KR20090113816A - 광안정성 화장용 조성물 - Google Patents

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프라순 반디오파디야이
가우라브 쿠마르
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유니레버 엔.브이.
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Abstract

본 발명은 선스크린을 포함하는 광안정성 화장용 조성물, 보다 특히 디벤조일메탄 선스크린을 포함하는 화장용 조성물을 제공한다. 디벤조일메탄 및 이의 유도체는 자외선에 대해 상대적으로 민감성이고, 그들은 일광 작용 하에 빠르게 분해된다는 것이 공지되어 있다. 이러한 분해는 UV-B 선스크린, 특히 p-메톡시신남산 및 이의 유도체의 존재하에 가속화된다. 놀랍게도, 본 발명자들은 디벤조일메탄 또는 이의 유도체 및 p-메톡시신남산 또는 이의 유도체를 포함하는 화장용 조성물이 지방 알콜 에톡실레이트 및 폴리알킬렌글리콜의 조합물을 도입함으로써 안정화될 수 있다는 것을 발견하였다.
광안정성 화장용 조성물, 디벤조일메탄, p-메톡시신남산, 지방 알콜 에톡실레이트, 폴리알킬렌글리콜, 선스크린

Description

광안정성 화장용 조성물 {PHOTOSTABLE COSMETIC COMPOSITIONS}
본 발명은 선스크린을 포함하는 광안정성 화장용 조성물, 보다 특히 디벤조일메탄 선스크린을 포함하는 화장용 조성물에 관한 것이다.
일반적으로, 320 내지 400 nm의 파장을 갖는 UV-A 선은 피부의 태닝(tanning), 국소 자극, 일광 화상 및 흑색종을 유발한다고 공지되어 있다. 또한, 280 nm 내지 320 nm의 파장을 갖는 UV-B 방사선도 다양한 여타 단기 및 장기 손상, 예컨대 피부의 광노화, 건조, 깊은 주름 형성, 반상 색소침착, 및 탄력 조직 및 콜라겐의 파괴를 유발하는 것 이외에도, 인간 표피의 태닝을 촉진한다고 공지되어 있다. 이에 따라, 자외선의 유해한 효과로부터 피부를 보호하는 것이 바람직하다.
다양한 화장용 제제가 자외선의 유해한 효과로부터 피부를 예방하고/거나 보호한다고 보고되어 왔다. 유해한 UV-A 선을 흡수할 수 있는 수많은 유기 선스크린 제제 또한 화장품 분야에서 보고되었고, 그 중에서 특히 유익한 유기 선스크린 제제는 디벤조일메탄 및 이의 유도체이다. 이는 상기 물질이 높은 고유 흡수력을 나타내기 때문이다. 한편, p-메톡시신남산 및 이의 유도체 또한 매우 효과적인 UV-B 선스크린으로서 광범위하게 사용된다. 화장용 조성물은 전체 범위의 UV 방사선에 걸친 보호를 제공하기 위해 UV-A 및 UV-B 선스크린 모두를 함유하는 것이 필수적이다.
디벤조일메탄 및 이의 유도체는 자외선에 대해 상대적으로 민감성이고 그들은 일광 작용 하에 빠르게 분해되는 것으로 공지되어 있다. 이러한 분해는 UV-B 선스크린, 특히 p-메톡시신남산 및 이의 유도체의 존재하에 가속화된다. UV-B 선스크린, 특히 p-메톡시신남산 및 이의 유도체의 존재하에서의 디벤조일메탄 및 이의 유도체의 광화학적 불안정성 때문에, 누구에게도 일광에의 장시간 노출 동안에 일정한 보호를 보장할 수 없다. 이에 따라, 이는 UV 선에 대한 효과적인 보호를 유지하기 위해 사용자에 의해 정기적이고 잦은 간격으로 반복 적용을 필요로 한다.
한편, 화장용 선스크린 조성물에 의해 제공되는 보호는 소정의 기간에 걸쳐, 그리고 통상적으로 적용으로부터 1시간까지 감소하여, 보호가 거의 미미한 것으로 또한 공지되어 있다. 이에 따라, 디벤조일메탄 및 이의 유도체의 안정화는 사용자가 그 효능의 완전한 이점을 달성하고 그가 빈번한 적용에 의지할 필요가 없도록 하는 점에서 중요하다.
다양한 방법들이 안정화제, 예컨대 증점 공중합체, 양친매성(amphiphilic) 공중합체 및 마이크로화된 불용성 유기 UV 선스크린 제제의 사용을 포함하는, 화장용 제형에서의 디벤조일메탄 및 이의 유도체의 안정화에 대해 보고되어 왔다.
대안적 접근법으로, US 5 985 251 (로슈 비타민즈(Roche Vitamins), 1999)에는 디벤조일메탄 유도체 및 p-메톡시신남산 유도체를 포함하는 조성물이 0.5 내지 12 중량％의 3,3-디페닐아크릴레이트 유도체 또는 벤질리덴 캠퍼(camphor) 유도체를 도입함으로써 안정화되는 광 스크리닝 화장품이 기재되어 있다. 제형이, UV-A 선스크린을 안정화시키기 위해, 그의 주요 역할인 보호를 제공하지 않고서 UV-A 선스크린을 안정화하는데 대부분이 이용되는 디페닐아크릴레이트 부류의 추가적인 UV-B 선스크린을 필수적으로 함유하여야 한다는 것을 쉽게 알 수 있다. 추가적인 선스크린의 도입은 또한 제형의 비용을 부가시킬 것이다.
