KR20050012254A - 광절제가능한 인레이로서 사용하기 위한 중합체성 물질 - Google Patents

광절제가능한 인레이로서 사용하기 위한 중합체성 물질 Download PDF

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KR20050012254A
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도미닉 브이. 루시오
제이 에프. 쿤즐러
로렌트 쥐. 호프만
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보오슈 앤드 롬 인코포레이팃드
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Abstract

광학적으로 투명하고, 수분 함량이 높은 수화겔 중합체성 물질 및 그로부터 제작되는 광절제가능한 인레이를 본원에서 기재한다. 바람직한 수화겔 중합체성 물질은 수화된 상태에서 굴절 지수가 1.30 이상이고, 수분 함량이 대략 60 중량% 이상이다. 유사하게 바람직한 수화겔 중합체성 물질은 임상적 절제 후 균열 또는 혼탁의 증상이 나타나지 않는다.

Description

광절제가능한 인레이로서 사용하기 위한 중합체성 물질 {Polymeric Materials for Use as Photoablatable Inlays}
레이저를 이용한 제자리 미세각막절제 (Laser-assisted in situ keratomileusis, 라식(LASIK)) 수술은 부분적으로는 수술 직후 통증이 비교적 없고, 부분적으로는 이전은 아닐지라도 바로 다음날까지는 일반적으로 양호한 시력을 달성함으로 인해 매우 인기 있는 외과적 굴절 시력 교정 과정이다. 라식 수술에서, 미세각막절삭기(microkeratome)를 사용하여 눈의 각막 조직에 얇고, 둥근 피판(flap)을 생성한다. 외과의는 조직 피판을 방해가 되지 않도록 접은 다음, 각막 조직을 절제하고, 엑시머 레이저를 사용하여 피판 아래의 각막을 재성형한다. 그 다음, 조직 피판을 제자리에 다시 올려 놓아, 각막 조직이 성형되고 절제된 영역을 덮는다. 라식 수술의 주요 결점은 과정이 가역적이지 않으며, 남은 각막의 두께에 의해 추가 수술이 제한된다는 점이다. 라식 수술 후에 시간의 흐름에 따라 환자의시력이 저하되는 경우에 추가 교정을 위해서 추가 바탕질 물질을 절제해야 한다. 추가 바탕질 물질은 이러한 추가 교정을 수용하도록 존재하지 않을 수도 있다. 따라서, 가역적이며, 시간이 지나 환자의 시력이 자연적으로 저하될 때, 시간이 지난 추가 수술을 가능하게 하는 외과적 굴절 시력 교정 과정이 요구되고 있다.
발명의 요약
광절제가능한 인레이 (PAI), 각막 인레이, 각막 온레이(onlay) 또는 유사한 안과 장치로서 사용하는데 특히 적합한 비교적 높은 수분 함량을 갖는 연질이며, 접힐 수 있는 수화겔 중합체성 물질을 본원에 와서야 알게 되었다. 본 수화겔 중합체성 물질은 눈의 각막 베드에 피판을 외과적으로 형성한 후, 눈의 각막 베드에 위치시키기 위한 디스크(disk) 또는 렌즈핵(lenticular)의 형태로 제조하는데 적합하다. 그 다음, 수화겔 중합체성 물질 디스크 또는 렌즈핵을 엑시머 레이저를 사용하여 목적하는 형상으로 제자리에서 정밀하게 맞춤 절제한다. 본 발명의 PAI를 사용하는 외과적 과정은 교정 과정의 횟수가 각막의 두께에 의해 제한되지 않는다는 장점이 있다. 유사하게, 본 발명의 PAI를 사용하는 외과적 과정은 간단하게 PAI를 절제하거나 이전의 PAI를 그 다음 환자의 구체적인 요구에 따르도록 절제되는 새로운 것으로 대체함으로써, 원시, 난시 및 약하거나 중간 정도의 근시를 교정하는 것이 가역적이며 반복가능하다.
