KR20020080001A - 7-(피라졸-3-일)벤족사졸의 제조 방법 - Google Patents

7-(피라졸-3-일)벤족사졸의 제조 방법 Download PDF

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KR20020080001A
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Abstract

본 발명은 화학식 I의 7-(피라졸-3-일)벤족사졸 (여기서, R1내지 R6은 청구항 1에 기재된 의미를 가짐)의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 화학식 II의 2-할로겐-3-(피라졸-3-일)아닐리드 (여기서 X는 브롬 또는 요오드를 나타냄)를 원소 주기율표 VIIa, VIIIa 또는 Ib 아족의 전이 금속 화합물 및 염기의 존재하에서 반응시키는 것을 특징으로 한다.

Description

7-(피라졸-3-일)벤족사졸의 제조 방법 {Method for Producing 7-(Pyrazole-3-yl)Benzoxazoles}
본 발명은 하기 화학식 I의 7-(피라졸-3-일)벤족사졸의 제조 방법에 관한 것이다.
상기 식에서,
R1은 수소, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-할로알킬이고;
R2는 시아노, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알킬티오, C1-C4-할로알킬티오, C1-C4-알킬술피닐, C1-C4-할로알킬술피닐, C1-C4-알킬술포닐 또는 C1-C4-할로알킬술포닐이고;
R3은 수소, 할로겐, 시아노, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-할로알킬이고;
R4는 할로겐이고;
R5는 플루오르, 염소 또는 시아노이고;
R6은 수소, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-할로알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, C1-C4-시아노알킬, C1-C4-알킬티오-C1-C4-알킬, (C1-C4-알콕시)카르보닐-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬옥시-C1-C4-알킬, 페닐, 페닐-C1-C4-알킬, 4- 내지 7-원 헤테로시클릴 또는 헤테로시클릴-C1-C4-알킬이고, 여기서 각 시클로알킬 고리, 페닐 고리 및 헤테로시클릴 고리는 비치환되거나 또는 시아노, 니트로, 아미노, 히드록실, 카르복실, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알킬티오로 구성된 군으로부터 서로 독립적으로 선택되는 1, 2 또는 3개의 치환기를 가질 수 있다.
화학식 I의 7-(피라졸-3-일)벤족사졸은 WO 제98/27090호 및 WO 제99/55702호에 개시되어 있다. 이들 화합물들은 매우 효과적인 제초제이다.
종래 기술에서, 이들의 제법은 화학식 III의 3-(피라졸-3-일)아닐린으로부터 출발하는 것으로 기재되어 있는데, 여기서는 우선 아닐린 III의 아미노기를 디아조늄 중간체를 통해 아지드기로 전환시킨다.
이어서 상기 아지드를 카르복시산 R6-COOH와 반응시켜 화학식 I의 벤족사졸을 제조한다. 한편, 여기에서 아지드를 카르복시산과 직접 반응시켜 벤족사졸을 제공할 수도 있다. 다르게는, 아지드를 유기 술폰산과 반응시켜 황산 에스테르 중간체를 통해 상응하는 2-히드록시-3-피라졸릴아닐린을 얻고, 이를 카르복시산 R6-COOH 또는 그의 유도체로 고리화시켜 벤족사졸을 얻을 수 있다.
아지드는 폭발적으로 분해될 수 있기 때문에 상기 제조 방법들은 매우 문제가 많다 (예, 문헌 [Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Vol. 10/3, Georg-Thieme Verlag Stuttgart, 1965, p. 782] 참조). 또한, 이러한 경우 아지드의 표적 화합물 I로의 전환은 불충분한 수율로 다수의 부산물을 형성하면서 진행된다. 부산물의 제거는 복잡하며 몇몇 경우에는 문제가 많거나 불가능하다.
문헌 [G. A. Kraus et al., Tetrahedron 41 (1985), 2337-2340]에는 벤족사졸 유도체로부터 3,5-디브로모오르토퀴논 디아지드의 제조가 기재되어 있다. 벤족사졸 유도체는 수소화 나트륨 및 과량의 브롬화 구리의 존재하에서 헥사메틸포스포릭 트리아미드 중에서 2,4,6-트리브로모아세트아닐리드의 반응에 의해 제조된다.
문헌 [W. R. Bowman et al., Tetrahedron Letters, 23 (1982), 5093-5096]에는 티오카르복스아닐리드의 벤조티아졸로의 전환에 관한 연구 도중 요오드화 구리의 존재하에서 오르토-요오도벤즈아닐리드의 2-페닐-1,3-벤족사졸로의 전환을 기재하고 있다.
