KR20050053336A - 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법 - Google Patents

2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고순도의 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 고수율로 안정적으로 제조하는 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 상기 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 이용하는 에폭시 수지용 반응성 희석제, 및 에폭시 수지 조성물을 제공한다.

Description

2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법{METHOD FOR PRODUCING 2-HYDROXYISOBUTYRIC ACID GLYCIDYL}
본 발명은 하기 화학식 2의 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 구체적으로는, 원료 화합물을 수분의 존재 하에서 반응시킴으로써 고순도의 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 제조하는 방법, 및 상기 방법에 의해 수득된 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 포함하는 에폭시 수지용 반응성 희석제, 및 에폭시 수지 조성물에 관한 것이다.
4급 암모늄염 등의 촉매를 이용하여 카복실산 또는 그의 알카리 금속염과 에피클로로하이드린으로부터 글리시딜에스터를 제조하는 방법은 공지되어 있다(예컨대, 일본 특허 공개공보 제 1997-59268 호, 일본 특허 공개공보 제 2003-171371 호 참조). 또한, 4급 암모늄염 등의 촉매를 이용하여, 알코올과 에피클로로하이드린으로부터 글리시딜에터를 제조하는 방법도 공지되어 있다(예컨대, 일본 특허 공개공보 제 1993-32650 호, 일본 특허 공개공보 제 1993-163260 호 참조).
그러나, 수산기 및 카복실기가 에피클로로하이드린과 용이하게 반응한다는 점에서, 동일 분자 내에 수산기 및 글리시딜기를 갖는 화합물을 용이하고 또한 안정적으로 고순도로 제조하는 방법은 지금까지 발견되지 않았다.
다수의 특징적인 반응성기를 갖는, 상기 화학식 2에 나타낸 바와 같은 화합물을 용이하고 또한 안정적으로 고순도로 제조할 수 있게 되면, 반응성 희석제로서 이용하는 등 다양한 용도가 기대된다. 따라서, 본 발명은 고순도의 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 특정 조건 하에서 반응을 실시함으로써 3급 수산기의 글리시딜에터로의 반응의 선택율을 억제하여, 카복실산 또는 그의 알칼리 금속염 화합물을 선택적으로 글리시딜에스터로 변환하는 방법을 발견하고, 본 발명을 완성시키는 데 이르렀다.
즉, 본 발명은 다음과 같다.
1. 화학식 1로 표시되는 카복실산 또는 그의 알카리 금속염 화합물과 에피클로로하이드린을 촉매 존재 하에 반응시킴으로써, 화학식 2로 표시되는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 제조하는 방법에 있어서, 반응계 중에 수분을 존재시켜 반응을 실시하는 것을 특징으로 하는, 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
상기 식에서, X는 알카리 금속 원소 또는 수소 원소를 나타낸다.
2. 반응계 중에 존재하는 수분량이 0.3중량% 이상 2.5중량% 이하인 것을 특징으로 하는, 상기 1항에 기재된 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
3. 원료 주입시에 물을 첨가함으로써, 반응계 중에 존재하는 수분량을 0.3중량% 이상 2.5중량% 이하의 범위로 조절하는 것을 특징으로 하는, 상기 1항에 기재된 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
4. 화학식 1로 표시되는 원료 화합물 중의 X가 Na, K 또는 Li인 상기 1항에 기재된 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
5. 촉매가 4급암모늄염 또는 할로겐화알칼리금속염인 상기 제 1항에 기재된 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
6. 화학식 1로 표시되는 원료 화합물과 에피클로로하이드린의 주입 몰 비(화학식 1로 표시되는 원료 화합물:에피클로로하이드린)이 1:2 내지 1:10이며, 반응 온도 80℃ 내지 125℃에서 0.5시간 내지 5시간 반응시키는 것을 특징으로 하는, 상기 1항에 기재된 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
7. 상기 1항에 기재된 방법에 의해 수득되는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 함유하는 에폭시 수지용 반응성 희석제.
8. 상기 7항 기재된 반응성 희석제를 포함하는 에폭시 수지 조성물.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명은 화학식 1로 표시되는 카복실산 또는 그의 알카리 금속염 화합물과 에피클로로하이드린을 촉매 존재 하에 반응시킴으로써, 화학식 2로 표시되는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 제조하는 방법에 있어서, 반응계 중에 수분을 존재시켜 반응을 실시하는 것을 특징으로 하는 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 방법을 이용함으로써 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 반응 수율을 높일 수 있다. 또한, 부반응이 억제되어 목적 화합물에 근접한 비점을 갖는 부생성물의 양을 저감할 수 있다. 이 때문에, 감압 증류에 의한 정제가 용이해진다. 이와 같이, 반응계 중에 수분을 존재시킴으로써 목적하는 글리시딜에스터의 반응 수율이 향상되는 동시에, 증류 정제시에 분리하기 어려운 (2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 비점에 근접한 비점을 갖는) 부생성물의 양을 저감할 수 있어 수득되는 제품의 순도를 높일 수 있다. 따라서, 고순도의 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 용이하고 또한 안정적으로 제조할 수 있다.
