KR20050064022A - 2,6-나프탈렌디카르복실산의 수소화 정제를 위한 여과 및세정 공정 - Google Patents
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Abstract
Description
유기물 | NDA | NA | MNA | DCT | 기타 |
생성량(kg) | 33.585 | 0.014 | 0.029 | 0.001 | 0.017 |
조성비(%) | 99.818 | 0.042 | 0.086 | 0.003 | 0.051 |
Claims (9)
- (a) 슬러리공급장치(A)로부터 2,6-나프탈렌디카르복실산을 포함하는 슬러리를 불활성 가스에 의한 가압하에서, 여과기(3), 교반기(1) 및 내부밸브(4)를 갖춘 여과 및 세정장치(C)에 투입하면서 여과액방출구(12)을 통하여 고압여과액회수장치(D)로 1차 여과액을 방출하고, 고상분을 여과기에 거르는 단계,(b) 용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 예열된 순수 용매를 여과 및 세정장치(C)에 투입하고, 교반기(1)로 교반한 후 고압여과액회수장치(D)로 2차 여과액을 방출하는 단계,(c) 용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 예열된 순수 용매를 여과 및 세정장치(B)에 투입하고 슬러리를 교반한 후 내부 밸브(4)를 열어 슬러리방출라인(11)를 통해 고압슬러리회수장치(F)로 보내는 단계를 포함하며,이 때 고압여과액회수장치(D)의 압력이 여과 및 세정장치(C)의 압력보다 0.5∼2기압 낮음을 특징으로 하는 2,6-나프틸렌디카르복실산의 여과 및 세정공정.
- 제1항에 있어서, 여과 및 세정장치(C)는 내부온도 150∼250℃, 압력 15∼28기압으로 유지되며, 고압슬러리회수장치(F)는 여과 및 세정장치(C)의 압력과 같거나, 0.5 내지 2 기압 낮은 압력으로 유지됨을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정.
- 제1항에 있어서, 2,6-나프탈렌디카르복실산 슬러리의 회수 후 여과 및 세정장치(C)를 용매가열공급장치로부터 공급되는 용매를 이용하여 세정함을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정.
- 제1항에 있어서, 상기 공정은 수소화에 의한 2,6-나프탈렌디카르복실산의 연속정제공정에 이은 연속공정으로 사용되는 것을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정.
- 제1항에 있어서, 단계(b)를 2회 이상 행함을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정.
- 제1항에 있어서, 단계(c)의 용매는 여과 및 세정장치의 원추형 하부에 연결된 역세척라인을 통하여 공급됨을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정.
- 제1항에 있어서, 여과 및 세정장치(C)의 여과기(3)로 스테인레스강 재질의 5∼100㎛ 메쉬 스크린을 사용하는 것을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정.
- 제1항에 있어서, 상기 불활성 가스는 질소임을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정.
- 여과 및 세정장치(C), 상기 여과 및 세정장치에 연속적으로 슬러리를 공급할 수 있는 슬러리공급장치(A), 슬러리의 여과 후 생성된 고상분을 세정하고 재슬러리를 형성하기 위한 용매의 공급장치로 가열수단을 구비한 용매가열공급장치(B), 상기 세정기로부터 여과되어 나온 여과액 또는 세정액을 회수하기 위한 장치로써 불활성 가스 공급에 의해 일정압력으로 유지되는 고압여과액회수장치(D), 상기 고압여과액회수장치로부터 회수된 여과액이 투입된 후 상압으로 감압되고 최종적으로 방출되는 저압여과액회수장치(E), 여과 및 세정장치에서 여과액 및/또는 세정액이 회수되고 남은 고상분을 재슬러리 형태로 회수하며 불활성 가스에 의해 일정압력으로 유지되는 고압슬러리회수장치(F) 및 상기 고압슬러리회수장치로부터 회수된 슬러리가 투입되고 상압으로 감압되며 필요한 경우 용매를 제거하고 최종 NDA를 얻는 저압슬러리회수장치(G)를 포함하며, 이 때 고압여과액회수장치(D)의 압력이 여과 및 세정장치(C)의 압력보다 0.5∼2기압 낮음을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정시스템.
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