KR20030087552A - 오산화안티몬졸의 제조방법 - Google Patents

오산화안티몬졸의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 오산화안티몬졸의 제조방법에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 5∼30nm의 오산화안티몬졸을 핵(核) 졸(sol)로 이용하고, 임의 크기의 입경, 바람직하게는 40∼300nm로 성장시키는 것을 특징으로 하는 오산화안티몬졸의 제조방법에 관한 것이다. 즉, 본 발명에 따른 제조방법은, 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸을 원료로 하여, 상기 졸에 과산화수소수와 삼산화안티몬을 첨가하고, 생성되는 안티몬 화합물에서 오산화안티몬 입자를 피복하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은 안티몬 화합물이 피복된 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸의 제조방법에 관한 것이고, 피복된 안티몬 화합물이 오산화안티몬이며, 본 발명에 따른 제조방법은, 피복시에 원료의 졸에 포함되는 입자의 입경을 1.3배∼60배로 증대할 때까지 실시된다.

Description

오산화안티몬졸의 제조방법 {Process for producing antimony pentoxide sol}
본 발명은 5∼30nm의 오산화안티몬졸을 핵 졸(sol)로 이용하고, 임의 크기의 입경, 바람직하게는 40∼300nm로 성장시키는 것을 특징으로 하는 오산화안티몬졸의 제조방법에 관한 것이다.
오산화안티몬졸(Antimony pentoxide sol)은 플라스틱, 섬유 등의 난연조제(難燃助劑), 플라스틱, 유리의 표면처리제용 마이크로필러, 무기이온교환체 등으로써 사용되고 있는 것으로, 일반적으로는 유기염기에서 안정화한 고농도의 졸(Sb2O5로 하여 30∼50%)이 사용되고 있다.
지금까지 오산화안티몬졸은 이하의 방법으로 얻어지는 것이 알려져 있다.
안티몬산알카리염을 양이온 교환수지로 탈이온하는 방법(일본국 특개소 52-21298호 공보, 미국특허 제4,110,247호 명세서, 일본국 특공소 57-11848호 공보), 삼산화안티몬을 고온하에서 과산화수소수에 의해 산화시키는 방법(일본국 특공소 53-20479호 공보, 특개소 52-21298호 공보, 특개소 52-131998호 공보, 특개소 52-123997호 공보, 특개소 60-137828호 공보, 특개평 2-180717호 공보)가 보고되어 있다.
상기 이외의 방법으로서는, 안티몬산알카리를 무기산과 반응시킨 후에 해교(解膠)하는 방법(일본국 특개소 60-41536호 공보, 특개소 61-227918호 공보) 등이 알려져 있다.
또한, 일본국 특개평 2-107523호 공보에는, 오산화안티몬졸에 안티몬산알카리와 1가 또는 2가의 무기산을 화학량론비 0.7∼5로 반응시키고, 생성된 오산화안티몬겔을 수세하여 얻어진 웨이트 케익(wet cake)을 단속적 또는 연속적으로 첨가하여 해교시키고, 입경 40∼300nm의 입자 형상이 정팔면체인 Sb2O5졸의 제조법이 보고되어 있다.
상술한 종래의 오산화안티몬졸의 제조방법에는 이하와 같은 결점이 있다.
이온교환법에서는 오산화안티몬졸은 구(球)에 가까운 형상을 갖고 있기 때문에, 분산성이 좋고, 고농도화가 가능한 특징을 갖고 있다. 그러나, 이 이온교환법에서는 오산화안티몬 농도를 10% 이하로 이온교환하는 것이 곤란하며, 이온교환수지의 분리, 재생조작을 실시하기 위해 조작이 번잡한 등의 결점을 갖고 있다.
또한, 산화법에서는 직접 오산화안티몬으로서 30% 정도의 고농도의 졸을 얻을 수 있지만, 점도가 높아지고, 또한 콜로이드 입자의 형상은 다른 형태이어서 분산성이 나쁘고, 표면활성이 크기 때문에 수지 에멀젼 등과의 상용성이 나쁘다는 결점을 갖고 있다. 산화법에 의해 얻어진 오산화안티몬졸의 안정성을 개량하는 방법으로서, 오산화안티몬졸의 제조시에 오가의 인 또는 비소를 포함하는 산을 Sb 1몰에 대해 0.01몰 이상 첨가하는 방법이 제안되어 있다(독일 공개특허 제2931523호). 그러나, 이 반응에서는 인산 또는 비산에 의해 안티몬산의 중합이 현저히 억제되고, 폴리안티몬산이온 또는 5nm 이하의 미소입자 오산화안티몬 콜로이드가 생성되기 때문에, 얻어지는 졸의 점도가 상당히 높고, 보존에 의해 현저히 점도가 증가하는 결점을 갖고 있다.