따라서, 본 발명의 목적은 생체상화성(biocompatible) 중합체성 물질을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 각막의 수분 함량과 유사한 높은 수분 함량을 갖는 수화겔 중합체성 물질을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 무색의 수화겔 중합체성 물질을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 투명한 수화겔 중합체성 물질을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 제자리 광절제에 적합한 중합체성 물질을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 제조하는 것이 비교적 간단한 생체상화성 중합체성 물질을 제공하는 것이다.
본 발명의 이러한 목적 및 그 밖의 목적, 및 이점은 이들 중 일부는 구체적으로 기재되고 다른 일부는 그렇지 아니하더라도 하기 상세한 설명 및 청구항으로부터 명백해질 것이다.
본 발명은 신규한 중합체성 물질 및 이 물질을 광절제가능한 인레이(inlay) (PAI)로서 제조 및 사용하는 방법에 관한 것이다. 더욱 특히, 본 발명은 특히 PAI의 제조에 사용하는데 적합한 연질이며, 광학적으로 투명한 수화겔 물질, 및 이 물질의 제조 및 사용 방법에 관한 것이다.
하기 상세한 설명은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 이를 제조하고 사용할 수 있도록 제공되며, 본 발명을 수행하는데 본 발명자에 의해 숙고된 최선의 방식을 설명한다.
본 발명은 PAI의 제조에 사용하는데 특히 적합한 연질이며, 광학적으로 투명한 수화겔 중합체성 물질, 및 이 물질의 제조 및 사용 방법에 관한 것이다. 본 발명의 수화겔 중합체성 물질은 광절제가능한 인레이 (PAI) 등과 같은 안과 장치의 제조에 사용하기 위해 수분 함량을 최대화한다. 본 수화겔 중합체성 물질의 향상된 생체상화성을 위한 바람직한 수분 함량은 인간 각막의 수분 함량으로 보고된 대략 78%이다. 본 수화겔 중합체성 물질은 눈의 각막 베드에 피판을 외과적으로 형성한 후, 눈의 각막 베드에 위치시키기 위한 디스크 또는 렌즈핵의 형태로 제조한다. 수화겔 중합체성 물질 디스크 또는 렌즈핵은 엑시머 레이저를 사용하여 목적하는 형상으로 제자리에서 정밀하게 맞춤 절제하는데 적합하다. 본 발명의 PAI를 사용하는 외과적 과정은 특히 교정 과정의 횟수가 환자의 각막 두께에 의해 제한되지 않는다는 장점이 있는데, 라식 외과적 시력 교정에서는 제한된다. 유사하게, 본 발명의 PAI를 사용하는 외과적 과정은 간단하게 PAI를 절제하거나 이전의 PAI를 그 다음 환자의 구체적인 요구를 중촉시키도록 절제되는 새로운 것으로 대체함으로써 원시, 난시 및 약하거나 중간 정도의 근시를 교정하는 것이 가역적이며 반복가능하다.
본 발명의 바람직한 수화겔 중합체성 물질은 친수성 단량체의 공중합체이다. 본 발명에서 사용하는데 적합한 친수성 단량체는, 예를 들어 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 히드록시에톡시에틸 메타크릴레이트, 히드록시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메톡시-폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메타크릴산, 나트륨 메타크릴레이트, 글리세롤 메타크릴레이트, 히드록시프로필 메타크릴레이트, N-비닐피롤리디온, 히드록시프로필 메타크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-메틸아크릴아미드 및 히드록시부틸 메타크릴레이트를 포함하나 이로써 제한되지 않는다. 바람직한 친수성 단량체는 수분 함량을 최대화하는 2-히드록시에틸 메타크릴레이트 (HEMA) 및 메타크릴산 (MAA)이다.
