KR20030089631A

KR20030089631A - 열간 등방 가압 장치

Info

Publication number: KR20030089631A
Application number: KR10-2003-0030435A
Authority: KR
Inventors: 마나베야스오; 고후네시게오; 요네다마꼬또; 후지까와다까오
Original assignee: 가부시키가이샤 고베 세이코쇼
Priority date: 2002-05-15
Filing date: 2003-05-14
Publication date: 2003-11-22
Also published as: JP4204253B2; US20030215539A1; US7008210B2; JP2003336972A; KR100547545B1

Abstract

고압 용기 내에 처리품을 가열 및 가압 처리하는 처리실과, 이 처리실의 가로 방향 주위 및 상방을 덮는 단열 구조체가 구비된다. 처리실의 하방에, 압력 매체 가스를 가열하기 위한 베이스 히터와, 가열된 압력 매체 가스를 처리실 내로 공급 및 교반시키기 위한 팬이 배치된다. 처리품이 단열 구조체측에 보유 지지 가능하게 되고, 이들 단열 구조체 및 처리품이 고압 용기 내로부터 취출되어 고압 용기의 하부 덮개와는 별개로, 일체적으로 반송 가능해지도록 구성된다. 600 ℃ 이하 등의 비교적 낮은 온도 하에서 처리품을 가열 및 가압 처리하는 열간 등방 가압 장치에 있어서, 처리품을 효율 좋게 가열할 수 있는 열간 등방 가압 장치를 저렴하게 제공하고, 게다가 HIP 처리의 사이클 타임의 단축을 도모할 수 있다.

Description

열간 등방 가압 장치 {HOT ISOSTATIC PRESS DEVICE}

본 발명은, 예를 들어 Al 주조품, Mg 주조품 등 가열한 상태에서 대기압 하에서의 반송이 가능하고, 열간 등방 가압 처리(HIP 처리) 온도가 600 ℃ 이하인 제품의 다량 처리를 경제적으로 행하는 열간 등방 가압 장치(HIP 장치)에 관한 것이다.

열간 등방 가압법(HIP법)은, 주조품의 수축 공동이나 가스 기공의 제거, 세라믹스나 분말 야금 제품 등의 소결품 내부의 잔류 기공의 제거 등에 널리 사용되게 되었다. 그러나, 사이클 타임이 긴 것에 기인하여 처리 비용이 고가이기 때문에, 그 이용은 부가 가치가 매우 높은 제품의 제조에 한정되어 왔다.

사이클 타임이 긴 원인으로서는, 소정의 온도 압력에서의 보유 지지 후의 냉각 공정에 장시간을 필요로 하는 것, 또한 처리품의 양에 따라서는 열용량의 관계로부터 가열 시간도 길어지는 것이 지적되어 왔다.

이 문제를 해소하기 위해, 1 배치에 있어서의 처리품이 고가의 고압 용기를 점유하는 시간을 단축하여, 고압 용기 밖에서 행하는 것도 가능한 처리품의 냉각이나 예열을 고압 용기의 외부에서 행한다는 사고 방식에서, 예열식 HIP 장치나 모듈러 HIP 장치 등이 제안되어 있다.

이들 종래의 것에 있어서는, 히터는 상하 방향으로 복수단으로 분할되어 있고, 온도 제어를 각 단마다 독립적으로 행하는 즉, 복수의 온도 검출 장치와 복수의 가열 전원이 필요해 매우 고가가 된다는 문제가 있다.

또한, HIP 처리의 사이클 타임의 단축에는, 처리품의 고압 용기 점유 시간을 짧게 하는 것이 필요하므로, 1 사이클 1 시간 이내와 같은 고능률 HIP에서는 승압 및 가압 시간의 단축이 중요해진다.

승압 및 감압 시간의 단축을 위해서는, 고압 용기에 대해 고속으로 압력 매체 가스를 주입, 배출하는 것이 필요해진다. 그러나, 실제로는 고속으로 압력 매체 가스를 공급하면, 이른바 저지 승온 현상이 발생함으로써, 고압 용기 내의 처리실 상부의 온도가 과도하게 상승하므로, 히터로의 투입 전력의 제어에서는 온도 제어가 곤란한 온도 분포가 발생된다. 이 현상을 포함하여, 처리품의 온도 제어가 곤란, 즉 처리품의 온도 변동이 커지고, 열처리를 필요로 하는 재료로 이루어지는 처리품에서는 소기의 기계적 특성의 확보가 곤란해진다는 문제가 생긴다.

한편, HIP 처리 후에 계속해서 물 켄취(quench), 시효 석출 처리 등의 열처리를 행하고자 한 경우, HIP 처리 후 처리품을 소정 온도로 유지해 두어야만 한다. 여기서, 고속으로 압력 매체 가스를 배출시킨 경우, 고압 용기 내의 압력 매체 가스는 단열 팽창 현상에 의해 온도 저하를 생기게 하므로, HIP 처리 후에 계속해서 열처리를 행하는 것이 곤란하다는 문제가 있다.

또한, 예열 방식 HIP 장치에서는, 처리품은 대기에 노출된 상태로 반송되므로, 또한 모듈러 방식 HIP 장치에서는, 상기 HIP 장치의 가열 장치 등이 내산화성이 부족한 재료로 구성되어 있으므로, 처리품을 고온으로 대기에 노출할 수 없기 때문에 종래의 어떠한 것에 있어서도, HIP 처리 후에 계속해서 열처리를 행할 수 없었다.

또한, 상기 종래의 것에 있어서는, 처리품은 항상 고압 용기의 하부 내부 덮개와 함께 반송되므로, 처리품의 반송 공정이 번잡해진다는 문제도 있다.

본 발명은, 상기 문제점을 해소하는 것을 목적으로 한다.

본 발명이 기술적 과제를 해결하기 위해 강구한 기술적 수단은, 압력 매체 가스를 이용하여 처리품을 열간 등방 가압 처리하는 열간 등방 가압 장치이며, 고압 용기, 상기 고압 용기 내에 설치된 처리품을 가열 및 가압 처리하는 처리실, 상기 처리실의 가로 방향의 주위 및 상방을 덮는 단열 구조체, 상기 처리실의 하방에 배치된 압력 매체 가스를 가열하기 위한 베이스 히터, 상기 처리실의 하방에 배치된 가열된 압력 매체 가스를 처리실 내로 공급하여 교반하는 팬 및 상기 고압 용기의 하부 덮개로 이루어진다. 여기서, 상기 단열 구조체 및 처리품이 일체적으로 고압 용기 내로부터 취출되어, 상기 하부 덮개와는 별개로 일체적으로 반송 가능하게 되어 있다.