본 발명의 목적은 상술한 종래의 오산화안티몬졸의 제조방법의 결점을 제거하고, 공업적인 큰 입경의 오산화안티몬을 포함하는 졸의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 제1관점으로서, 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸을 원료로 하여, 상기 졸에 과산화수소수와 삼산화안티몬을 첨가하고, 생성되는 안티몬 화합물에서 오산화안티몬 입자를 피복하는 것을 특징으로 하는, 안티몬 화합물이 피복된 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸의 제조방법,
제2관점으로서, 피복된 안티몬 화합물이 오산화안티몬인 제1관점에 기재된 제조방법,
제3관점으로서, 피복이 원료의 졸에 포함된 입자의 입경을 1.3배∼60배로 증대할 때까지 실시되는 제1관점 또는 제2관점 기재의 제조방법,
제4관점으로서, 원료에 이용되는 졸이, 5∼30nm의 입경을 갖는 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸인 제1관점 내지 제3관점의 어느 하나에 기재된 제조방법,
제5관점으로서, 피복에 의해 얻어진 졸이, 40∼300nm의 입경을 갖는 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸인 제1관점 내지 제4관점의 어느 하나에 기재된 제조방법,
제6관점으로서, 안티몬 화합물의 피복이, 원료의 오산화안티몬졸에 2∼2.5의 H2O2/Sb2O3몰비로 과산화수소수와 삼산화안티몬을 첨가하고, 가열하는 방법으로 실시되는 제1관점 내지 제5관점의 어느 하나에 기재된 제조방법,
제7관점으로서, 과산화수소수와 삼산화안티몬의 첨가가, i) 과산화수소수와 삼산화안티몬을 교대로 번갈아가며 오산화안티몬졸에 첨가하는 방법, ii) 먼저 과산화수소수를 오산화안티몬졸에 첨가하고 그 후에 삼산화안티몬을 첨가하는 방법, iii) 과산화수소수와 삼산화안티몬의 혼합 슬러리를 오산화안티몬졸에 첨가하는 방법으로 실시되는 제1관점 내지 제6관점의 어느 하나에 기재된 제조방법이다.
본 발명은 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸을 원료로 하여, 상기 졸에 과산화수소수와 삼산화안티몬을 첨가하고, 생성되는 안티몬 화합물에서 오산화안티몬 입자를 피복하는 것을 특징으로 하는, 안티몬 화합물이 피복된 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸의 제조방법이다.
피복되는 안티몬 화합물은 삼산화안티몬과 과산화수소와의 반응에 의해 얻어지는 것이며, 이것은 오산화안티몬이거나, 오산화안티몬을 주성분으로 하는 안티몬 산화물이다.
피복은 원료로서 이용한 오산화안티몬졸 중의 입자의 입경이 1.3배∼60배로증대될 때까지 입자성장을 계속한다.
더욱 상세하게는, 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸은 원료로 하여, 상기 졸에 과산화수소와 삼산화안티몬을 첨가하고, 상기 입자의 입경이 1.3배∼60배에 달할 때까지 오산화안티몬으로 피복하여 얻어지는, 증대한 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸의 제조방법이다.
원료로서 이용하는 오산화안티몬졸 중의 오산화안티몬 입자의 입경에는 제약이 없지만, 통상은 5∼30nm 입경을 갖는 오산화안티몬을 입자를 함유하는 졸을 이용하고, 40∼300nm의 범위까지 입자성장시킨 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸을 얻는 것이다.
본 발명의 방법에서 얻어지는 입경이, 증대한 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸을 원료에, 더욱 입경을 증대하는 방법도 포함한다.
본 발명은 주로, 5∼30nm의 입경을 갖는 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸(원료 졸)의 입자표면을, 상기 입자가 40∼300nm의 입경이 될 때까지 오산화안티몬으로 피복하는 것에 의한, 원료졸 중의 입자의 입경을 증대하는데 있다.
