KR20040075017A - 오버플로우 다운드로우 용융공정을 통한 시트 유리의제조방법 - Google Patents

오버플로우 다운드로우 용융공정을 통한 시트 유리의제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 지르콘 아이소파이프를 적용하는 오버플로우 다운드로우 용융공정으로 제조되는 시트 유리에서 결함의 형성을 제어하는 방법을 제공한다. 본 발명의 방법은 아이소파이프의 상층부에서 유리로 확산되는 지르코니아의 양과 아이소파이프의 하층부에서 용액으로 부터 배출되는 지르콘의 양이 최소화되도록 아이소파이프를 통과하는 유리의 온도 프로파일을 제어하는 단계를 포함한다.

Description

오버플로우 다운드로우 용융공정을 통한 시트 유리의 제조방법{Process for producing sheet glass by the overflow downdraw fusion process}
상기 용융공정은 시트 유리를 제조하는 유리 제조 분야에서 사용되는 기본적인 기술 중 하나이다. 예를 들어, Varshneya, Arun K., "Flat Glass", Fundamentals of Inorganic Galsses, Academic Press, Inc., Boston, 1994, Chapter 20, Section 4.2., 534-540을 참조할 수 있다. 당 분야에서 알려진 다른 공정, 예를 들어, 플로우트(float) 및 슬롯(slot) 인발 공정과 비교하면, 상기 용융공정으로 우수한 표면 평면도 및 평활도를 갖는 유리 시트를 제조할 수 있다. 결과적으로, 상기 용융공정은 액정 화면(LCDs) 제조분야에서 유리 기판의 생산에서 특히 중요성을 갖는다.
용융공정, 구체적으로, 오버플로우 다운드로우(overflow downdraw) 용융공정은 스튜어트 엠. 독커티의 미국특허 제3,338,696호 및 제3,682,609호의 주제이다. 상기 특허의 공정에 대한 개략도를 도 1에 나타내었다. 기술한 바와 같이, 용융 유리가 "아이소파이프"로 알려진 내화 몸체에 형성된 트로프(trough)에 공급된다.
정상상태가 되면, 용융 유리는 아이소파이프의 외면을 따라서 하향으로 흐른후 안으로 흐르는 유리의 두 시트를 형성하기 위해 양쪽 면상의 트로프의 상층을 오버플로우한다. 상기 두 시트는 아이소파이프의 하층부 또는 루트(root)에서 만나서 단일 시트로 함께 용융된다. 상기 단일 시트는 이후 인발 장치(도 1에서 유리 인발 롤로 나타냄)로 보내지고 루트로 부터 멀리 시트를 인발하는 속도로 시트의 두께를 제어하게 된다. 상기 인발 장치는 루트의 하부에 위치하여 상기 장치와 접촉하기 전에 단일 시트를 냉각하여 단단하게 만든다.
도 1에서 보는 바와 같이, 상기 최종 유리 시트의 외면은 공정의 어느 단계에서도 아이소파이프의 외부면 부분과 접촉하지 않는다. 게다가, 상기 표면들은 단지 대기에서만 볼 수 있다. 최종 시트를 형성하는 두개의 절반 시트의 내면은 아이소파이프와 접하나, 이들 내면은 아이소파이프의 루트에서 함께 용융되고 따라서 최종 시트에서 몸체 내부에 위치된다. 이러한 방식으로, 최종 유리에서 우수한 성질의 외면을 얻게된다.
본 발명은 2002년 12월21일 출원된 미국가출원 제60/343,439호를 우선권으로 청구하는 바이다.
본 발명은 시트 유리를 제조하는 용융 공정에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로, 지르콘 아이소파이프를 사용하는 용융 공정에 관한 것이다. 보다 더 구체적으로, 본 발명은 지르콘 아이소파이프를 사용하는 용융 공정으로 제조된 시트 유리에서 지르콘-함유 결함의 형성을 제어하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 기술은 액정 화면, 예를 들어, AMLCDs의 제조에서 기판으로 사용되는 유리 시트의 제조에 용융 공정이 이용될 때 특히 유용하다.
도 1은 평면 유리 시트 제조를 위한 대표적인 오버플로우 다운드로우 용융 공정을 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 따라서 적용될 수 있는 대표적인 온도 변화를 나타내는 개략도이다.
