람직하게는 약 20 마이크론 이하인 개구부를 통해 전달함으로써 수행될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 광원은 수직입사에서의 이득 샘플을 통과하도록 향하고, 양의 렌즈는 슬릿으로 빔을 부분적으로 포커싱하는데 사용된다. 바람직하게는, 슬릿은 렌즈의 초점 평면의 전면에 배치된다. 일 실시예에 따르면, 기판에서의 오류에 기인하 위상 왜곡은 슬릿 위치에서 빔의 강도 프로파일에서의 작은 변화를 일으킨다. 슬릿의 뒤에 위치한 센서는 슬릿을 통과하는 광 강도를 검출한다. 일 실시예에서는, 유리를 통과하는 전체 광 시스템을 중계함으로써, 빔에서의 위상 왜곡의 변화가 광 강도 대 위치 데이터에서의 콘트라스트로 측정된다. 유리의 광 경로 길이에서의 로컬 변화는 이 데이터로부터 유추될 수 있다. 일 실시예에 따르면, 2개의 이격된 광원은 보다 로컬화된 오류들과 구별되는 1차원 오류(즉, 코드 또는 스트릭)에 기인하는 신호에서의 콘트라스트를 허용하는데 사용되며, 보다 로컬화된 오류들은 먼지, 함유물 등을 포함한다. 일단 유리 위치의 함수로서 광 강도가 포착되면, 알고리즘은 신호에서의 콘트라스트를 정량화하기 위해 데이터를 처리한다.

본 발명은 종래 기술의 시스템에서보다 유리 표면에서의 오류에 대한 보다 높은 해상도를 제공하는 보다 넓은 공간 주파수 응답 범위를 갖는다. 본 발명은 저레벨 오류들(예컨대, 약 100nm이하, 바람직하게는 약 50nm이하이고 약 1nm OPL 변화 정도인)에 민감한 반복가능한 측정치를 제공한다.

본 발명의 추가적인 장점들이 이하의 상세한 설명으로부터 명백할 것이다. 이상의 일반적인 설명 및 이하의 상세한 설명들은 예시적인 것이며, 본 발명의 청구범위에 대한 추가적인 설명을 제공하기 위한 것임이 이해되어야 한다.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 기판의 오류를 측정하는 장치의 개략도이다.

도2는 코드 오류를 갖는 유리 시트 도면이다.

도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 기판의 오류를 측정하는 장치에 대한 개략도이다.

도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 광원의 출력 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.

도5는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 길이까지, 실제로 측정된 코드 콘트라스트 퍼센트 대 렌즈를 나타내는 그래프이다.

도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 코드 및 스트릭 오류를 포함하는 유리 시트를 스캐닝한 후에 시스템으로부터 포착된 라인 스캔 데이터의 2차원 투영도이다.

도7은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 기판의 오류를 측정하는 장치의 사시도이다.

본 발명의 몇가지 예시적인 실시예들을 설명하기 전에, 본 발명은 다음 설명에 제공된 구조 또는 방법 단계들에 대한 설명에 한정되지 않음이 이해되어야 한다. 본 발명은 다른 실시예들을 포함할 수 있으며, 다양한 방법으로 실시될 수 있다.

본 발명은 유리 시트와 같은 투명 기판을 검사하는 장치, 시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은 특히 액정 디스플레이 기판 상에서 약 100nm 또는 그 이하, 예컨대 약 50nm 또는 10nm, 그리고 약 1nm 정도의 1차원 OPL 변화를 검출하는데 유용하다.