본 발명에 의하면, 처리실의 하방에 압력 매체 가스를 가열하기 위한 베이스 히터와, 가열된 압력 매체 가스를 처리실 내로 공급 및 교반시키기 위한 팬이 배치되어 있으므로, 예를 들어 600 ℃ 이하 등의 비교적 낮은 온도 하에서 처리품을 가열 및 가압 처리하는 열간 등방 가압 장치에 있어서, 처리품을 효율 좋게 가열할 수 있고, 또한 저렴한 열간 등방 가압 장치를 제공할 수 있다.

또한, 베이스 히터와 팬을 구비하고 있으므로, 가열된 압력 매체 가스를 팬에 의해 처리실 내로 공급 및 교반시키면서 처리실 내에서 처리품을 가열 및 가압 처리함으로써, 고압 용기 내에 압력 매체 가스를 고속으로 주입한 경우에 생기는 저지 승온에 의한 온도 변동(온도 분포의 발생)을 억제할 수 있다. 이에 의해, 고압 용기 내의 압력 매체 가스에 의한 승압 시간의 단축을 도모할 수 있어, HIP 처리의 사이클 타임의 단축을 도모할 수 있다.

또한, 처리품과 단열 구조체가 고압 용기 내로부터 취출되어, 하부 덮개와는 별개로 일체적으로 반송 가능하게 되어 있으므로, 처리품을 단열 구조체와 함께 대기 중에서 열처리장으로 반송해도 소정 온도를 보유 지지한 상태에서 열처리장으로반송하여 열처리할 수 있다. 또한, HIP 처리 후의 열처리를 HIP 처리와 일련의 공정으로서 조합할 수 있어, HIP 처리와 열처리의 토탈 프로세스 시간의 단축을 도모할 수 있다. 게다가, 처리품 및 단열 구조체를 하부 덮개와 함께 반송하지 않으므로, 반송 공정을 간소화할 수 있다.

본 발명의 열간 등방 가압 장치에 있어서는, 처리품을 가열 및 가압 처리한 후, 상기 고압 용기 내로부터 압력 매체 가스를 배출할 때에, 상기 베이스 히터 및 상기 팬을 작동시키도록 구성해도 좋다.

처리품을 가열 및 가압 처리한 후, 고압 용기 내로부터 압력 매체 가스를 배출할 때에, 베이스 히터 및 팬을 작동시키도록 함으로써, 고압 용기 내의 압력 매체 가스를 고속으로 배출하는 경우에 생기는 단열 팽창에 기인하는 온도 저하를 방지할 수 있다. 이에 의해, HIP 처리 후에 계속해서 열처리하는 경우이며, 또한 고압 용기 내로부터 압력 매체 가스를 고속으로 배출하는 경우에 있어서, 처리품의 온도를 소정 온도로 유지할 수 있으므로, HIP 처리 후에 계속해서 열처리하는 경우의 고압 용기 내의 압력 매체 가스에 의한 감압 시간의 단축을 도모할 수 있어, HIP 처리의 사이클 타임의 단축을 도모할 수 있다.

본 발명의 열간 등방 가압 장치에 있어서, 상기 베이스 히터 및 상기 팬이 상기 하부 덮개에 고정되고, 또한 상기 고압 용기의 외부에 구비된 스테이션으로 이루어지도록 구성해도 좋다. 여기서, 상기 스테이션은 상기 베이스 히터 및 상기 팬과 대략 동일한 기능을 갖는 가열 장치를 구비하고 있어, 처리품의 예열과 냉각 중 적어도 한 쪽을 행한다.

이와 같이, 본 발명의 열간 등방 가압 장치에는 고압 용기의 외부에 스테이션을 별도 설치하여 일련의 시스템으로 한 형태도 포함된다. 이러한 형태의 경우는, 고압 용기와 스테이션을 합쳐서 열간 등방 가압 장치라 부른다.

베이스 히터 및 팬이 하부 덮개에 고정되어 있는 동시에, 고압 용기의 외부에 상기 베이스 히터 및 팬과 대략 동일한 기능을 갖는 베이스 히터 및 팬을 구비하고 있고, 처리품의 예열 및/또는 냉각을 행하는 스테이션을 구비함으로써, 상기 스테이션에 있어서, 베이스 히터 및 팬에 의해 단열 구조체 내를 단시간에 소정 온도까지 승온할 수 있으므로, 처리품을 효율 좋게 예열할 수 있다. 또한, 처리품을 냉각하는 경우, 베이스 히터 및 팬에 의해 냉각 속도를 제어할 수 있는 동시에 온도 분포를 억제할 수 있으므로, 처리품의 서냉 등의 냉각을 양호하게 행할 수 있다.

본 발명의 열간 등방 가압 장치에 있어서는, 상기 베이스 히터 및 상기 팬이 상기 하부 덮개에 대해 착탈 가능하게 되어 있고, 상기 베이스 히터 및 상기 팬이 처리품 및 상기 단열 구조체와 함께 상기 고압 용기 내로부터 취출되어 일체적으로 반송 가능하게 되어 있고, 또한 상기 고압 용기의 외부에 구비된 스테이션으로 이루어지도록 구성해도 좋다. 여기서, 상기 스테이션은 상기 베이스 히터 및 상기 팬의 작동이 가능하게 되어 있어 처리품의 예열과 냉각 중 적어도 한 쪽을 행한다.

이러한 구성에 의해서도, 상기와 마찬가지로 예열이 효율화되어, 서냉 등의 냉각을 양호하게 행할 수 있다.

본 발명의 열간 등방 가압 장치에 있어서는, 상기 하부 덮개가 승강 가능하게 되고, 상기 하부 덮개를 하방 이동한 상태에서 상기 단열 구조체가 상기 하부 덮개에 대해 착탈 가능하게 되도록 해도 좋다.

본 발명의 열간 등방 가압 장치에 있어서는, 또한 상기 고압 용기의 상단부 개구를 막는 상부 덮개로 이루어지고, 상기 상부 덮개를 개방하여 상기 고압 용기 내에 대해 상기 단열 구조체를 고압 용기의 상단부 개구를 거쳐서 출입하도록 구성해도 좋다.