본 발명이 해결하고자 하는 문제
용융공정에서 사용되는 아이소파이프는 트로프로 흘러들어가고 외면위로 흐르는 융용 유리로 인한 고온 및 실질적인 기계 하중을 겪게된다. 이러한 요구조건을 지탱하기 위해서, 아이소파이프를 통상적으로 바람직하게는 아이소스태틱하게 가압된 내화물질 블럭(따라서 "아이소-파이프"라 함)으로 제조된다. 구체적으로, 아이소파이프는 바람직하게 아이소스태틱하게 가압된 지르콘 내화물, 즉, 주로 ZrO2및 SiO2를 포함하는 내화물로 제조된다. 예를 들어, ZrO2·SiO2또는, 등량 ZrSiO4의 물질로 된 이론적 조성물과 함께, ZrO2및 SiO2가 함께 적어도 물질의 95중량%를 포함하는 지르콘 내화물로 제조된다.
본 발명에 따르면, LCD 기판으로 사용되는 시트 유리 제조에서 손실의 주요 원인은 제조 공정에서 사용되는 지르콘 아이소파이프로 들어가서 통과하는 유리의 이동경로에 따라 유리에 존재하게 되는 지르콘 결정(여기서는 "2차 지르콘 결정" 또는 "2차 지르콘 결함"이라 함)때문이다. 상기 2차 지르콘 결정의 문제는 고온에서 형성되어야 하는 실투-감응 유리에서 보다 중요함이 더욱 알려졌다.
상기 문제 원인의 발견
본 발명에 따르면, 최종 유리 시트에서 발견되는 지르콘 결정을 야기하는 지르코니아는 지르콘 아이소파이프의 상위 부분에서 유래됨을 확인하였다. 구체적으로, 상기 결함은 궁극적으로 아이소파이프의 트로프 및 외면의 상위 벽(위어(weirs))을 따라서 존재하는 온도와 점도에서 지르코니아(즉, ZrO2및/또는Zr+4+ 2O-2)가 용융 유리에 용해되어 야기되는 것이다. 상기 아이소파이프 부분에서 아이소파이프의 아래 부분과 비교하여 유리의 온도는 보다 높고 점도는 보다 낮은데 이는 유리가 아이소파이프 아래로 이동하면서, 냉각되고 보다 점성이 커지기 때문이다.
용융 유리에서 지르코니아의 용해도 및 확산도는 유리의 온도 및 점도에 의한다(즉, 유리 온도가 감소하고 점도가 증가하면, 용액에 지르코니아가 덜 남고 확산 속도가 감소한다). 아이소파이프의 하층(루트) 근처에 유리가 있으면, 지르코니아로 초포화된다. 그 결과, 지르콘 결정(즉, 2차 지르콘 결정)은 루트 영역에서 지르콘 아이소파이프 상에서 응집되어 성장한다.
결국 상기 결정은 유리 흐름을 갑작스럽게 중단시킬 만큼 길게 성장하여서 시트의 용융 라인 또는 그 근처에서 결함이 된다. 통상적으로, 갑작스러운 중단은 결정이 약 100마이크론 길이로 자랄때 까지는 문제가 되지 않는다. 상기 길이로 성장되는 데는 실질적으로, 예를 들어, 3개월 또는 그 이상의 연속적인 작업 시간이 걸린다. 따라서, 최종 유리에서 2차 지르코니아 결합의 원인을 확인하는 것 자체는 본 발명의 중요한 측면이다.
문제의 해결
본 발명에 따르면, 최종유리에서 상기 2차 지르콘 결함 문제는 다음과 같은 조건하에서 용융 공정을 작업하여 해결된다:
(a) 트로프 및 아이소파이프의 상층부 용액으로 들어가는 지르코니아를 줄이고, 및/또는
(b) 아이소파이프의 하부에서 용액으로 부터 배출되어 2차 지르콘 결정을 형성하는 지르콘을 줄인다(용액으로 부터 배출되는 것은 지르콘 결정의 실투 및/또는 침전을 포함하는 것으로 간주될 수 있다).
