KR20050088216A

KR20050088216A - 선스크린제

Info

Publication number: KR20050088216A
Application number: KR1020057011902A
Authority: KR
Inventors: 조지 베리 파크; 존 세바스티안 노우랜드; 베리 리챠드 플루터
Original assignee: 옥소니카 리미티드
Priority date: 2002-12-24
Filing date: 2003-12-23
Publication date: 2005-09-02
Also published as: BR0317753A; US20060134026A1; JP2006514115A; WO2004058209A2; EP1581175A2; AU2003295159A1; WO2004058209A3; CA2528660A1; MXPA05006912A

Abstract

감광성 및/또는 분해성이며(이거나) 분해가 조성물의 다른 성분에 의해 유도되는 1종 이상의 유기 성분의 상당량 및 다른 원소가 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO, 및/또는 환원된 산화아연의 상당량을 함유하는, 화장용 또는 국소 의약용으로 적합한 UV 선스크린 조성물로서, 이 조성물의 UV 흡수 손실률이, 상기 다른 원소가 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO 또는 환원된 산화아연을 함유하지 않는 것을 제외하고는 동일한 조성을 갖는 조성물의 UV 흡수 손실률 보다 최소한 5% 적은 UV 선스크린 조성물.

Description

선스크린제{SUNSCREENS}

본 발명은 화장용 및 국소 의약용으로 적합한 UV 차단 조성물에 관한 것이다.

일광에 노출 시 나타나는 효과는 공지되어 있다. 즉, 피부가 UVA 및 UVB 광에 노출되면, 일광화상, 조기 노화 및 피부암 등이 초래될 수 있다.

시중의 선스크린제는 일반적으로 자외선을 반사 및/또는 흡수할 수 있는 성분을 함유한다. 이러한 성분에는 예컨대 산화아연 및 이산화티탄과 같은 무기 산화물 뿐만 아니라 유기 선스크린제도 포함된다.

일반 대중은 보통 피부 발적을 유발하는 일명 일광화상과 같은 일광의 확연한 효과에 많은 관심을 갖고 있지만, 자각 증상이 적은 일광의 기타 다른 효과에는 관심이 적은 편이다. 이에 따른 결과로서, 시중의 선스크린 조성물은 자외선 차단지수(SPF)로 나뉘어진다. 이 지수는 미처리 피부와 비교하여, 조성물 층 아래에서 피부가 발적되는데 소요되는 시간의 척도이다. 즉, SPF 20은 미처리 피부와 비교했을 때, 2mg/㎠의 양으로 도포된 조성물 층 아래에서 피부가 발적되는데 소요되는 시간이 20시간 이상임을 시사한다. 이러한 발적 효과는 UVB 광에 의해 주로 유발되는 것이다. 이에 반해, 장기간 동안 보다 많은 손상을 입힐 수 있는 UVA 광의 효과에 대해서는 알려진 대응 지수가 전혀 없다.

대부분의 유기 선스크린제는 UVA-UVB 스펙트럼의 일부에 해당하는 광을 흡수하여, UVA-UVB 스펙트럼 전범위에 걸쳐 차단 효과를 수득하고자 한다면 일반적으로 여러 유기 선스크린제의 혼합물을 사용해야 할 것이다. 일부 유기 선스크린제와 선스크린 조성물의 일부 다른 성분들은 UV광에 대해 안정적이지만, 그 외 다른 성분들은 감광성이고(이거나) 자외선에 의해 여기된 후 분해되고(되거나) 조성물의 다른 성분의 분해를 유도할 수 있다.

이산화티탄 및 산화아연은 크기가 입사광 파장의 10% 미만인 입자가 레일리 법칙에 따라 광을 산란하고, 이에 따라 산란된 광의 강도가 파장의 4제곱에 역비례하기 때문에 일반적으로 "미크론화" 또는 "극미"(20 내지 50nm)의 입자(소위 마이크로리플렉터라 불린다)로 조성되어진 것이다. 결론적으로, 이들은 보다 긴 가시광 파장 보다는 UVB 광(파장이 280 또는 290 내지 315/320nm 범위인 광) 및 UVA 광(파장이 315/320 내지 400nm 범위인 광)을 보다 많이 산란하고 피부에 보이지 않는 상태로 남아있으면서 일광화상을 방지한다.

하지만, 이산화티탄과 산화아연은 또한 자외선도 유효하게 흡수하여 먼저 전자 정공 쌍의 형성을 통해 슈퍼옥사이드 및 하이드록실 라디칼을 형성시키고, 그 다음 조성물의 다른 성분에 손상을 가할 수 있다. TiO₂의 결정 형태인 아나타제(anatase)와 루타일(rutile)은 약 385nm 및 400nm의 광에 해당하는 약 3.23 및 3.06eV의 밴드 갭 에너지를 각각 보유한 반도체이다(1eV는 8066cm^-1에 해당한다). 사실상 TiO₂는 아보벤존과 같은 UVA 유기 선스크린제를 비롯한 유기 선스크린제의 분해를 촉진시킬 수 있음을 암시하는 증거가 있다. 이에, 코팅을 통해 TiO₂와 ZnO의 역효과를 감소시키는 시도가 이루어졌으나, 코팅이 변함없이 효과적이지는 못했다.

대부분의 선스크린제가 상당히 영속적인 효과(즉, 실질적으로 일정하게 유지되는 SPF 지수)를 갖지 못하는 이유는 주로 유기 선스크린제가 광에 의해 분해되고(되거나) 선스크린 조성물의 다른 성분들이 자외선에 노출되는 즉시 선스크린 조성물의 다른 성분들에 의해 악영향을 받기 때문이다.

현재, 본 발명에 따르면, 조성물에 추가로 다른 원소가 도핑된 산화아연 또는 이산화티탄 및/또는 환원된 산화아연이 제공된다면, 이러한 유기 선스크린제의 분해 및 분해에 민감한 다른 성분의 분해가 지연될 수 있음이 발견되었다. 즉, 바꾸어 말하면, 화장용 조성물 또는 국소 의약 조성물에, 통상의 이산화티탄 또는 산화아연 보다는 상기와 같이 도핑 또는 환원된 물질을 사용하면, 예컨대 동량의 유기 선스크린제에 의한 자외선 차단 효과가 보다 우수한 조성물 또는 보다 적은 양의 유기 선스크린제를 함유하지만 자외선에 대해 동일한 차단 효과를 갖는 조성물이 제공될 수 있을 것이다. 사실상, 도핑 및/또는 환원된 물질의 첨가를 통해 차단효과가 하루 동안 지속되는 선스크린제가 제공될 수 있을 것이다.