이 안티몬 화합물, 특히 오산화안티몬에서의 피복방법은, 과산화수소와 삼산화안티몬과의 반응에 의한 안티몬산, 또는 미소한 오산화안티몬 콜로이드를 생성하고 가열하는 방법을 들 수 있다.
본 발명에서 원료졸에 사용되는 오산화안티몬졸의 입자의 입경은 일차입경으로서, 5∼100nm, 바람직하게는 5∼30nm의 입경의 범위에서 사용될 수 있다. 이러한 오산화안티몬졸은 공지의 방법에 의해 제조된 것을 사용할 수 있다. 이러한 졸 중의 입자는 핵 입자로서 기능한다. 이 오산화안티몬졸은 산성, 중성, 알카리성의 한정은 없지만, 산성인 것이 바람직하다.
상기 오산화안티몬졸을 얻는 방법으로서는, 안티몬산알카리염을 탈이온하는 방법(일본국 특공소 57-11848호, 미국특허 제4,110,247호), 삼산화안티몬을 고온에서 과산화수소에 의해 산화하는 방법(일본국 특공소 53-20479호, 특공소 52-21298호, 특개소 60-137828호 공보, 특개평 2-180717호 공보), 또는 본 발명자들에 의한 안티몬산 솔더와 산과의 반응에 의해 얻은 오산화안티몬겔을 아민에 의해 해교하는 방법(일본 특원소 60-41536호) 등이 있다.
과산화수소와 삼산화안티몬과의 반응에 의한 안티몬산, 또는 미소한 오산화안티몬 콜로이드를 생성하고 가열하는 방법에는, 원료가 되는 오산화안티몬졸에 과산화수소수와 삼산화안티몬을 첨가하고 가열하는 방법으로 실시된다.
상기 삼산화안티몬은 평균입경이 100㎛ 이하인 것이 이용되지만, 분산성이나 과산화수소수와의 반응성 등의 관점에서, 특히 10㎛ 이하인 것이 바람직하다.
첨가에 이용되는 삼산화안티몬과 과산화수소수의 몰비(H2O2/Sb2O3)는 통상은 2.0∼2.5이지만, 2.0인 것이 바람직하다. 2.0 이하에서는 삼산화안티몬이 완전히 오산화안티몬이 되는데 불충분한 양이고, 2.0 이상에서도 제조상 문제가 없지만, H2O2가 과잉이고 경제적이지 않다.
반응온도로서는, 30∼200℃, 바람직하게는 80∼100℃에서 실시된다.
본 발명에 있어서의 피복층이 되는 오산화안티몬은 첨가하는 삼산화안티몬으로 환산하여, 원료가 되는 오산화안티몬졸의 Sb2O5에 대해 몰비로 (첨가되는 Sb2O3)/(원료의 오산화안티몬졸 중의 Sb2O5)가 1이상인 것이 바람직하다. 몰비 1 이하에서도 가능하지만 입자성장(원료가 되는 오산화안티몬졸 중의 입자의 입경의 증대) 효과가 적다.
또한, 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가방법은 연속 또는 단속의 어느 쪽이라도 실시가능하고, 삼산화안티몬과 과산화수소수를 혼합 슬러리화한 것을 첨가하는 것도, 미리 원료가 되는 오산화안티몬졸 중에 과산화수소수를 첨가해두고, 후에 삼산화안티몬을 첨가할 수도 있다. 또한, 삼산화안티몬과 과산화수소수를 교대로 번갈아가며 첨가할 수도 있고, 이 경우에는 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가순서는 특별히 한정되지 않는다. 상기 방법에서는 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가는 최종적으로 몰비(H2O2/Sb2O3)가 2.0의 비율인 것이 바람직하다.
삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가에 의한 반응은 산화 발열반응이기 때문에, 반응조를 냉각하면서 실시하거나, 환류하에서 실시하는 것이 바람직하다. 삼산화안티몬 및 과산화수소수의 첨가가 단속첨가인 경우, 냉각조건에도 따르지만 10∼20분 간격으로 교대로 첨가되고, 1회의 첨가량으로서는 몰비로 (첨가한 Sb2O3)/(원료의 오산화안티몬졸 중의 Sb2O5) = 0.1∼1.0 정도가 좋고, 0.1미만이어도 좋지만 첨가회수가 많아지며, 시간이 걸리기 때문에 효율적이지 않다. 또한, 1.0을 초과하여도 좋지만, 1회의 첨가량이 많아지기 때문에, 반응에 의한 발열량이 커져서 온도의 제어가 어려워지고, 더욱 새롭게 독립한 소립자가 생성되며, 입자성장이불균일하게 되어 입도분포가 넓어지고, 입도분포가 좁은 입자를 제조하기 위해서는 바람직하지 않다.
본 발명에 있어서 첨가된 삼산화안티몬은 계내의 과산화수소와 산화반응하여, 미소한 오산화안티몬 콜로이드 입자가 되며, 이것이 공존하는 오산화안티몬졸(핵 입자로서 작용)의 콜로이드 입자표면에 결합하여 입자성장을 일으킨다고 생각된다. 따라서 핵 입자가 되고 미리 내장된 오산화안티몬졸에 대한 삼산화안티몬이 첨가되는 비율이 높을수록, 입경이 큰 졸이 얻어지게 된다.
본 발명에서 얻어지는 오산화안티몬졸의 pH는 2∼4이지만, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 안티모니아 등의 무기염기나 트리에탄올아민, 모노에탄올아민 등의 알카놀아민류, 트리에틸아민, n-프로필렌아민 등의 알킬아민류, 제4급암모늄하이드록사이드, 구아니딘하이드록사이드 등의 유기염기를 첨가하여, pH 4∼11로 조정할 수 있다.
또한 얻어진 졸의 농도를 높이고 싶을 때는, 통상적인 방법, 예를 들어 증발법, 한외여과법 등에 의해 농축할 수 있다. 더욱이 졸의 안정성을 높이기 위해서는 상술한 염기류, 특히 유기염기류를 이용하여 pH를 5∼8로 조정한 후, 농축하는 것이 바람직하다.
실시예
참고예 1
이 예에서는, 본 발명의 졸의 제조에 이용되는 원료가 되는 오산화안티몬졸이 조제되었다.
순수(純水) 2225.6g에 삼산화안티몬(히로히가시산코쿠제, Sb2O3함유량 99.5중량%) 203.8g 및 35중량% 과산화수소수 270.5g을 첨가하고, 80℃로 가열하여 반응을 개시하고, 반응열에 의해 액체온도가 95∼100℃가 되었다. 그 후, 더욱 삼산화안티몬 203.8g을 첨가하고, 90∼95℃에서 2시간 숙성을 실시하고 반응을 완료하고, 목적으로 하는 오산화안티몬졸 2903.7g을 얻었다. 얻어진 졸은 비중 1.152, 점도 2.6c.p., pH 3.50, Sb2O5함유량 15.5중량%이었다. 또한, 전자현미경 관찰 결과, 일차(一次) 입경은 15∼20nm이었다.
참고예 2
이 예에서는, 본 발명의 졸의 제조에 이용되는 원료가 되는 오산화안티몬졸이 조제되었다.
안티몬산 솔더(Sb2O5로서 64중량%, Na2O로서 12.27중량%를 함유함) 800g을 물 1532g에 가하였다. 이 슬러리에 35% 염산 396g 첨가하고, 27℃에서 가온하고, 3시간 반응시켰다. 계속하여, 반응에 의해 생성한 오산화안티몬의 슬러리를 흡인 여과하고, 물 3200g을 주입하고 세정을 실시하였다. 얻어진 오산화안티몬 겔 웨이트 케이크 755g을 물 1952.7g에 분산시키고, 계속하여 85% 오르소인산 9.1g을 가하고나서 85℃로 승온하고, 2시간 해교를 실시하여, 목적으로 하는 오산화안티몬졸 2716.8g을 얻었다. 얻어진 졸은 비중 1.202, pH 2.12, 점도 6.4c.p., Sb2O5함유량 17.8중량% 이었다. 또한, 전자현미경 관찰결과, 일차입경은 10∼20nm이었다.