문헌 [T. Minami et al., J. Org. Chem. 58 (1993), 7009-7015]에서는 등몰량의 수소화 나트륨 및 2배 과몰량의 요오드화 구리의 존재하에서 N-(2-요오도페닐)-N-메틸-α-디에톡시포스피닐)아세타미드의 반응 동안 2-[(디에톡시포스피닐)메틸]벤족사졸의 형성을 관찰하였다.
상기 언급된 공정 중 어느 것도 헤테로고리가 치환된 벤족사졸의 제조를 기재하고 있지 못하다. 벤족사졸의 페닐 고리에서 치환기의 수는 2로 제한된다.
본 발명의 목적은 아지드 중간체를 생성하지 않으면서 화학식 I의 7-(피라졸-3-일)벤족사졸을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 이러한 목적이 화학식 II의 2-할로-3-(피라졸-3-일)아닐리드를 원소 주기율표 VIIa, VIIIa 또는 Ib 아족의 전이 금속 화합물의 존재하에서 염기와 함께 반응시키는 방법에 의해 달성된다는 것을 알게 되었다.
상기 식에서,
R1내지 R6은 상기 정의된 바와 같고,
X는 브롬 또는 요오드이다.
따라서, 본 발명은 상기 정의된 바와 같은 화학식 II의 2-할로-3-(피라졸-3-일)아닐리드를 원소 주기율표 VIIa, VIIIa 또는 Ib 아족의 전이 금속 화합물의 존재하에서 염기와 함께 반응시켜 화학식 I의 화합물을 제공하는 것을 포함하는, 상기 정의된 바와 같은 화학식 I의 7-(피라졸-3-일)벤족사졸의 제조 방법에 관한 것이다.
치환기 R1, R2, R3, R4, R5및 R6의 정의에서 언급된 유기 분자 잔기들 또는 시클로알킬 고리, 페닐 고리 또는 헤테로시클릭 고리들 상의 라디칼은 개개의 군에 속하는 것들의 목록에 대한 집합적인 용어이다. 모든 탄화수소쇄, 즉 모든 알킬기, 할로알킬기, 페닐알킬기, 시클로알킬알킬기, 알콕시기, 할로알콕시기, 알킬티오기, 할로알킬티오기, 알킬술피닐기, 할로알킬술피닐기, 알킬술포닐기, 할로알킬술포닐기, 알케닐기, 할로알케닐기 및 알키닐기, 및 더 대형기에서 상응하는 잔기들, 예를 들어 알콕시카르보닐기, 페닐알킬기, 시클로알킬알킬기, 알콕시카르보닐알킬기 등은 각 경우 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 각 경우 접두사 Cn-Cm은 기 내에서 탄소 원자의 가능한 수를 나타낸다. 할로겐화 치환기들은 바람직하게는 1, 2, 3, 4 또는 5개의 동일하거나 상이한 할로겐 원자를 가질 수 있다. 할로겐이란 용어는 각 경우 플루오르, 염소, 브롬 또는 요오드를 나타낸다.
다른 의미들의 예는 하기와 같다:
- C1-C4-알킬: CH3, C2H5, n-프로필, CH(CH3)2, n-부틸, CH(CH3)-C2H5, CH2-CH(CH3)2및 C(CH3)3;
- C1-C4-할로알킬: 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환된 상기 언급된 바와 같은 C1-C4-알킬 라디칼, 예를 들어 CH2F, CHF2, CF3, CH2Cl, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 클로로플루오로메틸, 디클로로플루오로메틸, 클로로디플루오로메틸, 2-플루오로에틸, 2-클로로에틸, 2-브로모에틸, 2-요오도에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-클로로-2-플루오로에틸, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, C2F5, 2-플루오로프로필, 3-플루오로프로필, 2,2-디플루오로프로필, 2,3-디플루오로프로필, 2-클로로프로필, 3-클로로프로필, 2,3-디클로로프로필, 2-브로모프로필, 3-브로모프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필, 3,3,3-트리클로로프로필, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필, 헵타플루오로프로필, 1-플루오로메틸-2-플루오로에틸, 1-클로로메틸-2-클로로에틸, 1-브로모메틸-2-브로모에틸, 4-플루오로부틸, 4-클로로부틸, 4-브롬부틸 또는 노나플루오로부틸;