이에 따라, 특히 p-메톡시신남산 또는 이의 유도체의 존재하에 안정화되는 디벤조일메탄 또는 이의 유도체를 포함하며, 특수 중합체 및/또는 추가적인 선스크린 안정화제는 본질적으로 요구되지는 않는 화장용 조성물에 대한 요구가 존재한다. 화장품에 통상적으로 사용되는 성분들로 안정화되고, 이에 의해 제형의 복잡도를 감소시켜 실질적으로 비용을 감소시키는 화장용 조성물을 갖는 것이 매우 바람직하다. 놀랍게도, 본 발명자들은 디벤조일메탄 또는 이의 유도체 및 p-메톡시신남산 또는 이의 유도체를 포함하는 화장용 조성물이 지방 알콜 에톡실레이트 및 폴리알킬렌글리콜의 조합물을 도입함으로써 안정화될 수 있다는 것을 발견하였다.
따라서, 본 발명의 목적은 적어도 종래 기술의 일부 결점들을 제거하며 선스크린을 갖는 광안정성 화장용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 디벤조일메탄 선스크린을 포함하는 광안정성 조성물을 제공하는 것이고, 여기서 안정화는 통상적으로 사용된 성분들을 사용함으로써 도달된다.
<본 발명의 개요>
한 측면에 따라, 본 발명은
0.1 중량％ 내지 10 중량％의 디벤조일메탄 또는 이의 유도체; 및
0.1 중량％ 내지 10 중량％의 p-메톡시신남산 또는 이의 유도체를 포함하며,
0.5 중량％ 내지 8 중량％의 C8-C18 지방 알콜 에톡실레이트 및 0.5 중량％ 내지 8 중량％의 폴리알킬렌글리콜을 포함하는 광안정성 화장용 조성물에 관한 것이다.
디벤조일메탄 또는 이의 유도체는, 바람직하게는 조성물의 0.1 중량％ 내지 5 중량％로, 보다 바람직하게는 조성물의 0.1 중량％ 내지 2 중량％로 존재한다.
또한, p-메톡시신남산 또는 이의 유도체는 바람직하게는 조성물의 0.1 중량％ 내지 5 중량％로, 보다 바람직하게는 조성물의 0.1 중량％ 내지 2 중량％로 존재한다.
가장 바람직한 측면에 따라, 디벤조일메탄 유도체는 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄이고, p-메톡시신남산 유도체는 2-에틸-헥실-p-메톡시신나메이트이다.
지방 알콜 에톡실레이트는 조성물의 0.5 중량％ 내지 4 중량％로 존재하는 것이 바람직하다.
폴리알킬렌글리콜은 0.5 내지 4 중량％로 존재하는 것이 바람직하다.
폴리에틸렌글리콜의 분자량은 200 내지 100000 돌턴이 바람직하고, 200 내지 10000 돌턴이 보다 바람직하다.
본원에 사용된 용어 "화장용 조성물"은 리브-온(leave-on) 및 워시-오프(wash-off) 제품을 비롯한 인간 피부에의 국소 적용을 위한 조성물을 기재하고자 한다. 본원에 사용된 용어 "피부"는 안면, 목, 가슴, 등, 팔, 손, 발 및 두피 상의 피부를 포함한다.
불확실성을 피하기 위해, 단어 "포함하는(comprising)"은 필수적으로 "이루어진" 또는 "구성된"의 의미가 아닌, "포함하는(including)"의 의미를 갖도록 의도된다. 바꿔 말하면, 수록된 선택사항들은 그게 전부일 필요는 없다.
본 발명의 여타 특성, 측면 및 이점들 및 본 발명의 필수적이고 바람직하며 선택적인 특징들은 이어질 발명의 상세한 설명에서 나타날 것이다.
바람직한 디벤조일메탄 유도체는 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸디벤조일메탄, 4-메틸디벤조일에탄, 4-이소프로필디벤조일메탄, 4-tert-부틸디벤조일메탄, 2,4-디메틸디벤조일메탄, 2,5-디메틸디벤조일메탄, 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄, 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸-5-tert-부틸-4'-메톡시-디벤조일메탄, 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄 또는 2,6-디메틸-4-tert-부틸-4'-메톡시-디벤조일메탄으로부터 선택된다. 가장 바람직한 디벤조일메탄 유도체는 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄이다.
바람직한 p-메톡시신남산 유도체는 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트, 암모늄-p-메톡시신나메이트, 나트륨-p-메톡시신나메이트, 칼륨-p-메톡시신나메이트, 또는 p-메톡시신남산의 1급, 2급 또는 3급 아민 염으로부터 선택되고, 보다 바람직하게는 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트이다.
지방 알콜 에톡실레이트 (에톡실화된 지방 알콜로도 공지됨)는 하기 화학식을 갖는다:
R-O-(CH2-CH2-O)n H
식 중, R은 10 내지 24개의 탄소 원자를 갖는 포화되거나 불포화된, 직쇄형 또는 분지쇄형 탄화수소-기재 쇄이고, n은 8 내지 50의 정수이다.
지방 알콜 에톡실레이트는 1급 알콜 상의 에틸렌 옥시드의 부가 생성물이다. 에톡실레이트는 공지된 방법에 의해 제조되고, 기본적으로 혼합물이다. 그의 제조에 따라, 그들은 통상적으로 넓은 동족체 분포 또는 좁은 동족체 분포를 가질 수 있다. 에톡실화도 (EO: 부가된 에틸렌 옥시드 단위의 수)는 가우스(Gauss) 분포를 나타내고, 가우스 곡선의 최대값은 본원에서 평균 에톡실화도 "n"으로 지칭된다.