따라서, 본 발명은 감광성 및/또는 분해성이며(이거나) 분해가 조성물의 다른 성분에 의해 유도되는 1종 이상의 유기 성분의 상당량 및 1종 이상의 다른 원소, 일반적으로 제2 원소가 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO, 및/또는 환원된 산화아연의 상당량을 함유하는, 화장용 또는 국소 의약용으로 적합한 화장용 UV 선스크린 조성물로서, 이 조성물의 UV 흡수 손실률이, 상기 다른 원소가 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO 또는 환원된 산화아연을 함유하지 않는 것을 제외하고는 동일한 조성을 갖는 조성물의 UV 흡수 손실률 보다 최소한 5% 적은 화장용 UV 선스크린 조성물을 제공한다. 즉, UVA 및/또는 UVB 스펙트럼의 최소한 일부 상에서의 UV 흡수 손실률(UV에 노출된 동안)이 X이고, 감광성이며(이거나) 조성물의 다른 성분에 의해 분해되는 유기 성분의 양이 Y의 UV 흡수 손실률을 갖는다면(여기서 Y는 X 보다 적어도 5% 이상 크다), 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO 및/또는 환원된 산화아연의 양은 상기 손실률을 Y에서 X로 감소시키는 것이다.

또한, 본 발명은 화장용 UV 차단 조성물에 존재하는 1종 이상의 유기 UV 선스크린제 또는 다른 감광 성분 또는 조성물의 다른 성분에 의해 분해되는 성분의 농도를 감소시킬 뿐만 아니라 1종 이상의 유기 UV 선스크린제를 함유하는 선스크린 조성물의 UV 흡수 손실률을 감소시키는데 사용되는 도핑된 TiO₂/ZnO 또는 환원된 산화아연의 용도를 제공한다. 추가로, 본 발명은 감광성 및/또는 분해성이며(이거나) 분해가 조성물의 다른 성분에 의해 유도되는 1종 이상의 성분을 함유하는 유기 선스크린 조성물의 유효성을 증가(안정성을 향상)시키는 방법으로서, 조성물에 도핑된 TiO₂/ZnO 및/또는 환원된 산화아연을 첨가하는 것을 포함하는 방법을 제공한다. 때로, 분해 산물(붕괴 화합물)은 유독하다. 따라서, 본 발명은 또한 도핑된 TiO₂/ZnO 및/또는 환원된 ZnO를 첨가하는 것을 포함하여, UV 선스크린 조성물 중 독성 화합물의 생성을 감소시키는 방법을 제공한다.

"화장용 또는 국소 의약용에 적합한 UV 선스크린 조성물"이란 UV 선스크린 활성을 가진 모든 화장용 또는 국소 의약용 조성물을 의미하는 것으로서, 즉 주요 기능이 일광차단성이 아닐 수 있는 조성물도 포함된다. "국소 의약용"이란 용어는 일부 지역에서 "화장용"이란 용어에 의약 효과를 갖는 조성물이 포함되지 않기 때문에 사용한 것이다. 또한, 도핑된 TiO₂/ZnO 또는 환원된 ZnO가 UV 선스크린 활성을 갖는 조성물의 유일한 성분일 수도 있음은 자명한 것으로서, 즉 조성물은 유기 UV 선스크린제를 반드시 함유할 필요는 없다. 또한, 본 발명의 조성물은 도핑되거나 환원되지 않은 TiO₂ 및/또는 ZnO를 함유할 수도 있는 것으로 이해되어야 한다.

감광성이거나 조성물의 다른 성분에 의해 분해될 수 있는 유기 성분은 일반적으로 UV 선스크린제이다. UV 흡수의 손실을 나타내는 모든 유기 선스크린제가 사용될 수는 있지만, 본 발명은 특히 UVB 영역 뿐만 아니라 UVA 영역에서 흡수성인 선스크린제에 유용하다.

또한, 다른 유기 성분도 유리 라디칼 공격에 민감하여 분해된 성분이 UV 선스크린제의 분해를 유도할 가능성이 있을 수 있다.

전술한 바와 같이, 유기 선스크린제의 UV 흡수는 보통 경시적으로 감소한다. 이에 반해, TiO₂ 또는 ZnO의 UV 흡수는 경시적으로 감소하지 않는다. 유기 선스크린제가 일반적으로 UVA 및 UVB 영역 보다 많은 파장에 특이성이 있는 반면 TiO₂ 및 ZnO는 UVA 및 UVB 두 영역의 광을 흡수하는 바, UVA/UVB 흡수비가 경시적으로 증가될 수 있음을 확인할 수 있다. 동량의 미도핑 TiO₂/ZnO가 사용되는 것 보다 도핑된 TiO₂/ZnO가 사용되는 경우에, 변화율이 감소된다. 이는, 도핑된 물질이 경시적으로 유기 선스크린제의 성능을 향상시킬 수 있기 때문이다. 따라서, UVA 선스크린제인 경우에, UVA 흡수의 경시적 손실이 감소되어 손실률의 변화비가 감소된다(즉, 도핑된 물질이 존재할 때 UVA 반응이 보다 안정적이다). 즉, 초기 흡수비가 X/Y이면, 변화 비는 (X-x)/T(여기서 x는 도핑된 물질이 사용될 때 더 작다)가 되어, 결과적으로 변화율이 보다 적어진다. UVB 선스크린제인 경우에도, 또한 보다 안정된 UVB 반응의 결과로서 변화율이 감소된다.

흡수 손실률은 소정 두께의 도핑 TiO₂ 및/또는 ZnO를 보유하거나 보유하지 않은 조성물 시료에 적당한 파장의 UV 선을 조사하고, 소정의 기간, 일반적으로 60분 동안에 걸친 조성물의 UV 흡수를 측정하여 당해의 파장에 대한 상기 기간 동안에 걸친 플롯을 수득하고 곡선 아래의 면적을 측정하여 이로부터 손실률을 계산함으로써 수득할 수 있다. 분명히, 곡선 아래의 면적이 작으면 작을수록 손실률은 보다 적다. 320 내지 400nm, 특히 340 내지 390nm 범위의 UVA 흡수 파장에 대해 고찰했다.

UV 흡수 손실의 모든 감소가 바람직하지만, 일반적으로, 도핑된 산화물의 존재가 UV 흡수 손실률을 최소한 5%, 바람직하게는 최소한 10%, 보다 바람직하게는 최소한 15%, 특히 최소한 20%, 가장 바람직하게는 최소한 40% 감소시키는 것이 바람직하다.

본 발명의 또 다른 특징인 도핑된 TiO₂/ZnO가 일반적으로 착색된다는 사실이다. 결과적으로, 이와 같이 도핑된 물질의 사용은 조성물에 충돌된 보다 많은 가시광선이 조성물에 흡수되게 하며, 즉 투과되어 피부에 도달되는 가시광선을 줄여준다. 또한, 특정 국가에서는 유색 제제가 유리한 경우가 있다. 일본의 피부 라이트닝(lightening) 조성물에서, 핑크 색은 바탕 피부의 불균일한 채색을 은폐시키는데 유용하다. 인도네시아에서는 황색을 선호하는 색임을 볼 수 있다. 색이 최소화되어야 하는 경우에는, 이하에 논의되는 바와 같이 입자를 코팅하고(하거나) 도핑 농도를 조절하면 수득되어질 수 있다.