본 발명의 제1 실시예에 따른 도1을 참조하면, 투명 기판(12) 내 또는 그 위의 오류를 측정하는 장치(10)가 제공된다. 상기 장치는 특히 액정 디스플레이에 사용되는 유리 기판에서의 코드 오류를 측정하는데 유용하다. 도1 및 도2에 도시된 바와 같이, z 방향을 따라 측정된 유리 시트를 통한 광 경로 길이는 "x" 축을 따른 위치에 따라 변화하고, 도2에 표시된 인출 방향 즉 "y" 축에 평행한 방향을 갖는 통상적으로 코드 또는 스트릭이라 불리는 피쳐의 패턴이 된다. "x" 축을 따른 광 경로 길이의 변조는 약 수 밀리미터 범위의 주기로 주기적이며, 약 수 나노미터 범위의 진폭을 갖는다. 다시 도1 및 도2를 참조하면, 장치(10)는 기판(12)에서 광의 제1빔(15)을 디렉팅(directing)하는 제1 광원(14)을 포함한다. 바람직하게는, 제1 광원(14)은 기판(12) 상에서 디렉팅되어 광(15)의 제1빔은 도1의 "z" 축에 평행하고, 시트에 거의 수직인 방향으로 진행한다. 바람직하게는, 광원(14)은 광을 기판(12)의 평면 표면을 통과하는 복수의 서로 다른 위치에서 디렉트할 수 있도록 구성된다. 따라서, 바람직한 실시예에서, 광원은 "x" 또는 "y" 방향으로 이동할 수 있고, 선택적으로 광이 복수의 서로 다른 위치에서 기판(12)의 표면을 향해 전달되도록 광원은 고정되어 있고 기판(12)이 이동될 수도 있다. 바람직한 실시예에서, 기판은 코드 오류의 방향이 도1 및 도2에 도시된 "y" 방향에 평행하게 이동하도록 실장되고, 기판(12) 또는 광원(14)은 광의 빔이 "y" 방향으로 기판을 통과하도록 이동된다.

다시 도1을 참조하면, 장치(10)는 서로 다른 위치에서 시트(12)를 통과하거나 또는 시트(12)로부터 반사되는 광의 위상 왜곡을 검출하는 적어도 하나의 제1 센서(18)를 포함하는 광학 시스템(16)을 더 포함한다. 광의 위상 왜곡은 기판(12)의 평면 표면을 관통하는 서로 다른 위치에서의 광 강도의 콘트라스트와 관련된다. 광학 시스템은 바람직하게는 광원(12)과 센서(18) 사이의 제1 렌즈(20)를 포함하고, 상기 제1 렌즈(20)는 센서(18)에서 수신된 위상 왜곡의 콘스라스트를 선택적으로 향상시키는 기능을 제공한다. 또 다른 실시예에 따르면, 센서(18)는 (22a)에서 또는 센서(18)를 넘어(22b) 가상 평면(22a,22b)을 이미징한다. 여기서 사용되는 바와 같이, 센서를 넘는다는 것은 평면이 z 평면의 제1 광원(14)으로부터 멀어지는 방향에 있다는 것을 의미한다. 따라서, 도1에 도시된 바와 같이, 광원(14)은 왼쪽에 있고, 센서(18)는 오른쪽에 있으며, 제1 센서(18) 너머에 위치하는 가상 평면 (22b)은 제1 센서(18)의 오른쪽에 위치할 것이다.

도3을 참조하면, 투명 기판(32)의 오류를 검출하는 장치(30)의 또다른 실시예가 도시되어 있다. 본 장치는 이격된 한쌍의 광원들(34a,34b)을 포함한다. 광원들은 약 20nm 내지 120mm 까지의 간격으로 이격될 수 있다. 바람직한 실시예에서, 각 광원(34a,34b)은 공간 필터에 연결된다. 본 실시예에서, 공간 필터링은 한쌍의 광섬유(35a,35b)에 의해 제공된다. 광은 적어도 광빔의 직경만큼 바람직하게는 약 30mm만큼 떨어져 있으며, 기판(32)을 통해 전송된다. 바람직한 실시예에서, 광원들(34a,34b)로부터의 광빔들은 한쌍의 콜리메이트 렌즈(36a,36b)를 통해 전송되고, 콜리메이트 렌즈(36a,36b)는 섬유(35a,35b)의 끝단과 기판(32)의 사이에 배치된다. 광이 기판(32)을 통해 전송된 후에, 한쌍의 렌즈(38a,38b)를 포함하는 광 시스템(이하 콘트라스트 강화 렌즈 또는 콘트라스트 렌즈라 함)은 광을 한쌍의 슬릿(40a,40b)을 통해 센서들(42a,42b)로 디렉팅한다. 광 시스템은 센서에서 수신한 위상 왜곡의 콘트라스트를 선택적으로 강화하도록 동작할 수 있다. 전술한 실시예에서와 같이, 센서(42a,42b)는 센서들(42a,42b)에서 또는 센서들(42a,42b) 너머에 위치한 가상 평면들을 이미징한다. 이하 광원 및 광학 시스템에 대한 추가적인 설명이 제공된다.

