KR20050044343A - 윤활성이 부여된 하드코트층을 갖는 광디스크 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

청색 레이저 등의 단파장의 레이저광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크에 있어서, 내마모성, 표면 윤활성의 내구성 및 투명성이 우수한 하드코트층을 갖는 광디스크를 제공한다.
광디스크의 기록층 표면에, 박막 커버층을 사이에 두고, 활성 에너지선에 의해 중합할 수 있는 중합성 관능기를 2 개 이상 갖는 다관능성 화합물, 메르캅토실란 화합물에 의해 표면 수식된 평균 입경 1∼200㎚ 의 수식 콜로이드상 실리카, 분자안에 라디칼 중합성 관능기를 갖는 윤활성 부여제 및 광중합 개시제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물의 투명 경화물층으로 이루어지는 하드코트층을 형성한다.

Description

윤활성이 부여된 하드코트층을 갖는 광디스크 및 그 제조 방법 {OPTICAL DISK HAVING HARD COAT LAYER EXHIBITING EFFECTIVE LUBRICITY}
본 발명은, 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크에 있어서, 그 기록층의 표면에, 박막 커버층을 사이에 두고, 내마모성, 표면 윤활성의 내구성 및 투명성 등이 우수한 하드코트층이 형성된 광디스크에 관한 것이다.
최근 멀티미디어화에 대응하여, 대량의 데이터를 고밀도로 기록하고, 또한 신속하게 기록 재생하는 광기록 장치가 주목되고 있다. 이 광기록 장치에는, CD, 레이저 디스크와 같이 디스크 제작시에 정보를 미리 디스크상에 스탬핑하여 정보 재생만을 가능하게 한 재생 전용형 디스크를 재생하는 것, CD-R 와 같이 한번만 기록을 가능하게 한 추기(追記)형 디스크를 기록ㆍ재생하는 것, 광자기 기록 방식이나 상변화 기록 방식을 사용하여 몇 번이라도 데이터의 재기록소거를 가능하게 한 재기록형 디스크를 재생ㆍ기록하는 것이 있다. 이들 광기록 장치에서는, 데이터의 재생ㆍ기록이 레이저광을 렌즈에 의해 회절 한계에까지 좁힌 광 스팟을 사용하여 이루어진다. 이 광 스팟의 사이즈는, 레이저광의 파장을 λ, 렌즈의 개구수를 NA 로 하면, λ/NA 정도가 된다 (쓰노다요시토 감수, 「광디스크 스토리지의 기초와 응용」: 사단법인 전자정보통신학회 (The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers), 1995년, p.65).
보다 고밀도로 정보를 기록하는, 즉 보다 작은 피트 패턴을 광기록매체 상에 형성하기 위해서는, 레이저광 스팟을 보다 작게 할 필요가 있다. 광 스팟의 사이즈를 작게 하기 위해서는, 레이저광 파장 (λ) 을 짧게 하는 방법, 또는 렌즈의 개구수 (NA) 를 크게 하는 방법의 2 가지 방법을 상기 식으로부터 생각할 수 있다. 현재 사용되고 있는 광디스크용 반도체 레이저의 파장은 주로 780∼680㎚ 이지만, 추가적으로 단파장인 650㎚ 의 등색(橙色) 레이저, 보다 단파장인 녹색, 청색 레이저광 등을 사용하는 것이 검토되고 있다.
특히 청색 레이저를 사용하는 방식으로는 광원의 파장을 400㎚ 정도, NA 를 0.6 이상으로 함으로써, 보다 큰 기록 밀도를 획득하는 것이 제안되어 있다. 그러나, 광원의 단파장화나 대물렌즈의 고 NA 화가 원인이 되어, 광디스크면이 광축에 대하여 직각으로부터 기울어지는 틸트의 허용량이나 광디스크의 두께 불균일의 허용량이 작아진다.
이들 허용량이 작아지는 이유는, 광디스크의 틸트의 경우에는 코마 수차가 발생하고, 광디스크의 두께 불균일의 경우에는 구면 수차가 발생하기 때문에, 광헤드 장치의 집광 특성이 열화되어 신호의 판독이 어려워지는 것에 따른 것이다.
이 때문에, 컴팩트 디스크 (CD) 등에서는 기록층의 표면에 형성되어 있는 커버층의 두께가 1.2㎜, 디지털 버서타일 디스크 (DVD: digital versatile disk) 등에서는 커버층의 두께가 0.6㎜ 이고, 각각 디스크 기반 자체가 그 역할을 담당해 왔다. 그러나 청색 레이저를 사용하는 방식에서는 렌즈의 개구수 (NA) 를 크게 하는 것에 수반하여, 상기 틸트의 허용량이나 광디스크의 두께 불균일의 허용량을 조금이라도 벌기 위해, 이 커버층을 0.1mm 정도로 얇게 할 필요가 있어, 종래의 디스크 기반 자체를 커버층으로 사용할 수 없게 되었다. 그래서, 디스크 기반의 반사막 및 기록막 등의 적층막 (이하, 상기 적층막을 간단하게 기록층으로 기재하는 경우가 있다) 을 형성한 면에 박막 커버층을 형성하게 된다.
단파장의 레이저를 사용하게 되면, 광헤드와 광디스크의 간격이 0.1∼0.2㎜ 정도로 작아지고, 경우에 따라서는 광헤드가 광디스크에 접촉할 가능성도 생기기 때문에, 광디스크의 기록층 표면에는 높은 내흠집성이 요구된다.
또한, 보다 단파장의 레이저를 사용하게 되면, 광디스크의 레이저광 입사면에 생긴 흠집이나, 먼지나 이물질의 부착이 기록 재생시에 에러로 이어지기 쉬워진다. 이 때문에, 이러한 기록 재생시의 에러를 방지하기 위해 레이저광 입사면의 박막 커버층에는 보다 높은 내마모성이 요구되어 왔다. 또한, 더불어 그 박막 커버층의 면에 윤활성을 부여함으로써 가해진 외력을 다른 곳으로 돌리는(피하는) 연구도 유효하다. 그런데, 광디스크를 장기간에 걸쳐 드라이브에 넣어 둔 경우, 드라이브내의 디스크가 40℃ 이상으로 되어 윤활성 부여제가 휘산하여 내구성에 어려운 점이 인정된다.
본 발명의 과제는, 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크 (이하, 초고밀도 기록용 광디스크 또는 간단히 광디스크라고 기재하는 경우가 있다) 의 고성능화를 실현하는 것이다. 즉, 상기 광디스크의 기록층 표면에 박막 커버층을 사이에 두고, 내마모성 및 내구성이 우수한 윤활성을 갖는 하드코트층이 형성된 광디스크를 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 과제는, 상기 박막 커버층이, 레이저광의 투과율이 높고, 기록층과 양호한 밀착성을 가지며, 상기 박막 커버층의 형성시의 수축 등에 의한 디스크 변형이 지극히 작고, 또한 특정 하드코트층을 형성했을 때에 충분한 하드코트 성능을 발현할 수 있는 광디스크 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은, 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크에 있어서, 광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 박막 커버층 (Z) 을 사이에 두고 하기의 하드코트층 (X) 이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 윤활성이 부여된 하드코트층을 갖는 광디스크를 제공한다.
하드코트층 (X): 활성 에너지선에 의해 중합할 수 있는 중합성 관능기를 2 개 이상 갖는 다관능성 화합물 (A), 메르캅토기를 갖는 유기기와 가수분해성기 및/또는 수산기가 규소원자에 결합되어 있는 메르캅토실란 화합물에 의해 표면 수식된 평균 입경 1∼200㎚ 의 수식 콜로이드상 실리카 (B), 분자안에 라디칼 중합성 관능기를 갖는 윤활성 부여제 (C), 및 광중합 개시제 (D) 를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물 (Q) 을 경화시켜 획득되는 경화물층.
본 발명에 의하면, 광디스크의 기록층 표면에, 박막 커버층을 사이에 두고 활성 에너지선 경화성의 유기ㆍ무기 하이브리드계의 투명 경화물층이 형성되기 때문에, 내마모성이 우수함과 동시에, 사용하는 윤활성 부여제가 매트릭스 수지의 광경화 반응시에 상기 매트릭스 수지와 공중합되기 때문에, 가열 휘산 등을 일으키지 않고 표면 윤활성의 내구성이 높은 하드코트층을 갖는 광디스크를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명은, 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크에 있어서, 광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 박막 커버층 (Z) 을 사이에 두고 하기의 하드코트층 (X') 이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 윤활성이 부여된 하드코트층을 갖는 광디스크를 제공한다.