본 발명의 열간 등방 가압 장치에 있어서는, 또한 물 켄칭 스테이션으로 이루어지고, 상기 물 켄칭 스테이션은 처리품을 가열 및 가압 처리한 후에, 상기 고압 용기로부터 상기 단열 구조체와 함께 취출되어 상기 단열 구조체와 일체적으로 반송되는 처리품을 수조에 침지하도록 해도 좋다.

또한, 본 발명의 다른 기술적 수단은 압력 매체 가스를 이용하여 처리품을 열간 등방 가압 처리하는 열간 등방 가압 장치이며, 고압 용기, 상기 고압 용기 내에 설치된 처리품을 가열 및 가압 처리하는 처리실, 상기 처리실의 하방에 배치된 압력 매체 가스를 가열하기 위한 베이스 히터 및 상기 처리실의 하방에 배치된, 가열된 압력 매체 가스를 처리실 내로 공급하여 교반하는 팬으로 이루어진다. 여기서, 처리품을 가열 및 가압 처리한 후, 상기 고압 용기 내로부터 압력 매체 가스를 배출할 때에, 상기 베이스 히터 및 상기 팬을 작동시키도록 구성되어 있다.

도1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 고압 용기 및 전기로의 단면도.

도2는 제1 실시 형태에 관한 전기로에 있어서의 압력 매체 가스의 유통 경로를 도시한 단면도.

도3은 단열 구조체의 구조를 도시한 단면도.

도4는 단열 구조체의 방열 특성을 나타낸 그래프.

도5는 HIP 장치의 일예에 관한 구성도.

도6은 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 고압 용기 및 전기로의 단면도.

도7은 제2 실시 형태에 관한 전기로에 있어서의 압력 매체 가스의 유통 경로를 도시한 단면도.

도8은 HIP 장치의 일예에 관한 구성도.

도9는 변형예에 관한 HIP 장치의 구성도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1 : 열간 등방 가압 장치(HIP 장치)

2 : 고압 용기

3 : 전기로

4 : 처리실

5 : 처리품

6 : 고압 원통

7 : 상부 덮개

8 : 하부 덮개

9 : 물 재킷

10 : 냉각수 입구

11 : 냉각수 출구

12 : 베이스 히터

13 : 팬

14 : 단열 구조체

15, 26, 31 : 간극

16 : 모터

17 : 오목부

18 : 단열재

19 : 격벽

20 : 지지 다리

21 : 지지대

22 : 지지 다리부

23 : 지지판부

25 : 개구

27 : 동체부

28 : 상부 벽

29 : 대류통

32 : 받침부

34 : 지지통

35 : 처리품대

36 : 지지구

40 : 세라믹스 블랭킷

41 : 가열 장치

42, 48 : 가대

47, 50 : 적재대

49 : 냉각용 케이싱

이하, 본 발명의 실시 형태를 도면을 참조하여 설명한다.

도1 내지 도5는 본 발명의 제1 실시 형태를 도시하고 있고, 도1은 본 발명에관한 열간 등방 가압 장치(HIP 장치)(1)의 본체 부분을 모식적으로 도시한 것이다.

HIP 장치(1)는, 고압 용기(2)와 이 고압 용기(2) 내에 수납되는 전기로(3)를 구비하고 있고, 전기로(3) 내의 처리실(4) 내에서 처리품(5)을 가열하는 동시에, 고압 용기(2) 내에 압력 매체 가스를 주입하여 승압하고, 처리품(5)을 가열 및 가압 처리(HIP 처리)하는 것이다.

고압 용기(2)는, 상하 방향의 축심을 갖고 또한 상하 개구형의 고압 원통(6)과, 이 고압 원통(6)의 상단부 개구를 막는 상부 덮개(7)와, 고압 원통(2)의 하단부 개구를 막는 하부 덮개(8)를 구비하여 구성되고, 고압 용기(2) 내부에 주입되는 압력 매체 가스의 압력에 의해 상하 덮개(7, 8)에 작용하는 하중은 창틀형 프레스 프레임(도시하지 않음)에 의해 지지된다.

상부 덮개(7)에는, 고압 용기(2) 내에 압력 매체 가스를 도입 또는 고압 용기(2)내로부터 압력 매체 가스를 배출시키기 위한 가스 유로(30)가 형성되어 있다.

하부 덮개(8)는 승강 가능하게 지지되어 있고, 고압 용기(2)의 하단부 개구를 개폐 가능하게 폐색한다.

고압 원통(6)의 외측에는 내부로부터의 열에 의한 승온을 억제하기 위한 냉각수를 흐르게 하는 물 재킷(9)이 장착되어 있고, 이 물 재킷(9) 내에는 하부의 냉각수 입구(10)로부터 냉각수가 주입되어, 상부의 냉각수 출구(11)로부터 물 재킷(9) 내의 냉각수가 배출되도록 구성되어 있다.

전기로(3)는, 압력 매체 가스를 가열하여 처리품(5)을 가열 승온하기 위한 베이스 히터(12)와, 이 베이스 히터(12)로 가열된 압력 매체 가스를 강제 대류시켜처리실(4)로 공급 및 교반시켜 균열화를 도모하기 위한 팬(13)과, 고압 용기(2)로의 방열에 의한 온도 과잉 상승을 방지하기 위한 단열 구조체(14)를 구비하여 구성되어 있다.

베이스 히터(12) 및 팬(13)은 하부 덮개(8)에 대해 부착 고정되어 있고, 단열 구조체(14)는 하부 덮개(8)에 대해 착탈 가능하게 되어 있다.

베이스 히터(12)는 처리실(4)의 하방에 배치되고, 하부 덮개(8) 상에 설치된 지지대(21)에 지지되어 있다.

이 베이스 히터(12)는, 압력 매체 가스를 상하 방향으로 유통 가능하게 하기 위해 간극(15)을 갖는다.

팬(13)은 고압 용기(2) 내 중앙부의 베이스 히터(12)의 하방에 배치되고, 상하 방향의 축심 주위로 회전시킴으로써, 가로 방향(수평 방향)의 측방(주위)으로부터 압력 매체 가스를 흡입하여, 상방으로 배출하도록 구성되어 있다.

이 팬(13)을 구동하는 모터(16)는, 하부 덮개(8) 상면으로부터 하방에 오목 설치된 오목부(17)에 수납되어, 하부 덮개(8)에 부착 고정되어 있다.