바람직한 실시예에서, 광원은 평면 기판의 2개의 주 표면으로부터의 반사광에 의해 생성된 간섭 효과를 피하기위해 측정되는 기판의 광학 두께보다 작은 일관성 길이를 갖는다. 바람직하게는, 광원은 또한 공간적으로 일관된다. 공간 일관성은 빔 전파 방향(도1의 "z" 평면)에 수직인 위상 프론트가 빔 전체에서 균일함을 의미한다. 공간 일관성은 광원을 공간적으로 필터링함으로써 달성될 수 있다. 공간적 필터링은 최소 측면 오류 이득 크기 보다 적어도 10배 작은 바람직하게는 40배 작은 개구부를 통해 광을 전송하거나, 또는 단일 모드 섬유에 연결된 광원을 사용함으로써 달성될 수 있다.

특히 바람직한 광원은 수퍼발광 다이오드(SLD)이다. 이 소자는 잠정적-비일관성(상대적으로 넓은 파장 스펙트럼) 광을 제공한다. 도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 임의의 파워 유닛에서의 수퍼 발광의 출력 스펙트럼을 나타내며, 이것은 약 50bm보다 작은 일관성 길이에 해당한다. 많은 종류의 광대역 광원(텅스텐-할로겐, 크세논, LED 등)이 짧은 일광선 길이를 제공할 수 있는 반면에, SLD는 매우 효율적으로 단일 모드 섬유에 연결될 수 있다. 이것은 적절한 파워 레벨(섬유로부터 약 1mW)을 유지하면서 광원의 효율적인 공간적 필터링을 가능케한다. 보다 통상적인 광원의 공간적 필터링은 허용할 수 없을 만큼 낮은 파워의 결과를 야기한다. 코드 및 스트릭 오류의 콘트라스트 특징 레벨은 1% 또는 그 이하이다. 따라서, SLD 광원의 우수한 파워 안정성(예컨대, 약 10초 동안에 0.05% 이하)이 바람직하다.

바람직하게는, 공간 필터로부터 나오는 광은 기판에 입사하기 전에 콜리메이트된다. 광빔의 콜리메이션은 시트 위치에 대한 시스템 감도 및 빔 전파 방향에 따른 움직임을 감소시키고, 또한 센서에 의해 수집된 데이터의 번역을 단순화시킨다. 바람직한 실시예에서, 입사광 빔은 약 5-20mm의 직경(1/e² 직경)으로 콜리메이트된다. 빔 사이즈는 시스템이 민감한 광-경로-길이의 주기에 상한점을 부여하게 된다. 상대적으로 큰 빔 사이즈는 스트릭(통상적으로 약 5mm 보다 적은 폭)에 민감한 시스템이 되는 반면에, 기판 광경로 길이 변화에서의 긴 주기 변화에 민감하지 않다.