하드코트층 (X') : 폴리실라잔 (H) 및 분자안에 라디칼 중합성 관능기를 갖는 윤활성 부여제 (C') 를 함유하는 피복 조성물 (Q') 을 경화시켜 획득되는 경화물층.
본 발명에 의하면, 하드코트층 (X') 로서, 폴리실라잔 화합물 유래의 실리카 경화체를 선택하는 것에 의해, 매우 고도한 내흠집성을 발현할 수 있다.
또한, 본 발명은, 상기 박막 커버층 (Z) 이 다관능 우레탄 아크릴레이트 화합물 (E), 폴리시클로알칸 구조를 갖는 활성 에너지선 경화성의 중합성 관능기를 1 개 이상 갖는 화합물 (F), 및 광중합 개시제 (D2) 를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물 (P) 을 경화시켜 획득되는 경화물층인 광디스크를 제공한다.
또한, 본 발명은, 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크의 제조 방법에 있어서, 광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 (P) 의 미경화물층 (Z1), 부분 경화물층 (Z2) 또는 경화물층 (Z) 을 형성하고, 상기 (Z1), 상기 (Z2) 또는 상기 (Z) 의 표면에, 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 (Q) 또는 피복 조성물 (Q') 의 미경화물층 (X1) 또는 부분 경화물층 (X2) 을 형성하고, 이어서, 상기 (P) 의 층이 경화물층 (Z) 인 경우는 상기 (Q) 또는 (Q') 의 미경화물층 (X1) 또는 부분 경화물층 (X2) 을 경화시키고, 또는, 상기 (P) 의 층이 미경화물층 (Z1) 또는 부분 경화물층 (Z2) 인 경우는 상기 (P) 의 층 및 상기 (Q) 또는 (Q') 의 층을 동시에 경화시켜, 상기 박막 커버층 (Z) 및 상기 하드코트층 (X) 또는 (X') 이 형성된 광디스크를 획득하는 것을 특징으로 하는 광디스크의 제조 방법을 제공한다.
본 발명에 의하면, 박막 커버층 (Z) 형성용 수지로서, 경화 수축량이 낮고 유연성이 우수한 특정 우레탄 아크릴레이트와 Tg 가 높고 또한, 경화 수축량이 낮은 특정 폴리시클로알칸 화합물을 병용함으로써, 저수축이 달성되며, 또한 상부에 하드코트층이 형성되었을 때에 우수한 하드코트 성능을 발현할 수 있는 층이 형성된다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명에 있어서의 광디스크는, 청색 레이저로 대표되는 단파장 레이저를 사용하는 초고밀도 기록용 광디스크로서, 이 때문에, 기록층이 형성된 광디스크 기반과 박막 커버층이 별도로 설계되어 있다. 따라서, 본 발명에 있어서의 광디스크는, 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크인 한, 모든 타입의 광디스크를 의미한다.
본 발명에 있어서의 하드코트층 (X) 은, 활성 에너지선에 의해 중합할 수 있는 중합성 관능기를 2 개 이상 갖는 다관능성 화합물 (A), 메르캅토기를 갖는 유기기와 가수분해성기 및/또는 수산기가 규소원자에 결합되어 있는 메르캅토실란 화합물에 의해 표면 수식된 평균 입경 1∼200㎚ 의 수식 콜로이드상 실리카 (B: 이하, 수식 콜로이드상 실리카 (B) 또는 간단히 (B) 라고 기재하는 경우가 있다), 분자안에 라디칼 중합성 관능기를 갖는 윤활성 부여제 (C: 이하, 윤활성 부여제 (C) 또는 간단히 (C) 라고 기재하는 경우가 있다) 및 광중합 개시제 (D: 이하, 간단히 (D) 라고 기재하는 경우가 있다) 를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물 (Q) 을 경화시켜 획득되는 경화물층이다.
우선, 활성 에너지선 경화성 조성물 (Q: 이하, 간단히 조성물 (Q) 라고 기재하는 경우가 있다) 에 대해서 설명한다. 상기 조성물 (Q) 은, 일본 공개특허공보 평10-81839호에 개시된 것이다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기를 총칭하여 (메타)아크릴로일기라고 기재하고, (메타)아크릴로일옥시기, (메타)아크릴산, (메타)아크릴레이트 등의 표현도 동일한 것으로 한다.
상기 조성물 (Q) 에 있어서의, 활성 에너지선에 의해 중합할 수 있는 중합성 관능기를 2 개 이상 갖는 다관능성 화합물 (A: 이하, 화합물 (A) 또는 간단히 (A) 라고 기재하는 경우가 있다) 은, 일본 공개특허공보 평10-81839호의 단락번호 0013∼0052 에 기재된 다관능성 화합물 (a) 에 상당한다. 본 발명에 있어서의 화합물 (A) 로는, 중합성 관능기를 분자중에 3 개 이상 가지며, 1 관능기당 분자량이 100이하인 것이 특히 바람직하다. 구체적으로는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 바람직하게 예시할 수 있다.
다음으로 본 발명에 있어서의 수식 콜로이드상 실리카 (B) 는, 일본 공개특허공보 평10-81839호의 단락번호 0057∼0079 에 기재된 성분 (b) 에 상당한다.
또한, 상기 수식 콜로이드상 실리카 (B) 에 있어서의 메르캅토실란 화합물은, 하기식 (1) 으로 나타내는 화합물이 바람직하다.
HS－R－SiXnR1 3－n … (1)
단, 식 (1) 에 있어서, HS－ 는 메르캅토기를 갖는 유기기, R 은 2 가의 탄화수소기, R1 은 1 가의 탄화수소기, X 는 수산기 또는 가수분해성기, n 은 1∼3 의 정수를 나타낸다.
본 발명에 있어서의 수식 콜로이드상 실리카 (B) 로는, 콜로이드상 실리카가 분산된 유기 분산매(分散媒)에 메르캅토실란 화합물을 첨가하여 가수분해하는 것에 의해 획득되는 것이 특히 바람직하게 채용된다.
상기 조성물 (Q) 에 있어서의 화합물 (A) 과 수식 콜로이드상 실리카 (B) 의 비율은 특별히 한정되지 않지만, (A) 100질량부에 대하여, (B) 가 5∼300질량부인 것이 바람직하다. (B) 의 비율이 너무 적으면 충분한 내마모성을 획득하는 것이 힘들고, (B) 의 비율이 너무 많으면 경화 피막에 헤이즈가 생기기 쉬우며, 또한, 디스크가 외력에 의해 강제적으로 변형될 때에 크랙 등이 생기기 쉬워진다. 보다 바람직한 비율은, (A) 100질량부에 대하여, (B) 가 10∼200질량부이다.
상기 조성물 (Q) 에 있어서의 윤활성 부여제 (C) 로는, 일반적으로 윤활성 부여제로서 사용되고 있는 실리콘계 화합물 (예를 들어 폴리디메틸실록산, 폴리디메틸실록산/폴리에테르 블록 코폴리머, 알킬기 변성 폴리디메틸실록산, 불소계 화합물, 폴리올 화합물과 지방산의 에스테르화물인 지방산 에스테르 왁스 등) 에 라디칼 중합성의 관능기를 도입함으로써 획득된다. 본 발명에 있어서, 라디칼 중합성 관능기란, 상기 (A) 에 있어서의 중합성 관능기 유래의 활성 라디칼과 반응성을 갖는 것이면 어느 것이든 상관없다. 예를 들어 (메타)아크릴기, 알릴기, 비닐기, 비닐에테르기, 메르캅토기 등을 예시할 수 있다. 상기 윤활성 부여제 (C) 로는, 분자중에 메르캅토기를 갖는 폴리디메틸실록산, 분자중에 (메타)아크릴기를 갖는 폴리디메틸실록산 등이 특히 바람직하다.
이러한 라디칼 중합성 관능기를 갖는 윤활성 부여제 (C) 는, 조성물 (Q) 을 경화시키기 위한 활성 에너지선 조사중에 화합물 (A) 과 반응하기 때문에, 비반응성 윤활제와는 달리 장기간 사용중에 닦여 제거되는 일이 없다. 따라서, 윤활성이 부여된 하드코트층 (X) 이 장기간에 걸쳐 우수한 표면 윤활성을 유지할 수 있다.