바람직한 것들은, 카프로산 알콜, 카프릴산 알콜, 2-에틸헥실 알콜, 카프르산 알콜, 라우릴 알콜, 이소트리데실 알콜, 미리스틸 알콜, 세틸 알콜, 팔미트올레일 알콜, 스테아릴 알콜, 이소스테아릴 알콜, 올레일 알콜, 엘라이딜 알콜, 페트로셀리닐 알콜, 리놀릴 알콜, 리놀레닐 알콜, 엘라에오스테아릴 알콜, 아라킬 알콜, 가드올레일 알콜, 베헤닐 알콜, 에루실 알콜 및 브라시딜 알콜, 및 이들의 기술적 혼합물 상의 에틸렌 옥시드의 부가 생성물이다. 에톡실화된 지방 알콜의 대표적인 예는, 라우릴 알콜과 에틸렌 옥시드의 부가 생성물, 특히 9 내지 50개의 옥시에틸렌화된 기들을 함유하는 것 (CTFA 명칭 라우레트-9 내지 라우레트-50을 가짐); 베헤닐 알콜과 에틸렌 옥시드의 부가 생성물, 특히 9 내지 50개의 옥시에틸렌화된 기들을 함유하는 것 (CTFA 명칭 베헤네트-9 내지 베헤네트-50을 가짐); 세테아릴 알콜 (세틸 알콜의 혼합물 및 스테아릴 알콜의 혼합물)과 에틸렌 옥시드의 부가 생성물, 특히 9 내지 30개의 옥시에틸렌화된 기들을 함유하는 것 (CTFA 명칭 세테아레트-9 내지 세테아레트-30을 가짐); 세틸 알콜과 에틸렌 옥시드의 부가 생성물, 특히 9 내지 30개의 옥시에틸렌화된 기들을 함유하는 것 (CTFA 명칭 세테트-9 내지 세테트-30을 가짐); 스테아릴 알콜과 에틸렌 옥시드의 부가 생성물, 특히 9 내지 30개의 옥시에틸렌화된 기들을 함유하는 것 (CTFA 명칭 스테아레트-9 내지 스테아레트-30을 가짐); 이소스테아릴 알콜과 에틸렌 옥시드의 부가 생성물, 특히 9 내지 50개의 옥시에틸렌화된 기들을 함유하는 것 (CTFA 명칭 이소스테아레트-9 내지 이소스테아레트-50을 가짐); 및 이들의 혼합물이다.
보다 바람직한 알콜 에톡실레이트는, 매우 바람직한 측면인 8 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 지방 알콜 상의 에틸렌 옥시드의 부가 생성물, 즉 C8-C18 지방 알콜 에톡실레이트이고; 이것은 12개의 탄소 원자를 갖는 라우릴 알콜이다. 이는 브리즈(Brij®) 35 (라우레트-35, 35개의 EO 단위를 갖는 라우릴 알콜)의 명칭 하에 시판되어 있다. 에톡실화도에 따라 달라지는 브리즈의 여러 등급이 이용가능하다.
적합한 폴리알킬렌글리콜은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 또는 폴리부틸렌글리콜로부터 선택되고, 바람직하게는 폴리에틸렌글리콜이다.
본 발명의 조성물은 당업계에 공지된 임의의 화장용 비히클/담체를 포함할 수 있다. 적합한 비히클로는 하나 이상의 하기와 같은 것들을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다: 식물성 오일; 에스테르, 예컨대 옥틸 팔미테이트, 이소프로필 미리스테이트 및 이소프로필 팔미테이트; 에테르, 예컨대 디카프릴 에테르 및 디메틸 이소소르비드; 알콜, 예컨대 에탄올 및 이소프로판올; 지방 알콜, 예컨대 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 베헤닐 알콜; 이소파라핀, 예컨대 이소옥탄, 이소도데칸 및 이소헥사데칸; 실리콘 오일, 예컨대 디메티콘, 시클릭 실리콘, 및 폴리실록산; 탄화수소 오일, 예컨대 미네랄 오일, 광유, 이소에이코산 및 폴리이소부텐; 폴리올, 예컨대 프로필렌 글리콜, 에톡시디글리콜, 글리세린, 부틸렌 글리콜, 펜틸렌 글리콜 및 헥실렌 글리콜; 및 물, 또는 상기 것들의 임의의 조합물. 10 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 지방산도 또한 본 발명의 조성물에 대한 화장용으로 허용되는 담체로서 포함될 수 있다. 이 카테고리의 예는 펠라곤산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 히드록시스테아르산, 올레산, 리놀레산, 리시놀레산, 아라키드산, 베헨산 및 에루스산이다.
다가 알콜-유형 보습제 또한 본 발명의 조성물 중에 화장용으로 허용되는 담체로 이용될 수 있다. 연화제(emollient)의 효능을 증가시키는 보습 보조제는, 피부 건조를 감소시키고 피부 촉감을 개선시킨다. 통상적인 다가 알콜에는 글리세롤, 폴리알킬렌 글리콜, 및 보다 바람직하게는 알킬렌 폴리올 및 이의 유도체, 예컨대 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜 및 이의 유도체, 소르비톨, 히드록시프로필 소르비톨, 헥실렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 1,2,6-헥산트리올, 에톡실화된 글리세롤, 프로폭실화된 글리세롤 및 이들의 혼합물이 포함된다. 보습제의 양은 조성물의 0.5 중량％ 내지 30 중량％, 바람직하게는 1 중량％ 내지 15 중량％ 범위일 수 있다.
본 발명의 조성물 중 화장용으로 허용되는 비히클의 양은 생성물 형태에 기반하여 상당히 달라질 것이나, 통상적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 약 20 중량％ 내지 약 70 중량％, 및 바람직하게는 약 20 중량％ 내지 약 40 중량％의 범위일 것이다. 화장용으로 허용되는 비히클은, 조성물이 피부에 적용되는 경우에 선스크린의 분포를 촉진하기 위하여 조성물 중에서 희석제, 분산제 또는 담체로서 작용한다.