호스트 래티스(host lattice) 중의 다른 원소의 최적 양은 통상적인 실험을 통해 결정할 수 있는 것으로서, 일부 구체예에서는, 입자가 착색되지 않을 정도로 충분한 낮은 함량인 것이 바람직하다. 일반적으로, 0.1mol% 이하의 낮은 함량, 예컨대 0.05mol%가 사용되거나, 또는 1mol% 이상의 높은 함량, 예컨대 5mol% 또는 10mol%가 사용될 수 있다. 전형적인 농도는 중량 기준으로 0.5 내지 2.0mol% 범위이다.

산화물 입자용 도핑제(dopant)는 망간, 특히 Mn²⁺, 보다 특히 Mn³⁺, 바나듐, 예컨대 V³⁺ 또는 V⁵⁺, 또는 크롬 및 철이 바람직하지만, 기타 다른 금속, 예컨대 니켈, 구리, 주석, 알루미늄, 납, 은, 지르코늄, 아연, 코발트, 갈륨, 니오븀, 예컨대 Nb⁵⁺, 안티몬, 예컨대 Sb³⁺, 탄탈, 예컨대 Ta⁵⁺, 스트론튬, 칼슘, 마그네슘, 바륨, 몰리브덴, 예컨대 Mo³⁺, Mo⁵⁺ 또는 Mo⁶⁺ 뿐만 아니라 실리콘도 사용할 수 있다. 망간은 Mn³⁺으로, 코발트는 Co²⁺, 주석은 Sn⁴⁺및 Sn²⁺로 제공되는 것이 바람직하다. 이러한 금속은 단독으로 첨가되거나 2종 또는 3종 또는 그 이상의 혼합물로서 첨가될 수 있다. 이러한 도핑된 산화물에 대한 보다 상세한 설명은 WO99/60994 및 WO 01/40114에서 찾아볼 수 있다.

이러한 입자는 도핑된 산화물 및 염을 제조하는 기본 방법 중 어느 한 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 입자는 호스트 래티스(TiO₂/ZnO)의 입자를, 용액이나 현탁액, 전형적으로는 수용액인 염화물과 같은 염 형태 또는 과염소산염 또는 질산염과 같은 산소 함유 음이온 형태의 제2 성분과 배합한 뒤, 이를 일반적으로 적어도 300℃의 온도에서 소성하는 소성법으로 수득할 수 있다. 도핑된 물질을 제조하는데 사용할 수 있는 기타 다른 경로에는, 도핑제 염 용액과 호스트 금속(Ti/Zn)의 알콕시화물 용액을 혼합하고, 이와 같이 혼합된 용액을 그 다음 가열하여 알콕시화물을 산화물로 전환시키는 방식의 침전법(J.Mat.Sci.(1997) 36, 6001-6008에 기술되어 있음)이 포함된다. 가열은 도핑된 물질의 침전물이 수득될 때까지 계속한다. 이 제법의 보다 상세한 내용은 전술한 특허 명세서에서 찾아볼 수 있다.

도핑된 TiO₂ 또는 도핑된 ZnO는 또한 적당한 농도의 혼합 금속 함유 전구체를 화염이나 플라즈마에 노출시켜 목적 산물을 수득하는 화염 열분해 또는 플라즈마 경로를 통해 수득할 수도 있다.

티타니아의 루타일 형태는 아나타제 형태 보다 광안정성이 큰 것으로 공지되어 있고, 이에 따라 보다 바람직하다.

환원된 산화아연 입자(즉, 산소 이온에 비해 과량의 아연 이온을 함유하는 입자)는 산화아연 입자를 환원 대기에서 가열하여, UV선, 특히 390nm 이하 파장의 UV선을 흡수하고 녹색광, 바람직하게는 약 500nm에서 재방사하는 환원된 산화아연 입자를 형성시킴으로써 쉽게 수득할 수 있다. 이와 같이 환원된 산화아연 입자는 이러한 입자가 수성 환경에서 UV선에 노출되었을 때 하이드록실 라디칼의 생성을 전술한 바와 같이 실질적으로 감소시킬 수 있도록 이 입자의 표면으로 전자 및/또는 양하전성 정공의 이동을 계속적으로 최소화하는 환원된 산화아연을 함유하는 것으로 이해되어야 한다.

환원 대기는 산소 함량이 감소되거나 수소 함량이 증가된 공기이지만, 수소와 불활성 기체, 예컨대 질소 또는 아르곤의 혼합물인 것이 바람직하다. 일반적으로, 수소의 농도는 1 내지 20%, 특히 5 내지 15% 범위(부피 기준)이고 나머지가 불활성 기체, 특히 질소인 것이다. 바람직한 환원 대기는 부피 기준으로 수소 약 10%와 질소 약 90%를 함유하는 것이다. 산화아연은 이와 같은 대기에서, 500 내지 1000℃, 일반적으로 750 내지 850℃, 예컨대 약 800℃에서 5 내지 60분, 일반적으로 10 내지 30분 동안 가열한다. 약 800℃에서 약 20분간 가열하는 것이 일반적이다.

환원된 산화아연 입자는 흡수 코어 중에 과량의 Zn²⁺ 이온을 함유하는 것으로 추정된다. 이는 국재성 상태인 것으로서, 밴드 갭 내에 존재할 수 있다. 이에 대한 보다 상세한 설명은 WO 99/60994에서 찾아볼 수 있다.

입자의 평균적인 주 입자 크기는 일반적으로 약 1 내지 200nm 범위, 약 1 내지 150nm 범위이고, 바람직하게는 약 1 내지 100nm, 보다 바람직하게는 약 1 내지 50nm, 가장 바람직하게는 약 20 내지 50nm 범위이다. 이러한 입자 크기는 최종 산물의 착색을 피할 수 있는 것으로 선택되는 것이 바람직하다. 따라서, 나노입자가 흔히 사용된다. 하지만, 일 구체예로서, 약간 큰 입자, 예컨대 100 내지 500nm 범위, 일반적으로 100 내지 400nm 또는 450nm, 특히 150 내지 300nm, 보다 특히 200 내지 250nm 범위의 입자가 사용될 수 있다. 이러한 입자는 지나친 피부 미백 없이 피부 결함 등의 양호한 도포성을 제공한다.

입자가 실질적으로 구형이라면, 입자 크기는 직경을 나타내는 것으로 간주할 수 있다. 하지만, 본 발명은 비구형인 입자도 포함하고 이러한 경우에 입자 크기는 가장 큰 치수를 의미한다.