본 발명의 수화겔 중합체성 물질은, 예를 들어 폴리(2-히드록시에틸 메타크릴레이트-co-메타크릴산), 폴리(2-히드록시에틸 메타크릴레이트-co-N-비닐피롤리디논), 폴리(2-히드록시에틸 메타크릴레이트-co-디메틸아크릴아미드), 폴리(N-비닐피롤리디논-co-2-메타크릴산), 폴리(2-히드록시에틸 메타크릴레이트-co-4-t-부틸-2-히드록시에틸 메타크릴레이트) 및 폴리(N-비닐피롤리디논-co-4-t-부틸-2-히드록시에틸 메타크릴레이트)를 포함하나 이로써 제한되지 않는다.
본 수화겔 중합체성 물질은 임의로 가교제 0.01 이상, 그러나 더욱 바람직하게는 0.01 내지 3.0 중량% 및 개시제 0.01 이상, 그러나 더욱 바람직하게는 0.02 내지 2.0 중량%의 존재하에 하나 이상의 상기 기재한 친수성 단량체를 중합하여 합성한다. 임의로, 자외광 흡수제를 또한 첨가할 수 있다.
적합한 가교제는, 예를 들어 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 및 폴리(에틸렌 글리콜) 디메타크릴레이트를 포함하나 이로써 제한되지 않으며, 여기서 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트이 바람직하다.
본 발명의 친수성 단량체는 하나 이상의 통상적인 방법에 의해 주조 형상 중에서 용이하게 경화될 수 있다. 이러한 방법은, 예를 들어 자외광 (UV) 중합, 가시 광선 중합, 마이크로파 중합, 열 중합, 자유 라디칼 중합, 리빙(living) 라디칼 중합 또는 이들의 조합을 포함하나 이로써 제한되지 않는다. 메탈로센(Metallocene) 촉매가 또한 몇몇 경우에 사용될 수 있다.
적합한 자유 라디칼 열 중합 개시제는, 예를 들어 유기 퍼옥시드, 예컨대 아세틸 퍼옥시드, 라우로일 퍼옥시드, 데카노일 퍼옥시드, 스테아로일 퍼옥시드, 벤조일 퍼옥시드, t-부틸 퍼옥시피발레이트, 퍼옥시디카르보네이트 등을 포함하나 이로써 제한되지 않는다.
대표적인 UV 개시제는 예를 들어 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 다로커(Darocur)(TM)1173, 1164, 2273, 1116, 2959 및 3331 (이엠 인더스트리즈 인크.(EM Industries, Inc.), 뉴욕 호손(Hawthorne, N.Y.) 소재) 및 이르가커(Irgacur)(TM)651 및 184 (시바-가이기(Ciba-Geigy), 스위스 바셀(Basel) 소재)와 같은 당업계에 공지된 것을 포함하나 이로써 제한되지 않는다.
기타 적합한 개시제는 예를 들어, 아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시아노시클로헥산), 디-t-부틸 퍼옥시드, 디쿠밀 퍼옥시드, t-부틸쿠밀 퍼옥시드, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일 퍼옥시)헥산, t-부틸 퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, 디(4-t-부틸 시클로헥실) 퍼옥시디카르보네이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, 데카노일 퍼옥시드, 라우로일 퍼옥시드, 벤조일 퍼옥시드, 2,4-펜탄디온 퍼옥시드, 디(n-프로필) 퍼옥시디카르보네이트, t-아밀 퍼옥시네오데카노에이트 및 t-부틸 퍼옥시아세테이트를 포함하나 이로써 제한되지 않으며, 여기서 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴)이 바람직하다.
적합한 자외광 흡수제는, 예를 들어 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)에틸 아크릴레이트, 4-(2-아크릴옥시에톡시)-2-히드록시벤조페논, 4-메타크릴옥시-2-히드록시벤조페논, 2-(2'-메타크릴옥시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시에틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-(3''-디메틸비닐실릴프로폭시)-2'-히드록시페닐]-5-메톡시벤조트리아졸, 2-(3'-알릴-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-메톡시벤조트리아졸 및 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-클로로벤조트리아졸을 포함하나 이로써 제한되지 않으며, 여기서 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)에틸 아크릴레이트가 바람직한 자외광 흡수제이다.