본 발명에 있어서, 윤활성 부여제 (C) 의 수평균 분자량은 1000이상이 바람직하다. 상기 수평균 분자량이 1000미만에서는, 충분한 윤활성을 획득하기 힘든 경향이 있다.
상기 조성물 (Q) 에 있어서의 화합물 (A) 과 윤활성 부여제 (C) 의 비율은 특별히 한정되지 않지만, (A) 100질량부에 대하여, (C) 가 0.01∼10질량부인 것이 바람직하다. (C) 의 비율이 너무 적으면 발현되는 윤활성이 불충분해지고, 또한 (C) 의 비율이 너무 많으면 하드코트층 (X) 자체가 가소화(可塑化)되어, 내흠집성이 저하되는 경향이 있다.
상기 조성물 (Q) 에 있어서의 광중합 개시제 (D1) 로는, 공지 내지 주지된 것을 사용할 수 있다. 특히 입수가 용이한 시판되는 광중합 개시제가 바람직하다. 또한, 복수의 광중합 개시제를 병용할 수도 있다.
구체적인 광중합 개시제 (D1) 로는, 아릴 케톤계 광중합 개시제 (예를 들어, 아세토페논류, 벤조페논류, 알킬아미노벤조페논류, 벤질류, 벤조인류, 벤조인에테르류, 벤질디메틸케탈류, 벤조일벤조에이트류, α-아실옥심에스테르류 등), 황함유계 광중합 개시제 (예를 들어, 술피드류, 티오크산톤류 등), 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제, 디아실포스핀옥시드계 광중합 개시제 및 기타 광중합 개시제 등을 들 수 있다. 또한, 상기 광중합 개시제 (D1) 은 아민류 등의 광증감제와 조합하여 사용할 수도 있다.
상기 광중합 개시제 (D1) 로는, 다음에 열거하는 화합물을 예시할 수 있다.
4-페녹시디클로로아세토페논, 4-tert-부틸디클로로아세토페논, 4-tert-부틸트리클로로아세토페논, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-(2-히드록시에톡시)페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-{4-(메틸티오)페닐}-2-모르폴리노프로판-1-온.
벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈, 벤조페논, 벤조일벤조산, 벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 3,3',4,4'-테트라키스(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 9,10-페난트렌퀴논, 캠퍼퀴논, 디벤조수베론, 2-에틸안트라퀴논, 4,4'-디에틸이소프탈로페논, 1-페닐-1,2-프로판디온-2(O-에톡시카르보닐)옥심, 메틸페닐글리옥시레이트.
4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤.
2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,6-디메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드.
조성물 (Q) 에 있어서의 광중합 개시제 (D1) 의 비율도 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 화합물 (A) 100질량부에 대하여, 광중합 개시제 (D1) 이 0.01∼20질량부인 것이 바람직하고, 특히 0.1∼10질량부가 바람직하다.
본 발명에 있어서, 조성물 (Q) 로는, (A) 100질량부에 대하여, (B) 가 5∼300질량부이고, (C) 가 0.01∼10질량부이고, 또한, (D1) 이 0.1∼20질량부인 것이 특히 바람직하다.
본 발명에 있어서의 조성물 (Q) 에는, 화합물 (A), 수식 콜로이드상 실리카 (B), 윤활성 부여제 (C), 광중합 개시제 (D1) 외에, 다음에 예시되는 중합성 관능기를 1 개 갖는 단관능의 활성 에너지선 경화성 화합물 (G: 이하, 단관능 화합물 (G) 또는 간단히 (G) 라고 기재하는 경우가 있다) 등이 함유되어도 된다. 상기 단관능 화합물 (G) 로는, (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하고, 특히 아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다. 또한 상기 단관능 화합물 (G) 은, 그 외에 수산기, 에폭시기 등의 관능기를 가지고 있어도 된다. 상기 단관능 화합물 (G) 의 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 화합물 (A) 100질량부에 대하여, 0∼50질량부의 범위에서 적절히 선정된다.
화학식, CH2 = C(R2)COOCnH2n＋1 (R2 는 수소원자 또는 메틸기이고, n 은 1∼13 의 정수이다) 으로 나타내는 알킬(메타)아크릴레이트 (상기 화학식에 있어서, CnH2n＋1 은 직쇄 구조일 수도 있고 분기 구조일 수도 있다), 알릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 부탄디올(메타)아크릴레이트, 부톡시트리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, tert-부틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 3-클로로-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-시아노에틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2,3-디브로모프로필(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에테르(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시)에틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필트리메틸암모늄클로라이드, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, γ-(메타)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시테트라에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시화 시클로데카트리엔(메트)아크릴레이트, 모르폴린(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 페녹시히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시테트라에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시헥사에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-술폰산나트륨에톡시(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 테트라히드로프루푸릴(메타)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 비닐아세테이트, N-비닐카프롤락탐, N-비닐피롤리돈, 디시클로펜타디에닐(메타)아크릴레이트.
상기 단관능성 화합물 (G) 을 사용하는 경우, 조성물 (Q) 에 있어서의 화합물 (A) 및 단관능성 화합물 (G) 의 합계에 대한 상기 단관능성 화합물 (G) 의 비율은 특별히 한정되지 않는다.
본 발명에 있어서, 상기 조성물 (Q) 에는, 상기한 기본적 성분 이외에 하기의 용제나 각종 기타 기능성 배합제를 함유시킬 수 있다.
상기 조성물 (Q) 에 있어서 용제를 사용하는 경우에는, 상기한 기본적 성분을 용해할 수 있는 용제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 광디스크 기반의 종류에 따라서 적절한 용제를 선택하여 사용하는 것이 바람직하고, 예를 들면, 탄화수소류, 할로겐화 탄화수소류, 케톤류, 에테르류, 에스테르류 등을 바람직한 용제로서 들 수 있다. 또한, 상기 용제의 사용량은, 필요로 하는 조성물 (Q) 의 점도, 목적으로 하는 경화물층의 두께, 건조 온도 등의 조건 등에 따라 적절히 변경할 수 있다. 본 발명에 있어서의 상기 용제는, 화합물 (A) 및 단관능성 화합물 (G) 과의 합계에 대하여 질량 기준으로 100배 이하, 바람직하게는 0.1∼50배의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.
상기 기타 기능성 배합제로는, 자외선 흡수제, 광안정제, 산화방지제, 열중합방지제, 레벨링제, 기포제거제, 증점제, 침강방지제, 안료 (유기 착색 안료, 무기 안료), 착색 염료, 적외선 흡수제, 형광증백제, 분산제, 방오성부여제, 지문제거성 부여제, 도전성 미립자, 대전방지제, 흐림방지제, 경화 촉매 및 커플링제로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 기능성 배합제를 들 수 있다.
자외선 흡수제로는, 합성 수지용 자외선 흡수제로서 통상적으로 사용되고 있는 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 살리실산계 자외선 흡수제, 페닐트리아진계 자외선 흡수제 등이 바람직하다. 구체적으로는, 일본 공개특허공보 평11-268196호의 단락번호 0078 에 기재된 화합물을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 조성물 (Q) 이 다관능성 화합물을 함유하기 때문에, 2-{2-히드록시-5-(2-아크릴로일옥시에틸)페닐}벤조트리아졸, 2-히드록시-3-메타크릴로일옥시프로필-3-(3-벤조트리아졸-4-히드록시-5-tert-부틸페닐)프로피오네이트 등과 같이 분자안에 광중합성의 관능기를 갖는 것이 특히 바람직하다.
광안정제로는, 합성 수지용 광안정제로서 통상적으로 사용되고 있는 힌더드 아민계 광안정제가 바람직하다. 구체적으로는, 일본 공개특허공보 평11-268196호의 단락번호 0080 에 기재된 화합물을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, N-메틸-4-메타크릴로일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 등과 같이 분자안에 중합성 관능기를 갖는 것이 특히 바람직하다.
산화방지제로는, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸 등의 힌더드 페놀계 산화 방지제, 트리페닐포스파이트 등의 인계 산화방지제 등을 들 수 있다. 또한 레벨링제로는, 실리콘 수지계 레벨링제, 아크릴 수지계 레벨링제 등을 들 수 있다.
기포제거제로는, 폴리디메틸실록산 등의 실리콘 수지계 기포제거제 등을 들 수 있다. 또한 증점제로는, 폴리메틸메타크릴레이트계 폴리머, 수첨 피마자유계 화합물, 지방산 아미드계 화합물 등을 들 수 있다.