에멀션 형태인 경우, 본 발명의 조성물은 본 발명의 범주를 벗어나지 않고서 하나 이상의 추가적인 유화제를 임의로 가질 수 있고, 이는 바람직하게는 소르비탄 에스테르 디메티콘 코폴리올; 폴리글리세릴-3-디이소스테아레이트; 예컨대 소르비탄 모노올레에이트 및 소르비탄 모노스테아레이트; 글리세롤 에스테르, 예컨대 글리세롤 모노스테아레이트 및 글리세롤 모노올레에이트; 폴리옥시에틸렌 페놀, 예컨대 폴리옥시에틸렌 옥틸 페놀 및 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀; 폴리옥시에틸렌 에테르, 예컨대 폴리옥시에틸렌 세틸 에테르 및 폴리옥시에틸렌 스테아릴 에테르; 폴리옥시에틸렌 글리콜 에스테르; 폴리옥시에틸렌 소르비탄 에스테르; 디메티콘 코폴리올; 폴리글리세릴-3-디이소스테아레이트; 또는 이들의 임의의 조합물로부터 선택된다. 오일 또는 오일상 물질은 유화제와 함께 존재하여 이용된 유화제의 평균 친수성-친지성 밸런스 (HLB)에 따라 주로 결정되는 유중수 에멀션 또는 수중유 에멀션을 제공할 수 있다. 바람직한 음이온성 계면활성제에는 비누, 알킬 에테르 술페이트 및 술포네이트, 알킬 술페이트 및 술포네이트, 알킬벤젠 술포네이트, 알킬 및 디알킬 술포숙시네이트, C9-C20 아실 이세티오네이트, 아실 글루타메이트, C8-C20 알킬 에테르 포스페이트, 및 이들의 조합물이 포함된다. 통상적으로, 추가적인 유화제는 조성물의 총 중량을 기준으로 1 중량％ 내지 약 12 중량％로 존재할 수 있다. 존재하는 경우, 물은 상기 조성물의 5 중량％ 내지 75 중량％, 바람직하게는 20 중량％ 내지 70 중량％, 최적으로 40 중량％ 및 70 중량％의 범위일 수 있는 양으로 존재할 것이다.
물 이외에도, 상대적으로 휘발성인 용매 또한 본 발명의 조성물 중에 담체로서 기능할 수 있다. 가장 바람직한 것은 1가 C1-C3 알칸올이다. 이들에는 에틸 알콜 및 이소프로필 알콜이 포함된다.
바람직한 크림 베이스는, 예를 들어 밀랍, 세틸 알콜, 스테아르산, 글리세린, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 세틸 에테르 등이 있다. 바람직한 로션 베이스에는, 예를 들어 올레일 알콜, 에탄올, 프로필렌 글리콜, 글리세린, 라우릴 에테르, 소르비탄 모노라우레이트 등이 포함된다.
본 발명의 조성물이 필름-형성 피부 팩 또는 마스크의 형태인 경우, 이는 당업계에 공지된 필름 형성제를 포함할 수 있다. 이들에는 아크릴레이트 공중합체, 아크릴레이트 C12-22 알킬 메타크릴레이트 공중합체, 아크릴레이트/옥틸아크릴아미드 공중합체, 아크릴레이트/VA 공중합체, 아모디메티콘, AMP/아크릴레이트 공중합체, 베헤닐 밀랍, 베헤닐/이소스테아릴, 밀랍, 부틸화된 PVP, PVM/MA 공중합체의 부틸 에스테르, 칼슘/나트륨 PVM/MA 공중합체, 디메티콘, 디메티콘 코폴리올, 디메티콘/머캅토프로필 메티콘 공중합체, 디메티콘 프로필에틸렌디아민 베헤네이트, 디메티콜놀 에틸셀룰로스, 에틸렌/아크릴산 공중합체, 에틸렌/MA 공중합체, 에틸렌/VA 공중합체, 플루오로 C2-8 알킬디메티콘, 헥산디올 밀랍, C30-38 올레핀/이소프로필 말레에이트/MA 공중합체, 수소화된 스티렌/부타디엔 공중합체, 히드록시에틸 에틸셀룰로스, 이소부틸렌/MA 공중합체, 라우릴메티콘 코폴리올, 메틸 메타크릴레이트 가교중합체(crosspolymer), 메틸아크릴로일 에틸 베타인/아크릴레이트 공중합체, 미세결정질 밀랍, 니트로셀룰로스, 옥타데센/MA 공중합체, 옥타데센/말레산 무수물 공중합체, 옥틸아크릴아미드/아크릴레이트/부틸아미노에틸 메타크릴레이트 공중합체, 산화된 폴리에틸렌, 퍼플루오로폴리메틸이소프로필 에테르, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리프로필렌, 폴리쿼터늄-10, 폴리쿼터늄-11, 폴리쿼터늄-28, 폴리쿼터늄-4, PVM/MA 데카디엔 가교중합체, PVM/MA 공중합체, PVP, PVP/데센 공중합체, PVP/에이코센 공중합체, PVP/헥사데센 공중합체, PVP/MA 공중합체, PVP/VA 공중합체, 실리카, 실리카 디메틸 실릴레이트, 나트륨 아크릴레이트/비닐 알콜 공중합체, 스테아르옥시 디메티콘, 스테아르옥시트리메틸실란, 스테아릴 알콜, 스테아릴비닐 에테르/MA 공중합체, 스티렌/DVB 공중합체, 스티렌/MA 공중합체, 테트라메틸 테트라페닐 트리실록산, 트리콘타닐 트리메틸 펜타페닐 트리실록산, 트리메틸실록시실리케이트, VA/크로토네이트 공중합체, VA/크로토네이트/비닐 프로프리오네이트 공중합체, VA/부틸 말레에이트/이소보르닐 아크릴레이트 공중합체, 비닐 카프로락탐/PVP/디메틸아미노에틸 메타크릴레이트 공중합체, 및 비닐디메티콘이 포함된다.