바람직한 실시예에서, 2개의 광원은 도3에 도시된 바와 같은 이격된 관계에서 사용 및 배치된다. 시스템에서 2개의 빔 경로는 기판의 표면 상에 먼지 및 다른 오염물질로부터 야기되는 측정치에서의 에러를 감소시킨다. 바람직한 실시예에서, 빔들은 (기판의 y축을 따라 또는 코드/스트릭 방향에 평행하게) 수직으로 오프셋 되어 유리 표면의 서로 다른 영역을 샘플링하고, 2개의 빔에 공통인 콘트라스트는 순수하게 코드 또는 스트릭에 기인한다. 단 한개의 빔에 의해 측정된 콘트라스트 차는 먼지, 펜 표시, 함유물 또는 유리 내부의 오류에 의해 영향받을 수 있다. 빔들의 오프셋은 2개의 빔에 의해 샘플링된 코드/스트릭 피쳐에서의 차이가 최소화가 되도록 보장할 수 있도록 충분히 작아야 한다. 이것은 코드 또는 스트릭 피쳐가 y축을 따라 얼마나 빨리 변화하느냐에 의해 제한될 것이다. 2개의 광빔은 단일 광원 및 2개의 빔을 제공하는 빔 스플리터와 미러에 의해 생성될 수 있을 것이다. 빔-스플리팅 장치의 예로는 광섬유 커플러가 있다. 그러나, 장기간의 안정성을 위해서는, 2개의 별개의 광원(각 광빔에 대해 하나씩)이 바람직하다.

전술한 바와 같이, 시스템에 일체화되고 기판 및 센서 사이에 배치된 렌즈는 코드 및 스트릭으로부터 기인한 콘트라스트를 강화하는 반면에, 더 짧은 경로의 광 시스템이 된다. 그러나, 진동 및 얼라인먼트 감도와 같은 팩터들은 초점 길이가 더 짧은 렌즈의 사용을 제한한다. 예를 들어, 50mm 내지 400mm의 초점 길이 렌즈는 진 동에 대한 비감도를 유지하면서도 양호한 콘트라스트 강화의 조합을 제공한다.

일 실시예에서는, 시스템 또는 장치의 공간 주파수 감도는, 슬릿의 위치에 의해 정의되고, 렌즈와 센서 사이에 위치하는, 강도 콘트라스트가 측정되는 렌즈 및 평면 사이의 거리를 조절함으로써 특정 범위에 대해 최적화될 수 있다. 서로 다른 구성하에서 측정된 광학 시스템의 주파수 의존성의 예가 도5에 도시되어 있다.

도5는 서로 다른 주기를 갖는 2개의 코드 오류에 대해 초점 길이(f)의 렌즈 및 10 마이크론 슬릿을 사용하여 측정된 콘트라스트를 나타낸다. 슬릿이 렌즈로부터 멀어질수록(렌즈의 초점에 더 가까이 갈수록), 각 패턴에 대한 콘트라스트는 증가하고, 피크 콘트라스트에 도달하며, 그 후에, 슬릿 위치가 초점에 근접할 수록 빠르게 감소한다. 더 높은 주파수(더 짧은 주기) 코드 패턴에 대한 피크 콘트라스트는 렌즈에 더 가까운 평면에서 발생한다.

도5에 A,B,C로 표시된 원들은 최적화된 광학 시스템 설계에 대해 가능한 몇가지 선택들을 나타낸다. 원 A는 최소 콘트라스트이지만, 가장 넓은 주파수 응답점이다. 원 B는 낮은 주파수 피크에 대한 가장 높은 콘트라스트 강화를 갖지만, 고 주파수 피크에 대해서는 감소된 콘트라스트를 갖는다. 원 C는 바람직한 동작점이다. 이 점은 트레이드오프(tradeoff)를 나타내고, 이 점에서 콘트라스트 강화는 최고로 관측된 주파수 코드의 상대 응답을 감소시키지 않고 생성된다.

렌즈와 센서 사이에 위치한 슬릿의 폭은 바람직하게는 최고 주파수 피쳐를 완전히 분석할 수 있을 정도로 좁고, 신호대 잡음비를 유지하기 위해서 충분한 광 전력을 광 센서로 전달할 수 있을 정도로 충분히 넓다. 측정치 에러를 방지하기 위 해서, 바람직하게는 슬릿은 코드 오류의 방향에 거의 평행하게 정렬된다. 정렬됨으로써 슬릿은 코드 방향의 약 0.5도 내로 정렬되어야 한다.