유기 착색 안료로는, 축합 다환계 유기 안료, 프탈로시아닌계 유기 안료 등을 들 수 있다. 무기 안료로는, 이산화티탄, 산화코발트, 몰리브덴 레드, 티탄 블랙 등을 들 수 있다. 또한, 착색 염료로는, 유기 용제 가용성 아조계 금속착염 염료, 유기 용제 가용성 프탈로시아닌계 염료 등을 들 수 있다.
적외선 흡수제로는, 폴리메틴계, 프탈로시아닌계, 금속 착물계, 아미늄계, 디이모늄계, 안트라퀴논계, 디티올 금속 착물계, 나프토퀴논계, 인돌 페놀계, 아조계, 트리아릴메탄계의 화합물 등을 들 수 있다.
방오성부여제, 지문제거성 부여제로는, 규소 수지계 방오 첨가제, 불소 수지계 방오 첨가제 등을 들 수 있다.
도전성 미립자로는, 아연, 알루미늄, 니켈 등의 금속분말, 인화철, 안티몬 도프형 산화주석 등을 들 수 있다.
대전방지제로는, 비이온계 대전방지제, 양이온계 대전방지제, 음이온계 대전방지제 등을 들 수 있다.
경화 촉매로는, 산, 알칼리 또는 염류 등에서 선택되는 경화 촉매를 들 수 있다.
커플링제로는, 실란 커플링제, 티타네이트 커플링제 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서, 하드코트층 (X) 의 두께는 0.1∼20㎛ 가 바람직하고, 특히 0.5∼10㎛ 가 바람직하다. 하드코트층 (X) 의 두께가 너무 두꺼우면, 내마모성 등의 표면 특성의 향상을 그 이상 기대할 수 없을 뿐 아니라, 층이 무르게 되어, 디스크의 미소한 변형에 의해서도 하드코트층 (X) 에 크랙 등이 생기기 쉬워진다. 또한 너무 얇으면, 상기 하드코트층 (X) 의 내마모성이 충분히 발현되지 않을 우려가 있다.
본 발명에 있어서의 하드코트층 (X') 는, 폴리실라잔 (H) 및 분자안에 라디칼 중합성 관능기를 갖는 윤활성 부여제 (C') 를 함유하는 피복 조성물 (Q') 을 경화시켜 획득되는 경화물층이다. 상기 조성물 (Q') 에 있어서의 폴리실라잔 (H) 으로는, 일본 공개특허공보 평11-240103호 (대응 미국특허 6,383,641호) 의 단락번호 0098∼0112 에 기재된 폴리실라잔을 사용하는 것이 바람직하다.
구체적으로 폴리실라잔 (H) 은, (-Si-N-) 의 단위를 2 개 이상 갖는 중합체이고, 이 화학식에 있어서 규소원자 (4 가) 의 나머지 2 개의 결합수(手), 및 질소원자 (3 가) 의 나머지 1 개의 결합수에는, 각각 수소원자나 유기기 (알킬기 등) 가 결합되어 있다. 또한, 상기 반복 단위만으로 이루어지는 선형상 구조의 중합체뿐만 아니라, 상기 규소원자의 나머지 2 개의 결합수의 한쪽 또는 양쪽과 상기 질소원자의 결합수가 결합되어 환상 구조를 형성하고 있어도 된다. 중합체는 환상 구조만의 반복으로 이루어져 있어도 되고, 일부에 환상 구조를 갖는 선형상의 중합체이어도 된다.
이들 폴리실라잔 (H) 에 대해서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 평9-31333호 (대응 미국특허 5,922,411호) 나 거기에 인용되어 있는 문헌에 기재되어 있는 폴리실라잔이 있으며, 이와 같은 폴리실라잔을 본 발명에 있어서의 폴리실라잔 (H) 으로서 사용할 수 있다. 또한, 일본 공개특허공보 평9-31333호, 또는 이에 인용되어 있는 문헌에 기재되어 있는 변성 폴리실라잔도 또한 본 발명에 있어서의 폴리실라잔 (H) 으로서 사용할 수 있다.
폴리실라잔 (H) 은 산소 존재하에 분해하여 질소원자가 산소원자로 치환되어 실리카가 형성된다. 폴리실라잔 (H) 으로부터 형성되는 실리카는, 가수분해성 실란 화합물로부터 형성되는 실리카에 비하여 보다 치밀한 것이다. 예를 들어, 퍼히드로폴리실라잔으로부터 형성된 실리카는, 4 관능성의 가수분해성 실란 화합물 (예를 들어 테트라알콕시실란) 로부터 형성된 실리카에 비하여 보다 치밀하며 내마모성 등의 표면 특성이 우수하다.
폴리실라잔 (H) 으로는 실질적으로 유기기를 함유하지 않는 폴리실라잔 (즉 퍼히드로폴리실라잔), 알콕시기 등의 가수분해성기가 규소원자에 결합된 폴리실라잔, 규소원자나 질소원자에 알킬기 등의 유기기가 결합되어 있는 폴리실라잔 등이 있다. 이러한 폴리실라잔에 있어서, 규소원자에 가수분해성기를 가지고 있는 경우는 경화시의 가수분해 반응에 의해 실질적으로 유기기를 함유하지 않는 실리카가 형성된다. 특히 퍼히드로폴리실라잔은 소성 온도가 낮고 또한 소성후의 경화 피막이 치밀하다는 점에서 바람직하다.
피복 조성물 (Q') 에 사용되는 폴리실라잔 (H) 을 용해하는 용제로는 지방족 탄화수소, 지환족 탄화수소, 방향족 탄화수소 등의 탄화수소 용매, 할로겐화 탄화수소 용매, 지방족 에테르, 지환족 에테르 등의 에테르류를 사용할 수 있다.
구체적으로는, 펜탄, 헥산, 이소헥산, 메틸펜탄, 헵탄, 이소헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 시클로펜탄, 메틸시클로펜탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등의 탄화수소류, 염화메틸렌, 클로로포름, 사염화탄소, 브로모포름, 1,2-디클로로에탄, 1,1-디클로로에탄, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소류, 에틸에테르, 이소프로필에테르, 에틸부틸에테르, 부틸에테르, 디옥산, 디메틸디옥산, 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란 등의 에테르류 등이 있다.
이들 용제를 사용하는 경우, 폴리실라잔의 용해도나 용제의 증발 속도를 조절하기 위해 복수 종류의 용제를 혼합해도 된다. 용제의 사용량은 채용되는 도공 방법 및 폴리실라잔의 구조나 평균 분자량 등에 따라 다르지만, 도공액의 고형분 농도가 0.5∼80질량% 가 되는 범위에서 조제하는 것이 바람직하다.
또한, 조성물 (Q') 에 있어서의 윤활성 부여제 (C') 로는, 상기 조성물 (Q) 에 있어서 기재한 윤활성 부여제 (C) 와 동일한 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 그리고, 피복 조성물 (Q') 에는, 필요에 따라 상기 기능성 배합제를 배합해도 된다. 상기 피복 조성물 (Q') 을 사용한 하드코트층 (X') 의 두께는 0.05∼10㎛ 가 바람직하고, 특히 0.1∼3㎛ 가 바람직하다. 상기 하드코트층 (X') 의 두께가 너무 두꺼우면, 내찰상성 등의 표면 특성의 향상을 기대할 수 없을 뿐 아니라, 층이 무르게 되어, 디스크의 미소한 변형에 의해서도 하드코트층 (X') 에 크랙 등이 생기기 쉬워진다. 또한 너무 얇으면, 상기 하드코트층 (X') 에 근거하는 내마모성, 내찰상성이 충분히 발현되지 않을 우려가 있다.
다음으로, 광디스크 기반에 대해서 설명한다.
광디스크 기반으로는, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 아몰퍼스 폴리올레핀 등의 투명 수지 또는 유리에 직접 안내홈을 형성한 기반, 상기 투명 수지 또는 유리에 포토폴리머법에 의해 안내홈을 형성한 기반 등을 바람직하게 들 수 있다.
상기 광디스크 기반의 안내홈의 표면에는, 하기하는 유전체막, 기록막, 반사막 등으로 이루어지는 적층막이 형성된다. 이들 각 막의 재질은 특별히 한정되지 않는다.
유전체막의 재질로는, 예를 들면, Si3N4, SiO2, AlSiON, AlSiN, AlN, AlTiN, Ta2O5, ZnS 등을 바람직하게 들 수 있다.