본 발명에 사용되는 원료는 화학식 1에서 나타낸 바와 같이 분자 내에 수산기와 카복실기 또는 그의 알카리 금속염을 갖는 화합물이다. 화학식 1에서 X는 알칼리 금속 원소 또는 수소 원소를 나타내고, 상기 알칼리 금속 원소로서는 나트륨, 칼륨 또는 리튬을 바람직하게 들 수 있다. 특히, 화학식 1에서 X는 나트륨 및 칼륨 등의 알칼리 금속염이 원료로서 더욱 바람직하다. 화학식 1로 표시되는 화합물은 공지된 방법 또는 통상의 방법에 따라 용이하게 합성할 수 있다.
에피클로로하이드린은 공지되어 있으며, 통상의 방법에 따라 용이하게 합성할 수 있다. 본 발명에 이용하는 원료 화합물로서는 시판 제품을 이용할 수도 있다.
화학식 1로 표시되는 원료 화합물과 에피클로로하이드린의 주입 몰 비(화학식 1로 표시되는 원료 화합물:에피클로로하이드린)는 1:2 내지 1:10의 범위가 바람직하다. 더욱 바람직하게는 1:2.5 내지 1:9, 특히 바람직하게는 1:3 내지 l:8의 범위이다. 에피클로로하이드린의 주입 몰 비가 1:2 보다 적은 경우, 반응 수율이 저하되므로 바람직하지 않다. 또한, 에피클로로하이드린의 주입 몰 비가 1:10을 초과하면, 반응 종료 후의 과잉 에피클로로하이드린의 제거에 시간이 걸려, 비용적으로도 바람직하지 않다.
본 반응은 촉매의 존재 하에 실시한다. 구체적으로는, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드 등의 4급 암모늄염 및 요오드화나트륨, 브롬화나트륨 등의 할로젠 알칼리 금속염 등의 사용이 바람직하다. 이들 촉매는 1종 단독으로 사용할 수 있고 2종 이상을 조합시켜 사용할 수도 있다. 촉매의 사용량은 특별히 제한되지 않지만, 화학식 1의 원료 화합물에 대해, 보통 10ppm 내지 20중량%, 바람직하게는 0.05중량% 내지 5중량%의 범위가 바람직하다. 또한, 필요에 따라 벤젠, 톨루엔, 자일렌, N,N-다이메틸폼아마이드, 다이메틸설폭사이드 등의 유기 용매를 이용할 수도 있다.
반응계 중에 존재시키는 수분량은 바람직하게는 0.3 내지 2.5중량%이며, 더욱 바람직하게는 0.3 내지 1.5중량%이다. 반응계 중의 수분량은 반응계에 물을 첨가함으로써 조절된다. 반응계 중의 수분량이 0.3중량% 미만에서는 목적하는 화합물에 근접하는 비점을 갖는 부생성물의 억제 효과가 충분히 수득되지 않을 수 있다. 또한, 반응계 중의 수분량이 2.5중량%를 초과하면, 상기 이외의 부생성물량이 증가하여, 반응 수율이 저하되는 경향이 있다. 또한, 본 발명에서의 수분량은 하기 수학식 1에 따라서 산출된다.
상기 식에서,
a는 화학식 1의 원료 화합물의 중량이고,
b는 에피클로로하이드린의 중량이고,
c는 촉매의 중량이고,
d는 첨가한 물의 중량이다.
상기 반응의 압력은 고액(固液) 현탁 상태에서의 교반을 방해하지 않는 범위이면, 감압 하 또는 가압 하에서도 가능하지만, 비용적인 관점에서 대기압 하에 실시하는 것이 더욱 바람직하다. 반응 온도는 80 내지 125℃인 것이 바람직하다. 반응 온도가 80℃ 이하에서는 반응 속도가 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 125℃을 초과하는 온도에서는 에피클로로하이드린의 비등·증발이 강해져 반응 수율이 저하된다. 반응에 요하는 시간은 0.5 내지 5시간이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.75 내지 1.5시간 범위에서 실시된다. 반응 시간이 0.5시간 미만에서는 반응의 진행이 불충분하다는 점에서 바람직하지 않고, 또한 5시간 이상의 반응은 부생성물량이 증대하고 단위 시간당 생산량의 저하를 초래하여 비용적으로 바람직하지 않다.