바람직한 센서는 약 4mm x 1mm의 최소 영역을 갖는 실리콘 광다이오드이다. 바람직하게는, 각 슬릿은 센서의 표면에 직접 연결된다. 광다이오드는 슬릿을 통과하는 광전력에 직접 비례하는 전류를 생성한다. 이 전류는 약 10DA 정도이고, 바람직하게는 상기 전류는 저잡음 트랜스임피던스 증폭기에 의해 증폭된다. 다른 적절한 센서는 CCD(charge coupled device) 또는 다른 타입의 감광 센서를 포함하지만, 이에 한정되지는 않는다.

센서로부터의 데이터는 통상적인 전자 및 데이터 처리 장치, 예컨대 컴퓨터를 사용하여 포착 및 분석된다. 바람직하게는, 센서에 의해 생성된 전압은 아날로그-디지털 변환기를 사용하여 디지털화된다. 프로세서는 오류(예컨대, 스트릭 대 드와 먼지)를 범주화하고, 오류의 크기를 정량화할 것이다. 그리고 나서, 데이터는 샘플을 통해 OPL 변화를 정량화하기 위해 상관되고 분석된다.

일 실시예에 따른 장치로부터 포착된 데이터의 예가 도6에 도시되어 있고, 이것은 약 100 mm/sec 의 스캔 속도에서 샘플을 관통하는 측정된 콘트라스트를 나타낸다. 도6은 라인 스캔 데이터의 2D 표면이고, 여기서 콘트라스트는 강화되었고, 코드는 콘트라스트의 주기적인 선들로 나타낸다. 도6의 y와 x축들은 도3에 도시된 유리 시트의 y축에 해당한다. 도6에서, 코드는 이미지를 관통하는 강도에서 주기 변화로서 나타나고, 스트릭 오류는 이미지와 중심 근처의 밝은 분리된 선으로 나타낸다.

본 발명의 시스템의 전체 반복성은 우수하다. 코드 및 스트릭을 포함하고, 본 발명의 시스템에 의해 측정된 샘플들에 대한 반복성 및 재생산성으로부터의 결과는 등급화된 오류 정도(수동 검사에 의해 판단된)에 양호한 상관관계를 나타내었다. 시스템에 대한 위치 의존도는 광원에 상대적인 센서의 위치를 고정하고, 유리를 관통하는 전체 광 시스템을 해석함으로써 최소화될 수 있다. 듀얼 빔 시스템을 생성함으로써 스트릭 검출이 가능해진다. 광원의 최적화 및 렌즈의 사용을 통해, 시스템은 수직 입사시에 모든 알려진 코드 오류를 검출할 수 있을 정도의 감도를 갖는다.

본 발명의 시스템은 공장 환경에서 오프 라인 검사를 수행할 수 있다. 기본 기술은 또한 온라인 검사에 요구되는 데이터 속도를 처리할 수 있다. 도7은 기판(112)을 측정하는데 사용될 수 있는 시스템(100)의 예를 나타낸다. 본 시스템은 이격되어 서로에 대해 고정된 한 쌍의 광원(114) 및 한 쌍의 센서(116)를 포함한다.

바람직하게는, 각 광원 및 센서는 약 1미터 이하 정도로 이격되고, 각 광원 및 센서는 약 1미터 이하로, 보다 바람직하게는 0.5미터 이하로, 보다 바람직하게는 30cm이하로 이격된다. 기판(12)은 광원 및 센서에 대해 이동될 수 있고, 또는 선택적으로 광원 및 센서는 이동가능한 스테이지로 실장되고 화살표(115)로 표시된 방향으로 시트를 관통하여 통신(translate)될 수 있다. 센서(116)에 의해 포착된 데이터는 데이터 프로세서(122)와 통신하는 전자 팩으로 전달된다. 데이터 프로세서는 퍼스널 컴퓨터 또는 메인프레임 컴퓨터와 같은 임의의 통상적인 데이터 프로세서가 될 수 있다. 측정 시스템은 유리 진동에 상대적으로 영향을 받지 않고, 엄 격한 유리 포지셔닝을 필요로 하지 않으며, 먼지 효과에 내성이 있다.