본 발명에 사용된 산화물 입자는 무기 또는 유기 코팅을 가질 수 있다. 예를 들어, 입자는 알루미늄, 지르코늄 또는 실리콘, 특히 실리카와 같은 원소의 산화물로 코팅될 수 있다. 금속 산화물 입자는 또한 1종 이상의 유기 물질, 예컨대 폴리올, 아민, 알칸올아민, 중합체 유기 실리콘 화합물, 예컨대 RSi[{OSi(Me)₂}xOR¹]₃(여기서 R은 C₁ 내지 C₁₀ 알킬, R¹은 메틸 또는 에틸이며, x는 4 내지 12 사이의 정수이다), 폴리아크릴아마이드, 폴리아크릴산, 카르복시메틸 셀룰로스 및 크산탄검과 같은 친수성 중합체, 또는 TOPO와 같은 계면활성제로 코팅될 수도 있다. 이러한 코팅들은 도핑된 입자가 가질 수 있는 임의의 색을 최소한 내지 어느 정도로 은폐시키는 효과를 나타낼 수 있다.

본 발명의 조성물은 일반적으로 화장용으로 사용되는 것으로서, 예를 들어 립스틱, 링클방지제를 포함하는 크림 등과 같은 형태의 피부 노화방지 조성물, 스크럽, 크림 및 로션을 비롯한 박피제, 페이스 파우더 및 크림 등과 같은 형태의 피부 라이트닝 조성물, 크림 및 로션을 비롯한 핸드제, 모이스춰링제, 콘디셔너, 샴푸 및 헤어 라커 뿐만 아니라 헤어 마스크 및 젤과 같은 모발 보호 조성물, 와이프(wipe), 로션 및 젤을 포함한 피부 클렌징 조성물, 아이쉐도우 및 블러셔, 스킨 토너 및 세럼 뿐만 아니라, 샤워 젤, 바쓰 제품, 예컨대 버블 바쓰, 바쓰 오일 등과 같은 세정제일 수 있으나, 선스크린제인 것이 바람직하다. 이와 관련하여, 지적하고 싶은 것은, 본 명세서에 사용된 "화장용 UV 선스크린 조성물"이란 표현에는 일부 세정제와 같이 피부에 잔류물을 남길 수 있는, 피부에 적용되는 모든 조성물을 포함한다는 점이다. 본 발명의 조성물은 UV선 차단 효과를 제공하는 통상적인 모든 제형물로서 사용될 수 있다. 또한, 본 조성물은 국소용으로 적합한 의학용 조성물일 수도 있다. 이러한 조성물은 특히 다형 광발진을 일으키는 환자와 같이 UV선에 의한 부작용을 일으키는 피부 장애를 앓는 환자에게는 특히 유용하다.

본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 유기 선스크린제에는 UV선에 대한 차단효과를 제공하는 통상적인 모든 선스크린제가 포함되지만, 다른 감광 성분이 존재하지 않는다면 이 선스크린제가 감광성이고(이거나) 조성물의 다른 성분에 의해 분해되어진다. 적당한 선스크린제는 IARC 암 예방 핸드북(IARC Handbook of Cancer Prevention, vol.5 Scunscreens, 국제암연구소(IARC) 발행, Lyon, 2001)에 정리되어 있는데, 그 예에는 다음과 같은 것이 포함된다:

(a) 파라-아미노벤조산(PABA), (UVB 흡수제) 이의 에스테르 및 유도체, 예컨대 아밀디메틸-PABA; 에틸디하이드록시프로필-PABA; 에틸헥실 디메틸-PABA; 에틸-PABA; 글리세릴-PABA; 및 4-비스-(폴리에톡시)-PABA.

(b) 신나메이트(UVB), 특히 메틸 신나메이트 에스테르 및 메톡시신나메이트 에스테르를 포함하는 에스테르류, 예컨대 옥틸메톡시 신나메이트, 에틸메톡시 신나메이트, 특히 2-에틸헥실 파라-메톡시신나메이트, 이소아밀 p-메톡시 신나메이트 또는 이것과 디이소프로필 신나메이트, 2-에톡시에틸-4-메톡시신나메이트, DEA-메톡시신나메이트(파라-메톡시 하이드록시신나메이트의 디에탄올아민 염) 또는 α,β-디-(파라-메톡시신나모일)-α'-(2-에틸헥사노일)-글리세린과의 혼합물, 뿐만 아니라 디이소프로필 메틸신나메이트;

(c) 벤조페논(UVA), 예컨대 2,4-디하이드록시-벤조페논; 2-하이드록시-4-메톡시-벤조페논; 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시-벤조페논; 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-벤조페논; 2,2'-4,4'-테트라하이드록시-벤조페논; 및 2-하이드록시-4-메톡시-4'-메틸-벤조페논, 벤젠설폰산 및 이의 나트륨염; 소듐 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시-5-설포벤조페논 및 옥시벤존;

(d) 디벤조일메탄(UVA), 예컨대 부틸 메톡시디벤조일 메탄, 특히 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄;

(e) 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산 UVB 및 페닐디벤즈이미다졸 설폰산 및 이의 염;

(f) 알킬-β,β-디페닐아크릴레이트(UVB), 예컨대 알킬 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 예컨대 옥토크릴렌;

(g) 트리아진(UVB), 예컨대 2,4,6-트리아닐리노-(p-카르보-2-에틸-헥실-1-옥시)-1,3,5-트리아진 뿐만 아니라 옥틸 트리아존, 예컨대 에틸헥실트리아존 및 디에틸헥실 부타미도 트리아존.

(h) 캄포 유도체(일반적으로 UVB), 예컨대 4-메틸벤질리덴 및 3-벤질리덴-캄포 및 테레프탈릴리덴 디캄포 설폰산(UVA), 벤질리덴 캄포 설폰산, 캄포 벤즈알코늄 메토설페이트 및 폴리아크릴아미도메틸 벤질리덴 캄포;

(i) 유기 안료 선스크린제, 예컨대 메틸렌 비스-벤조트리아졸 테트라메틸 부틸페놀;

(j) 실리콘계 선스크린제, 예컨대 디메티코디에틸 벤잘 말로네이트;

(k) 살리실레이트(UVB), 예컨대 디프로필렌 글리콜 살리실레이트, 에틸렌 글리콜 살리실레이트, 에틸헥실 살리실레이트, 이소프로필벤질 살리실레이트, 메틸 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 3,3,5-트리메틸 살리실레이트 및 TEA 살리실레이트(2-하이드록시벤조산 및 2,2'2"-니트릴로트리스(에탄올)의 화합물);

(l) 안트라닐레이트(UVA), 예컨대 멘틸 안트라닐레이트

뿐만 아니라 비시미다질레이트(UVA), 디알킬 트리올레이트(UVB), 5-메틸-2-페닐벤족사졸(UVB) 및 유로칸산(UVB).

일부 화합물은 UVA 및 UVB 모두에 효과적이다. 그 예에는 안이소트리아진, 메틸렌 비스벤조트리아졸릴 테트라메틸부틸-페놀 및 드로메트리아졸 트리실록산(Mexoryl XL)이 포함된다.

유기 선스크린제는 일반적으로 조성물에, 이 조성물의 중량을 기준으로 0.1 내지 20wt%, 바람직하게는 1 내지 10wt%, 특히 2 내지 5wt%의 농도로 존재한다.