나트륨 광원이 있는 아베(Abbe) 굴절계에 의해 589 nm 및 37 ℃에서 측정된 수화된 상태에서의 굴절 지수가 대략 1.30 이상이고, 수분 함량이 대략 60 중량% 이상, 그러나 바람직하게는 65 내지 90 중량%, 가장 바람직하게는 70 내지 80 중량%인 본 수화겔 중합체성 물질을 하기 실시예에서 더욱 더 상세하게 기술한다.
실시예 1: 아크릴계-기재의 주조 성형된 필름 (시료 1)의 제조
HEMA (98 중량%) 및 메타크릴산 (MAA) (2 중량%)를 플라스크 중에 합하였다. 충분한 EGDMA 가교제를 HEMA 및 MAA의 전체 중량의 0.16 중량%를 포함하도록 첨가하였다. 다로커(TM)1173 개시제를 단량체의 전체 중량의 0.5 중량%와 동등하게 첨가하였다. 용액을 플레이트 상에 붓고, 이를 질소하에 2시간 동안 자외선 방사에노출시켜 필름으로 주조하였다. 자외선 방사 노출 후, 필름을 15분 동안 115 ℃에서 어닐링(anneal)시킨 다음, 서서히 냉각하였다. 두께가 대략 560 ㎛인 필름을 수득하였다. 그 다음, 디스크 및 렌즈핵을 연구를 위해 필름으로부터 절단하였다.
실시예 2: 아크릴계-기재의 주조 성형된 필름 (시료 2)의 제조
HEMA (96 중량%) 및 메타크릴산 (MAA) (4 중량%)를 플라스크 중에 합하였다. 다로커(TM)1173 개시제를 단량체의 전체 중량의 0.5 중량%와 동등하게 첨가하였다. 용액을 플레이트 상에 붓고, 이를 질소하에 2시간 동안 자외선 방사에 노출시켜 필름으로 주조하였다. 자외선 방사 노출 후, 필름을 15분 동안 115 ℃에서 어닐링시킨 다음, 서서히 냉각하였다. 두께가 대략 560 ㎛인 필름을 수득하였다. 그 다음, 디스크 및 렌즈핵을 연구를 위해 필름으로부터 절단하였다.
실시예 3: 아크릴계-기재의 주조 성형된 필름의 절제 연구
비섹스(Visx)(TM)엑시머 레이저 (비섹스 인코퍼레이티드(Visx, Incorporated) 캘리포니아주 산타 클라라(Santa Clara, Calif.) 소재)를 사용하여, 이후에 각각 시료 1 및 시료 2로서 언급될 상기 실시예 1 및 실시예 2로부터의 시료 디스크 또는 렌즈핵에 대해 일반적인 임상적 설정인 160 mJ 및 10 Hz에서 25, 50 및 100 ㎛ 깊이의 3가지 레이저치료적 각막절제술 (phototherapeutic keratectomy, PTK) 절제를 수행하였다. 수화된 시료를 절제하기 전에 시료 1 및 2를 블러팅(blot)하여 보관으로부터 존재하는 임의의 과량의 표면 수분을 절제하였다. 절제한 후, 시료 1 및 2를 붕산염 완충액과 함께 5 ml 바이알 중에 포장하고,니콘(TM)950 디지탈 카메라 및 스마트스코프(SmartScope)(TM)/ROI 현미경 (옵티칼 게이징 프로덕츠 인크.(Optical Gaging Products, Inc.) 뉴욕주 로체스터(Rochester New York) 소재)로 니콘(TM)실체현미경(stereomicroscope) (니콘, 코퍼레이션, 일본 소재) 상에서 관찰하였다. 사진 및 치수를 수득하였다. 절제 깊이를 스마트스코프(TM)/ROI 현미경으로 ×132 배율에서 명시야 조건하에 측정하였다.
측정된 절제 깊이 대 의도된 절제 깊이의 비율로서의 절제율을 시료 1 및 2에 대해 측정하였다. 절제 데이타를 하기 표 1에 요약하였다.