- C1-C6-알킬: 상기 언급한 바와 같은 C1-C4-알킬, 및 또한 예를 들어 n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, n-헥실, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸,2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필 또는 1-에틸-2-메틸프로필, 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, 1-메틸에틸, n-부틸, 1,1-디메틸에틸, n-펜틸 또는 n-헥실;
- C1-C6-할로알킬: 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환된 상기 언급된 바와 같은 C1-C6-알킬, 즉 예를 들어 C1-C4-할로알킬에 언급된 라디칼 중 하나, 및 또한 5-플루오로-1-펜틸, 5-클로로-1-펜틸, 5-브로모-1-펜틸, 5-요오도-1-펜틸, 5,5,5-트리클로로-1-펜틸, 운데카플루오로펜틸, 6-플루오로-1-헥실, 6-클로로-1-헥실, 6-브로모-1-헥실, 6-요오도-1-헥실, 6,6,6-트리클로로-1-헥실 또는 도데카플루오로헥실;
- 페닐-C1-C4-알킬: 벤질, 1-페닐에틸, 2-페닐에틸, 1-페닐프로프-1-일, 2-페닐프로프-1-일, 3-페닐프로프-1-일, 1-페닐부트-1-일, 2-페닐부트-1-일, 3-페닐부트-1-일, 4-페닐부트-1-일, 1-페닐부트-2-일, 2-페닐부트-2-일, 3-페닐부트-2-일, 4-페닐부트-2-일, 1-페닐메틸에트-1-일, 1-페닐메틸-1-메틸에트-1-일 또는 1-페닐메틸프로프-1-일, 바람직하게는 벤질 또는 2-페닐에틸;
- 헤테로시클릴-C1-C4-알킬: 헤테로시클릴메틸, 1-헤테로시클릴에틸, 2-헤테로시클릴에틸, 1-헤테로시클릴프로프-1-일, 2-헤테로시클릴프로프-1-일, 3-헤테로시클릴프로프-1-일, 1-헤테로시클릴부트-1-일, 2-헤테로시클릴부트-1-일, 3-헤테로시클릴부트-1-일, 4-헤테로시클릴부트-1-일, 1-헤테로시클릴부트-2-일, 2-헤테로시클릴부트-2-일, 3-헤테로시클릴부트-2-일, 3-헤테로시클릴부트-2-일, 4-헤테로시클릴부트-2-일, 1-헤테로시클릴메틸에트-1-일, 1-헤테로시클릴메틸-1-메틸에트-1-일 또는 1-헤테로시클릴메틸프로프-1-일, 바람직하게는 헤테로시클릴메틸 또는 2-헤테로시클릴에틸;
- 시아노-C1-C4-알킬: CH2CN, 1-시아노에틸, 2-시아노에틸, 1-시아노프로프-1-일, 2-시아노프로프-1-일, 3-시아노프로프-1-일, 1-시아노부트-1-일, 2-시아노부트-1-일, 3-시아노부트-1-일, 4-시아노부트-1-일, 1-시아노부트-2-일, 2-시아노부트-2-일, 3-시아노부트-2-일, 4-시아노부트-2-일, 1-(CH2CN)에트-1-일, 1-(CH2CN)-1-(CH3)-에트-1-일 또는 1-(CH2CN)프로프-1-일;
- C1-C4-알콕시: OCH3, OC2H5, n-프로폭시, OCH(CH3)2, n-부톡시, OCH(CH3)-C2H5, OCH2-CH(CH3)2또는 OC(CH3)3, 바람직하게는 OCH3, OC2H5또는 OCH(CH3)2;
- C1-C4-할로알콕시: 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환된 상기 언급된 바와 같은 C1-C4-알콕시 라디칼, 즉 예를 들어 OCH2F, OCHF2, OCF3, OCH2Cl, OCH(Cl)2, OC(Cl)3, 클로로플루오로메톡시, 디클로로플루오로메톡시, 클로로디플루오로메톡시, 2-플루오로에톡시, 2-클로로에톡시, 2-브로모에톡시, 2-요오도에톡시, 2,2-디플루오로에톡시, 2,2,2-트리플루오로에톡시, 2-클로로-2-플루오로에톡시, 2-클로로-2,2-디플루오로에톡시, 2,2-디클로로-2-플루오로에톡시, 2,2,2-트리클로로에톡시, OC2F5, 2-플루오로프로폭시, 3-플루오로프로폭시, 2,2-디플루오로프로폭시, 2,3-디플루오로프로폭시, 2-클로로프로폭시, 3-클로로프로폭시, 2,3-디클로로프로폭시, 2-브로모프로폭시, 3-브로모프로폭시, 3,3,3-트리플루오로프로폭시, 3,3,3-트리클로로프로폭시, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로폭시, OCF2-C2F5, 1-(CH2F)-2-플루오로에톡시, 1-(CH2Cl)-2-클로로에톡시, 1-(CH2Br)-2-브로모에톡시, 4-플루오로부톡시, 4-플로로부톡시, 4-브로모부톡시 또는 노나플루오로부톡시, 바람직하게는 OCHF2, OCF3, 디클로로플루오로메톡시, 클로로디플루오로메톡시 또는 2,2,2-트리플루오로에톡시;
