KR20040019068A

KR20040019068A - 반투과 미러 부착 기판 및 반투과형 액정 표시 장치

Info

Publication number: KR20040019068A
Application number: KR10-2004-7000594A
Authority: KR
Inventors: 하토리겐지; 오기노에쓰오
Original assignee: 닛폰 이타가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2001-07-16
Filing date: 2002-07-15
Publication date: 2004-03-04
Also published as: JP2003029010A; CN1529826A; WO2003009018A1; TW592951B; CN1246710C

Abstract

높은 투과율을 가지면서 높은 반사율을 가지며, 투과 표시 성능 및 반사 표시 성능을 동시에 높일 수 있는 반투과 미러 부착 기판이 제공된다. 반투과 미러 부착 기판(1)은 유리로 이루어지는 투명한 유리 기판(2)과, 유리 기판(2) 위에 형성되는 산화규소(SiOx)로 이루어지는 하부막(3)과, 하부막(3) 위에 형성되는 알루미늄(Al)으로 이루어지는 반투과 반사막(4)과, 반투과 반사막(4) 위에 형성되는 이산화규소(SiO₂)로 이루어지는 보호막(5)을 갖는다. 하부막(3)으로서 사용되는 SiOx의 막 두께는 0 ~ 8 nm 이며, 또한 SiOx에 있어서 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x는 1.5 ~ 2.0이다.

Description

반투과 미러 부착 기판 및 반투과형 액정 표시 장치{SUBSTRATE WITH SEMI-TRANSMITTING MIRROR AND SEMI-TRANSMITTING LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT}

종래의 반투과형 액정 표시 장치에서는 반사 모드 및 투과 모드에서 표시하기 위해 필요한 광학 성능을 갖는 반투과 미러를 형성한 반투과 미러 부착 기판이 사용되고 있다. 반투과 미러 부착 기판에서는 반사 모드 및 투과 모드 쌍방의 표시 품질(주로, 휘도)을 보호하기 위하여 높은 반사 성능 및 투과 성능이 요구된다.

반투과 미러 부착 기판은 유리 기판과, 상기 유리 기판 위에 하부막으로서 형성되는 산화규소(SiO₂)막과, 상기 SiO₂막 위에 반투과 반사막으로서 형성되는 Al막 또는 Al-Ti, Al-Nd 등으로 이루어지는 Al 합금막과, 상기 Al 막 또는 상기 Al 합금막 위에 보호막으로서 형성되는 SiO₂를 갖는다. 하부막, 반투과 반사막, 및 보호막이 반투과 미러를 구성하고, 이 반투과 미러가 광을 반사하는 기능을 갖는다. 반투과 미러의 반사 성능 및 투과 성능은 반투과 반사막인 Al막 등의 막 두께에 의해 제어된다.

반투과 반사막의 투과율은 일반적으로 15 ~ 20%가 되도록 설정된다. 한편, 반사율은 금속 특유의 광학적 흡수가 생기므로, 전체 광량 중 투과 광량 및 흡수 광량을 공제한 광량에 의해 결정한다. 반투과 미러 부착 기판을 사용한 반투과형 액정 표시 장치의 표시 성능은 통상적으로 반투과 미러에 투과율이 20% 이상, 반사율이 60% 이상의 최저한도의 품질이 요구된다.

반투과 미러를 제조하는 수단으로서는 진공증착법과 스퍼터링법이 있지만, 내구성의 면에서 주로 스퍼터링법이 이용된다.

그러나, 종래의 반투과 미러 부착 기판은 반투과 미러의 투과율을 높일 경우, 충분한 반사율이 얻어지지 않는다는 문제가 있다. 특히, 15% 이상의 높은 투과율을 얻는 경우에는 반사율의 저하가 현저하게 된다. 이것은 반투과 미러의 광학 흡수량이 증대하였기 때문에 반사 강도가 저하된 것으로 생각된다. 즉, 투과율을 높이기 위해 Al 등으로 이루어지는 반투과 반사막의 막 두께를 얇게 하였으므로, Al 금속의 결정 격자의 혼란에 의해 본래의 Al 금속의 벌크 구조로부터 다른 구조로 변하여 반투과 반사막의 광학 흡수량이 증대된 것으로 생각된다.