당업자에게는 본 발명의 범위 내에서 다양한 변형 및 변화를 생각해낼 수 있음이 명백할 것이다. 예를 들어, 더 높은 공간 주파수에 대한 응답은 렌즈를 제거하거나 또는 슬릿을 렌즈에 더 가깝게 이동시킴으로써 획득될 수 있다. 오류에 기인한 더 높은 콘트라스트는 렌즈를 제거하거나 슬릿을 콘트라스트 렌즈의 초점에 더 가까이 이동시킴으로써 획득할 수 있다. 더 짧은(더 컴팩트한) 전체 광학 시스템은, 검출면에 더 짧은 초점 길이 렌즈를 사용함으로써 얻을 수 있으며, 진동 효과에 더 높은 감도를 갖는다. 바람직한 실시예는 샘플을 통해 전달되는 광빔으로부터의 데이터 집합을 나타내는 반면에, 본 시스템, 방법 및 장치는 샘플의 표면으로부터 반사된 광빔으로부터 수집된 데이터를 이용할 수 있을 것이다. 제2 센서 결합을 사용함으로써 반사된 신호 및 투과된 신호 모두를 수집하면 두 표면 모두에 대한 표면 높이 이탈의 독립적인 측정이 가능하다. 본 발명은 이하의 청구범위 및 그 균등한 범위 내에 속하는 경우에는, 본 발명의 변형 및 변화예들을 모두 포함하는 것으로 의도된다.

Claims (10)

1. 투명 평면 기판에서 오류를 측정하는 장치로서,

   상기 기판의 주표면을 관통하는 서로 다른 위치에서 상기 기판에서의 광을 디렉팅하는 공간적으로 일관되고 스펙트럼적으로 테일러된(tailored) 제1 광원; 및

   상기 서로 다른 위치에서 상기 시트를 투과하거나 상기 시트에서 반사된 광의 위상 왜곡을 검출하도록 만들어진 렌즈 및 제1 센서를 포함하는 광학 시스템을 포함하고,

   상기 위상 왜곡은 상기 서로 다른 위치에서의 광 강도의 콘트라스트 대 위치와 관련되고, 상기 렌즈는 상기 광원과 상기 센서 사이의 광 경로를 따라 배치되며, 상기 렌즈는 상기 광 강도의 콘트라스트를 선택적으로 강화하도록 동작하는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 제1 센서는 상기 센서에서, 또는 상기 센서 너머에 배치된 가상 평면에서의 광 강도를 측정하도록 동작하는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
3. 제2항에 있어서, 약 10nm의 1차원 광 경로 길이 변화를 측정할 수 있는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
4. 제1항에 있어서, 상기 공간적으로 일관된 광원은 광원 및 공간 필터를 포함하고, 상기 공간 필터는 단일 모드 광섬유를 포함하는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
5. 제4항에 있어서, 상기 광원의 일관성 길이는 상기 기판을 관통하는 상기 광경로 길이보다 짧은 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 광원은 수퍼발광 다이오드를 포함하는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
7. 제1항에 있어서, 상기 광원과 상기 센서는 상기 기판의 평면을 통해 통신(translate)하는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
8. 제1항에 있어서, 상기 제1 광원으로부터 이격된 제2 광원 및 상기 제2 센서로부터 이격된 제2 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
9. 제1항에 있어서,

   상기 기판에서 디렉팅된 상기 광을 공간적으로 필터링하는, 상기 광원에 연결된 광섬유;

   상기 시트를 투과하는 광빔을 콜리메이트하며, 상기 광섬유와 상기 시트 사 이에 배치된 콜리메이트 렌즈; 및

   상기 시트 및 상기 센서 사이에 배치된 콘트라스트 렌즈와 상기 센서 사이에 배치된 슬릿을 포함하는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.
10. 제9항에 있어서, 상기 제1 광원으로부터 이격된 제2 광원과 상기 제1 센서로부터 이격된 제2 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오류 측정용 장치.

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