필름 형성제는 조성물의 총 중량을 기준으로 바람직하게는 약 0.5 중량％ 내지 약 5 중량％, 및 보다 바람직하게는 약 1 중량％ 내지 약 5 중량％의 양으로 존재한다. 보다 바람직하게는, 필름 형성제는 조성물의 총 중량의 약 3 중량％의 양으로 존재한다.
임의로, 본 발명의 조성물은 킬레이트제, 식물 추출물, 착색제, 탈색제, 연화제, 박리제, 방향제, 습윤제, 보습제, 보존제, 피부 보호제, 피부 투과 증진제, 안정화제, 증점제, 점도 개질제, 비타민제, 항-노화제, 주름 감소제, 피부 미백제, 항-여드름제 및 피지 감소제로부터 선택된 하나 이상의 성분들 또는 이들의 임의의 조합물을 포함할 수 있다. 이들의 예에는 알파-히드록시 산 및 에스테르, 베타-히드록시 산 및 에스테르, 폴리히드록시 산 및 에스테르, 코직 산 및 에스테르, 페룰산 및 페룰레이트 유도체, 바닐산 및 에스테르, 디오산 (예컨대 세바스산 및 아졸레산) 및 에스테르, 레티놀, 레티날, 레티닐 에스테르, 히드로퀴논, t-부틸 히드로퀴논, 뽕나무 추출물, 감초 추출물, 및 레조르시놀 유도체, 예컨대 4-치환된 레조르시놀 유도체, 및 추가적인 선스크린, 예컨대 코팅되거나 코팅되지 않은 금속 산화물의 UV 확산 제제 (이는 일반적으로 5 nm 내지 100 nm이고 바람직하게는 10 내지 50 nm인 미분된 티탄 산화물 및 아연 산화물이 통상적임), 예를 들어 티탄 산화물 (무정형 또는 루틸 및/또는 아나타제 형태로 결정화됨), 철 산화물, 아연 산화물, 지르코늄 산화물 또는 세륨 산화물의 나노안료(nanopigment) (이들은 모두 UV 방사선을 물리적으로 차단 (반사 및/또는 산란)함으로써 작용하는 공지된 광보호제임)가 포함된다. 또한, 표준 코팅 제제는 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트이다. 본 발명에 따른 조성물은 또한 피부의 인공 태닝 및/또는 브라우닝(browning)을 위한 제제 (자가-태닝 제제), 예를 들어 디히드록시-아세톤 (DHA)을 함유할 수 있다.
증점제는 또한 본 발명의 범주를 벗어나지 않고서 본 발명에 따른 조성물의 화장용으로 허용되는 담체의 부분으로서 이용될 수 있다. 통상적인 증점제에는 가교된 아크릴레이트 (예를 들어 카르보폴(Carbopol) 982), 소수성으로 개질된 아크릴레이트 (예를 들어 카르보폴 1382), 셀룰로스계 유도체 및 천연 검이 포함된다. 유용한 셀룰로스계 유도체 중에는 나트륨 카르복시메틸셀룰로스, 히드록시프로필 메틸셀룰로스, 히드록시프로필 셀룰로스, 히드록시에틸 셀룰로스, 에틸 셀룰로스 및 히드록시메틸 셀룰로스가 있다. 본 발명에 적합한 천연 검에는 구아, 크산탄, 균핵, 카라기난, 펙틴 및 이들 검의 조합물이 포함된다. 증점제의 양은 0.0001 중량％ 내지 5 중량％, 일반적으로 0.001 중량％ 내지 1 중량％, 최적으로 0.01 중량％ 내지 0.5 중량％ 범위일 수 있다.
본 발명의 화장용 조성물은 또한 임의로 거품생성(lathering) 계면활성제를 함유할 수 있다. "거품생성 계면활성제"는, 물과 합해지고 기계적으로 교반된 경우 발포 또는 거품을 생성하는 계면활성제를 의미한다. 바람직하게는, 거품생성 계면활성제는 순해야 하고, 이는 충분한 클렌징 또는 세제성 이점을 제공해야 하지만 과도하게 피부를 건조시키면 안되며, 상기 기재된 거품생성 기준을 충족해야 한다는 것을 의미한다. 본 발명의 화장용 조성물은 약 0.01％ 내지 약 50％ 농도의 거품생성 계면활성제를 함유할 수 있다. 이는 워시-오프 제품, 예컨대 안면 세정제(face-wash)에서 통상적으로 요구된다.
본 발명에 따른 화장용 조성물은 또한 필수 요소들 이외에도 선행 선스크린과는 상이한 하나 이상의 추가적인 선스크린 (통상적으로 사용되는 화장용 용매 중에서 수용성, 지용성 또는 불용성임)을 함유할 수 있다. 이들 스크리닝 제제는 살리실산 유도체, 벤질리덴캠퍼 유도체, 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, [β],[β]'-디페닐아크릴레이트 유도체, 페닐-벤즈이미다졸 유도체, 안트라닐산 유도체, 이미다졸린 유도체, 메틸렌비스(히드록시페닐-벤조트리아졸) 유도체, p-아미노벤조산 유도체, 및 스크리닝 탄화수소-기재 중합체 및 스크리닝 실리콘 유도체로부터 적합하게 선택될 수 있다.
바람직한 유기 UV-스크리닝 제제는 하기 화합물들로부터 선택된다: 에틸헥실 살리실레이트, 옥토크릴렌, 페닐벤즈이미다졸술폰산, 테레프탈릴리덴디캠퍼술폰산, 벤조페논-3, 벤조페논-4, 벤조페논-5, 4-메틸벤질리덴, 벤즈이미다질레이트, 아니소트리아진, 2,4,6-트리스(디이소부틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진, 에틸헥실트리아존, 디에틸헥실부트아미도트리아존, 메틸렌비스(벤조트리아졸릴)테트라메틸부틸-페놀, 드로메트리졸 트리실록산, 및 이들의 혼합물.