본 발명의 목적은 높은 투과율을 가지면서 높은 반사율을 가지며, 투과 표시 성능 및 반사 표시 성능을 동시에 높일 수 있는 반투과 미러 부착 기판 및 반투과형 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.

본 발명은 반투과 미러 부착 기판 및 반투과형 액정 표시 장치에 관한 것이며, 높은 투과율 및 반사율을 둘 다 갖춘 반투과 미러 부착 기판 및 반투과형 액정 표시 장치에 관한 것이다.

도 1은 본 발명의 일실시예의 형태에 따른 반투과 미러 부착 기판의 모식 구조를 도시하는 단면도.

도 2는 도 1의 반도체 미러 부착 기판을 이용해서 제조되는 반투과형 액정 표시 장치의 일례의 모식 구조를 도시하는 단면도.

도 3은 표 1에 있어서 실시예1 내지 실시예2의 광학특성 도시도.

도 4는 표 1에 있어서 실시예3 내지 실시예6 및 비교예1의 광학특성 도시도.

도 5는 표 1에 있어서 실시예7 내지 실시예 10 및 비교예2의 광학특성 도시도.

도 6은 표 1에 있어서 실시예11 내지 실시예14 및 비교예3의 광학특성 도시도.

도 7은 표 2에 있어서 실시예15 내지 실시예22의 Ar/O₂혼합가스 유량비와 하부막에 있어서 x값과의 관계 도시도.

도 8은 표3에 있어서 실시예23 내지 실시예27 및 비교예4 내지 비교예6의 하부막에 있어서 x값과 광학특성과의 관계 도시도.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 제1 양태에 의하면, 기판과, 상기 기판 위에 형성되는 하부막과, 상기 하부막 위에 형성되는 반투과 반사막을 갖는 반투과 미러 부착 기판에 있어서, 상기 하부막의 두께를 0 ~ 8 nm 로 하는 것을 특징으로 하는 반투과 미러 부착 기판이 제공된다.

또한, 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판에 있어서, 상기 하부막은 산화규소(SiOx)로 이루어지는 것이 좋다.

또한, 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판에 있어서, 상기 산화규소(SiOx)에서의 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x는 1.5 ~ 2.0인 것이 좋다.

또한, 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판에 있어서, 상기 반투과 반사막은 Al 및 Al 합금 중 적어도 어느 하나로 이루어지는 것이 양호하다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 제2 양태에 의하면, 본 발명의 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판을 갖는 것을 특징으로 하는 반투과형 액정 표시 장치가 제공된다.

본 발명자 등은 상기 목적을 달성하도록 예의 연구를 행한 결과, 기판과, 기판 위에 형성되는 하부막과, 하부막 위에 형성되는 반투과 반사막을 갖는 반투과 미러 부착 기판에 있어서, 하부막의 두께를 0 ~ 8 nm 로 하면, 높은 투과율을 유지하면서 반사율을 높게 하며, 투과 표시 성능 및 반사 표시 성능을 동시에 높일 수 있다는 것을 발견하였다.

또한, 하부막은 산호규소(SiO₂)로 구성되고, SiOx에 있어서 산호(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x를 1.5 ~ 2.0으로 하면, 높은 투과율을 유지하면서 반사율을 높게 하며, 투과 표시 성능 및 반사 표시 성능을 더 높일 수 있다는 것을 발견하였다.

이하, 본 발명의 실시예의 형태를 도면을 참조해서 설명한다.

도 1은 본 발명의 일실시예의 형태에 따른 반투과 미러 부착 기판의 모식 구조를 도시하는 단면도이다.