반응 종료 후, 목적하는 화합물인 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜은 여과, 증류, 추출 등의 통상의 방법에 따라 분리하여 수득할 수 있다. 예컨대, 반응 후 혼합액에 물을 첨가하여 교반 혼합한 다음, 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 포함하는 유기 용매상을 분리 취득하고, 용매를 증발 제거함으로써, 목적하는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 수득할 수 있다. 수득된 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜은 요구에 따라 감압 증류, 컬럼 크로마토그래피 등의 공지의 방법에 의해서 순도를 추가로 높일 수 있다.
본 발명의 방법에 의해 수득되는 글리시딜에스터(2-하이드록시아이소부티르산글리시딜)은 에폭시 수지용 반응성 희석제로서 사용할 수 있다. 상기 글리시딜에스터를 반응성 희석제로서 이용하는 경우에는 단독으로 사용할 수도 있고, 다른 반응성 희석제와 혼합하여 사용할 수도 있다. 다른 반응성 희석제와 혼합하여 사용하는 경우, 혼합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 반응성 희석제의 전체 중량에 대하여 상기 글리시딜에스터를 30중량% 이상, 더욱 바람직하게는 50중량% 이상, 더더욱 바람직하게는 70중량% 이상, 특히 바람직하게는 90중량% 이상 포함하는 것이 바람직하다. 상기 글리시딜에스터의 함유량이 30중량% 미만인 경우, 반응성 희석제로서의 특성이 저하되어 사용하기 어렵게 된다. 반응성 희석제로는 상기 글리시딜에스터 외에, 일반적으로 공지의 에폭시 수지용 반응성 희석제 등을 병용할 수도 있다.
본 발명의 에폭시 수지 조성물은 에폭시 수지 및 경화제에 첨가하여, 상기 반응성 희석제를 포함하는 것이다.
에폭시 수지는 분자 내에 적어도 2개의 에폭시기를 갖는 수지이며, 예컨대 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S 등의 비스페놀과 에피할로게노하이드린을 중합 반응하여 수득되는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지를 들 수 있고, 또한 4,4'-다이하이드록시바이페닐, 다이하이드록시나프탈렌 등과 에피할로게노하이드린을 중합 반응하여 수득되는 에폭시 수지, 및 (폴리)에틸렌글라이콜다이글리시딜에터 및 (폴리)프로필렌글라이콜다이글리시딜에터, 1,6-헥세인다이올다이글리시딜에터, 사이클로헥세인다이메탄올다이글리시딜에터, 네오펜틸글라이콜다이글리시딜에터, 폴리옥시알킬렌글라이콜다이글리시딜에터, 글리세린류의 폴리글리시딜에터, 노보락 수지 중합물에 에피할로게노하이드린을 중합 반응하여 수득되는 노보락·에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이들 에폭시 수지는 단독으로 사용할 수도 있고, 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수도 있다.
경화제로서는, 상술한 바와 같은 에폭시 수지, 및 본 발명의 방법에 의해서 수득되는 반응성 희석제로서의 글리시딜에스터와 반응하는 것이면, 어떠한 물질도 사용할 수 있다. 예컨대 헥사하이드로프탈산무수물, 테트라하이드로프탈산무수물, 프탈산무수물, 메틸헥사하이드로프탈산무수물, 메틸테트라하이드로프탈산무수물, 메틸나드산무수물, 트라이멜리트산무수물 등의 산무수물, 아이소포론다이아민, 에틸렌다이아민, 다이에틸렌트라이아민, 트라이에틸렌테트라민, 페닐렌다이아민, 자일렌다이아민, 비스(아미노메틸)사이클로헥세인, 다이사이안다이아마이드 등의 아민 및 그 변성물, 아민계의 에폭시 수지 부가체, 폴리아마이드 또는 아민, 페놀, 포르마린을 축합하여 수득되는 이른바 만니히형 아민계 경화제, 페놀계 경화제, 촉매계의 경화제 등을 들 수 있다. 이들 경화제는 단독으로 사용할 수 있거나 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다.
본 발명의 에폭시 수지 조성물에서, 에폭시 수지 성분과 상기 글리시딜에스터를 포함하는 반응성 희석제 성분은 중량비로, 60:40 내지 95:5의 배합 비율로 하는 것이 바람직하다. 에폭시 수지 성분이 상기 비율보다 많은 경우는 점도의 저하가 충분히 일어나지 않고, 또한 에폭시 수지 성분이 상기 비율보다 적은 경우는 가교 밀도가 저하되어 경화물의 내열성이나 기계 물성이 저하되기 때문에 바람직하지 못하다.