본 발명에 적용가능한 화장품의 특정 제제에는 크림, 연고, 에멀션, 로션, 오일 및 안면-팩, 향유(balm), 겔, 무스, 스틱 또는 모발-겔, 모발-크림 등이 포함된다. 에멀션은, 예를 들어 무수물, 유중수, 수중유, 실리콘중수, 또는 다중 에멀션일 수 있다. 모발 보호의 경우에는, 적합한 제형은 샴푸, 컨디셔너, 로션, 겔, 에멀션, 분산액, 래커 등이다.
본 발명의 화장용 조성물은 4,000 내지 10,000 mPas의 점도를 갖는 로션, 10,000 내지 20,000 mPas의 점도를 갖는 액체 크림, 또는 20,000 내지 100,000 mPas 또는 그 이상의 점도를 갖는 크림으로 제형화될 수 있다 (모두 25℃에서 측정됨).
본 발명에 따른 조성물은 인간 피부에 대한 국소 적용용 개인 관리 제품으로서, 그리고 일광에 대한 과다 노출의 유해한 효과로부터 노출된 피부를 보호하기 위해 일차적으로 의도된다.
사용에 있어서, 예를 들어 약 0.1 ml 내지 약 5 ml인 소량의 조성물은 적합한 컨테이너 또는 애플리케이터(applicator)로부터 노출된 피부 영역에 적용되고, 필요한 경우, 이어서 손 또는 손가락 또는 적합한 장치를 사용하여 피부에 바르고/거나 문지르게 된다.
본 발명 및 그의 이점을 더 예시하기 위하여, 하기에 구체적인 실시예를 나타내었고, 이는 제한하려는 방식이 아니라 단지 예시적인 의도로 나타내었다는 것을 이해해야 한다. 이어질 실시예에서, 모든 부 및 백분율은 달리 나타내지 않는다면 중량 기준이다.
실시예 1
본 발명에 따른 지방 알콜 에톡실레이트 및 폴리에틸렌글리콜의 조합물을 사용한 디벤조일메탄 유도체의 안정화의 입증
다양한 화장용 크림 조성물을 하기 표 1에 주어진 제형의 상세내역에 따라 제조하였다.
성분 중량％ 대조군 1 형 2 형 3 형 4 형 5 형
스테아르산 18 18 18 18 18 18
수산화칼륨 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67
세틸 알콜 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53 0.53
이소프로필 미리스테이트 0.75 0.75 0.75 0.75 0.75 0.75
디메티콘 200 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
나이아신아미드 1 1 1 1 1 1
파르솔 1789 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8
파르솔 MCX 0.75 0.75 0.75 0.75 0.75 0.75
브리즈-35 - - 4 4 - -
트윈 80 - - - - 4 -
스판 80 - - - - - 4
폴리에틸렌 글리콜 200 - 4 - 4 4 4
물 및 여타 부성분을 합쳐 100 100 100 100 100 100
트윈 80 폴리옥시틸렌 소르비탄 모노올레에이트 (유니퀘마(Uniquema))
스판 80 소르비탄 모노올레에이트 (유니퀘마)
브리즈-35 폴리옥시에틸렌 라우릴 에테르 (유니퀘마)
파르솔 1789 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄 (머크(Merck))
파르솔 MCX 2-에틸헥실 메톡시신나메이트 (머크)
프로세싱
1. 칭량된 양의 물, 수산화칼륨, EDTA, p-카시토즈 및 글리세린을 100 ml 비커 중에 취하였다 (용기 A).
2. 칭량된 양의 이소프로필 미리스테이트, 디메티콘 200, 파르솔 1789, 파르솔 MCX, 프로필파라벤, 메틸파라벤, 세틸 알콜 및 페녹시에탄올을 또다른 비커 중에 취하였다 (용기 B).
3. 스테아르산을 별도 용기 중에서 70℃로 가열함으로써 용융시켰다.
4. 용기 B의 내용물을 70℃에서 용융시켰다.
5. 용기 B를 낮은 전단 속도 (500 내지 700 rpm)에서 연속 균질화 하에 75℃로 가열하였다.
6. 70℃에 도달한 후에, 용융된 스테아르산을 연속 교반 하에 서서히 용기 A에 첨가하였다.
7. 교반 1 내지 2분 후에, 브리즈 35/트윈 80/스판 80을 첨가하고, 이후에 상기 회전 혼합물 중에 PEG-200을 첨가하고, 이후에 TiO2를 첨가하였다.
8. 용기 B의 용융된 물질을 첨가하였다.
9. 균질화 전단 속도를 1000 내지 1200 rpm으로 증가시키고, 5분 동안 계속하였다.
10. 이후에, 고온의 혼합물을 낮은 속도 (500 내지 700 rpm)에서 연속 교반하면서 실온으로 냉각시켰다.
11. 6O℃에서, 나이아신아미드를 첨가하였다.
12. 혼합물을 실온으로 냉각시켰다.
시험 방법
하기 시험 방법을 본 발명의 조성물 중의 디벤조일메탄 선스크린의 안정성을 측정하기 위해, 그리고 하기 기재된 모든 비교 실시예에 대해 사용하였다.
1. 깨끗한 유리 슬라이드를 취하고, 그 중량을 기록하였다 (A).
2. 약 10 mg의 크림을 적용하고, 약 2 cm2에 발랐다.
3. 크림을 바른 슬라이드의 중량을 기록하였다 (B).
4. A에서 B를 빼서 적용된 크림의 중량을 얻었다 (C).
5. 상기 언급된 과정을 각 시험 제형에 대해 6회 반복하였다.
6. 이들 유리 슬라이드를 각각 다양한 시간 간격: 0분, 15분, 30분 및 60분에 대해 동시에 일광 노출시켰다.