도 1에 있어서, 반투과 미러 부착 기판(1)은 투명한 유리 기판(2)과, 유리 기판(2) 위에 형성되는 산화규소(SiOx)로 이루어지는 하부막(3)과, 하부막(3) 위에 형성되는 알루미늄(Al)으로 이루어지는 반투과 반사막(4)과, 반투과 반사막(4) 위에 형성되는 이산화규소(SiO₂)로 이루어지는 보호막(5)을 갖는다. 유리 기판(2) 위에는 하부막(3), 반투과 반사막(4), 및 보호막(5)이 차례로 적층되어 있다. 이들 하부막(3), 반투과 반사막(4), 및 보호막(5)은 반투과 미러(6)를 형성하고, 이 반투과 미러(6)가 광을 반사하는 기능을 갖는다.

유리 기판(2)은 550nm의 파장으로 1.50 ~ 1.55 정도의 굴절률을 갖는 소다 석회 규산염 유리와 저 알칼리 유리, 무알카리 유리가 좋지만, 이것들에 한정되지는 않으며, 투명한 플라스틱 등의 수지이어도 좋다.

반투과 미러(6)에 있어서 반투과 반사막(4)은 광이 일부 투과할 정도로 얇게 한 Al제의 금속 박막으로 구성되지만, 이에 한정되지 않고 Al-Ti, Al-Nd 등의 Al 합금이어도 좋다. 보호막(5)은 반투과 반사막(4)의 기계적 보호 및 내약품성, 내수성의 보호, 및 후술하는 도 2의 반투과형 액정 표시 장치에 있어서 보호막(5) 위에 형성되는 CF(컬러 필터)와의 밀착성의 보호를 목적으로 해서 반투과 반사막(4) 위에 형성된다.

SiOx로 이루어지는 하부막(3)의 두께는 0 ~ 8 nm으로 한다. 이것은하부막(3)의 두께가 8 nm를 초과할 경우, 반투과 미러(6)의 반사율이 저하됨과 동시에 Al 금속 자체의 광학 흡수량이 증가하기 때문이다. 하부막(3)은 본래 유리 기판(2) 내부로부터 녹아서 나오는 알칼리 확산을 방지하고(알칼리 패시베이션), 유리 기판(2)과 반사막(4)의 밀착성을 향상시키는 기능을 갖지만, 하부막(3)의 두께가 0 ~ 8 nm인 것에 의해, 하부막(3) 위에 형성되는 반투과 반사막(4)에 있어서 Al 금속의 결정구조를 양호하게 하며, Al 금속 자체의 광흡수량을 증가시키기 않고, 광의 투과 성능 및 반사 성능을 동시에 높일 수 있다.

또한, 하부막(3)으로서 사용되는 SiOx에 있어서 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x는 반투과 미러(6)의 투과 성능 및 반사 성능을 향상시키기 위해 1.5 ~ 2.0으로 한다. SiOx에 있어서 O의 Si에 대한 화학적 조성비 x가 1.5 ~ 2.0인 것에 의해 SiOx 위에 형성되는 반투과 반사막(4)에 있어서 Al 금속의 결정구조를 양호하게 하고, Al 금속 자체의 광학 흡수량을 증가시키지 않고, 광의 투과 성능 및 반사 성능을 동시에 높일 수 있다.

반투과 반사막(4) 위에는 보호막(5) 대신에 저 굴절률 재료로 이루어지는 층 및 고 굴절률 재료로 이루어지는 층이 교대로 복수 적층된 증반사(增反射) 적층체를 형성하여도 좋다. 적층수는 특별히 한정하지는 않지만 반사 성능 및 비용을 고려해서 통상 2 ~ 5 층이 좋다. 저 굴절률 재료로서는 산화규소, 불화마그네슘이 주로 사용되며, 고 굴절률 재료로서는 산화티탄, 산화탄탈, 산화니오브가 주로 사용된다. 증반사 적층체는 광학적 흡수가 생기지 않기 때문에, 반투과막으로서 적절하게 사용된다.

하부막(3) 및 보호막(6)의 형성방법으로서는 주로 공지의 진공성막법, 이온 플레이팅법, 및 스퍼터링법이 이용되지만, 하부막(3)의 막 두께를 정확하게 제어하는 것이 가능하다면 다른 방법을 이용하여도 좋다. 특히, 하부막(3)은 전도성 Si(B 도핑)를 타겟 재료로 해서 Ar/O₂혼합가스를 이용한 직류 스퍼터링법으로 형성하는 것이 양호하다. 또한, 반투과 반사막(4)은 고순도의 Al을 타겟 재료로 해서 Ar 가스를 사용하는 직률 스퍼터링법으로 형성하는 것이 양호하다.