실시예 1
참고예 1에서 조제된 오산화안티몬졸 1451.6g을 75℃로 승온한 후, 삼산화안티몬(히로히가시산코쿠제, Sb2O3함유량 99.5중량%) 81.0g과 35중량%의 과산화수소수 53.8g을 번갈아가며 10∼15분 간격으로 총 8회 단속적으로 첨가하고 반응시켰다. 이 사이, 냉각하면서 액체 온도는 90∼99℃로 보존되었다. 피복층을 형성하는 오산화안티몬은 첨가한 삼산화안티몬으로 환산하여 그 총첨가량은 (첨가한 Sb2O3)/(원료의 오산화안티몬졸 중의 Sb2O5) 몰비로 3.18이었다. 또한, 피복층 형성시에, 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가의 몰비(H2O2/Sb2O3)는 2.0이었다.
얻어진 졸에 트리에탄올아민 47.0g을 첨가하고, 증발법으로 농축을 실시하며, 목적의 오산화안티몬졸 1898.5g을 얻었다. 얻어진 졸은 비중 1.766, pH 4.70, 점도 7.4c.p., Sb2O5함유량 49.5중량%, 입경은 전자현미경 관찰결과, 일차입경 40∼50nm이었다.
실시예 2
참고예 1에서 조제된 오산화안티몬졸 300g, 물 1910.8g 및 35중량% 과산화수소수 270.7g을 반응용기에 넣고, 90℃에서 가열후, 환류하에서 삼산화안티몬(히로히가시산코쿠제, Sb2O3함유량 99.5중량%) 40.8g을 15∼20분 간격으로 10회 단속적으로 첨가하고 반응시켰다. 피복층을 형성하는 오산화안티몬은 첨가한 삼산화안티몬으로 환산하여 그 총첨가량은 (첨가한 Sb2O3)/(원료의 오산화안티몬졸 중의 Sb2O5) 몰비로 9.69이었다. 또한, 피복층 형성시에, 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가의 몰비(H2O2/Sb2O3)는 2.0이었다.
얻어진 오산화안티몬졸 2876g이고, 비중 1.168, pH 2.35, 점도 1.1c.p., Sb2O5함유량 17.2중량%, 입경은 전자현미경 관찰결과, 일차입경 150∼200nm이었다.
실시예 3
반응용기에 물 2584.3g을 계량하고, 교반하에서 삼산화안티몬(히로히가시산코쿠제, Sb2O3함유량 99.5중량%) 40.8g과 35중량%의 과산화수소수 270.7g을 넣고, 90℃에서 가열하여 반응시키며, 원료가 되는 입자를 함유하는 졸을 생성하였다. 이 졸의 입경은 전자현미경 관찰결과, 일차입경 15∼20nm이었다.
그 후, 삼산화안티몬을 40.8g을 10분 간격으로 9회 단속적으로 첨가하여 반응시켰다. 피복층을 형성하는 오산화안티몬은 첨가한 삼산화안티몬으로 환산하고 그 총첨가량은 (첨가한 Sb2O3)/(원료의 오산화안티몬졸 중의 Sb2O5) 몰비로 10.0이었다. 또한, 피복층 형성시에, 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가의 몰비(H2O2/Sb2O3)는 2.0이었다.
얻어진 오산화안티몬졸 2895g이고, 비중 1.144, pH 2.30, 점도 1.5c.p., Sb2O5함유량 15.0중량%, 입경은 전자현미경 관찰결과, 일차입경 40∼50nm이었다.
실시예 4
참고예 2에서 얻어진 오산화안티몬졸 108.6g 및 물 809.8g을 반응용기에 넣고, 90℃로 승온하였다. 그 후, 삼산화안티몬(히로히가시산코쿠제, Sb2O3함유량99.5중량%) 17.5g과 35중량%의 과산화수소수 11.7g을 번갈아가며 15분 간격으로 8회 단속적으로 첨가하여 반응시켰다. 피복층을 형성하는 오산화안티몬은 첨가한 삼산화안티몬으로 환산하여 그 총첨가량은 (첨가한 Sb2O3)/(원료의 오산화안티몬졸 중의 Sb2O5) 몰비로 8.0이었다. 또한, 피복층 형성시에, 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가의 몰비(H2O2/Sb2O3)는 2.0이었다.
얻어진 오산화안티몬졸 1151g이고, 비중 1.144, pH 2.54, 점도 1.4c.p., Sb2O5함유량 15.1중량%, 입경은 전자현미경 관찰결과, 일차입경 40∼50nm이었다.