본 발명의 에폭시 수지 조성물에서, 경화제 성분의 배합비는 수득되는 에폭시 수지 경화물의 물성이 충분히 수득되는 범위이면 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 아민계 경화제의 경우는 에폭시 수지 성분과 희석제 성분을 합한 에폭시기 1당량에 대해 0.5 내지 1.5당량의 배합 비율로 혼합하는 것이 바람직하다. 상기 경화제 성분에서, 1급 아미노기는 2당량, 2급 아미노기는 1당량으로서 작용한다.
본 발명의 에폭시 수지 조성물에서는 실리카, 산화티탄, 탄산칼슘 등의 무기 충전재 또는 이미다졸 및 그의 유도체, 벤질다이메틸아민 등의 경화 촉진제를 필요에 따라 사용할 수 있다. 또한, 용제, 희석제, 충전제, 난연제, 이형제, 착색제 등의 첨가물도 필요에 따라 사용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예에 기초하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 의해 한정되지 않는다. 또한, 표에서, 에피클로로하이드린을 EpCH, 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 GHIB, 테트라메틸암모늄클로라이드를 TMAC라고 표기했다.
실시예 1 내지 5 및 비교예 1
교반 장치 및 환류관을 갖춘 200ml 3구 플라스크에 2-하이드록시아이소부티르산나트륨 37.83g(0.3몰), 에피클로로하이드린 138.7g(1.5몰), 테트라메틸암모늄클로라이드 0.25g, 및 순 수를 실온, 상압 하에서 주입하고, 10분간 실온에서 내부 온도 120℃까지 가열한 후, 이 온도로 1.5시간 유지하여 반응시킨 후, 실온까지 냉각했다. 이것에 물을 가하고 1.5시간 방치한 후, 유기 용매상을 취하고, 뷔그류 분류관을 구비한 증류 장치로 에피클로로하이드린을 증발 제거한 후, 수득된 잔액을 감압 증류함으로써 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 수득했다. 주입 몰 비, 반응 조건 및 반응 수율, 감압 증류 후의 부생성물량을 표 1 및 2에 나타낸다. 또한, 표에서의 촉매 및 물의 첨가율은 화학식 1의 원료 화합물, 에피클로로하이드린, 촉매 및 물의 총 중량에 대한 양을 산출한 것이다.
표 1 및 표 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 조건 하(실시예 1 내지 5)에서는 반응 수율이 높고, 감압 증류 후의 부생성물량도 적어지도록 억제되는 결과가 얻어진다. 이러한 효과는 물의 첨가량을 특정 범위로 조정한 경우에 현저하다(실시예 1 내지 3). 이에 대해, 본 발명의 범위 외의 조건(비교예 1)에서는 감압 증류 후의 부생성물량이 많고, 목적하는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜이 효율적으로 수득되지 않는 것이 자명하다.
실시예 6
상기 실시예의 방법에서 수득된 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜(무색 액체, 비점 97℃/0.7kPa)에 대해 반응성 희석제로서의 성능 시험을 실시했다. 대조군으로서는 시판되는 글리시딜에스터인 네오데칸산글리시딜(재팬에폭시레진사 제품, 카쥬라 El0)을 사용했다. 제조한 에폭시 수지 조성물 및 그를 이용하여 형성시킨 도막의 물성을 표 3에 나타낸다. 또한, 평가를 위한 측정·시험 방법은 이하의 방법에 따랐다. 여기서, 반응성 희석제의 첨가량은 에폭시 수지 및 반응성 희석제의 총 중량에 대한 양을 나타낸다.
(1) 점도 측정
주제인 비스페놀 A형 액상 에폭시 수지(재팬에폭시레진사 제품, 에피코트 828)에 반응성 희석제를 5중량% 첨가하고, B형 점도계로 25℃에서의 점도를 측정하여, 첨가 후의 점도 비율{(희석제 첨가시의 점도/주제만의 점도)× 100%}를 산출했다.
(2) 도막 제작
주제인 비스페놀 A형 액상 에폭시 수지(에피코트 828)에 반응성 희석제를 5중량% 첨가하고, 비스페놀 A형 액상 에폭시 수지의 아이소포론다이아민 부가체를 경화제로 하여 통상의 방법에 의해 두께 200μm의 도막을 제조했다.
(3) 경화 속도
주제인 비스페놀 A형 액상 에폭시 수지(에피코트 828)에 반응성 희석제를 5중량% 첨가하고, RCI 경화 속도 측정기로 완전 건조까지의 시간을 측정했다.