7. 일광 노출 후에, 크림을 메탄올 중에서 추출하고, 부피를 25 ml로 만들었다.
8. 각 샘플의 UV-흡광도를 UV 분광광도계 상에서 기록하였다.
9. 샘플의 단위 중량 당 흡광도를 λ 최대 (즉, 357 nm (디벤조일메탄의 λ 최대임))에서의 흡광도를 크림의 중량 (C)로 나눔으로써 계산하였다.
10. 샘플의 안정성의 척도인 잔류 흡광도의 백분율을 하기와 같이 계산하였다:
잔류 흡광도 백분율 = [An / A0 × 100] (여기서 A0은 0분 샘플의 "단위 중량 당 흡광도"이고, An은 n분째 샘플의 "단위 중량 당 흡광도"임). 실시예 1에서 수행된 실험의 결과를 하기 표 2에 요약하였다. 일광의 강도는 일광에 대한 슬라이드의 노출 시간에서 20 내지 40 mW/Cm2로 변하는 것으로 밝혀졌고, 실험들은 상이한 날에 수행하였다는 것을 주목해야 한다. 이에 따라, 전체 기간에 걸쳐 수행된 동일/유사한 실험들, 예를 들어 대조군 샘플을 사용한 실험들에 대한 ％ 흡광도의 절대값들은 표에서 서로 상이하다.
일광 노출 시간/분 상기 주어진 절차에 의해 측정된 경우, 노출 후에 잔류한 파르솔 1789의 ％ 흡광도
대조군 1 형 2 형 3 형
0 (T0) 100 100 100 100
15 (T15) 79 91 78 97
30 (T30) 68 91 69 93
45 (T45) 60 80 60 91
60 (T60) 42 69 57 88
상기 표는 PEG 200 및 브리즈-35 모두를 함유하는 제형에서, 흡광도 값으로부터 명백하게 디벤조일메탄 선스크린의 유의하게 더 높은 활성이 1시간의 적용 후에도 적용가능하다는 것을 나타낸다.
실시예 2:
디벤조일메탄 선스크린의 안정성에 대한 폴리에틸렌글리콜과 여타 계면활성제와의 조합물, 및 본 발명에 따른 폴리에틸렌글리콜과 브리즈 35와의 조합물의 비교 연구.
결과는 하기 표 3에 요약하였다.
일광 노출 시간/분 상기 주어진 절차에 의해 측정된 경우, 노출 후에 잔류한 파르솔 1789의 ％ 흡광도
대조군 4 형 5 형 3 형
0 (T0) 100 100 100 100
15 (T15) 66 73 96 97
30 (T30) 66 71 78 94
45 (T45) 47 63 78 85
60 (T60) 40 64 75 83
따라서, 폴리에틸렌 글리콜 및 지방 알콜 에톡실레이트의 조합물이 폴리에틸렌 글리콜 및 여타 계면활성제/유화제의 조합물과 비교하여 보다 양호한 안정성을 보여준다는 것을 쉽게 알 수 있다.
실시예 3
본 발명자들은 또한 디벤조일메탄의 안정성에 대한 폴리에틸렌글리콜의 분자량의 변화 효과를 측정하였다. 이 실험의 결과를 하기 표 4에 요약하였다.
일광 노출 시간/분 상기 주어진 절차에 의해 측정된 경우, 노출 후에 잔류한 파르솔 1789의 ％ 흡광도
대조군 3 형 4％ PEG 200 대신에 4％ PEG 6000을 사용한 3 형 4％ PEG 200 대신에 4％ PEG 20000을 사용한 3 형 4％ PEG 200 대신에 4％ PEG 100000을 사용한 3 형
0 (T0) 100 100 100 100 100
15 (T15) 74 86 91 86 96
30 (T30) 57 81 87 80 81
45 (T45) 50 78 78 68 76
60 (T60) 47 72 71 70 72
상기 표는 다양한 분자량의 폴리에틸렌 글리콜을 사용하여, 적용 1시간 이후에도 70％가 넘는 디벤조일메탄 유도체가 적용가능하게 잔류한다는 것을 나타낸다. 이는 본 발명의 범주를 벗어나지 않고서 200 내지 100000의 어떤 분자량의 PEG도 사용할 수 있다는 것을 입증한다.
실시예 4
또다른 세트의 실험에서, 디벤조일메탄 선스크린의 안정성에 대한 2가지 등급의 지방 알콜 에톡실레이트 (브리즈)의 효과를 화장용 크림에서 연구하였고, 이 결과를 하기 표 5에 요약하였다.
일광 노출 시간/분 상기 주어진 절차에 의해 측정된 경우, 노출 후에 잔류한 파르솔 1789의 ％ 흡광도
대조군 1 형 3 형 4％ 브리즈 35 대신에 4％ 브리즈 56을 사용한 3 형
0 (T0) 100 100 100 98
15 (T15) 81 81 99 84
30 (T30) 70 69 95 78
45 (T45) 45 68 84 74
60 (T60) 43 59 83 74
(참고: 브리즈 56은 폴리에틸렌 글리콜 헥사데실 에테르 또는 폴리옥시에틸렌 10 세틸 에테르(CAS 번호 9004-95-9)임 (유니퀘마 또는 시그마-알드리치(Sigma-Aldrich)))
따라서, 상이한 등급의 지방 알콜 에톡실레이트도 조성물 중의 디벤조일메탄 선스크린에 대한 높은 안정도를 제공한다는 것을 쉽게 알 수 있다.
실시예 5
또한, 상이한 담체/비히클 중에서 본 발명을 시험하기 위해 화장용 로션의 경우에서 디벤조일메탄 유도체의 안정성을 연구하였다. 제형의 상세내역을 하기 표 6에 나타내었다. 프로세싱 상세내역 또한 하기에 나타내었다. 결과를 하기 표 7에 요약하였다.