하부 덮개(8) 상에는 베이스 히터(12)로부터의 열에 의한 모터(16)의 손상을 방지하기 위해, 세라믹스계의 단열재(18)가 설치되고, 이 단열재(18)의 상면측에는 압력 매체 가스의 하방으로의 유통을 방지하는 동시에, 하방으로의 열 전달을 방지하는 원판형의 격벽(19)이 설치되어 있고, 이 격벽(19)은 하부 덮개(8) 상의 외주부에 설치된 지지 다리(20)에 지지되어 있다.

상기 지지대(21)는, 상기 격벽(19) 상에 적재되어 고정된 지지 다리부(22)와, 이 지지 다리부(22) 상에 적재되어 고정된 지지판부(23)로 주요 구성되어 있고, 이 지지판부(23)와 격벽(19) 사이의 공간에 상기 팬(13)이 배치되어 있고, 팬(13)의 가로 방향 외측에 지지 다리부(22)가 위치되어 있고, 지지판부(23) 상에 상기 지지판부(23)와 간격을 두고 베이스 히터(12)가 지지되어 있다.

또한, 모터(16)의 출력축(24)은 단열재(18) 및 격벽(19)을 관통하여 팬(13)에 연결되어 있다.

지지대(21)의 지지판부(23)는 원판형으로 형성되고, 그 중앙부의 팬(13)에 대응하는 부분에, 팬(13)으로부터 배출되는 압력 매체 가스를 상방으로 유통시키는 개구(25)가 형성되어 있다.

또한, 지지 다리부(22)는 압력 매체 가스가 가로 방향으로 유통 가능하게 되고, 지지판부(23)는 압력 매체 가스의 유통이 불가능하게 되어 있다.

또한, 지지판부(23)의 외주와 고압 원통(6)의 내주면 사이에는 간극(26)이 형성되어 있다.

상기 구성에 있어서는, 베이스 히터(12) 및 팬(13) 등은 하부 덮개(8)에 부착 고정되어 있고, 베이스 히터(12) 및 팬(13)을 하부 덮개(8)에 남긴 상태에서 단열 구조체(14)가 하부 덮개(8) 상으로부터 착탈 가능하게 되어 있다.

단열 구조체(14)는, 처리실(4)의 가로 방향의 주위를 덮는 원통형의 동체부(27)와, 이 동체부(27)의 상단부 개구를 폐색하여 처리실(4)의 상방을 덮는 상부 벽(28)으로부터 하단부 개구형으로 형성되어 있다.

이 단열 구조체(14)는, 상기 격벽(19) 상에 적재되어 지지되어 있고, 베이스히터(12), 팬(13) 및 지지대(21)도 덮고 있다.

또한, 이 단열 구조체(14)와 처리품(5) 사이에는 압력 매체 가스의 대류(순환)를 효율 좋게 행하기 위한 대류통(29)이 배치되어 있다.

이 대류통(29)은 상하 방향의 축심을 갖고, 상하 개구형의 통 부재에 의해 구성되어 있고, 처리실(4)의 가로 방향 주위를 포위하는 동시에, 대류통(29)과 단열 구조체(14) 사이에 압력 매체 가스가 유통 가능한 간격(31)이 마련되어 있다.

단열 구조체(14)의 내주 하부에는, 지지대(21)의 지지판부(23) 상면측에 접촉하는 받침부(32)가 착탈 가능하게 설치되고, 이 받침부(32) 상에 상기 대류통(29)이 적재되어 지지되어 있고, 대류통(29)의 상단부와 단열 구조체(14)의 상부 벽(28) 사이에 압력 매체 가스 유통용 간격(33)이 마련되어 있다.

상기 받침부(32)는 압력 매체 가스가 상하 방향으로 유통 가능하게 되어 있다.

또한, 대류통(29)의 내주측에서 또한 베이스 히터(12)의 가로 방향 외측[대류통(29)과 베이스 히터(12) 사이]에는 지지통(34)이 배치되어 있고, 이 지지통(34)은 상기 받침부(32) 상에 적재되어 지지되어 있다.

지지통(34) 상의 처리실(4) 내에는, 처리품(5)을 적재하는 원판형의 처리품대(35)가 상하 방향 다단형으로 설치되어 있다.

즉, 최하단의 처리품대(35)는 지지통(34) 상에 적재되고, 상기 처리품대(35) 상에, 상하 처리품대(35) 사이에 처리품(5)을 수용하는 간격을 보유 지지하는 원통형의 지지구(36)를 거쳐서 처리품대(35)가 적재되고, 상기 처리품대(35) 상에 상기와 마찬가지로 하여 지지구(36)를 거쳐서 처리품대(35)가 적층되어 있다.

상기 각 처리품대(35)에는, 상하 방향 관통형의 구멍이 형성되어 있어 상하 방향으로 압력 매체 가스가 유통 가능하게 되어 있다.

전술한 구성에 의해, 처리품(5)이 단열 구조체(14)에 보유 지지 가능하게 되어, 이들이 일체적으로 반송 가능하게 되어 있다.

상기 구성에 있어서는, 고압 용기(2)의 하부 덮개(8)를 하강시킴으로써, 처리품(5)은 단열 구조체(14)와 함께 고압 용기(2) 내로부터 취출 가능하고, 또한 처리품(5)은 단열 구조체(14)와 일체적으로, 또한 하부 덮개(8), 베이스 히터(12) 및 팬(13)과는 별개로 반송 가능하게 되어 있다.

본 발명에 의한 HIP 장치(1)의 특징은 전술한 전기로(3)의 부분에 있다.

본 발명의 HIP 장치(1)에서 대상으로 하고 있는 제품의 처리 온도는, 600 ℃ 이하로, 통상의 HIP 장치(1000 ℃ 이상)와 비교하여 온도가 낮으므로, 복사열에 의한 가열 효과가 작다.

따라서, 효율적으로 처리품(5)을 가열하기 위해서는, 압력 매체 가스의 대류를 이용하는 쪽이 적합하고, 가열용 베이스 히터(12)는 처리품(5)의 하방에 배치되어, 이 베이스 히터(12)로 가열된 압력 매체 가스의 상승류를 이용하는 동시에, 또한 유속을 빠르게 하여 열전달을 촉진하기 위해, 팬(13)에 의한 강제 대류를 이용하고 있다.

이 팬(13)에 의한 압력 매체 가스의 흐름은, 도2에 도시한 바와 같이 되어 있다.