기록막의 재질은 기록 방식에 따라 다르지만, 예를 들어, 추기형 광기록매체에서는 Te, Sn, Se 등의 칼코게나이트계 합금, 상변화형 광기록매체에서는 TeOx, InSe, SnSb 등의 칼코게나이트계 합금, 광자기 디스크에서는 TbFeCo, NdDyFeCo 등의 천이 금속과 희토류 금속의 합금 (단층 또는 2 층 이상의 교환 결합막) 을 바람직하게 들 수 있다.
반사막의 재질은, 예를 들어, Al, Au, Ag, Cu 등의 금속, Al-Ti, Al-Cr 등의 합금을 바람직하게 들 수 있다.
본 발명의 광디스크는, 예를 들어 다음과 같은 방법으로 제조할 수 있다.
상기 광디스크 기반의 안내홈을 갖는 면에, 통상적인 방법에 의해 유전체막, 기록막, 반사막 등으로 이루어지는 적층막 (기록층) 을 형성한다. 각각의 유전체막, 기록막 및 반사막은, 스퍼터링, 이온플레이팅 등의 물리 증착법 또는 플라즈마 CVD 등의 화학 증착법에 의해 형성할 수 있다.
본 발명에 있어서는, 광디스크의 기록층 표면에 박막 커버층 (Z) 이 형성되어 있다. 상기 박막 커버층 (Z) 의 형성 방법으로는, 스핀 코트법, 롤 코터법, 스크린 인쇄법 등의 도포 방법에 의해 경화성 수지 등을 균일하게 도포한 후, 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선 조사에 의한 경화 및/또는 열경화 등에 의해 형성하는 방법, 소정 두께의 수지 필름을 접착층을 통하여 접합하는 방법 등을 들 수 있다.
상기 박막 커버층 (Z) 은, 특별히 한정되지 않으며 공지 내지 주지된 것을 채용할 수 있다. 예를 들어, 상기 소정 두께의 수지 필름으로는, 캐스트 폴리카보네이트 필름 등을 들 수 있다. 또한 상기 박막 커버층 (Z) 은, 일본 공개특허공보 평11-240103호의 단락번호 0024∼0036 에 기재된 다관능 우레탄 (메타)아크릴레이트 화합물 (이하, 화합물 (E) 라고 기재하는 경우가 있다) 등을 사용하여 형성해도 된다. 상기 화합물 (E) 로는, 특히 2 관능의 화합물로서, 중량 평균 분자량이 1500 이상, 그리고 20000 이하인 화합물이 바람직하다. 2 관능의 화합물을 사용하는 것에 의해, 광중합시의 경화 수축량을 보다 낮게 할 수 있다. 또한, 상기 범위의 중량 평균 분자량을 채용하는 것에 의해, 박막 커버층 형성용 조성물의 점도를 원하는 범위로 조정할 수 있고, 1 회의 코팅에 의해 50㎛ 이상의 층을 형성할 수 있음과 동시에, 코팅 작업이 용이해진다. 상기 화합물 (E) 은 1 종류로 사용할 수도 있고, 2 종류 이상으로 사용할 수도 있다.
본 발명에 있어서의 박막 커버층 (Z) 은, 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 화합물 (E), 폴리시클로알칸 구조를 갖는 활성 에너지선 경화성의 중합성 관능기를 1 개 이상 갖는 화합물 (F) 및 광중합 개시제 (D2) 를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물 (P) 을 경화시켜 획득되는 경화물층이 바람직하다.
조성물 (P) 에 있어서의, 화합물 (E), 폴리시클로알칸 구조를 갖는 활성 에너지선 경화성의 중합성 관능기를 1 개 이상 갖는 화합물 (F) (이하, 화합물 (F) 또는 간단히 (F) 라고 기재하는 경우가 있다) 및 광중합 개시제 (D2) (이하, 간단히 (D2) 라고 기재하는 경우가 있다) 의 비율은 특별히 한정되지 않는다. 통상적으로는 (E)/(F)/(D2) 의 합계 100질량부에 대하여, 화합물 (E) 가 10∼80질량부인 것이 바람직하고, 특히 20∼70질량부가 바람직하다. 화합물 (E) 의 비율이 상기 범위이면, 조성물 (P) 의 점도를 원하는 범위로 조정할 수 있고, 1 회의 코팅에 의해 50㎛ 이상의 층을 형성할 수 있음과 동시에, 코팅 작업이 용이해진다.
본 발명에 있어서의 화합물 (F) 은 폴리시클로알칸 구조를 갖는 것이 중요하다. 상기 폴리시클로알칸 구조로는, 비시클로알칸 구조, 트리시클로알칸 구조, 테트라시클로알칸 구조, 펜타시클로알칸 구조 등을 들 수 있지만, 통상적으로는 비시클로알칸 구조 및 트리시클로알칸 구조가 바람직하다.
상기 화합물 (F) 로는, 다음에 열거하는 화합물을 예시할 수 있다.
이소보르닐(메타)아크릴레이트, 8-(2-아크릴로일옥시)에틸옥시카르보닐-9-카르복시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 3,4-비스(메타크릴로일옥시)트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 3,4-비스(2-비닐옥시에톡시)트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 8,9-비스(아크릴로일옥시메틸)트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 8-아크릴로일옥시메틸-9-히드록시메틸-트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 8-메타크릴로일옥시-메틸-9-히드록시메틸-트리시클로[5.2.1.O2,6]데칸, 8,9-비스(메터아크릴로일옥시메틸)트리시클로[5.2.1.O2,6]데칸, 8-히드록시메틸-9-(2-비닐옥시에톡시메틸)트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 8,9-비스(2-비닐옥시에톡시메틸)트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 3,4-비스(메타크릴로일옥시)트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8,9-디카르복시산 무수물, 3,4-비스(메타크릴로일옥시)-8,9-비스(메톡시카르보닐)트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 8,9-비스(알릴카르보닐)-3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 3(4)-히드록시-4(3)-메타크릴로일옥시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸, 디알릴트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8,9-디카르복실레이트, 디알릴옥시에틸트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8,9-디카르복실레이트, 디메틸올트리시클로[5.2.1.02,6]데칸디아크릴레이트.
본 발명에 있어서는, 상기 화합물 (F) 을 사용하는 것에 의해, 조성물 (P) 자체의 Tg 가 높아짐과 동시에, 폴리시클로알칸 구조에 근거하는 낮은 경화 수축량이 하드코트층 (X) 또는 (X') 의 물성 발현과 박막 커버층 (Z) 자체의 저수축량화에 기여하고 있는 것으로 생각된다.
조성물 (P) 에 있어서의 화합물 (F) 의 비율도 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로는 (E)/(F)/(D2) 의 합계 100질량부에 대하여, 화합물 (F) 가 20∼70질량부인 것이 바람직하고, 특히 30∼60질량부가 바람직하다. 화합물 (F) 의 비율이 상기 범위이면, 조성물 (F) 의 점도를 원하는 범위로 조정할 수 있고, 1 회의 코팅에 의해 50㎛ 이상의 층을 형성할 수 있음과 동시에, 코팅 작업이 용이해진다. 또한, 화합물 (F) 의 비율이 너무 많으면, 박막 커버층 (Z) 이 지나치게 강직해져, 광디스크의 휨에 추종할 수 없어 크랙 등이 생기기 쉬워진다.
중합 개시제 (D2) 로는, 상기 중합 개시제 (D1) 에 기재된 것과 동일한 것을 바람직하게 들 수 있다. 조성물 (P) 에 있어서의 광중합 개시제 (D2) 의 비율도 특별히 한정되지 않는다. 통상적으로는 (E)/(F)/(D2) 의 합계 100질량부에 대하여, 광중합 개시제 (D2) 가 0.01∼20질량부인 것이 바람직하고, 특히 0.1∼10질량부가 바람직하다.
본 발명에 있어서, 조성물 (P) 로는, (E)/(F)/(D2) 의 합계 100질량부에 대하여, (E) 가 바람직하게는 10∼80질량부, 특히 바람직하게는 20∼70질량부이고, (F) 가 바람직하게는 20∼70질량부, 특히 바람직하게는 30∼60질량부이고, 또한, (D2) 가 바람직하게는 0.01∼20질량부, 특히 바람직하게는 0.1∼10질량부이다.