상기 효과를 얻을 수 있는 작업 조건은: (a) 아이소파이프의 상층(트로프 및 위어 영역)에서 작업 온도(구체적으로, 유리 온도)를 낮추는 단계, 또는 (b) 아이소파이프의 하층(루트 영역)에서 작업 온도(구체적으로, 유리 온도)를 높이는 단계, 또는 (c) 가장 바람직하게는 아이소파이프의 상층에서 작업 온도를 낮추고 하층에서는 작업온도를 높이는 단계를 포함한다.
바람직하게, 아이소파이프의 상층에서 작업 온도를 낮추는 단계 단독, 또는 아이소파이프의 하층에서 온도를 높이는 단계와의 조합으로 2차 지르콘 문제를 해결하기 위해 사용된다. 일반적으로, 2차 지르콘 문제를 해결하기 위한 아이소파이프의 상층에서 온도 변화는 아이소파이프의 하층에서 동일한 온도변화보다 약 2배정도 효율적이다.
아이소파이프의 상층 및/또는 하층에서 바람직한 온도 조절은 유리 형성 작업에서 유리 온도를 제어하기 위해 통상적으로 적용되는 종류의 가열장치를 사용하여 얻을 수 있다. 예를 들어, 아이소파이프의 상층에서 작업 온도를 낮추는 단계는 아이소파이프의 상층 또는 근처에 위치한 모든 히터를 낮추어(또는 잠금) 이룰 수 있으며, 반면 아이소파이프의 하층에서 작업 온도를 증가시키는 단계는 아이소파이프의 하층 또는 근처에 위치한 히터의 출열을 증가시켜서 이룰 수 있고, 및/또는보다 강격한 히터를 사용하거나, 및/또는 히터를 더 추가하여 이룰 수 있다.
비슷하게, 온도 조절은 아이소파이프 주변의 절연 및/또는 공기 흐름 패턴을 변화시켜 이룰 수 있는 데, 예를 들어, 루트 영역에서 온도를 증가시키기 위해 아이소파이프 루트 영역에서 절연을 증가시키고 및/또는 아이소파이프의 상기 영역에서 온도를 다시 증가시키기 위해 상기 영역에서 공기 흐름을 감소시킬 수 있다.
아이소파이프 상층에서 온도는 유리 시트를 제조하기 위한 원료를 가공하는 데 사용되는 용융/정제 장비로 부터 아이소파이프에 공급되는 유리의 온도를 낮추어서 낮출 수 있다. 어떠한 방법을 통해서 아이소파이프의 상층에서 온도를 줄이건, 주어진 유리 조성물에 대한 결과는 상기 영역에서 유리의 점도가 증가되고 지르코니아 용해도가 감소된다.
본 발명의 구체예
도 2는 파운드 당 약 0.3결함 내지 파운드 당 약 0.09결함의 2차 지르콘 결함 수준으로 감소되도록 디자인된 대표적인 작업 온도의 변화를 나타내는데, 즉, 상기 본 발명에 의한 결함 수준은 본 발명이 아인 경우의 수준의 1/3 미만이다. 루트 말단에서 온도 변화(증가)는 루트 중심에서 온도 변화(증가)보다 큰데 이는 아이소파이프의 루트에서 말단이 2차 지르콘 결정이 형성이 보다 잘되는 곳이기 때문이다.
바람직하게, 도 2에 나타낸 온도는 아이소파이프의 트로프에 공급되는 유리 온도의 감소와 함께 조합되어 사용되는 데, 예를 들어, 약 1270℃ 내지 약 1235℃ 감소이다.
도 2에 나타낸 온도는 당 분야에서 알려진 다양한 기술을 사용하여 측정할 수 있는 유리 온도이다. 일반적으로, 아이소파이프의 상층부(트로프 및 위어)에서, 측정된 유리 온도는 아이소파이프의 외부면 온도와 거의 같은 반면, 아래 부분(루트)에서는, 유리 온도가 통상적으로 아이소파이프 외면 온도보다 낮다.