즉, 팬(13)의 가로 방향의 측방 공간으로부터 상기 팬(13)에 흡입된 압력 매체 가스는 상방으로 배출되고, 베이스 히터(12) 배치 공간에서 가열된 압력 매체 가스를 상방으로 강제적으로 흐르게 하여, 대류통(29)에 의해 구획된 처리실(4) 내의 처리품(5)을 가열한다.

이 처리실(4)을 상방으로 유통한 압력 매체 가스는, 팬(13)의 흡인력에 의해 처리실(4)의 상단부에서 대류통(29)과 단열 구조체 상부 벽(28) 사이의 간극(33)을 통해, 대류통(29)의 외측 공간을 하방으로 흐르고, 지지대(21)의 지지판부(23)와 단열 구조체(14) 사이의 간극(26)을 통해 팬(13)의 측방부에 도달하여 전술한 압력 매체유통 경로를 압력 매체 가스가 순환하도록 구성되어 있다.

이 팬(13)에 의한 교반 및 강제 대류의 효과는, 처리품(5)을 고압으로 처리하고 있을 때는 물론, 급속 가압시(압력 매체 가스의 급속 주입시)의 저지 승온에 의한 온도 분포의 발생을 억제하므로 매우 효과적이다.

본 발명에 의한 단열 구조체(14)로서는, 도3에 도시한 내측, 외측의 2개의 금속제의 뒤집힌 컵형의 내외벽부(38, 39) 사이에 단열용 세라믹스 블랭킷(40)을 충전한 구조가 가장 적절한 구조의 예이다.

도4는 이러한 단열 구조체(14)(내경 700 ㎜, 내고 약 1000 ㎜)인 경우의, 고압 질소 분위기 하에서의 방열 특성(A) 및 대기압 하에서의 방열 특성(B)을 처리실 내부 온도를 횡축으로 하고, 열손실을 종축으로 하여 도시한 것이다.

도4로부터 알 수 있는 바와 같이, 고압 상태에서는 상당한 방열량이 있지만 단열 구조체(14)로서는, 실용상 충분한 단열 성능을 갖고 있다.

또한, 대기압 하에서의 방열량은 매우 적어, 고압시의 1/8, 1/10이다.

이로 인해, 처리품(5)[예를 들어, 상기 치수의 단열 구조체(14)를 사용하여 100 ㎏인 처리품(5)]을 내부에 수납한 상태에서는 30분 방치해도, 내부의 온도 저하는 10 ℃ 이하로 하는 것이 가능하다.

이는, 대기압 하에서 처리품(5)을 예열할 경우, 본 단열 구조체(14)에 넣은 상태에서 고압 용기(2) 내의 베이스 히터(12) 및 팬(13)을 조합한 열원을 하방에 배치하여 행함으로써, 매우 에너지 절약의 예열을 실현할 수 있는 것을 나타내고 있다.

상기의 단열 구조체(14)의 방열 특성(단열 성능)의 설명으로부터 명백한 바와 같이, 본 실시 형태에 있어서의 전기로(3)는 예열 혹은 서냉 등의 냉각을 행하는 것이 필요한 경우에 매우 유효하다.

도5는 그러한 예를 도시한 것으로, 전술한 전기로(3)가 이용되는 동시에 고압 용기(2)가 배치되어 있어 HIP 처리를 행하는 HIP 스테이션 외에, 2개의 예열 스테이션을 구비한 HIP 장치(1)의 예를 도시한 것이다.

고압 용기(2)로부터의 처리품(5) 등의 취출은, 전술한 바와 같이 하부 덮개(8)를 하강하여 하부 덮개(8)와 함께 처리품(5), 히터(12), 팬(13) 등과 단열 구조체(14)를[즉, 전기로(3) 전체를] 하방으로 인출하는 구조로, 히터(12)나 팬(13)은 하부 덮개(8)에 고정된 구조로 되어 있고, 처리품(5)은 단열 구조체(14)와 일체적으로 반송 가능하게 되고, 또한 단열 구조체(14)는 하부 덮개(8)와는 분리 가능하게 되어 있다.

처리품(5)은 단열 구조체(14)와 함께 크레인 등을 이용하여 고압 용기(2) 외부의 예열 스테이션으로 반송된다.

각 예열 스테이션에는, 예열용으로서 HIP 스테이션의 베이스 히터(12) 및 팬(13)과 동일 혹은 치수적 및 기능적으로 대략 동일한 베이스 히터(12) 및 팬(13)을 갖는 가열 장치(41)가 가대(42) 상에 설치되어 있다.

또한, 가열 장치(41)는 HIP 스테이션의 지지대(21), 격벽(19), 단열재(18), 모터(16) 등과 동일한 것을 갖는다.

이러한 HIP 장치(1)(예열 HIP 시스템)에서는, 세트 위치(도시하지 않음)에 있어서, 받침부(32) 상에 지지통(34), 처리품대(35) 및 지지구(36)를 구성하는 동시에, 처리품대(35) 상에 처리품(5)을 적재한 후, 받침부(32) 상에 대류통(29)을 적재하는 동시에, 이들에 단열 구조체(14)를 씌워 받침부(32)를 단열 구조체(14)에 결합하고, 그 후 단열 구조체(14)를 예열 스테이션으로 반송하여 단열 구조체(14) 내의 처리품(5) 하방의 공간부에 베이스 히터(12) 및 팬(13)이 수용되도록 단열 구조체(14)를 가열 장치(41)의 격벽(19) 상에 적재하고, 가열 장치(41)에 전력을 투입하여 소정 온도까지 승온한다.

이 때, 단열 구조체(14)는 매우 양호한 단열 특성을 갖고 있으므로, 단시간에 소정 온도까지 승온할 수 있어, 보유 지지시의 열손실도 적다.

소정 시간 보유 지지한 후, 처리품(5)은 단열 구조체(14)와 일체적으로 크레인 등에 의해 고압 용기(2)의 하강 위치에 있는 하부 덮개(8) 상으로 반송된다.

통상의 예열로에서는, 처리품은 대기에 노출된 상태에서 반송되므로 처리품이 얇은 부품에서는 이 시점에서 온도 저하를 생기게 하여, 재료의 미세 조직이 손상되는 경우가 있지만, 본 실시 형태에 있어서는 전술한 바와 같이 반송에 30분을 필요로 했다고 해도, 온도 저하는 10 ℃ 이하이며, 실용상 전혀 문제가 되지 않는다.

HIP 처리 후에, 처리품(5)에 서냉 등의 냉각이 필요한 것에 있어서는, 단열 구조체(14)와 일체적으로 처리품(5)을 예열 스테이션으로 반송하여, 냉각 처리(서냉 처리)를 행한다.