절제 데이타 요약
시료 번호 수분 함량(%) 측정된 깊이 대 의도된 깊이 평균 깊이 PTK@
25 ㎛ 50 ㎛ 100 ㎛
1 73.1 4.01/1 121±5 224±5 422±10
2 82.3 4.62/1 141±5 256±5 488±10
표 1의 절제 데이타는 마찬가지로 하기 도 1 및 2의 그래프로 도시하였다.
시료 1 및 2의 관찰에서, 절제 영역은 암시야 및 명시야 조건 모두에서 균열 또는 혼탁의 증상이 없이 투명하였다. 그러나 절제되지 않은 물질은 암시야 조건하에서 관찰하였을 때 약간의 혼탁을 보였다. 절제 영역은 50 ㎛, 보다 유의하게는 100 ㎛에서 시력에 저하 영향을 일으키지는 않을 정도로 약간의 줄무늬가 생기고, 공포형 무늬로 산란되었다. 횡단된 표면은 ×20 배율에서 관찰하였을 때, 100 ㎛에서는 거칠었으나 25 및 50 ㎛에서는 매끄럽게 남아있었다. 시료 2의 횡단된표면은 그의 보다 높은 수분 함량으로 인해 100 ㎛의 의도된 절제에서 시료 1의 횡단된 표면보다 보다 적은 찰흔 및 보다 깊은 절제로 약간 더 매끄럽게 보였다.
본 발명의 수화겔 중합체성 물질을 사용하여 제조한 PAI는 미세각막절삭기 또는 유사한 외과적 장치에 의해, 또는 안과학 분야의 당업자에게 공지된 유사한 외과적 방법에 의해 만들어진 각막 조직 피판 아래 눈의 각막 상에 위치시킬 수 있는 원형 또는 달걀형 도안이 바람직하다. 목적하는 수화겔 중합체성 물질을 선택하고, 상기 물질을 당업자에게 공지된 기술을 사용하여 주조 성형하거나 필름 또는 막대로서 물질을 주조하여 본 발명의 PAI를 제조한다. 필름 또는 막대로서 주조하는 경우, 그 다음 물질 필름 또는 막대를 원형 또는 달걀형 PAI로 선반작업(lathed) 또는 기계작업(machined)한다. 일단 제조된 PAI를 당업자에게 공지된 통상적인 방법으로 세정하고, 닦고, 임의로는 수화시키고, 포장하고, 멸균한다.
본 발명의 PAI 제조 목적에 유용한 몇몇 구체적인 조성물이 본원에 제시 및 기재되어 있지만, 본 발명의 기초 원리를 취지 및 범주에서 벗어남이 없이 다양하게 변형할 수 있으며, 첨부한 청구항의 범주에 의해 지시되는 것을 제외하고 본원에서 기재한 특정 조성물 및 방법으로 제한되지 않는다는 것이 당업자에게 명백해 질 것이다.

Claims (41)

  1. 수분 함량이 60 중량% 이상이고, 임상적으로 광절제할 때 균열 또는 혼탁이 나타나지 않는 수화겔 중합체성 물질을 형성하는,
    하나 이상의 친수성 단량체;
    임의의 가교제; 및
    개시제를 포함하는 광절제가능한 각막 인레이로서 사용하기 적합한 수화겔 중합체성 물질.
  2. 제1항에 있어서, 자외광 흡수 물질을 포함하는 수화겔 중합체성 물질.
  3. 제1항에 있어서, 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)에틸 아크릴레이트, 4-(2-아크릴옥시에톡시)-2-히드록시벤조페논, 4-메타크릴옥시-2-히드록시벤조페논, 2-(2'-메타크릴옥시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시에틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-(3''-디메틸비닐실릴프로폭시)-2'-히드록시페닐]-5-메톡시벤조트리아졸, 2-(3'-알릴-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-메톡시벤조트리아졸 및 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-클로로벤조트리아졸로 이루어진 군으로부터 선택되는 자외광 흡수 물질을 포함하는 수화겔 중합체성 물질.