도 2에 나타난 온도 변화는 1737 상품명으로 코닝사에서 판매하는 타입의 LCD 유리의 제조에 사용하기 적합하다. 덤바우, 주니어 등의 미국특허 제5,374,595호를 참조하면 된다. 다른 유리에 대해 적합한 작업 온도(유리 온도)는 본 발명으로 쉽게 결정할 수 있다. 사용되는 특정 온도는 유리 조성물, 유리 유속 및 아이소파이프 외형같은 변수에 따른다. 따라서, 실제적으로, 최종 유리의 2차 지르콘 결함 수준이 상업적으로 수용가능한 수준, 예를 들어 최종 유리 파운드 당 0.1결함 미만 수준일 때 까지 온도를 조절하기 위해 경험적인 접근법이 사용된다. 일반적으로, LCD 기판 제조용 유리에서, 아이소파이프 상층(예를 들어, 위어의 상층)의 유리와 아이소파이프 하층(예를 들어, 루트)에서의 유리 온도간의 온도 차이는 약 90℃ 미만일 필요가 있고 어떤 경우는 파운드당 0.1 결함 수준 이상의 2차 지르콘 결함을 피하기 위해 약 80℃ 미만일 필요가 있다.
요약
상술한 바로 부터, 본 발명은 지르콘 아이소파이프를 적용하는 용융공정을 사용하여 제조되는 시트 유리에서 지르콘-함유 결함 수준을 감소시키기 위한 방법을 제공하는 것이다. 상기 방법은 가장 뜨거운 유리가 아이소파이프와 접하는 용액으로 실질적인 양의 지르콘이 들어가지 않고 가장 차가운 유리가 아이소파이프와접하는 용액에서 실질적인 양의 지르콘이 배출되어 결정을 형성하지 않도록 아이소파이프와 접촉하는 가장 뜨겁고 가장 차가운 유리사이의 온도 차를 제어하는 단계를 포함한다. 구체적으로, 상기 온도 차이는 아이소파이프의 루트에서 형성된 2차 지르콘 결정을 중단시켜 최종 유리에서 상업적으로 수용할 수 없는 수준의 결함, 예를 들어, 최종 유리 파운드 당 0.1결함보다 큰 결함 수준을 생성하는 길이에 도달하지 않도록 제어된다.
보다 간략하게, 본 발명은 트로프 및 위어에서 유리로 확산되는 지르코니아의 양 및 루트에서 용액에서 나와 결정을 형성하는 지르코니아의 양을 최소화시키기 위해 지르콘 아이소파이프를 지나가는 유리의 온도 프로파일을 제어하여 2차 지르콘 결함 문제를 해결한다.

Claims (17)

  1. 상층부에는 트로프(trough) 및 위어(weirs)를 포함하고, 하층부에는 루트(root)를 포함하는 지르콘 아이소파이프에 용융 유리를 공급하는 용융공정에 의해 시트 유리를 제조하는 방법에 있어서, 상기 지르콘 아이소파이프를 통과하는 유리의 온도 프로파일을 제어하여, 상기 트로프와 위어에서 유리로 확산되는 지르코니아의 양과 상기 루트에서 용액으로 부터 배출되어 결정을 형성하는 지르코니아의 양이 모두 최소화되도록 시트 유리에서 지르콘-함유 결함의 형성을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 용융공정을 통한 시트 유리의 제조방법.
  2. 상층부에는 트로프(trough) 및 위어(weirs)를 포함하고, 하층부에는 루트(root)를 포함하는 지르콘 아이소파이프에 용융 유리를 공급하는 용융공정에 의해 시트 유리를 제조하는 방법에 있어서, 상기 아이소파이프와 접촉하는 가장 뜨겁고 가장 차가운 유리간의 온도 차이를 제어하여, 실질적인 양의 지르코니아가 상기 가장 뜨거운 유리가 아이소파이프와 접촉하는 용액으로 들어가지 않고 실질적인 양의 지르코니아가 가장 차가운 유리가 아이소파이프와 접촉하는 용액에서 배출되어 결정을 형성하지 않도록 시트 유리에서 지르콘-함유 결함 형성을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 공정을 통한 시트 유리의 제조방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 방법은 아이소파이프 상층부에서 유리 온도를 낮추는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 아이소파이프 상층부에서 유리 온도는 1258℃ 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 방법은 아이소파이프의 루트에서 유리 온도를 증가시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 아이소파이프의 루트에서 유리 온도는 1120℃보다 큰 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 루트의 말단에서 온도 증가는 루트의 중심에서 온도 증가보다 큰 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 방법은 아이소파이프의 상층부에서 유리 온도를 낮추는 단계 및 아이소파이프의 루트에서 유리 온도를 증가시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 아이소파이프의 상층부에서 유리 온도는 1258℃ 미만이고, 상기 아이소파이프의 루트에서 유리 온도는 1120℃보다 큰 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제8항에 있어서, 상기 루트 말단에서 온도 증가는 루트 중심에서 온도 증가보다 큰 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 방법은 아이소파이프에 공급된 유리의 온도를 낮추는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 아이소파이프에 공급된 유리의 온도는 약 1270℃ 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 아이소파이프의 상층부에서 유리와 아이소파이프 루트에서의 유리 온도 차이는 약 90℃ 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 온도 차이는 약 80℃ 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 루트에서 형성된 지르콘 결정은 이들이 중단되어 최종 유리에서 상업적으로 수용할 수 없는 수준의 결함을 생성시키는 길이에 도달하지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 루트에서 형성되는 지르콘 결정의 길이는 약 100마이크론 미만으로 유지되는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 최종 유리에서 결함 정도는 파운드 당 0.1 결함 이하인 것을 특징으로 하는 방법.