성분 백분율
대조군 로션 로션 A 로션 B 로션 C
A 파트
물 84 84 84 84
B 파트
브리즈 35 - 4.00 - 4.00
Peg-200 - - 4.00 4.00
C 파트
이산화티타늄 1.00 1.00 1.00 1.00
D 파트
이소프로필 미리스테이트 0.75 0.75 0.75 0.75
디메티콘 DC 200 0.50 0.50 0.50 0.50
스테아르산 2.00 2.00 2.00 2.00
세틸 알콜 0.53 0.53 0.53 0.53
파르솔 1789 0.80 0.80 0.80 0.80
파르솔 MCX 0.75 0.75 0.75 0.75
E 파트
트리에탄올아민 (99％) 0.50 0.50 0.50 0.50
여타 부성분 포함 100 100 100 100
프로세싱
1. 디소듐 EDTA를 물에 첨가하고, 용해될 때까지 혼합하였다.
2. 카르보폴 울트레즈(Carbopol Ultrez (TM))를 물 중에 분산시키고, 저속에서 혼합하였다.
3. B 파트의 성분들을 물에 첨가하였다.
4. C 파트의 성분들을 물에 첨가하고, 적당하게 가열한 후에 혼합하였다. TiO2를, 분산될 때까지 혼합하였다.
5. 합한 A, B 및 C 파트를 65℃로 가열하였다.
6. D 파트의 성분들을 65℃로 가열하고, 모든 고체들이 용해될 때까지 혼합하였다.
7. 이후에, 이 D 파트를 합한 A, B 및 C 파트에 첨가하였다. 온도가 65℃인 동안에, E 파트 성분들을 첨가하였다.
8. 에멀션을 온도가 40℃에 도달할 때까지 적당한 교반 하에 혼합하였다. 이후에, 실온으로 냉각시키고, 분석을 위해 그대로 사용하였다.
일광 노출 시간/분 상기 주어진 절차에 의해 측정된 경우, 노출 후에 잔류한 파르솔 1789의 ％ 흡광도
대조군 로션 로션 A 로션 B 로션 C
0 (T0) 100 100 100 100
15 (T15) 81 96 81 86
30 (T30) 70 91 69 78
45 (T45) 46 70 68 75
60 (T60) 43 68 59 76
따라서, 본 발명의 폴리에틸렌 글리콜 및 지방 알콜 에톡실레이트의 조합물이 심지어 로션 기반 화장용 조성물에서도 디벤조일메탄 유도체를 안정화시킨다는 것을 쉽게 알 수 있다.
따라서, 상기 설명 및 실시예로부터 본 발명이 안정한 선스크린을 포함하는 조성물을 제공한다는 것을 알 수 있다. 본 발명은 또한 안정화된 디벤조일메탄 선스크린을 포함하는 조성물을 제공하며, 여기서 안정화는 통상적으로 화장용 조성물에 사용되는 성분들을 사용함으로써 달성된다.
본 발명이 다양한 구체적이고 바람직한 실시양태의 측면에서 설명되는 동안, 당업자는 본 발명의 취지를 벗어나지 않고서 다양한 변형, 대체, 생략 및 변화가 가능하다는 것을 알 것이다.

Claims (13)

  1. a) 0.1 중량％ 내지 10 중량％의 디벤조일메탄 또는 이의 유도체; 및
    b) 0.1 중량％ 내지 10 중량％의 p-메톡시신남산 또는 이의 유도체를 포함하며,
    0.5 중량％ 내지 8 중량％의 C8-C18 지방 알콜 에톡실레이트 및 0.5 중량％ 내지 8 중량％의 폴리알킬렌글리콜을 포함하는 광안정성 화장용 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 디벤조일메탄 또는 이의 유도체가 0.1 중량％ 내지 5 중량％로 존재하는 것인 광안정성 화장용 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 p-메톡시신남산 또는 이의 유도체가 0.1 중량％ 내지 5 중량％로 존재하는 것인 광안정성 화장용 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 p-메톡시신남산 또는 이의 유도체가 0.1 중량％ 내지 2 중량％로 존재하는 것인 광안정성 화장용 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 디벤조일메탄 유도체가 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸디벤조일메탄, 4-메틸디벤조일에탄, 4-이소프로필디벤조일메탄, 4-tert-부틸디벤조일메탄, 2,4-디메틸디벤조일메탄, 2,5-디 메틸디벤조일메탄, 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄, 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸-5-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄 또는 2,6-디메틸-4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄으로부터 선택된 것인 광안정성 화장용 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 상기 디벤조일메탄 유도체가 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄인 광안정성 화장용 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 p-메톡시신남산 유도체가 2-에틸헥실-4-메톡시신나메이트, 암모늄 p-메톡시신나메이트, 나트륨 p-메톡시신나메이트, 칼륨 p-메톡시신나메이트, 또는 p-메톡시신남산의 1급, 2급 또는 3급 아민 염으로부터 선택된 것인 광안정성 화장용 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 상기 p-메톡시신남산 유도체가 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트인 광안정성 화장용 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 C8-C18 지방 알콜 에톡실레이트가 0.5 중량％ 내지 4 중량％로 존재하는 것인 광안정성 화장용 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌글리콜이 상기 조성물의 0.5 중량％ 내지 4 중량％로 존재하는 것인 광안정성 화장용 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌글리콜이 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 또는 폴리부틸렌글리콜로부터 선택된 것인 광안정성 화장용 조성물.
  12. 제12항에 있어서, 상기 폴리에틸렌글리콜의 분자량이 200 내지 100000 돌턴인 광안정성 화장용 조성물.
  13. 제13항에 있어서, 상기 분자량이 200 내지 10000 돌턴인 광안정성 화장용 조성물.
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