  4. 제1항에 있어서, 자외광 흡수 물질로서 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)-에틸 아크릴레이트를 포함하는 수화겔 중합체성 물질.
  5. 제1항에 있어서, 개시제가 아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시아노시클로헥산), 디-t-부틸 퍼옥시드, 디쿠밀 퍼옥시드, t-부틸쿠밀 퍼옥시드, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, 디(4-t-부틸 시클로헥실) 퍼옥시디카르보네이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, 데카노일 퍼옥시드, 라우로일 퍼옥시드, 아세틸 퍼옥시드, 스테아로일 퍼옥시드, 벤조일 퍼옥시드, 2,4-펜탄디온 퍼옥시드, 디(n-프로필)퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시디카르보네이트, t-아밀 퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시아세테이트, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 다로커(Darocur)(TM)1173, 1164, 2273, 1116, 2959 및 3331 및 이르가커(Irgacur)(TM)651 및 184로 이루어진 군으로부터 선택되는 수화겔 중합체성 물질.
  6. 제1항에 있어서, 개시제가 아조비스(이소부티로니트릴)인 수화겔 중합체성 물질.
  7. 제1항에 있어서, 가교제가 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 및 폴리(에틸렌 글리콜) 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 수화겔 중합체성 물질.
  8. 제1항에 있어서, 가교제가 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트인 수화겔 중합체성 물질.
  9. 제1항에 있어서, 하나 이상의 친수성 단량체가 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 히드록시에톡시에틸 메타크릴레이트, 히드록시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메톡시-폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메타크릴산, 나트륨 메타크릴레이트, 글리세롤 메타크릴레이트, 히드록시프로필 메타크릴레이트, N-비닐피롤리디온, 히드록시프로필 메타크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-메틸아크릴아미드 및 히드록시부틸 메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 수화겔 중합체성 물질.
  10. 제1항에 있어서, 하나 이상의 친수성 단량체가 2-히드록시에틸 메타크릴레이트 또는 메타크릴산인 수화겔 중합체성 물질.
  11. 수분 함량이 대략 60 중량% 이상이고, 임상적으로 광절제할 때 균열 또는 혼탁이 나타나지 않는 조성물을 형성하는
    하나 이상의 친수성 단량체;
    임의의 가교제; 및
    개시제를 포함하는 조성물로부터 제조되는 광절제가능한 각막 인레이.
  12. 제11항에 있어서, 조성물이 자외광 흡수 물질을 포함하는 인레이.
  13. 제11항에 있어서, 조성물이 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)에틸 아크릴레이트, 4-(2-아크릴옥시에톡시)-2-히드록시벤조페논, 4-메타크릴옥시-2-히드록시벤조페논, 2-(2'-메타크릴옥시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시에틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-(3''-디메틸비닐실릴프로폭시)-2'-히드록시페닐]-5-메톡시벤조트리아졸, 2-(3'-알릴-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-메톡시벤조트리아졸 및 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-클로로벤조트리아졸로 이루어진 군으로부터 선택되는 자외광 흡수 물질을 포함하는 인레이.
  14. 제11항에 있어서, 조성물이 자외광 흡수 물질로서 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)-에틸 아크릴레이트를 포함하는 인레이.
  15. 제11항에 있어서, 개시제가 아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시아노시클로헥산), 디-t-부틸 퍼옥시드, 디쿠밀 퍼옥시드, t-부틸쿠밀 퍼옥시드, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, 디(4-t-부틸 시클로헥실) 퍼옥시디카르보네이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, 데카노일 퍼옥시드, 라우로일 퍼옥시드, 아세틸 퍼옥시드, 스테아로일 퍼옥시드, 벤조일 퍼옥시드, 2,4-펜탄디온 퍼옥시드, 디(n-프로필)퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시디카르보네이트, t-아밀 퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시아세테이트, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 다로커(TM)1173, 1164, 2273, 1116, 2959 및 3331 및 이르가커(TM)651 및 184로 이루어진 군으로부터 선택되는 인레이.