도 1의 반투과 미러 부착 기판(1)에 의하면, SiOx로 이루어지는 하부막(3)의 막 두께를 0 ~ 8 nm으로 설정하거나 또는 SiOx에 있어서 O의 Si에 대한 화학적 조성비 x를 1.5 ~ 2.0으로 설정함으로써, 높은 투과율을 유지하면서 높은 반사율을 가지며, 투과 성능 및 반사 성능을 동시에 높일 수 있다.

도 2는 도 1의 반투과 미러 부착 기판(1)을 사용해서 제조되는 반투과형 액정 표시 장치의 일례의 구조를 도시하는 단면도이다.

도 2에 있어서, 반투과 미러(6) 위에는 모자이크 형상으로 배치된 컬러 필터(7)가 적층되고, 그 위에 컬러 필터(7)를 보호하기 위한 오버코팅(8), 및 ITO(Indium Thin Oxide)로 이루어지는 투명 도전막(9)이 순차 적층되어 있다. 또한, 유리 기판(2)보다 외측에는 위상차판(10) 및 편광판(11)이 순차 적층되어 있다.

투명 도전막(9)과 전면 유리판(14)보다 내측에 적층된 투명 도전막(13)과의 사이에는 액정층(12)이 협지되어 있다. 전면 유리판(14)의 외측에는 확산판(15),위상차판(16), 및 편광판(17)이 순차 적층되어 있다.

상기 구성에 의해, 반사 모드 및 투과 모드의 양 모드로 표시할 수 있다.

도 2의 반투과형 액정 표시 장치에 의하면, 투과 표시 성능 및 반사 표시 성능을 높일 수 있으며, 그 결과, 이용효율이 높아지기 때문에 도시되지 않은 백라이트의 휘도를 낮게 억제할 수 있으며, 반투과형 액정 표시 장치의 저소비 전력화에 효과가 있다.

다음에는 본 발명의 실시예를 구체적으로 설명한다.

먼저, 주표면이 연마된 판 두께 0.5 mm의 소다 석회 규산염 유리제의 유리 기판(2)을 준비하고, 스퍼터링법을 이용해서 하부막(3), 반투과 반사막(4), 및 보호막(5)을 유리 기판(2) 위에 순차 적층해서 반투과 미러 부착 기판(1)을 형성하였다.

즉, 도전성 Si(B 도핑)를 타겟 재료로 하고, Ar/O₂합금 가스를 이용한 직류 스퍼터링법에 의해 SiOx로 이루어지는 하부막(3)을 소정의 두께(0, 3, 5, 8, 12 nm)가 되도록 유리 기판(2) 위에 형성한 후, 고순도 Al(5N)을 타겟 재료로 하고, Ar 가스를 사용한 직류 스퍼터링법에 의해 Al로 이루어지는 반투과 반사막(4)을 소정의 두께(7, 5, 9, 11, 13 nm)가 되도록 하부막(3) 위에 형성하며, 또한 반투과 반사막(4) 위에 하부막(3)과 마찬가지의 방법으로 SiO₂로 이루어지는 보호막(5)을 소정의 두께(25nm)로 형성해서 표 1에 나타나는 시료(실시예1 ~ 실시예14 및 비교예1 ~ 비교예3)를 제작하였다.

그래서, 제작된 각 시료의 투과 성능 및 반사 성능을 평가하기 위해, 광파장 λ= 550 nm일 때의 광학특성, 즉 투과율(%), 반사율(%), 및 흡수율(%)을 분광 광도계로 측정하였다. 그 측정결과를 표 1에 나타낸다. 표 1에 있어서, 흡수율(%)은 100 - (투과율(%) + 반사율(%))에 의해 산출하였다. 또한, 표 1의 측정결과를 그래프로 한 것을 도 3 ~ 도 6에 나타낸다.