이 때, 예열 스테이션에는 베이스 히터(12)와 팬(13)이 설치되어 있으므로, 냉각 속도(서냉 속도)의 제어를 용이하게 행할 수 있는 동시에, 처리실(4)의 상하 온도 분포의 발생을 억제할 수 있다.

또한, 상기 예에서는 예열 스테이션을 예열과 냉각(서냉)을 겸용한 스테이션(예열 및 냉각 스테이션)으로 하였지만, 예열만을 행하도록 해도 좋고, 또, 예열 스테이션과 대략 동일한 구조의 냉각(서냉)만을 행하는 하나 또는 복수의 냉각 스테이션(서냉 스테이션)을 별도 설치해도 좋다.

또한, 전술한 예열 스테이션은 1개 또는 3개 이상 설치되어 있어도 좋다.

또한, 처리품(5)이 Al 합금 주물 등의 경우에는, 용체화 처리, 물 켄취, 시효 석출 처리(T6 처리)라고 하는 열처리가 필요하게 되는 경우가 있다.

종래, 이러한 합금 재료의 HIP 처리에서는 HIP 처리 후, 이 처리를 행하는 것이 통상적인 예였지만, 본 발명을 적용함으로써 이 열처리를 조합하는 것이 가능해진다.

즉, 예열 스테이션에서 용체화 처리 온도로 소정 시간 보유 지지한 후, 처리품(5)을 고온으로 보유 지지한 상태에서 HIP 스테이션[고압 용기(2)]으로 이송하여 HIP 처리를 행하고, HIP 처리 후도 온도를 거의 용체화 처리 온도로 보유 지지한 상태에서, 처리품(5)과 단열 구조체(14)를 물 켄칭 스테이션으로 대기 중에서 반송하여, 물 켄취용의 수조(도시하지 않음)에 처리품(5)을 침지시키는 처리가 가능하다.

특히, 고압력 하에서는 Al 주조 합금, 예를 들어 Al － Si계의 합금에서는 100 MPa에서 고체 용융 한계가 대기압 하에서의 1.5 ％ Si 내지 1.9 ％ Si로 확대하는 것에 기인하여 용체화 처리 시간이 짧아진다는 이점이 있어, HIP 처리 및 이 열처리 시간은 대폭으로 단축이 가능해진다.

이 구조의 경우, 베이스 히터(12)는 간편하게 고압 용기(2) 내부로부터 취출 가능하므로, 고장이 발생했을 때의 수리나 보수가 매우 용이하다.

상기 구성의 HIP 장치(1)에 있어서, 고압 용기(2)의 상부 덮개(7)를 개방하여, 처리품(5)과 단열 구조체(14)를 일체적으로 매달아 올려 고압 용기(2)로부터 취출하는 구조도 용이하게 실시 가능하다.

이와 같이 매달아 올려진 단열 구조체(14)와 처리품(5)은 상기의 예와 마찬가지로 예열 스테이션 등으로 이송하면, 상기와 동일한 조업이 가능하다.

이 상방으로의 취출 구조는, 복잡한 하부 덮개(8)의 승강 기구가 불필요하므로, HIP 장치(1) 본체의 가격 저감에는 효과적이다.

본 발명에 관한 HIP 장치(1)를 이용함으로써, Al 합금 주물 등을 대량으로HIP 처리하기 위한 고생산성의 HIP 시스템을 실현하는 것이 용이해진다.

즉, HIP 처리의 사이클 타임의 단축에는 처리품(5)의 고압 용기(2) 점유 시간을 짧게 하는 것이 필요하고, 1 사이클 1 시간 이내와 같은 고능률 HIP에서는 승압 및 감압 시간의 단축이 중요해진다.

이를 위해서는 고속으로 가스를 주입 및 배출하는 것이 필요하게 되지만, 실제로는 주입시에는 전술한 저지 승온에 의한 온도 변동이, 또한 고속 배출시에는 고압 용기 내의 가스가 단열 팽창에 의한 온도 저하를 생기게 하므로, T6의 열처리를 아울러 행하는 경우 등에 있어서의 온도 보유 지지가 곤란해진다.

그러나, 전술한 「베이스 히터 구조와 팬의 조합 구조」 및 「처리품과 단열 구조체의 일체적인 핸들링」에 의해, 이러한 문제점이 해소된다.

그 결과로서, 예를 들어 대량 생산 자동차용의 알루미늄 주조 부품의 HIP 처리에 의한 품질 향상을 매우 경제적으로 행할 수 있게 되어, 자동차 산업의 발전에 이바지하는 바가 매우 크다.

도6 내지 도8은, 본 발명의 제2 실시 형태를 도시하고 있다.

본 제2 실시 형태의 전기로(3)에 있어서는, 도6에 도시한 바와 같이 상기 제1 실시 형태에 있어서의 대류통(29)은 설치되어 있지 않고, 원통형의 지지구(36)가 압력 매체 가스의 유통 가이드로서의 역할을 한다.

또한, 단열 구조체(14)는 동체부(27)의 하단부 개구를 폐색하는 바닥 벽(45)을 갖고, 동체부(27)의 상단부 개구를 폐색하는 상부 벽(28)은 개폐 가능하게 구성되어 있다.

베이스 히터(12) 및 팬(13)은, 단열 구조체(14) 내의 바닥 벽(45) 상방에 배치되어 있어, 단열 구조체(14)에 지지되어 있다.

또한, 팬 구동용 모터(16)는 단열 구조체(14)의 바닥 벽(45)의 하방에 배치되고, 모터(16)의 출력축(24)은 단열 구조체(14) 내의 바닥 벽(45)을 관통하여 팬(13)에 접속되어 있고, 모터(16)는 단열 구조체(14)에 지지되어 있다.

또, 지지통(34)은 단열 구조체(14) 내의 바닥 벽(45) 상에 적재되어 있는 동시에, 지지통(34)의 하단부측에 지지통(34)의 외측으로부터 내측으로 압력 매체 가스를 유통시키기 위한 가스 유입구(46)가 설치되어 있다.

본 제2 실시 형태에서는 처리품(5), 베이스 히터(12) 및 팬(13)을 단열 구조체(14)와 함께 고압 용기(2)로부터 취출시키고, 또한 베이스 히터(12) 및 팬(13)[및 모터(16)]이 하부 덮개(8)에 대해 착탈 가능하게 되어 있고, 처리품(5)뿐만 아니라, 베이스 히터(12) 및 팬(13)이 단열 구조체(14)와 일체적으로 반송 가능하게 되어 있다.