본 발명에 있어서의 조성물 (P) 에는, 상기 화합물 (E), 상기 화합물 (F), 광중합 개시제 (D2) 외에, 상기 단관능성 화합물 (G) 등이 함유되어 있어도 된다. 상기 단관능성 화합물의 예시 및 비율은 상기한 것과 동일한 것을 바람직하게 들 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서의 조성물 (P) 에는, 기타 첨가제로서, 에폭시 수지, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리부타디엔, 폴리클로로프렌, 폴리에테르, 폴리에스테르, 펜타디엔 유도체, SBS (스티렌/부타디엔/스티렌 블록 공중합체), SBS 의 수첨물, SIS (스티렌/이소프렌/스티렌 블록 공중합체), 석유 수지, 자일렌 수지, 케톤 수지, 불소계 올리고머, 실리콘계 올리고머, 폴리술피드계 올리고머 등을 배합할 수 있다.
또한, 상기 광중합 개시제 (D2) 이외의 기능성 배합제로는, 상기 조성물 (Q) 에 함유시킬 수 있는 기능성 배합제 등을 들 수 있고, 본 발명에 있어서의 조성물 (P) 에 적절히 배합해도 된다.
상기 박막 커버층 (Z) 의 두께는 50∼150㎛ 가 바람직하다. 또한, 이 층의 두께는 기록 재생 장치의 광학 설계로부터 정확하게 요구치가 정해지게 된다.
광디스크의 기록층 표면에 박막 커버층 (Z) 을 사이에 두고 상기 하드코트층 (X) 또는 (X') 을 형성하는 방법으로는 특별히 제한되지 않고, 공지 내지 주지된 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 박막 커버층면에 도포하는 방법으로는, 딥법, 플로우 코트법, 스프레이법, 바 코트법, 그라비아 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 에어나이프 코트법, 스핀 코트법, 슬릿 코트법, 마이크로 그라비아 코트법 등의 각종 방법을 채용할 수 있다. 또한, 박막 커버층 형성용 조성물 (P) 을 도포하는 경우도 동일하다. 예를 들어 조성물 (P) 을 그라비아 코팅한 후, 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 스핀 코팅 또는 스프레이 코팅하는 등의 복수의 도공 방법을 조합할 수도 있다. 본 발명에 있어서는, 생산성이나 표면 외관의 면에서 스핀 코트법이 바람직하게 채용된다.
또한, 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 경화시켜 하드코트층 (X) 또는 (X') 을 형성하기 위해 사용하는 활성 에너지선으로는 특별히 한정되지 않고, 자외선, 전자선 또는 기타 활성 에너지선을 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 자외선이 바람직하다. 자외선원으로는, 크세논 램프, 펄스크세논 램프, 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈할라이드 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프 등을 사용할 수 있다. 또한, 박막 커버층 (Z) 을 형성하는 경우도 동일하다.
본 발명에 있어서, 박막 커버층 (Z) 이 경화성 조성물 (P) 의 경화물층인 경우의 광디스크는, 바람직하게는 다음과 같은 방법으로 제조된다. 광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 (P) 의 미경화물층 (Z1), 부분 경화물층 (Z2) 또는 경화물층 (Z) 을 형성하고, 상기 (Z1), 상기 (Z2) 또는 상기 (Z) 의 표면에, 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 (Q) 또는 피복 조성물 (Q') 의 미경화물층 (X1) 또는 부분 경화물층 (X2) 을 형성한다. 이어서, 상기 (P) 의 층이 경화물층 (Z) 인 경우는 상기 (Q) 또는 (Q') 의 미경화물층 (Z1) 또는 부분 경화물층 (Z2) 을 경화시키고, 또는, 상기 (P) 의 층이 미경화물층 (Z1) 또는 부분 경화물층 (Z2) 인 경우는 상기 (P) 의 층 및 상기 (Q) 또는 (Q') 의 층을 동시에 경화시켜, 상기 박막 커버층 (Z) 및 상기 하드코트층 (X) 또는 (X') 이 형성된 광디스크를 획득한다.
즉, 본 발명의 상기 제조 방법에 있어서, 조성물 (P) 의 도공∼경화 및 조성물 (Q) 또는 (Q') 의 도공∼경화의 각각의 타이밍으로는, 다음의 (1)∼(4) 의 타이밍을 들 수 있다.
(1) 광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에 조성물 (P) 을 도공한 후, 충분한 양의 활성 에너지선을 조사하여 충분히 조성물 (P) 의 층을 경화시켜 경화물층 (Z) (즉, 박막 커버층 (Z) 과 동일) 를 형성한다. 이어서, 상기 경화물층 (Z) 의 표면에 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 도공한 후, 충분한 양의 활성 에너지선을 조사하여 충분히 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 경화시켜 하드코트층 (X) 또는 (X') 을 형성한다. 이 경우, 조성물 (Q) 또는 (Q') 의 미경화물층 (X1) 을 미리 부분 경화층 (X2) 으로 전화시킨 후, 다시 상기 부분 경화층 (X2) 을 경화시키는, 2 단 경화를 채용할 수도 있지만, 통상적으로는 조성물 (Q) 또는 (Q') 층의 경화는 1 단 경화가 바람직하다.
(2) 광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 조성물 (P) 을 도공하여 상기 조성물 (P) 의 미경화물층 (Z1) 을 형성한 후, 상기 미경화물층 (Z1) 의 표면에 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 도공하여 상기 조성물 (Q) 또는 (Q') 의 미경화물층 (Z1) 을 형성한다. 이어서, 충분한 양의 활성 에너지선을 조사하여 조성물 (P) 및 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 동시에 경화시켜, 박막 커버층 (Z) 및 하드코트층 (X) 을 형성한다. 이 경우도, 조성물 (Q) 또는 (Q') 층의 2 단 경화를 채용해도 되지만, 통상적으로는 1 단 경화가 바람직하다.
(3) 광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에 조성물 (P) 을 도공한 후, 수지 건조 상태로 되면서 완전 경화에까지는 도달되지 않는 양의 활성 에너지선 (통상, 약 500mJ/cm2 까지의 조사량) 을 조사하여 조성물 (P) 의 부분 경화물층 (Z2) 을 형성하고, 상기 부분 경화물층 (Z2) 의 표면에 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 도공하여 상기 조성물 (Q) 또는 (Q') 의 미경화물층 (Z1) 또는 부분 경화물층 (Z2) 을 형성한다. 이어서, 완전 경화시키기에 충분한 양의 활성 에너지선을 조사하여 조성물 (P) 및 조성물 (Q) 또는 (Q') 을 동시에 경화시켜, 박막 커버층 (Z) 및 하드코트층 (X) 또는 (X') 을 형성한다. 이 경우도, 조성물 (Q) 또는 (Q') 층의 2 단 경화를 채용해도 되지만, 통상적으로는 1 단 경화가 바람직하다.
(4) 광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 조성물 (P) 을 도공하여 상기 조성물 (P) 의 미경화물층 (Z1) 또는 부분 경화물층 (Z2) 을 형성한 후, 상기 경화물층 (Z1) 또는 부분 경화물층 (Z2) 의 표면에 조성물 (Q') 을 도공하여 상기 조성물 (Q') 의 미경화물층 (X1) 을 형성한다. 이어서, 우선 상기 미경화물층 (X1) 을 부분 경화 또는 완전 경화시켜, 부분 경화물층 (X2) 또는 완전 경화물층 (X) 을 형성한다. 그 후에 상기 미경화물층 (Z1) 또는 부분 경화물층 (Z2) 을 완전 경화시켜, 박막 커버층 (Z) 및 하드코트층 (X') 을 형성한다. 이 경우에는, 조성물 (Q') 을 도공하는 시점에서는, 조성물 (P) 가 부분 경화물층 (Z2) 으로 되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 조성물 (P) 을 완전 경화시키는 시점에서는, 조성물 (Q') 이 부분 경화물층 (Z2) 인 것이 바람직하다.
상기 (1)∼(4) 의 방법에 있어서, 피복 조성물 (Q') 층의 경화는, 경화 촉매 용액의 증기 분위기하에 노출하여 경화시키는 수단, 또는 상온하 또는 가열하에 경화시키는 수단 등도 들 수 있다.
본 발명의 상기 제조 방법에 있어서는, 2 개의 경화물층 (Z), (X) 또는 (X') 사이의 층간 밀착력을 향상시키기 위해, 상기 (2) 또는 (3) 의 타이밍에서 실시하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 조성물 (P), (Q) 또는 (Q') 이 용제를 함유하고 있는 경우는, 도공 후, 건조하여 용제를 제거한 다음 경화시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서의 광디스크는, 단일판으로 사용해도 되고, 2 장 이상을 접합하여 사용해도 된다. 또한, 필요에 따라 허브를 부착하여, 카트리지에 장착해도 된다.