일반적으로 수성인 조성물에서 금속 산화물은 중량 기준으로 약 0.5 내지 20wt%, 바람직하게는 약 1 내지 10wt%, 보다 바람직하게는 약 3 내지 8wt%, 특히 약 4 내지 7wt%, 예컨대 4 내지 6wt%, 특히 약 5wt%의 농도로 존재하는 것이 바람직하다.

조성물은 예컨대 통상적으로 점도가 4000 내지 10,000mPas인 로션, 예컨대 농축 로션, 젤, 소포 분산액, 크림, 일반적으로 점도가 10,000 내지 20,000mPas인 유동 크림, 또는 점도가 20,000 내지 100,000mPas인 크림, 밀크, 파우더, 고체 스틱 형태일 수 있고, 경우에 따라 에어로졸로 포장되고, 포옴 또는 스프레이 형태로 제공될 수도 있다.

본 발명의 조성물은 지방산 물질, 유기 용매, 실리콘, 점증제, 액체 및 고체 연화제, 진통제, 기타 다른 UVA, UVB 또는 광역 선스크린제, 소포제, 산화방지제(예컨대 부틸하이드록시 톨루엔), 완충액(예컨대, 트리에탄올아민 또는 수산화나트륨과 같은 염기를 보유한 락트산), 알로에베라, 옥수수꽃, 조롱나무, 딱총나무꽃 및 오이와 같은 식물 추출물, 활성 증강제, 보습제 및 습윤제, 예컨대 글리세롤, 소르비톨, 2-피롤리돈-5-카르복실레이트, 디부틸프탈레이트, 젤라틴 및 폴리에틸렌 글리콜, 향료, 보존제, 예컨대 파라-하이드록시 벤조에이트 에스테르, 표면활성제, 충진제 및 점증제, 격리제, 음이온, 양이온, 비이온 또는 양쪽성 중합체 또는 이의 혼합물, 추진제, 알칼리화제 또는 산성화제, 통상적인 (미도핑된) TiO₂ 및 ZnO와 함께 철 산화물과 같이 입자 크기가 100nm 내지 20000nm 범위인 금속 산화물 안료를 포함하는 착색제 및 파우더 등을 비롯하여 이와 같은 제형물에 사용되는 모든 성분들을 함유할 수 있다.

화장 조성물의 다른 성분, 예컨대 일부 표면활성제는 UV선의 존재하에 특정 선스크린제를 분해하는 효과를 가질 수 있다. 또한, TiO₂ 및 ZnO는 아보벤존과 같은 특정 유기 선스크린제 뿐만 아니라 비타민(예컨대, 비타민 A, B, C 및 E)과 같은 산화방지제 및 노화방지 인자(예컨대 니아신아미드, 레테노이드, 코엔자임 MEQ₁₀ 등)를 분해하는 것으로 알려져 있다. 따라서, 이러한 선스크린제에는 특히 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO 및/또는 환원된 ZnO를 사용하는 것이 유용하다는 것은 명백히 알 수 있을 것이다. 이는 TiO₂ 및 ZnO가 일반적으로 양(+)의 UV 흡수 효과를 갖기 때문이다. 따라서, 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO 및/또는 환원된 ZnO를 사용하면 보다 소량의 산화방지제를 사용하거나 제제의 지속 수명을 연장시키는 효과를 제공할 수 있다.

유기 용매는 일반적으로 저급 알코올 및 폴리올에서 유래되는 것으로서, 그 예로는 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 글리세린 및 소르비톨 뿐만 아니라 염화메틸렌, 아세톤, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노-에틸, 에테르, 디메틸 설폭사이드, 디메틸 포름아마이드 및 테트라하이드로푸란이 있다.

지방산 물질은 오일 또는 왁스 또는 이의 혼합물, 지방산, 지방산 에스테르, 지방산 알코올, 바셀린, 파라핀, 라놀린, 수소화된 라놀린 또는 아세틸화된 라놀린, 밀랍, 지랍 왁스 및 파라핀 왁스로 구성될 수 있다.

오일은 일반적으로 동물, 식물, 무기 오일 또는 합성 오일에서 유래되는 것으로서, 특히 수소화된 팜유, 수소화된 피마자유, 바셀린 오일, 파라핀 오일, 퍼셀린(Purcellin) 오일, 실리콘유, 예컨대 폴리디메틸 실록산 및 이소파라핀이 있다.

왁스는 일반적으로 동물, 화석, 식물, 무기 또는 합성 왁스이다. 이러한 왁스에는 밀랍, 카나우바, 칸델릴라, 사탕수수 또는 일본 왁스, 지랍, 몬탄 왁스, 미세결정성 왁스, 파라핀 또는 실리콘 왁스 및 수지가 있다.

지방산 에스테르는 예컨대 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 아디페이트, 이소프로필 팔미테이트, 옥틸 팔미테이트, C₁₂ 내지 C₁₅ 지방산 알코올 벤조에이트("FINSOLV TN", FINETEX 제품), 3몰의 산화프로필렌을 함유하는 옥시프로필렌화된 미리스트산 알코올("WITCONOL APM", WITCO 제품), 카프르산 및 카프릴산 트리글리세라이드("MIGLYOL 812", HULS 제품)이다.

또한, 조성물은 추가로 점증제를 함유할 수 있는데, 그 예에는 가교 또는 비가교 아크릴산 중합체, 특히 다가작용기제로 가교된 폴리아크릴산, 예컨대 GOODRICH 社에서 시판하는 상표명 "CARBOPOL" 제품, 셀룰로스, 유도체, 예컨대 메틸셀룰로스, 하이드록시메틸셀룰로스, 하이드록시프로필 메틸셀룰로스, 카르복시메틸 셀룰로스의 나트륨염, 또는 세틸스테아릴 알코올 및 산화에틸렌 33몰을 함유하는 옥시에틸렌화된 세틸스테아릴 알코올의 혼합물이 있다.

바람직하게는, 수분산성 이산화티탄 : 오일분산성 이산화티탄의 중량비는 1:4 내지 4:1 범위, 바람직하게는 1:2 내지 2:1 범위이고, 이상적인 비율은 대략 동량인 것이다.

적당한 연화제에는 스테아릴 알코올, 글리세릴 모노리신올레이트, 밍크오일, 세틸 알코올, 이소프로필 이소스테아레이트, 스테아르산, 이소부틸 팔미테이트, 이소세틸 스테아레이트, 올레일 알코올, 이소프로필 라우레이트, 헥실 라우레이트, 데실 올레이트, 옥타데칸-2-올, 이소세틸 알코올, 에이코사닐 알코올 베헤닐 알코올, 세틸 팔미테이트, 실리콘 오일, 예컨대 디메틸폴리실록산, 디-n-부틸 세바세이트, 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, 이소프로필 스테아레이트, 부틸 스테아레이트, 폴리에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 라놀린, 코코아 버터, 옥수수유, 면실유, 올리브유, 팜핵유, 평지씨유, 홍화씨유, 달맞이꽃, 대두유, 해바라기씨유, 아보카도유, 참깨유, 코코넛유, 아라키스유, 캐스터유, 아세틸화된 라놀린 알코올, 페트롤륨 젤리, 광유, 부틸 미리스테이트, 이소스테아르산, 팔미트산, 이소프로필 리놀레이트, 라우릴 락테이트, 미리스틸 락테이트, 데실 올레이트, 미리스틸 미리스테이트가 있다.