상기 베이스 히터(12)나 팬 구동용 모터(16) 등의 전기 기기의 전력 공급용 리드선, 측온 부재(열전대)나 모터(16)의 회전수 제어용 신호선 등의 전기 배선 계통은, 하부 덮개(8)를 거쳐서 고압 용기(2) 외부에 배선되어 있고, 하부 덮개(8)와 베이스 히터(12) 및 모터(16) 등과는 전기적인 접속 및 절단이 가능하도록 착탈 가능하게 되어 있다.

본 제2 실시 형태에 있어서는, 도7에 도시한 바와 같이 팬(13)의 가로 방향 주위로부터 팬(13)에 취입된 압력 매체 가스는 팬(13)으로부터 상방으로 배출되고,베이스 히터(12)에 의해 가열된 압력 매체 가스와 함께, 처리실(4) 내를 상방으로 강제적으로 유동하여, 원통형의 지지구(36)로 형성된 공간 내의 처리품(5)을 가열한다.

이 압력 매체 가스는 처리실(5)의 상단부에 도달하면, 원통형 지지구(36)의 외측 공간부를 팬(13)의 흡인력에 의해 흡인되어 하방으로 유동하고, 지지통(34) 하단부측의 가스 유입구(46)로부터 지지통(34)의 내측으로 유입하여 팬(13)의 측방부에 도달한다.

그 밖의 구성에 대해서는, 상기 제1 실시 형태와 대략 동일하게 구성된다.

도8은 전술한 전기로(3)를 이용하는 동시에, HIP 스테이션의 외에 처리품(5)의 예열을 행하는 예열 스테이션과, 처리품(5)의 냉각을 행하는 냉각 스테이션을 갖는 HIP 장치(1)의 예이다.

본 예에 있어서는, 하부 덮개(8)를 하강시킴으로써 전기로(3)는 하부 덮개(8)와 함께 고압 용기(2)의 하방으로 취출된다.

예열 스테이션 및 냉각 스테이션에는, 고압 용기(2)의 하부 덮개(8)와 대략 동일한 구조의 적재대(47)를 구비한 가대(48)가 설치되어 있고, 이들 예열 스테이션 및 냉각 스테이션에 있어서, 베이스 히터(12) 및 모터(16) 등은 적재대(47)에 대해, 전기적인 접속 및 절단이 가능하도록 착탈 가능하게 구성되고, 예열 스테이션 및 냉각 스테이션에 있어서, 베이스 히터(12) 및 팬(13) 등이 작동 가능하게 되어 있다.

예열시에는, 도8의 우측에 도시한 바와 같이 예열 스테이션에 있어서, 대기중에서 적재대(47) 상에 적재된 단열 구조체(14)의 상부 벽(28)을 떼어내어, 처리품(5) 등을 처리실(4)에 수납하고, 그 후 상부 벽(28)을 원래 상태로 복귀시키고 베이스 히터(12) 및 팬(13) 등을 작동시켜 처리품(5)의 예열이 행해진다.

처리품(5)의 예열이 끝나면, 전기로(3) 전체를 HIP 스테이션으로 반송하여 하강 위치에 있는 하부 덮개(8) 상에 전기로(3)를 부착하고, 그 후 하부 덮개(8)를 상승시켜 전기로(3)를 고압 용기(2) 내에 장입하여 HIP 처리를 행한다.

HIP 처리 후, 전기로(3)는 냉각 스테이션으로 반송되어 서냉 등의 냉각 처리가 행해지지만, 처리품(5)의 냉각 속도를 제어하고 싶은 경우에는, 도8의 좌측에 도시한 냉각용 케이싱(49) 내에 전기로(3)의 단열 구조체(14)를 수납하고, 급속으로 냉각하고 싶은 경우에는 냉각용 케이싱(49) 내에 냉각용 가스를 도입한다.

특히, 급냉하고 싶은 경우에는 상부 덮개(28)를 제거하는 것도 가능하고, 이 경우 냉각용 케이싱(49) 내에 도입한 냉각 가스를 팬(13)의 하부 공간으로부터 상기 팬(13)에 의해 처리실(4) 내로 순환시키도록 해도 좋다.

도9는 HIP 장치(1)의 다른 예를 도시한 것으로, HIP 스테이션 외에 처리품(5)의 예열 또는 냉각을 행하는 예열 및 냉각 스테이션과, 처리품(5)의 세트 또는 취출을 행하는 처리품 장입 및 취출 스테이션을 갖는다.

본 예의 전기로(3)는 베이스 히터(12), 지지통(34), 단열 구조체(14), 팬(13) 및 모터(16) 등을 지지하는 적재대(50)를 구비하고 있다.

단열 구조체(14)는 제1 실시 형태와 동일하게 구성되어 있다.

그 밖의 구성은 제2 실시 형태와 대략 동일하게 구성된다.

본 예에서는, 전기로(3) 전체는 고압 용기(2)의 하부 덮개(8)로부터 상방을 향해 착탈 가능하게 떼어낼 수 있도록 구성되어 있고, 처리품(5)의 고압 용기(2)로부터의 출입은 고압 용기(2)의 상부 덮개(7)를 개폐함으로써 행해진다.

전기로(3)를 고압 용기(2)로부터 취출하는 경우에는, 상부 덮개(7)를 개방한 후, 전기로(3) 전체를 인상한다.

따라서, 베이스 히터(12)의 리드선, 측온 부재(열전대)로부터의 신호선 및 팬 구동용 모터(16)의 전력 공급용 리드선 및 회전수 제어용의 신호기 등 전기 배선 계통은, 플러그인식의 커넥터에 의해 전기로(3)의 착탈에 수반하여[전기로(3)의 하부 덮개(8)에 대한 착탈 동작에 연동하여] 접속 혹은 절단되는 구조가 채용된다.

도9의 우측은 처리품(5)을 전기로(3) 내에 장입 혹은 취출할 때의 상황을 도시한 것이고, 처리품(5)을 세트하는 경우에는 처리품(5)을 지지통(34)의 상방에 처리품대(35)와 지지구(36)를 이용하여 세트한 후에, 단열 구조체(14)를 처리품(5) 등에 씌운다.

또한, 처리품(5)을 취출할 때에는, 단열 구조체(14)만을 상방으로 떼어낸다.