  16. 제11항에 있어서, 개시제가 아조비스(이소부티로니트릴)인 인레이.
  17. 제11항에 있어서, 가교제가 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 및 폴리(에틸렌 글리콜) 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 인레이.
  18. 제11항에 있어서, 가교제가 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트인 인레이.
  19. 제11항에 있어서, 하나 이상의 친수성 단량체가 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 히드록시에톡시에틸 메타크릴레이트, 히드록시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메톡시-폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메타크릴산, 나트륨 메타크릴레이트, 글리세롤 메타크릴레이트, 히드록시프로필 메타크릴레이트, N-비닐피롤리디온, 히드록시프로필 메타크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-메틸아크릴아미드 및 히드록시부틸 메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 인레이.
  20. 제11항에 있어서, 친수성 단량체가 2-히드록시에틸 메타크릴레이트 또는 메타크릴산인 인레이.
  21. 하나 이상의 친수성 단량체, 개시제 및 임의의 가교제를 포함하는 중합 물질로부터 중합된 수화겔 중합체성 물질 시트 또는 막대를 선반작업(lathing) 또는 기계작업(machining)하여 수분 함량이 60 중량% 이상이고, 임상적으로 광절제할 때 균열 또는 혼탁을 보이지 않는 원형 또는 달걀형 인레이를 형성하는 것을 포함하는, 수화겔 중합체성 물질로부터의 광절제가능한 각막 인레이의 제조 방법.
  22. 하나 이상의 친수성 단량체, 개시제 및 임의의 가교제를 포함하는 중합 물질로부터 중합된 수화겔 중합체성 물질을 디스크 또는 렌즈핵의 형태로 주조 성형하여 수분 함량이 60 중량% 이상이고, 임상적으로 광절제할 때 균열 또는 혼탁을 보이지 않는 원형 또는 달걀형 인레이를 형성하는 것을 포함하는, 수화겔 중합체성 물질로부터의 광절제가능한 각막 인레이의 제조 방법.
  23. 제21항 또는 제22항에 있어서, 중합 물질이 자외광 흡수 물질을 포함하는 방법.
  24. 제21항 또는 제22항에 있어서, 중합 물질이 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)에틸 아크릴레이트, 4-(2-아크릴옥시에톡시)-2-히드록시벤조페논, 4-메타크릴옥시-2-히드록시벤조페논, 2-(2'-메타크릴옥시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시에틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-(3''-디메틸비닐실릴프로폭시)-2'-히드록시페닐]-5-메톡시벤조트리아졸, 2-(3'-알릴-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-메톡시벤조트리아졸 및 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-클로로벤조트리아졸로 이루어진 군으로부터 선택되는 자외광 흡수 물질을 포함하는 방법.
  25. 제21항 또는 제22항에 있어서, 중합 물질이 자외광 흡수 물질로서 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)-에틸 아크릴레이트를 포함하는 방법.
  26. 제21항 또는 제22항에 있어서, 개시제가 아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시아노시클로헥산), 디-t-부틸 퍼옥시드, 디쿠밀 퍼옥시드, t-부틸쿠밀 퍼옥시드, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, 디(4-t-부틸 시클로헥실) 퍼옥시디카르보네이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, 데카노일 퍼옥시드, 라우로일 퍼옥시드, 아세틸 퍼옥시드, 스테아로일 퍼옥시드, 벤조일 퍼옥시드, 2,4-펜탄디온 퍼옥시드, 디(n-프로필)퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시디카르보네이트, t-아밀 퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시아세테이트, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 다로커(TM)1173, 1164, 2273, 1116, 2959 및 3331 및 이르가커(TM)651 및 184로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  27. 제21항 또는 제22항에 있어서, 개시제가 아조비스(이소부티로니트릴)인 방법.
  28. 제21항 또는 제22항에 있어서, 가교제가 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 및 폴리(에틸렌 글리콜) 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  29. 제21항 또는 제22항에 있어서, 가교제가 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트인 방법.