적당한 추진제에는 프로판, 부탄, 이소부탄, 디메틸 에테르, 이산화탄소, 산화질소가 있다.

적당한 파우더에는 초크, 탈크, 백토, 카올린, 전분, 검, 콜로이드성 실리카 소듐 폴리아크릴레이트, 테트라알킬 및/또는 트리알킬 아릴 암모늄 스멕타이트, 화학변형된 마그네슘 알루미늄 실리케이트, 유기적으로 변형된 몬트모릴로나이트 클레이, 수화된 알루미늄 실리케이트, 발연 실리카, 카르복시비닐 중합체, 소듐 카르복시메틸 셀룰로스, 에틸렌 글리콜 모노스테아레이트가 있다.

본 발명의 조성물이 선스크린제인 경우에, 이 선스크린제는 예컨대 용매 또는 지방산 물질 중의 현탁액 또는 분산액이거나 또는 크림이나 밀크와 같은 에멀젼 형태, 연고, 젤, 고체 스틱 또는 에어로졸 포옴 형태일 수 있다. 수중유 또는 유중수 에멀젼일 수 있는 에멀젼은 추가로 음이온, 비이온, 양이온 또는 양쪽성 표면활성제를 포함하는 유화제를 함유할 수 있으며; 유중수 에멀젼인 경우에 HLB는 통상적으노 1 내지 6인 반면, 수중유 에멀젼인 경우에는 보다 큰 값, 즉 >6이 바람직하다. 일반적으로, 물은 부피 기준으로 최고 80%, 전형적으로 5 내지 80% 범위인 것이다. 사용할 수 있는 구체적인 유화제에는 소르비탄 트리올레이트, 소르비탄 트리스테아레이트, 글리세롤 모노올레이트, 글리세롤 모노스테아레이트, 글리세롤 모노라우레이트, 소르비탄 세스퀴올레이트, 소르비탄 모노올레이트, 소르비탄 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 (2) 스테아릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 소르비톨 밀랍 유도체, 폴리옥시에틸렌 (2) 스테아릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 소르비톨 밀랍 유도체, PEG 200 디라우레이트, 소르비탄 모노팔미메이트, 폴리옥시에틸렌 (3.5) 노닐 페놀, PEG200 모노스테아레이트, 소르비탄 모노스테아레이트, 소르비탄 모노라우레이트, PEG 400 디올레이트, 폴리옥시에틸렌 (5) 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 (4) 소르비탄 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 (4) 라우릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 (5) 소르비탄 모노올레이트, PEG300 모노올레이트, 폴리옥시에틸렌 (20) 소르비탄 트리스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 (20) 소르비탄 트리올레이트, 폴리옥시에틸렌 (8) 모노스테아레이트, PEG 400 모노올레이트, PEG 400 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 (10) 모노올레이트, 폴리옥시에틸렌 (10) 스테아릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 (10) 세틸 에테르, 폴리옥시에틸렌 (9.3) 옥틸 페놀, 폴리옥시에틸렌 (4) 소르비탄 모노라우레이트, PEG 600 모노올레이트, PEG 1000 디라우레이트, 폴리옥시에틸렌 소르비톨 라놀린 유도체, 폴리옥시에틸렌 (12) 라우릴 에테르, PEG 1500 디올레이트, 폴리옥시에틸렌 (14) 라우레이트, 폴리옥시에틸렌 (20) 소르비탄 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌(20) 소르비탄 모노올레이트, 폴리옥시에틸렌(20) 스테아릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 (20) 소르비탄 모노팔미테이트, 폴리옥시에틸렌 (20) 세틸 에테르, 폴리옥시에틸렌 (25) 옥시프로필렌 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 (20) 소르비톨 모노라우레이트, 폴리옥시에틸렌 (23) 라우릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 (50) 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 (23) 라우릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 (50) 모노스테아레이트, 및 PEG 4000 모노스테아레이트가 있다. 또는, 유화제는 실리콘 계면활성제, 구체적으로 보통 분자량이 10,000 내지 50,000인 폴리옥시에틸렌 및/또는 폴리옥시프로필렌 측쇄를 보유한 디메틸 폴리실록산, 특히 사이클로메티콘 및 디메티콘 코폴리올일 수 있다. 또한, 선스크린제는 공지의 방법에 따라 제조된 이온 또는 비이온 양친매성 지질의 소포 분산액 형태로 제공될 수도 있다.

또한, 수분산성 및 오일분산성인 이산화티탄 또는 산화아연을 모두 사용하고 이 중 적어도 하나는 도핑되거나 또는 산화아연인 경우에는 환원된 것이 유리할 수 있다. 에멀젼이 피부에 분산될 때 에멀젼이 지성 구역과 비지성 구역으로 나뉘는 경향이 있음이 관찰되었다. 물이 증발되면 오일분산성 입자는 지성 구역에 있으려는 경향이 있어서 차단되지 않은 영역이 방치되게 된다. 이것은 에멀젼에 친수성과 소수성 입자를 제공하여 일부는 친수성 구역에 남아있고 다른 일부는 소수성 구역에 남게 하여 해결할 수 있다.

수분산성 입자는 입자에 표면 친수성을 부여하는 물질로 코팅되거나 코팅되지 않을 수 있다. 이러한 물질의 예에는 산화알루미늄 및 규산알루미늄이 있다. 표면 소수성을 나타내는 오일분산성 입자는 알루미늄 스테아레이트, 알루미늄 라우레이트 또는 아연 스테아레이트와 같은 금속 비누 또는 유기실리콘 화합물로 코팅되는 것이 적당하다.

다음 실시예는 본 발명을 보다 상세히 설명하기 위한 것이다.

실시예 1

선스크린 제제의 분해는 다음과 같이 평가했다:

방법:

샘플 제조

10mm x 25mm 및 12.5미크론 두께의 폴리텐 두 스트립을 절단한다.

폴리텐 스트립을 20mm 간격을 두고 석영 슬라이드의 중심에 놓는다.

이 슬라이드의 중심에 약 30ml의 선스크린 제제 1방울을 떨어뜨린다.

이 샘플 위에 제2 석영 슬라이드를 조심스럽게 놓고 슬라이드들을 폴리텐 스트립에서 함께 압착시켜 12.5㎛ 두께의 표본을 제공한다. 기포가 형성되지 않도록 주의한다.

일루미네이션

일루미네이션을 수행하기 위해 Schott WG320 필터가 장착된 크세논(Xenon) 램프를 사용한다.