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Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7681414B2 (en) * 2001-08-08 2010-03-23 Corning Incorporated Overflow downdraw glass forming method and apparatus
US9233869B2 (en) 2001-08-08 2016-01-12 Corning Incorporated Overflow downdraw glass forming method and apparatus
US20050160767A1 (en) * 2004-01-28 2005-07-28 Robert Novak Horizontal sheet movement control in drawn glass fabrication
KR101206122B1 (ko) 2004-06-02 2012-11-28 코닝 인코포레이티드 유리 기판을 형성하기 위한 아이소파이프 질량 분포 방법
US20050268657A1 (en) * 2004-06-02 2005-12-08 Adamowicz John A Isopipe mass distribution for forming glass substrates
CN102584259B (zh) 2004-12-30 2014-06-18 康宁股份有限公司 耐火材料
US20060236722A1 (en) * 2005-04-26 2006-10-26 Robert Delia Forming apparatus with extensions attached thereto used in a glass manufacturing system
EP1746076A1 (en) * 2005-07-21 2007-01-24 Corning Incorporated Method of making a glass sheet using rapid cooling
US20070130994A1 (en) * 2005-12-08 2007-06-14 Boratav Olus N Method and apparatus for drawing a low liquidus viscosity glass
WO2007130298A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-15 Corning Incorporated Apparatus and method for forming a glass substrate with increased edge stability
WO2007145847A2 (en) * 2006-06-05 2007-12-21 Corning Incorporated Single phase yttrium phosphate having the xenotime crystal structure and method for its synthesis
US20090314032A1 (en) * 2006-10-24 2009-12-24 Nippon Electric Glass Co., Ltd Glass ribbon producing apparatus and process for producing the same
US7759268B2 (en) * 2006-11-27 2010-07-20 Corning Incorporated Refractory ceramic composite and method of making
CN1994944B (zh) * 2006-12-11 2010-08-11 河南安彩高科股份有限公司 一种成形砖
CN101012098B (zh) * 2007-01-24 2010-06-16 河南安彩高科股份有限公司 玻璃成型中的温度均匀装置以及温度均匀方法
US8033137B2 (en) * 2007-02-22 2011-10-11 Corning Incorporated Process to preserve isopipe during coupling
TWI391335B (zh) * 2007-05-18 2013-04-01 Corning Inc 製造玻璃製程中雜質最少化之方法及設備
WO2009011792A1 (en) * 2007-07-19 2009-01-22 Corning Incorporated A method and apparatus for forming a glass sheet
US8796168B2 (en) * 2008-02-27 2014-08-05 Corning Incorporated Modified synthetic xenotime material, article comprising same and method for making the articles
US20090217705A1 (en) * 2008-02-29 2009-09-03 Filippov Andrey V Temperature control of glass fusion by electromagnetic radiation
US7988804B2 (en) * 2008-05-02 2011-08-02 Corning Incorporated Material and method for bonding zircon blocks
TWI388519B (zh) * 2008-11-24 2013-03-11 Corning Inc 等管材料除氣
US8899078B2 (en) * 2008-11-26 2014-12-02 Corning Incorporated Glass sheet stabilizing system, glass manufacturing system and method for making a glass sheet
US8028544B2 (en) * 2009-02-24 2011-10-04 Corning Incorporated High delivery temperature isopipe materials
TWI487675B (zh) * 2009-11-25 2015-06-11 Corning Inc 產生玻璃片之融流處理
US8490432B2 (en) * 2009-11-30 2013-07-23 Corning Incorporated Method and apparatus for making a glass sheet with controlled heating
US8176753B2 (en) * 2010-02-26 2012-05-15 Corning Incorporated Methods and apparatus for reducing heat loss from an edge director
US8141388B2 (en) * 2010-05-26 2012-03-27 Corning Incorporated Radiation collimator for infrared heating and/or cooling of a moving glass sheet