실시예 5
물 518.4g, 삼산화안티몬(히로히가시산코쿠제, Sb2O3함유량 99.5중량%) 4.5g 및 35중량%의 과산화수소수 240.3g을 반응용기에 넣고, 90℃에서 가열반응시켜 원료가 되는 오산화안티몬졸을 생성시켰다. 이 원료가 되는 오산화안티몬졸의 입경은 전자현미경 관찰결과, 일차입경은 10∼15nm이었다. 그 후, 환류하에서 삼산화안티몬 357.7g을 물 459.9g에 분산시킨 슬러리를 정량 펌프를 사용하여 약 2시간동안 연속첨가하여 반응시켰다. 피복층을 형성하는 오산화안티몬은 첨가한 삼산화안티몬으로 환산하여 그 총첨가량은 (첨가한 Sb2O3)/(원료의 오산화안티몬졸 중의 Sb2O5) 몰비로 79.5이었다. 또한, 피복층 형성시에, 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가의 몰비(H2O2/Sb2O3)는 2.0이었다.
얻어진 오산화안티몬졸 1538.9g이고, 비중 1.244, pH 2.30, 점도 1.5mPa·s,Sb2O525.3중량%, 입경은 전자현미경 관찰결과, 일차입경 80∼90nm이었다.
실시예 6
물 243.2g과 원료가 되는 졸로 하여, 실시예 5에서 얻은 오산화안티몬졸 12.5g 및 35중량% 과산화수소수 156.3g을 반응용기에 넣고, 가열환류시켰다. 그 후, 삼산화안티몬(히로히가시산코쿠제, Sb2O3함유량 99.5중량%) 235.5g을 물 353.2g에 분산시킨 슬러리를 정량펌프를 사용하여 약 2시간동안 연속첨가하여 반응시켰다. 피복층을 형성하는 오산화안티몬은 첨가한 삼산화안티몬으로 환산하여 그 총첨가량은 (첨가한 Sb2O3)/(원료의 오산화안티몬졸 중의 Sb2O5) 몰비로 82.3이었다. 또한, 피복층 형성시에, 삼산화안티몬과 과산화수소수의 첨가의 몰비(H2O2/Sb2O3)는 2.0이었다.
얻어진 오산화안티몬졸 1000.7g이고, 비중 1.264, pH 2.20, 점도 2.5c.p., Sb2O5함유량 26.3중량%, 입경은 전자현미경 관찰결과, 일차입경 180∼200nm이었다.
본 발명의 오산화안티몬졸의 제조방법에서는, 오산화안티몬졸 중의 입자의 입경을 임의 크기로 제조할 수 있고, 또한 좁은 입경 분포를 갖기 때문에 분산성에 우수하고, 플라스틱, 섬유 등의 난연조제, 플라스틱, 유리의 표면처리제용 마이크로필러, 무기이온교환체 등의 용도로 유용하다.

Claims (7)

  1. 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸을 원료로 하여, 상기 졸에 과산화수소수와 삼산화안티몬을 첨가하고, 생성되는 안티몬 화합물에서 오산화안티몬 입자를 피복하는 것을 특징으로 하는 안티몬화합물이 피복된 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 피복된 안티몬 화합물이 오산화안티몬인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 피복이 원료의 졸에 포함되는 입자의 입경을 1.3배∼60배로 증대할 때까지 실시되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 원료에 이용되는 졸이 5∼30nm의 입경을 갖는 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 피복에 의해 얻어진 졸이 40∼300nm의 입경을 갖는 오산화안티몬 입자를 함유하는 졸인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 안티몬 화합물의 피복이, 원료의 오산화안티몬졸에 2∼2.5의 H2O2/Sb2O3몰비로 과산화수소수와 삼산화안티몬을 첨가하고, 가열하는 방법으로 실시되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 과산화수소수와 삼산화안티몬의 첨가가, i) 과산화수소수와 삼산화안티몬을 번갈아가며 오산화안티몬졸에 첨가하는 방법, ii) 먼저 과산화수소수를 오산화안티몬졸에 첨가하고 그 후에 삼산화안티몬을 첨가하는 방법, iii) 과산화수소수와 삼산화안티몬의 혼합 슬러리를 오산화안티몬졸에 첨가하는 방법으로 실시되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
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