290 내지 400nm 사이에서 검정된 분광복사계를 사용하여 출력광의 기본 값을 측정한다.

블랭크로 사용한 물 시료를 통과하는 광 강도(290 내지 400nm)를 측정한다(Iq). 290 내지 400nm 범위 상에서의 강도는 한여름에 중간 위도에서 관찰되는 강도에 해당하는 것이다.

그 다음, 초기(시간 0)(즉, 광 아래에 놓자마자)에 시료를 통과하는 광 강도(290 내지 400nm)를 측정하고(It), 그 다음 1시간 동안 10분마다 측정한다.

실험 종료시 다시 출력 광의 기본값을 측정하여 광원이 안정된 상태를 유지하도록 한다.

계산

각 파장에서의 선스크린 피막의 투과도(K)를 다음과 같이 계산한다:

K = It/Iq

이 식은 각 시점에서의 파장 대 투과도를 플롯팅하는데 사용할 수 있는 것으로서, 일루미네이션 동안 각 선스크린제의 투과도 증가율을 보여준다.

각 파장에서 선스크린제의 광흡수 손실률(D)은 T=t에서 남아있는, T=0에서의 선스크린제의 흡수율의 비로서 계산한다:

D = K0/Kt

이것은 파장 대 광흡수 손실율을 플롯팅하는데 사용할 수 있다. 이 플롯은 여러 선스크린제를 서로 비교하는데 사용될 수 있다.

또한, 각 시점에서 이 곡선 아래의 면적을 계산하면 총 UVA 흡수 변화율을 계산할 수도 있다.

제제

시판 선스크린제 지수 5 및 지수 10. 이 선스크린제들은 다음과 같은 성분을 함유한다.

이탤릭체의 성분은 활성 선스크린제이다.

이 제제에 다양한 농도의 도핑 및 미도핑 TiO₂ 및 ZnO를 첨가하여 변형 제제를 만들고 미변형 제제와 비교했다.

시판 지수 5

물(Aqua)

C12 내지 15 알킬 벤조에이트

글리세린

부틸렌 글리콜 디카프릴레이트/카프레이트

세테아레쓰-20

글리세릴 스테아레이트

에틸헥실 트리아존

부틸 메톡시디벤조일메탄

디소듐 페닐 디벤즈이미다졸 테트라설포네이트

PVP/헥사데칸 공중합체

토코페닐아세테이트

세틸 팔미테이트

세테아릴 알코올

세테아레쓰-12

페녹시에탄올

메틸파라벤

에틸헥실글리세린

트리소듐 EDTA

구연산나트륨

구연산

PEG-4 라우레이트

PEG-4 디라우레이트

PEG-4

요오도프로피닐 부틸카르바메이트

향료

시판 지수 10

물

에틸 헥실 메톡시 신나메이트

글리세린

세테아레쓰-20

부틸렌 글리콜 디카프릴레이트/디카프레이트

C12-15 알킬 벤조에이트

글리세롤 스테아레이트

에틸헥실 트리아존

부틸 메톡시디벤조일메탄

페녹시에탄올

세틸 팔미테이트

세테아릴알코올

세테아레쓰-12

PVP/헥사데칸 공중합체

페닐/벤즈이미다졸 설포네이트

토코페닐 아세테이트

메틸 파라벤

에틸헥실글리세린

트리소듐 EDTA

PEG-4 라우레이트

PEG-4 디라우레이트

PEG-4

요오도프로피닐 부틸카르바메이트

BHT

향료

결과는 첨부된 도면에 제시하였다:

도 1는 1% 바나듐 또는 망간이 도핑되거나 도핑되지 않은 이산화티탄을 첨가한 지수 10의 선스크린 제제가 나타내는 UVA 흡수의 경시적 효과를 도시한 것이다.

도 2는 여러 제제의 평균 손실률을 제시한 것이다.

도 3은 시간 = 0 에서부터 최고 t = 60에 이르기까지 UVA 영역에서의 시판 지수 10 제제의 흡수 손실률을 도시한 것이다.

도 4는 도핑 또는 미도핑된 이산화티탄을 첨가한 지수 5 제제의 분해 특성을 도시한 것이다.

도 5는 1% 망간이나 철이 도핑되거나 도핑되지 않은 산화아연을 첨가한 시판 지수 10 제제가 나타내는 남아있는 차단율의 비를 도시한 것이다.

도 6은 망간이나 철이 도핑되거나 도핑되지 않은 산화아연을 첨가한 시판 지수 10 제제가 나타내는 UVA 흡수의 평균 변화율을 도시한 것이다.

도 7은 망간이 도핑되거나 코팅된 TiO₂를 첨가한 동일 조성물이 나타내는 UVA 흡수의 평균 변화율을 도시한 것이다.

도 8은 2가지 시판 조성물의 흡수율과 본 발명의 흡수율을 파장의 함수로 비교한 것이다.

도면을 통해 알 수 있듯이, TiO₂ 및 ZnO의 첨가는 분해율을 감소시키는데, 이는 부분적으로 산란 및 추가 흡수 때문이다. 망간 및 바나듐이 도핑된 TiO₂ 또는 ZnO는 특히 UV 차단의 손실률 감소에 있어서 상당히 큰 효과를 나타낸다. 시판 지수 10은 유사한 물리적 성질의 일반 ZnO 또는 환원된 ZnO를 5%로 첨가하여 변형시키고 비교했다. 이 물질에도 전술한 바와 같이 광조사했다. UVA 흡수는 총 60분동안 시간의 함수로서 기록했다. 환원된 산화아연 또는 일반 산화아연을 함유하는 각 제제는 시간 0에서 약 2%의 투과도를 나타냈다. 하지만, UV 선 노출의 함수로서 UVA 흡수 손실률에서는, 일반 산화아연이 약 12%의 손실률을 나타내고 환원된 산화아연이 약 8%의 손실률을 나타내는 바, 환원된 산화아연이 감소된 UVA 흡수 손실률을 나타냈다.

실시예 2

첨가되는 TiO₂의 성질만이 상이한 제제를 만들어 비교하고, 그 흡광도를 측정했다.

스탠리 블랙(www.sblack.com Fomular Reference 1629)의 절차를 기초로 하여 선스크린 제제를 제조했다.

A 상

	w/w%
물	80.35
프로필렌 글리콜	2.00
메틸파라벤	0.15
알로에베라 젤 x 1	0.10

B 상

Lexemul 561(글리세릴 스테아레이트, PEG-100 스테아레이트)	5.00
Lexemul GDL(글리세릴 디라우레이트)	1.50
스테아릴 알코올 NF	0.30
Lexol IPM(이소프로필 미리스테이트)	1.00
Lexol EHP(옥틸 팔미테이트)	2.00
Dow Corning 200 Fluid 200cs(디메티콘)	0.50
프로필파라벤	0.10
Parsol 1789(BMDM)	2.00
이산화티탄	5.00

이를 다음과 같이 제조했다:

A 상을 75℃로 가열한다.