본 발명에 의하면, 레이저광 입사면에, 높은 내마모성과 높은 표면 윤활성의 내구성을 갖고, 투명성이 우수한 하드코트층을 갖는 광디스크를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 상기 박막 커버층이, 레이저광의 투과율이 높고, 기록층과 양호한 밀착성을 가지며, 상기 박막 커버층 형성시의 수축 등에 의한 디스크 변형이 지극히 작고, 또한 특정한 하드코트층을 형성했을 때에 충분한 하드코트 성능을 발현할 수 있는 광디스크 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명을 합성예 (예 1∼6, 12), 실시예 (예 7∼9, 13, 14), 비교예 (예 10∼11) 에 기초하여 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되지 않는다. 각 예에 있어서는, 광디스크 기반으로, 광기록매체용 폴리카보네이트 기반 (직경 12cm, 두께 1.2㎜) 의 한쪽 면 (안내홈을 갖는 면) 에, 적층막 (Al 으로 이루어지는 반사막, SiN 으로 이루어지는 제 1 유전체막, TbFeCo 로 이루어지는 광자기 기록막, SiN 으로 이루어지는 제 2 유전체막) 을 스퍼터법에 의해 형성하여 기록층으로 한 것을 사용하였다. 예 7∼11 에 대해서는, 상기 기록층 표면에, 박막 커버층으로서의 캐스트 폴리카보네이트 필름 (TEIJIN CO., LTD. 상품명: 퓨어에이스, 두께 70㎛) 을 접착층 (두께 28㎛) 를 통하여 접합한 것을 사용하였다.
또한, 각 예에서 획득되는 샘플에 대한 각종 물성의 측정 및 평가는 다음에 나타내는 방법에 의해 실시하고, 그 결과를 표 1 에 나타내었다. 또한, 초기 흐림가(價), 내마모성 및 400㎚ 광선 투과율의 측정용 샘플로는, 반사막의 형성을 생략한 광디스크 기반을 사용하였다.
[초기 흐림가, 내마모성]
JIS-R 3212 에 있어서의 내마모 시험법에 의해, 2 개의 CS-10F 마모륜에 각각 500g 의 추를 장착하여 500 회전시켰을 때의 흐림가 (헤이즈) 를 헤이즈 미터에 의해 측정하였다. 흐림가의 측정은 마모 사이클 궤도의 4 군데에서 실시하여, 평균값을 산출하였다. 초기 흐림가는 내마모 시험전의 흐림가의 값 (%) 을, 내마모성은 (내마모 시험후 흐림가) － (내마모 시험전 흐림가) 의 값(%) 을 나타낸다.
[400㎚ 광선 투과율]
SHIMADZU CORPORATION 제 UV-3100 에 의해, 샘플의 기반을 캔슬한 측정 파장 400㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다.
[밀착성]
샘플을 면도칼의 날에 의해 1㎜ 간격으로 종횡 각각 11 개의 커팅선을 형성하여, 100 개의 바둑판 눈금을 만들고, 시판하는 셀로판 테입을 잘 밀착시킨 후, 90도 앞방향으로 급격하게 벗겼을 때의, 박막 커버층 및 하드코트층이 박리되지 않고 잔존된 바둑판 눈금의 수(m) 를 m/100 로 나타낸다.
[내슬라이딩성]
HEIDON 사 제 Slipping Tester HEIDON-14 를 사용하여 동마찰 계수를 측정하였다. 또한, 슬라이딩성의 가속 시험으로는, 온도 50±2℃, 상대 습도 50±5% 의 환경 조건하에서, SONY 사 제조의 자기 헤드 RF320-74G 를 디스크에 대하여 하중이 2g 이 되도록 접촉시켜, 디스크 회전수 600rpm 으로 500만 회전 연속 주행시켜, 그 전후의 동마찰 계수를 측정하였다.
[예 1]
교반기 및 냉각관을 장착한 2000mL 의 4 구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 분산형 콜로이드상 실리카 (실리카 함량 30질량%, 평균 입경 11㎚) 1000g 과, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 50g 을 첨가하여, 105℃ 에서 14 시간 교반한 후, 실온하에 10 시간 숙성하는 것에 의해, 메르캅토실란 수식 콜로이드상 실리카 분산액을 획득하였다.
[예 2]
교반기 및 냉각관을 장착한 1000mL 의 4 구 플라스크에, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 184.60g, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 9.23g, 폴리디메틸실록산의 양 말단이 메타크릴기로 변성된 실리콘 오일 (SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 상품명: X-22-164C, 수평균 분자량 4800) 0.72g, 하이드로퀴논모노메틸에테르 1.20g, 및 메틸에틸케톤 345.90g 을 첨가하여, 상온 및 차광으로 한 상태에서 1 시간 교반하여 균일화하였다. 계속해서 교반하면서, 예 1 에서 합성한 메르캅토실란 수식 콜로이드상 실리카 분산액 169.90g 을 천천히 첨가하여, 다시 상온 및 차광으로 한 상태에서 1 시간 교반하여 균일화하였다. 이어서, 2-프로판올 86.5g 을 첨가하여, 상온 및 차광으로 한 상태에서 1 시간 교반하여 도공액 (Q1) 을 획득하였다.
[예 3]
예 2 에 있어서, 「X-22-164C」를 동량의 폴리디메틸실록산의 양 말단이 메르캅토기로 변성된 실리콘 오일 (SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 상품명: X-22-167B, 수평균 분자량 3340) 로 변경하는 것 외에는, 동일한 조성 및 동일한 방법으로 도공액 (Q2) 를 획득하였다.
[예 4]
예 2 에 있어서, 「X-22-164C」를 동량의 폴리디메틸실록산의 한쪽 말단이 메타크릴기로 변성된 실리콘 오일 (Chisso Corporation. 상품명: FM0725, 수평균 분자량 10000) 로 변경하는 것 외에는, 동일한 조성 및 동일한 방법으로 도공액 (Q3) 를 획득하였다.
[예 5]
예 2 에 있어서, 「X-22-164C」를 동량의 폴리디메틸실록산의 말단 미변성의 실리콘 오일 (수평균 분자량 10000) 로 변경하는 것 외에는, 동일한 조성 및 동일한 방법으로 도공액 (Q4) 를 획득하였다.
[예 6]
예 2 에 있어서, 「X-22-164C」를 사용하지 않은 것 외에는, 동일한 조성 및 동일한 방법으로 도공액 (Q5) 를 획득하였다.
[예 7]
광디스크 기반의 기록층 표면에 스핀 코트법에 의해 도공액 (Q1) 을 도공 (웨트 두께 6㎛) 하여, 90℃ 의 열풍 순환 오븐속에서 1 분간 유지하여 용제를 제거한 후, 획득되는 도막에 공기 분위기 중에서 고압 수은등을 사용하여 1000mJ/cm2 (파장 300∼390㎚ 영역의 자외선 적산 에너지량. 이하 동일) 의 자외선을 조사하여, 막두께 1.8㎛ 의 투명 경화물층을 형성하였다. 광디스크 기반의 기록층 표면에 접착층/박막 커버층/하드코트층 (총 막두께 99.8㎛) 이 형성된 샘플 1 을 획득하였다.
[예 8]
예 7 에 있어서, 도공액 (Q1) 을 도공액 (Q2) 으로 변경한 것 외에는, 예 7 과 동일한 방법으로 샘플 2 를 획득하였다.
[예 9]
예 7 에 있어서, 도공액 (Q1) 을 도공액 (Q3) 으로 변경한 것 외에는, 예 7 과 동일한 방법으로 샘플 3 를 획득하였다.
[예 10]
예 7 에 있어서, 도공액 (Q1) 을 도공액 (Q4) 으로 변경한 것 외에는, 예 7 과 동일한 방법으로 샘플 4 를 획득하였다.
[예 11]
예 7 에 있어서, 도공액 (Q1) 을 도공액 (Q5) 으로 변경한 것 외에는, 예 7 과 동일한 방법으로 샘플 5 를 획득하였다.
[예 12]
교반기 및 냉각관을 장착한 1000mL 의 4 구 플라스크에, 2 관능 우레탄 아크릴레이트-1 (NIPPON KAYAKU CO., LTD. 상품명: UX-2201) 을 290.00g, 2 관능 우레탄 아크릴레이트-2 (NIPPON KAYAKU CO., LTD. 상품명: UX-8101) 를 170.00g, 이소보르닐아크릴레이트를 240.00g, 디메틸올트리시클로데칸디아크릴레이트를 100.00g, 및 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 40.00g 을 첨가하여, 상온 및 차광으로 한 상태에서 3 시간 교반하여 도공액 (P1) 을 획득하였다.