예열시는 도9의 중앙에 도시한 바와 같이, 처리품 장입 및 취출 스테이션으로부터 단열 구조체(14)를 부착한 상태에서 예열 및 냉각 스테이션으로 반송하여, 베이스 히터(12)에 통전하는 동시에 팬(13)을 구동한다.

처리품 장입 및 취출 스테이션 및 예열 및 냉각 스테이션에 있어서는, 가대(48)가 설치되어 있고, 전기로(3)는 가대(48)에 대해 착탈 가능하게 되어 있다. 예열 및 냉각 스테이션에 있어서는, 전기로(3)가 가대(48)에 부착되었을 때에, HIP 스테이션에 있어서와 마찬가지로 전기 배선 계통이 접속된다.

냉각은 그대로 방치하는 것이라도 가능하고, 상하 온도 분포의 발생을 억제하고 싶은 경우에는 팬(13)을 구동하면서 방치한다. 또한, 서냉하는 경우에는 베이스 히터(12)를 작동시켜도 좋다.

냉각 속도를 제어하고 싶은 경우에는, 도8과 같이 냉각용 케이싱(49)을 이용하는 것도 가능하다.

본 발명은 전술한 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 적절하게 설계 변경 가능하다.

본 발명에 의하면, 처리실의 하방에 압력 매체 가스를 가열하기 위한 베이스 히터와, 가열된 압력 매체 가스를 처리실 내로 공급 및 교반시키기 위한 팬이 배치되어 있으므로, 비교적 낮은 온도 하에서 처리품을 가열 및 가압 처리하는 열간 등방 가압 장치에 있어서, 처리품을 효율 좋게 가열할 수 있고, 또한 저렴한 열간 등방 가압 장치를 제공할 수 있고, 가열된 압력 매체 가스를 팬에 의해 처리실 내로 공급 및 교반시키면서 처리실 내에서 처리품을 가열 및 가압 처리함으로써, 고압 용기 내에 압력 매체 가스를 고속으로 주입한 경우에 생기는 저지 승온에 의한 온도 변동(온도 분포의 발생)을 억제할 수 있으며, 또한, HIP 처리 후의 열처리를 HIP 처리와 일련의 공정으로서 조합할 수 있어, HIP 처리와 열처리의 토탈 프로세스 시간의 단축을 도모할 수 있고, 처리품 및 단열 구조체를 하부 덮개와 함께 반송하지 않으므로, 반송 공정을 간소화할 수 있는 효과를 제공한다.

Claims

압력 매체 가스를 이용하여 처리품을 열간 등방 가압 처리하는 열간 등방 가압 장치이며,

고압 용기와,

상기 고압 용기 내에 설치된 처리품을 가열 및 가압 처리하는 처리실과,

상기 처리실의 가로 방향 주위 및 상방을 덮는 단열 구조체와,

상기 처리실의 하방에 배치된 압력 매체 가스를 가열하기 위한 베이스 히터와,

상기 처리실의 하방에 배치된, 가열된 압력 매체 가스를 처리실 내로 공급하여 교반하는 팬 및 상기 고압 용기의 하부 덮개를 구비하고,

상기 단열 구조체 및 처리품이 일체적으로 고압 용기 내로부터 취출되어, 상기 하부 덮개와는 별개로 일체적으로 반송 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 열간 등방 가압 장치.
제1항에 있어서, 처리품을 가열 및 가압 처리한 후, 상기 고압 용기 내로부터 압력 매체 가스를 배출할 때에, 상기 베이스 히터 및 상기 팬을 작동시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 열간 등방 가압 장치.
제1항에 있어서, 상기 베이스 히터 및 상기 팬이 상기 하부 덮개에 고정되고, 또한 상기 고압 용기의 외부에 구비된 스테이션으로 이루어지고, 상기 스테이션은 상기 베이스 히터 및 상기 팬과 대략 동일한 기능을 갖는 가열 장치를 구비하고 있고 처리품의 예열과 냉각 중 적어도 한 쪽을 행하는 것을 특징으로 하는 열간 등방 가압 장치.
제1항에 있어서, 상기 베이스 히터 및 상기 팬이 상기 하부 덮개에 대해 착탈 가능하게 되어 있어, 상기 베이스 히터 및 상기 팬이 처리품 및 상기 단열 구조체와 함께 상기 고압 용기 내로부터 취출되어 일체적으로 반송 가능하게 되어 있고, 또한 상기 고압 용기의 외부에 구비된 스테이션으로 이루어지며, 상기 스테이션은 상기 베이스 히터 및 상기 팬의 작동이 가능하게 되어 있어 처리품의 예열과 냉각의 중 적어도 한 쪽을 행하는 것을 특징으로 하는 열간 등방 가압 장치.
제1항에 있어서, 상기 하부 덮개가 승강 가능하게 되고, 상기 하부 덮개를 하방으로 이동한 상태에서 상기 단열 구조체가 상기 하부 덮개에 대해 착탈 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 열간 등방 가압 장치.
제1항에 있어서, 또한 상기 고압 용기의 상단부 개구를 막는 상부 덮개로 이루어지며, 상기 상부 덮개를 개방하여 상기 고압 용기 내에 대해 상기 단열 구조체를 고압 용기의 상단부 개구를 거쳐서 출입하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 열간 등방 가압 장치.
제1항에 있어서, 또한 물 켄칭 스테이션으로 이루어지며, 상기 물 켄칭 스테이션은 처리품을 가열 및 가압 처리한 후에, 상기 고압 용기로부터 상기 단열 구조체와 함께 취출되어 상기 단열 구조체와 일체적으로 반송되는 처리품을 수조에 침지하는 것을 특징으로 하는 열간 등방 가압 장치.
압력 매체 가스를 이용하여 처리품을 열간 등방 가압 처리하는 열간 등방 가압 장치이며,

고압 용기와,

상기 고압 용기 내에 설치된 처리품을 가열 및 가압 처리하는 처리실과,

상기 처리실의 하방에 배치된 압력 매체 가스를 가열하기 위한 베이스 히터 및 상기 처리실의 하방에 배치된 가열된 압력 매체 가스를 처리실 내로 공급하여 교반하는 팬을 구비하고,

처리품을 가열 및 가압 처리한 후, 상기 고압 용기 내로부터 압력 매체 가스를 배출할 때에, 상기 베이스 히터 및 상기 팬을 작동시키도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 열간 등방 가압 장치.