B 상을 75℃로 가열한다.

A 상을 강력히 교반 중인 B 상에 첨가한다.

교반하에 실온으로 냉각시킨다.

TiO₂는 다음과 같은 것이다:

A. 약 1mol% 농도의 망간을 도핑한 TiO₂; 주 입자 크기 20 내지 30nm; 결정형 99% 루타일; 코팅 안됨.

B. Uvinul(BASF 제품)

주 입자 크기 - 약 21nm

결정형 - 75% 아나타제/25% 루타일

코팅 - 트리메틸카프릴릴실란 5%

C. MT100AQ(Tayca Corp 제품)

주 입자 크기 -15nm

결정형 - 약 100% 루타일

코팅 - 알루미나/실리카/알긴산 최고 30%

수득되는 결과는 상기 3 조성물의 다른 파장에서의 흡광도를 제시한 도 8에 나타내었다. 주목할만한 점은, 도핑된 TiO₂가 약 360nm, 즉 UVA 영역에서 2가지 시판 미도핑 물질과 비교했을 때 흡광도의 유의적 증가를 제공한다는 점이다. 결론적으로, 이와 같이 도핑된 TiO₂를 사용하면 제제 중에 유기 또는 무기성인 UVA 선스크린제의 농도를 감소시킬 수 있고(있거나) UVA 조사에 대한 제제의 유효성을 증가시킬 수 있을 것이다.

Claims

감광성 및/또는 분해성이며(이거나) 분해가 조성물의 다른 성분에 의해 유도되는 1종 이상의 유기 성분의 상당량 및 1종 이상의 다른 원소, 일반적으로 제2 원소가 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO, 및/또는 환원된 산화아연의 상당량을 함유하는, 화장용 또는 국소 의약용으로 적합한 UV 선스크린 조성물로서, 이 조성물의 UV 흡수 손실률이, 상기 다른 원소가 도핑된 TiO₂ 및/또는 ZnO 또는 환원된 산화아연을 함유하지 않는 것을 제외하고는 동일한 조성을 갖는 조성물의 UV 흡수 손실률 보다 최소한 5% 적은, UV 선스크린 조성물.
제1항에 있어서, 화장용으로 적합한 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 도핑 또는 환원되지 않은 TiO₂ 및/또는 ZnO를 함유하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 도핑제가 망간, 바나듐, 크롬 또는 철인 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제4항에 있어서, 도핑제가 Mn³⁺인 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 도핑제가 0.05% 내지 10mol% 범위의 양으로 존재하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제6항에 있어서, 도핑제가 중량 기준으로 0.5 내지 2mol% 범위의 양으로 존재하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 도핑된 이산화티탄을 함유하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 이산화티탄이 루타일 형태인 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 환원된 산화아연을 함유하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 도핑된 TiO₂ 또는 ZnO 또는 환원된 ZnO를 중량 기준으로 0.5 내지 20mol% 함유하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 도핑 또는 환원된 산화물이 1 내지 200nm 범위의 입자 크기를 갖는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 도핑 또는 환원된 산화물이 100 내지 500nm 범위의 입자 크기를 갖는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 1종 이상의 유기 성분이 UV 선스크린제인 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제14항에 있어서, 유기 선스크린제가 UVA 영역의 UV선을 흡수하는 것인, UV 선스크린 조성물.
제14항 또는 제15항에 있어서, 유기 선스크린제가 파라아미노벤조산, 이의 에스테르 또는 유도체, 메톡시 신나메이트 에스테르, 벤조페논, 디벤질로메탄, 알킬-β,β-페닐 아크릴레이트, 트리아진, 캄포 유도체, 유기 안료, 실리콘계 선스크린제 또는 2-페닐벤즈이미다조일-5 설폰산 또는 페닐디벤즈이미다조일 설폰산인 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, UV 흡수 손실률이 UVA 흡수 손실률인 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, UVA 흡수 손실률 대 UVB 흡수 손실률 비의 변화율이, 존재하는 TiO₂ 및/또는 ZnO가 도핑되지 않은 것을 제외하고는 동일한 조성을 갖는 조성물의 변화율 보다 적은 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제17항에 있어서, 비의 변화율이 UVA 흡수 손실률의 감소로 인해 커지는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 0.1 내지 20중량%의 유기 선스크린제를 함유하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 지방산 물질, 유기 용매, 실리콘, 점증제, 진통제, UVB 선스크린제, 소포제, 모이스춰링제, 향료, 보존제, 표면활성화 충진제, 격리제, 비이온, 양이온, 음이온 또는 양쪽성 중합체, 추진제, 알칼리화제 또는 산성화제, 착색제 또는 금속산화물 안료 중 1종 이상을 함유하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 선스크린제인 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 로션, 젤, 분산액, 크림, 밀크, 파우더 또는 고체 스틱 형태인 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제22항 또는 제23항에 있어서, 수분산성 및 오일분산성 TiO₂ 및/또는 ZnO를 함유하는 것이 특징인 UV 선스크린 조성물.
제1항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, TiO₂ 및/또는 ZnO가 무기 또는 유기 용매로 코팅된 것인, UV 선스크린 조성물.
제1항에 있어서, 실질적으로 전술한 바와 같은, UV 선스크린 조성물.
1종 이상의 유기 UV 선스크린제의 농도 또는 감광성 및/또는 분해성이고(이거나) 화장용 UV 선스크린 조성물의 또 다른 성분에 의해 분해가 유도되는 다른 성분의 농도를 감소시키는데 사용되는, 제1항 및 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 도핑 또는 환원된 TiO₂/ZnO의 용도.
선스크린 조성물의 UV 흡수 손실률을 감소시키는데 사용되는, 제1항 및 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 도핑 또는 환원된 TiO₂/ZnO의 용도.
감광성이며(이거나) 조성물의 다른 성분에 의해 분해되는 1종 이상의 유기 성분을 함유하는 화장용 UV 선스크린 조성물의 UVA 흡수 손실률 대 UVB 흡수 손실률 비의 변화율을, 존재하는 TiO₂ 및/또는 ZnO가 도핑 또는 환원되지 않은 것을 제외하고는 동일한 조성을 갖는 조성물에 비해 감소시키는데 사용되는, 제1항 및 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재한 도핑 또는 환원된 TiO₂/ZnO의 용도.
제1항 및 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재한 바와 같은 도핑 또는 환원된 TiO₂/ZnO를 조성물에 첨가하는 것을 포함하는, 감광성 및/또는 분해성이고(이거나) 분해가 조성물의 다른 성분에 의해 유도되는 1종 이상의 성분을 함유하는 유기 UV 선스크린 조성물의 유효성을 증가시키는 방법.
제1항 및 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재한 바와 같은 도핑된 TiO₂ 및/또는 도핑 또는 환원된 ZnO를 첨가하는 것을 포함하는, UV 선스크린 조성물 중의 독성 화합물의 생성을 감소시키는 방법.