표 1

		하부막(SiO_x)의 두께(nm)	반사막(Al)의 두께(nm)	보호막(SiO₂)의 두께(nm)	투과율[λ=550nm]	반사율[λ=550nm]	흡수율[λ=550nm]
실시예	1	0	13	25	12.4	68.2	19.4
	2	5	13	25	11.8	67.7	20.5
	3	0	11	25	15.2	66.9	17.9
	4	3	11	25	15.3	66.1	18.6
	5	5	11	25	14.9	65.6	19.5
	6	8	11	25	14.8	64.5	20.7
	7	0	9	25	17.9	62.9	19.2
	8	3	9	25	18.1	62.2	19.7
	9	5	9	25	18.3	61.2	20.5
	10	8	9	25	18.2	59.8	22.0
	11	0	7.5	25	20.7	58.1	21.2
	12	3	7.5	25	20.9	57.4	21.7
	13	5	7.5	25	20.9	56.8	22.3
	14	8	7.5	25	21.2	54.9	23.9
비교예	1	12	11	25	15.1	59.8	25.1
	2	12	9	25	17.8	53.8	28.4
	3	12	7.5	25	21.3	47.8	30.9

표 1 및 도 3 ~ 도 6에 나타내는 바와 같이, 반투과 미러 부착 기판(1)의 투과율이 동일한 경우, 하부막(3)의 막 두께가 8 nm을 초과하면 반사율이 급격하게 저하하는 것을 확인하였다. 이 반사율 저하는 반투과 미러 부착 기판(1)의 광학 흡수량의 증가에 의한 것이다. 하부막(3)의 막 두께가 광학특성에 주는 영향은 반투과 미러 부착 기판(1)의 투과율이 높을수록, 즉 반투과 반사막(4)의 막 두께가 얇을수록 현저하게 된다. 한편, 투과율이 12%로 낮은 경우에는 하부막(3)의 막 두께에 의하지 않고 반투과 미러 부착 기판(1)의 광학특성은 일정하다.

다음, 하부막(3)(SiOx)에 있어서 산소(O)의 규소(Si)에 대한 광학적 조성비 x와 광학특성과의 관계에 대해서 설명하다.

먼저, 상술한 실시예와 마찬가지로 유리 기판(2) 위에 직류 스퍼터링법에 의해 SiOx로 이루어지는 하부막(3)을 형성할 때, Ar/O₂혼합가스 유량비를 변화시켜 유리 기판(2)과 하부막(3)으로 이루어지는, 표 2에 나타나는 시료(실시예15 ~ 실시예22)를 제작하였다.

그래서, 제작한 각 시료의 하부막(3)(SiOx)에 있어서 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x를 전자분광법(ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)에 의해 측정함과 동시에, 하부막(3)(SIOx)의 막 두께를 측정하였다. 그 측정결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 표 2의 측정결과를 그래프로 한 것을 도 7에 나타낸다.

표 2

	하부층의 스퍼터 조건	하부층의막 두께(nm)	하부층에서의 x값
	Ar가스유량(sccm)	하부층의막 두께(nm)	하부층에서의 x값	O₂가스유량(sccm)	Ar/O₂혼합가스유량비	스퍼터압력(Pa)
실시예	15	360	40	9.00	4.0 x 10^-1	28.9	1.3
	16	350	50	7.00	4.0 x 10^-1	29.3	1.4
	17	340	60	5.67	4.0 x 10^-1	29.2	1.45
	18	320	80	4.00	4.0 x 10^-1	30.4	1.6
	19	300	100	3.00	4.0 x 10^-1	31.0	1.85
	20	250	150	1.67	4.0 x 10^-1	32.3	2
	21	200	200	1.00	4.0 x 10^-1	32.1	2
	22	100	300	0.33	4.0 x 10^-1	33.2	2

표 2 및 도 7에 나타나는 바와 같이, 직류 스퍼터링법에 의해 형성된 하부막(3)(SiOx)에 있어서 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x가 Ar/O₂가스 유량비에 의해 변화하는 것을 확인하였다.