TWI535672B (zh) * 2010-05-28 2016-06-01 康寧公司 複合隔離管
TWI537231B (zh) 2010-07-12 2016-06-11 康寧公司 高靜態疲勞的氧化鋁隔離管
US10421681B2 (en) 2010-07-12 2019-09-24 Corning Incorporated Alumina isopipes for use with tin-containing glasses
JP5023241B2 (ja) * 2010-09-30 2012-09-12 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス板の製造方法
US8973402B2 (en) 2010-10-29 2015-03-10 Corning Incorporated Overflow down-draw with improved glass melt velocity and thickness distribution
JP2012126615A (ja) * 2010-12-16 2012-07-05 Asahi Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ用カバーガラス
US8528365B2 (en) * 2011-02-24 2013-09-10 Corning Incorporated Apparatus for removing volatilized materials from an enclosed space in a glass making process
US20130047671A1 (en) * 2011-08-29 2013-02-28 Jeffrey T. Kohli Apparatus and method for forming glass sheets
US20130133370A1 (en) * 2011-11-28 2013-05-30 Olus Naili Boratav Apparatus for reducing radiative heat loss from a forming body in a glass forming process
US9162919B2 (en) * 2012-02-28 2015-10-20 Corning Incorporated High strain point aluminosilicate glasses
US8746010B2 (en) * 2012-03-12 2014-06-10 Corning Incorporated Methods for reducing zirconia defects in glass sheets
US8931309B2 (en) 2012-03-27 2015-01-13 Corning Incorporated Apparatus for thermal decoupling of a forming body in a glass making process
JP5746380B2 (ja) 2012-09-28 2015-07-08 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置
US10800143B2 (en) 2014-03-07 2020-10-13 Corning Incorporated Glass laminate structures for head-up display system
US20150251377A1 (en) * 2014-03-07 2015-09-10 Corning Incorporated Glass laminate structures for head-up display system
US9512025B2 (en) 2014-05-15 2016-12-06 Corning Incorporated Methods and apparatuses for reducing heat loss from edge directors
WO2016133798A1 (en) * 2015-02-17 2016-08-25 Corning Incorporated Glass forming device for improved ribbon flow
WO2019081312A1 (de) * 2017-10-27 2019-05-02 Schott Ag Vorrichtung und verfahren zur herstellung eines flachglases
JP2022097010A (ja) * 2020-12-18 2022-06-30 日本電気硝子株式会社 ガラス物品の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1697227A (en) * 1921-02-10 1929-01-01 Danner Edward Sheet-glass-forming apparatus and method
US1565319A (en) * 1924-02-11 1925-12-15 Libbey Owens Sheet Glass Co Forming sheet glass
US1731260A (en) * 1928-02-15 1929-10-15 Libbey Owens Glass Co Method for producing sheet glass
US3506429A (en) * 1967-01-03 1970-04-14 Corning Glass Works Apparatus for improving thickness uniformity in down drawn glass sheet
BE757057A (fr) * 1969-10-06 1971-04-05 Corning Glass Works Procede et appareil de controle d'epaisseur d'une feuille de verre nouvellement etiree
US4608473A (en) * 1982-05-28 1986-08-26 At&T Technologies, Inc. Modified zirconia induction furnace
JP2001031434A (ja) * 1999-07-19 2001-02-06 Nippon Electric Glass Co Ltd 板ガラスの成形方法および成形装置
JP4120910B2 (ja) * 1999-09-08 2008-07-16 日本電気硝子株式会社 溶融ガラスの供給方法
US6748765B2 (en) * 2000-05-09 2004-06-15 Richard B. Pitbladdo Overflow downdraw glass forming method and apparatus
CN102992592A (zh) * 2000-12-01 2013-03-27 康宁股份有限公司 熔融法生产平板玻璃所用的等静压板的下沉控制

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