  30. 제21항 또는 제22항에 있어서, 하나 이상의 친수성 단량체가 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 히드록시에톡시에틸 메타크릴레이트, 히드록시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메톡시-폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메타크릴산, 나트륨 메타크릴레이트, 글리세롤 메타크릴레이트, 히드록시프로필 메타크릴레이트, N-비닐피롤리디온, 히드록시프로필 메타크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-메틸아크릴아미드 및 히드록시부틸 메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  31. 제21항 또는 제22항에 있어서, 하나 이상의 친수성 단량체가 2-히드록시에틸 메타크릴레이트 또는 메타크릴산인 방법.
  32. 들어 올린 조직 피판 아래 눈 내의 각막 조직 상에 광절제가능한 인레이를위치시키는 단계; 및
    광절제가능한 인레이를 들어 올린 조직 피판으로 덮기전에 절제하는 단계를 포함하는,
    하나 이상의 친수성 단량체, 개시제 및 임의의 가교제를 포함하는 중합 물질로부터 중합되는 수분 함량 대략 60 중량% 이상의 수화겔 중합체성 물질로부터 제조된 광절제가능한 각막 인레이의 사용 방법.
  33. 제32항에 있어서, 중합 물질이 자외광 흡수 물질을 포함하는 방법.
  34. 제32항에 있어서, 중합 물질이 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)에틸 아크릴레이트, 4-(2-아크릴옥시에톡시)-2-히드록시벤조페논, 4-메타크릴옥시-2-히드록시벤조페논, 2-(2'-메타크릴옥시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시에틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-(3''-디메틸비닐실릴프로폭시)-2'-히드록시페닐]-5-메톡시벤조트리아졸, 2-(3'-알릴-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-메톡시벤조트리아졸 및 2-[3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(3''-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐]-5-클로로벤조트리아졸로 이루어진 군으로부터 선택되는 자외광 흡수 물질을 포함하는 방법.
  35. 제32항에 있어서, 중합 물질이 자외광 흡수 물질로서 베타-(4-벤조트리아조일-3-히드록시페녹시)-에틸 아크릴레이트를 포함하는 방법.
  36. 제32항에 있어서, 개시제가 아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시아노시클로헥산), 디-t-부틸 퍼옥시드, 디쿠밀 퍼옥시드, t-부틸쿠밀 퍼옥시드, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, 디(4-t-부틸 시클로헥실) 퍼옥시디카르보네이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, 데카노일 퍼옥시드, 라우로일 퍼옥시드, 아세틸 퍼옥시드, 스테아로일 퍼옥시드, 벤조일 퍼옥시드, 2,4-펜탄디온 퍼옥시드, 디(n-프로필)퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시디카르보네이트, t-아밀 퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시아세테이트, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 다로커(TM)1173, 1164, 2273, 1116, 2959 및 3331 및 이르가커(TM)651 및 184로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  37. 제32항에 있어서, 개시제가 아조비스(이소부티로니트릴)인 방법.
  38. 제32항에 있어서, 가교제가 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 및 폴리(에틸렌 글리콜) 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  39. 제32항에 있어서, 가교제가 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트인 방법.
  40. 제32항에 있어서, 하나 이상의 친수성 단량체가 2-히드록시에틸 메타크릴레이트, 히드록시에톡시에틸 메타크릴레이트, 히드록시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시에톡시에틸 메타크릴레이트, 메톡시디에톡시에틸 메타크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메톡시-폴리(에틸렌 글리콜) 메타크릴레이트, 메타크릴산, 나트륨 메타크릴레이트, 글리세롤 메타크릴레이트, 히드록시프로필 메타크릴레이트, N-비닐피롤리디온, 히드록시프로필 메타크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-메틸아크릴아미드 및 히드록시부틸 메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  41. 제32항에 있어서, 친수성 단량체가 2-히드록시에틸 메타크릴레이트 또는 메타크릴산인 방법.
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