또한, 상술한 실시예에서 제작한(실시예15 ~ 실시예22)에 반투과반사막(4)과 보호막(5)을 형성해서 표 3에 나타나는 반투과 미러 부착 기판(1)의 시료(실시예23 ~ 실시예27 및 비교예4 ~ 비교예6)를 제작하고, 각 시료의 광학특성을 분광광도계로 측정하였다. 그 측정결과를 표 3에 나타낸다. 또한, 보호막(5)의 형성 시에는 Ar/O₂혼합가스 유량비를 Ar : O₂= 1 : 1로 고정해서 스퍼터링을 행하였다. 또한, 표 3의 측정결과를 그래프로 한 것을 도 8에 나타낸다.

표 3

		Ar/O₂혼합가스유량비	하부층에서의x값	투과율(%)[λ= 550 nm]	반사율(%)[λ= 550 nm]	흡수율(%)[λ= 550 nm]
실시예	23	4.00	1.6	18.5	60.1	21.4
	24	3.00	1.85	18.4	61.9	19.7
	25	1.67	2	18.7	62.3	19.0
	26	1.00	2	18.5	63.1	18.4
	27	0.33	2	18.5	62.8	18.7
비교예	4	9.00	1.3	17.6	52.3	30.1
	5	7.00	1.4	18.1	53.1	28.8
	6	5.67	1.45	18.3	54.2	27.5

표 3 및 도 8에 나타나는 바와 같이, 반투과 미러 부착 기판(1)의 투과율이 동일한 경우, 하부막(3)(SiOx)에 있어서 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x가 1.5 미만일 때 반사율이 급격하게 저하하는 것을 확인하였다(비교예4 ~ 비교예6). 이 반사율 저하는 반투과 미러 부착 기판(1)의 광학 흡수량의 증가에 의한 것이다. 즉, 반투과 미러 부착 기판(1)에 있어서 높은 반사율을 얻기 위해서는 하부막(3)(SiOx)에 있어서 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x가 1.5 ~ 2.0인 것이 효과적인 것으로 판명되었다.

이상 상술한 바와 같이, 본 발명의 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판에 의하면, 하부막의 막 두께가 0 ~ 8 nm 이므로, 높은 투과율을 유지하면서 반사율을 높게 하며, 투과 성능 및 반사 성능을 동시에 높게 할 수 있다.

또한, 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판에 있어서, 하부막을 산화규소로 구성하면, 기판 내부로부터 녹아서 나오는 불순물로부터 반투과 반사막을 보호할 수 있다.

또한, 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판에 있어서, 산화규소(SiOx)에 있어서 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x를 1.5 ~ 2.0으로 하면, 높은 투과율을 유지하면서 반사율을 높게 하며, 투과 성능 및 반사 성능을 동시에 높게 할 수 있다.

또한, 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판에 있어서, 반투과 반사막을 Al 또는 Al 합금으로 형성하면, 높은 투과율을 유지하면서 반사율을 높게 할 수 있다.

본 발명의 제2 양태에 따른 반투과형 액정 표시 장치에 의하면, 본 발명의 제1 양태에 따른 반투과 미러 부착 기판을 가지므로, 높은 투과율을 유지하면서 높은 반사율을 가지며, 투과 표시 성능 및 반사 표시 성능을 동시에 높인 반투과형 액정 표시 장치를 얻을 수 있다.

Claims

기판과, 상기 기판 위에 형성되는 하부막과, 상기 하부막 위에 형성되는 반투과 반사막을 갖는 반투과 미러 부착 기판에 있어서,

상기 하부막의 두께를 0 ~ 8 nm 로 하는 반투과 미러 부착 기판.
제1항에 있어서,

상기 하부막은 산화규소로 이루어지는 반투과 미러 부착 기판.
제2항에 있어서,

상기 산화규소(SiOx)에서의 산소(O)의 규소(Si)에 대한 화학적 조성비 x는 1.5 ~ 2.0인 반투과 미러 부착 기판.
제1항에 있어서,

상기 반투과 반사막은 Al 및 Al 합금 중 적어도 어느 하나로 이루어지는 반투과 미러 부착 기판.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 반투과 미러 부착 기판을 갖는 반투과형 액정 표시 장치.