표 3에 나타낸 바와 같이 본 글리시딜에스터(2-하이드록시아이소부티르산글리시딜)는 첨가후의 점도가 대조 제품의 45%에 비해 40%로 저하되어 희석효과가 높았다. 또한 경화 속도는 9.25시간이며, 대조군(18.5시간)에 비해 대폭 빨라졌다. 이와 같이 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜은 에폭시 수지용 반응성 희석제로서 유용함을 알 수 있다.
본 발명의 방법에 의해 제조되는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜은 반응성 희석제로서 유용하며, 또한 본 반응성 희석제를 포함하는 에폭시 수지 조성물은 토목·건축용 재료나 전기·전자 부품의 매립, 주형, 접착, 도장, 적층 등에 바람직하게 사용된다.

Claims (8)

  1. 화학식 1로 표시되는 원료 화합물과 에피클로로하이드린을 촉매 존재 하에 반응시킴으로써, 화학식 2로 표시되는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 제조하는 방법에 있어서, 반응계 중에 수분을 존재시켜 반응을 실시하는 것을 특징으로 하는, 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
    화학식 1
    상기 식에서, X는 알카리 금속 원소 또는 수소 원소를 나타낸다.
    화학식 2
  2. 제 1 항에 있어서,
    반응계 중에 존재하는 수분량이 0.3중량% 이상 2.5중량% 이하의 범위인 것을 특징으로 하는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    원료 주입시 물을 첨가함으로써, 반응계 중에 존재하는 수분량을 0.3중량% 이상 2.5중량% 이하의 범위로 조절하는 것을 특징으로 하는, 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    화학식 1로 표시되는 원료 화합물 중의 X가, Na, K, 또는 Li인 것을 특징으로 하는, 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    촉매가 4급 암모늄염 또는 할로젠화 알칼리 금속염인 것을 특징으로 하는, 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    화학식 1로 표시되는 원료 화합물과 에피클로로하이드린의 주입 몰 비(화학식 1로 표시되는 원료 화합물:에피클로로하이드린)가 l:2 내지 1:10이며, 80℃ 내지 125℃의 반응 온도에서 0.5시간 내지 5시간 반응시키는 것을 특징으로 하는, 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법.
  7. 제 1 항에 따른 방법에 의해 수득되는 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜을 함유하는 에폭시 수지용 반응성 희석제.
  8. 제 7 항에 따른 반응성 희석제를 포함하는 에폭시 수지 조성물.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180072002A (ko) * 2016-12-15 2018-06-29 주식회사 케이씨씨 에폭시 수지의 제조방법
KR20180072001A (ko) * 2016-12-15 2018-06-29 주식회사 케이씨씨 에폭시 수지의 제조방법
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101248055B (zh) 2005-07-01 2012-01-25 三菱瓦斯化学株式会社 2-羟基异丁酸缩水甘油酯的制备方法及包含该产物的组合物
IT201900018488A1 (it) * 2019-10-10 2021-04-10 Dr Schaer S P A Procedimento di preparazione del tris-(3-idrossibutirrato)-gliceril estere
CN115825292B (zh) * 2023-02-14 2023-05-02 四川美域高生物医药科技有限公司 一种r-丁酸缩水甘油酯中s-缩水甘油的检测方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2772296A (en) * 1956-11-27 Process for preparing epoxy esters
GB648959A (en) 1945-08-17 1951-01-17 Du Pont Improvements in or relating to the preparation of esters of 2,3-epoxy propanol and to polymerisation products thereof
JPS554988B2 (ko) * 1973-12-29 1980-02-02
US4458063A (en) * 1982-04-22 1984-07-03 Daicel Chemical Industries, Ltd. 2-Methyl-1,3-propylene glycol mono- or di-alkylene oxide ether
EP0442583A1 (en) * 1990-02-16 1991-08-21 Dsm N.V. Powder coating based on a carboxyl-functional polyester and an epoxy-functional cross-linking agent
JPH0532650A (ja) 1991-07-31 1993-02-09 Yotsukaichi Gosei Kk グリシジルエーテル類の製造方法
JP3922310B2 (ja) 1995-08-25 2007-05-30 三菱瓦斯化学株式会社 アクリル酸またはメタクリル酸のグリシジルエステルの製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180072002A (ko) * 2016-12-15 2018-06-29 주식회사 케이씨씨 에폭시 수지의 제조방법
KR20180072001A (ko) * 2016-12-15 2018-06-29 주식회사 케이씨씨 에폭시 수지의 제조방법
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