[예 13]
광디스크 기반의 기록층 표면에 스핀 코트법에 의해 도공액 (P1) 을 도공 (두께 98㎛) 하고, 획득된 도막층 (Z1) 에 공기 분위기중에서 고압 수은등을 사용하여 100mJ/cm2 (파장 300∼390㎚ 영역의 자외선 적산 에너지량. 이하 동일) 의 자외선을 조사하여 상기 도막층 (z1) 를 부분 경화시켜, 막두께 98㎛ 의 투명 부분 경화물층 (Z2z1) 을 상기 기록층 표면에 형성하였다.
상기 투명 부분 경화물층 (Z2z1) 의 표면에, 스핀 코트법에 의해 도공액 (Q1) 을 도공 (웨트 두께 6㎛) 하고, 90℃ 의 열풍 순환 오븐속에서 1 분간 유지하여 용제를 제거하여, 도막층 (x1) 을 형성하였다. 이어서, 공기 분위기중에서 고압 수은등을 사용하여 1500mJ/cm2 의 자외선을 조사하여, 상기 도막층 (x1) 및 상기 투명 부분 경화물층 (Z2z1) 을 경화시켜, 막두께 1.8㎛ 의 투명 경화물층 (Xx1) 을 형성함과 동시에, 상기 투명 부분 경화물층 (Z2z1) 이 경화된 투명 경화물층 (Zz1) 을 형성하였다. 광디스크 기반의 기록층 표면에 박막 커버층 (Zz1)/하드코트층 (Xx1) (총 막두께 99.8㎛) 이 형성된 샘플 6 를 획득하였다.
[예 14]
예 13 과 동일한 방법으로, 도공액 (P1) 을 사용하여 막두께 99㎛ 의 투명 부분 경화물층 (Z2z1) 을 광디스크 기반의 기록층 표면에 형성하였다.
상기 투명 부분 경화물층 (Z2z1) 의 표면에, 스핀 코트법에 의해 저온 경화성의 퍼히드로폴리실라잔의 자일렌 용액 (고형분 20질량%, Clariant(Japan) K.K. 제조, 상품명「N-L110」) 100g 에 폴리디메틸실록산의 양 말단이 메타크릴기로 변성된 실리콘 오일 (SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 상품명: X-22-164C, 수평균 분자량 4800) 0.05g 을 첨가한 도공액을 도공 (웨트 두께 6㎛) 하여, 90℃ 의 열풍 순환 오븐속에서 1 분간 유지하여 용제를 제거하여, 도막층 (x1) 을 형성하였다. 이어서, 공기 분위기중에서 고압 수은등을 사용하여 1500mJ/cm2 의 자외선을 조사하여, 상기 도막층 (x1) 및 상기 투명 부분 경화물층 (Z2z1) 을 경화시켜, 막두께 1.2㎛ 의 투명 경화물층 (Xx1) 을 형성함과 동시에, 상기 투명 부분 경화물층 (Z2z1) 이 경화된 투명 경화물층 (Zz1) 을 형성하였다. 광디스크 기반의 기록층 표면에 박막 커버층 (Zzl)/하드코트층 (Xx1) (총 막두께 100.2㎛) 이 형성된 샘플 7 을 획득하였다.
예 샘플 초기 흐림가(%) 내마모성(%) 400㎚ 광선투과율 (%) 밀착성(m/100) 동마찰 계수(초기/내구후)
7 1 0.5 2.8 92.0 100 0.15/0.20
8 2 0.4 3.2 92.4 100 0.10/0.12
9 3 0.5 3.4 91.8 100 0.14/0.15
10 4 5 2.7 92.5 100 0.20/0.80
11 5 0.5 2.9 93.0 100 0.95/0.95
13 6 0.4 2.2 92.0 100 0.15/0.20
14 7 0.5 0.6 92.2 100 0.12/0.15

Claims (9)

  1. 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크에 있어서,
    광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 박막 커버층 (Z) 을 사이에 두고 하드코트층 (X) 이 형성되며,
    상기 하드코트층 (X) 은, 활성 에너지선에 의해 중합할 수 있는 중합성 관능기를 2 개 이상 갖는 다관능성 화합물 (A), 메르캅토기를 갖는 유기기와 가수분해성기 및/또는 수산기가 규소원자에 결합되어 있는 메르캅토실란 화합물에 의해 표면 수식 (修飾) 된 평균 입경 1∼200㎚ 의 수식 콜로이드상 실리카 (B), 분자안에 라디칼 중합성 관능기를 갖는 윤활성 부여제 (C), 및 광중합 개시제 (D1) 를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물 (Q) 을 경화시켜 획득되는 경화물층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 윤활성이 부여된 하드코트층을 갖는 광디스크.
  2. 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크에 있어서,
    광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 박막 커버층 (Z) 을 사이에 두고, 하드코트층 (X') 이 형성되고,
    상기 하드코트층 (X') 은 폴리실라잔 (H) 및 분자안에 라디칼 중합성 관능기를 갖는 윤활성 부여제 (C') 를 함유하는 피복 조성물 (Q') 을 경화시켜 획득되는 경화물층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 윤활성이 부여된 하드코트층을 갖는 광디스크.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 박막 커버층 (Z) 은 다관능 우레탄 아크릴레이트 화합물 (E), 폴리시클로알칸 구조를 갖는 활성 에너지선 경화성의 중합성 관능기를 1 개 이상 갖는 화합물 (F), 및 광중합 개시제 (D2) 를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물 (P) 을 경화시켜 획득되는 경화물층인 광디스크.
  4. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 활성 에너지선 경화성 조성물 (Q) 에 있어서의 다관능성 화합물 (A) 100질량부에 대하여, 수식 콜로이드상 실리카 (B) 가 5∼300질량부이고, 윤활성 부여제 (C) 가 0.01∼10질량부이고, 또한, 광중합 개시제 (D1) 이 0.1∼20질량부인 광디스크.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 활성 에너지선 경화성 조성물 (P) 에 있어서의 (E)/(F)/(D2) 의 합계 100질량부에 대하여, (E) 가 10∼80질량부이고, (F) 가 20∼70질량부이고, 또한, (D2) 가 0.01∼20질량부인 광디스크.
  6. 제 1 항, 제 3 항, 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 메르캅토실란 화합물은 하기 식 (1)
    HS－R－SiXnR1 3－n … (1)
    (단, 식 (1) 에 있어서, HS－R 는 메르캅토기를 갖는 유기기, R 은 2 가의 탄화수소기, R1 은 1 가의 탄화수소기, X 는 수산기 또는 가수분해성기, n 은 1∼3 의 정수를 나타낸다.)
    으로 나타내는 화합물인 광디스크.
  7. 제 1 항, 제 3 항, 제 4 항, 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 수식 콜로이드상 실리카 (B) 는, 콜로이드상 실리카가 분산된 유기 분산매에 메르캅토실란 화합물을 첨가하여 가수분해하는 것에 의해 획득되는 것인 광디스크.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 윤활성 부여제 (C) 또는 (C') 의 수평균 분자량은 1000이상인 광디스크.
  9. 기록 및/또는 재생하는 데에 사용되는 광이 박막 커버층을 통과하여 기록층에 조사되는 방식의 광디스크의 제조 방법에 있어서,
    광디스크 기반면에 형성된 기록층 표면에, 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 (P) 의 미경화물층 (Z1), 부분 경화물층 (Z2) 또는 경화물층 (Z) 을 형성하고, 상기 (Z1), 상기 (Z2) 또는 상기 (Z) 의 표면에, 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 (Q) 또는 피복 조성물 (Q') 의 미경화물층 (X1) 또는 부분 경화물층 (X2) 을 형성하고, 이어서, 상기 (P) 의 층이 경화물층 (Z) 인 경우는 상기 (Q) 또는 (Q') 의 미경화물층 (X1) 또는 부분 경화물층 (X2) 을 경화시키고, 또는, 상기 (P) 의 층이 미경화물층 (Z1) 또는 부분 경화물층 (Z2) 인 경우는 상기 (P) 의 층 및 상기 (Q) 또는 (Q') 의 층을 동시에 경화시켜, 상기 박막 커버층 (Z) 및 상기 하드코트층 (X) 또는 (X') 이 형성된 광디스크를 획득되는 것을 특징으로 하는 광디스크의 제조 방법.
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