- C1-C4-알킬티오: SCH3, SC2H5, n-프로필티오, SCH(CH3)2, n-부틸티오, SCH(CH3)-C2H5, SCH2-CH(CH3)2또는 SC(CH3)3, 바람직하게는 SCH3또는 SC2H5;
- C1-C4-할로알킬티오: 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환된 상기 언급된 바와 같은 C1-C4-알킬티오 라디칼, 즉 예를 들어 SCH2F, SCHF2, SCH2Cl, SCH(Cl)2, SC(Cl)3, SCF3, 클로로플루오로메틸티오, 디클로로플루오로메틸티오, 클로로디플루오로메틸티오, 2-플루오로에틸티오, 2-클로로에틸티오, 2-브로모에틸티오, 2-요오도에틸티오, 2,2-디플루오로에틸티오, 2,2,2-트리플루오로에틸티오, 2-클로로-2-플루오로에틸티오, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸티오, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸티오, 2,2,2-트리클로로에틸티오, SC2F5, 2-플루오로프로필티오, 3-플루오로프로필티오, 2,2-디플루오로프로필티오, 2,3-디플루오로프로필티오, 2-클로로프로필티오, 3-클로로프로필티오, 2,3-디클로로프로필티오, 2-브로모프로필티오, 3-브로모프로필티오, 3,3,3-트리플루오로프로필티오, 3,3,3-트리클로로프로필티오, SCH2-C2F5, SCF2-C2F5, 1-(CH2F)-2-플루오로에틸티오, 1-(CH2Cl)-2-클로로에틸티오, 1-(CH2Br)-2-브로모에틸티오, 4-플루오로부틸티오, 4-클로로부틸티오, 4-브롬부틸티오 또는 SCF2-CF2-C2F5, 바람직하게는 SCHF2, SCF3, 디클로로플루오로메틸티오, 클로로디플루오로메틸티오 또는 2,2,2-트리플루오로에틸티오;
- C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬: 상기 언급된 바와 같은 C1-C4-알콕시에 의해 치환된 C1-C4-알킬, 즉 예를 들어 CH2-OCH3, CH2-OC2H5, n-프로폭시메틸, CH2-OCH(CH3)2, n-부톡시메틸, (1-메틸프로폭시)메틸, (2-메틸프로폭시)메틸, CH2-OC(CH3) 3,2-(메톡시)에틸, 2-(에톡시)에틸, 2-(n-프로폭시)에틸, 2-(1-메틸에톡시)에틸, 2-(n-부톡시)에틸, 2-(1-메틸프로폭시)에틸, 2-(2-메틸프로폭시)에틸, 2-(1,1-디메틸에톡시)에틸, 2-(메톡시)프로필, 2-(에톡시)프로필, 2-(n-프로폭시)프로필, 2-(1-메틸에톡시)프로필, 2-(n-부톡시)프로필, 2-(1-메틸프로폭시)프로필, 2-(2-메틸프로폭시)프로필, 2-(1,1-디메틸에톡시)프로필, 3-(메톡시)프로필, 3-(에톡시)프로필, 3-(n-프로폭시)프로필, 3-(1-메틸에톡시)프로필, 3-(n-부톡시)프로필, 3-(1-메틸프로폭시)프로필, 3-(2-메틸프로폭시)프로필, 3-(1,1-디메틸에톡시)프로필, 2-(메톡시)부틸, 2-(에톡시)부틸, 2-(n-프로폭시)부틸, 2-(1-메틸에톡시)부틸, 2-(n-부톡시)부틸, 2-(1-메틸프로폭시)부틸, 2-(2-메틸프로폭시)부틸, 2-(1,1-디메틸에톡시)부틸, 3-(메톡시)부틸, 3-(에톡시)부틸, 3-(n-프로폭시)부틸, 3-(1-메틸에톡시)부틸, 3-(n-부톡시)부틸, 3-(1-메틸프로폭시)부틸, 3-(2-메틸프로폭시)부틸, 3-(1,1-디메틸에톡시)부틸, 4-(메톡시)부틸, 4-(에톡시)부틸, 4-(n-프로폭시)부틸, 4-(1-메틸에톡시)부틸, 4-(n-부톡시)부틸, 4-(1-메틸프로폭시)부틸, 4-(2-메틸프로폭시)부틸 또는 4-(1,1-디메틸에톡시)부틸, 바람직하게는 CH2-OCH3, CH2-OC2H5, 2-메톡시에틸 또는 2-에톡시에틸;
- C1-C4-알킬티오-C1-C4-알킬: 상기 언급된 C1-C4-알킬티오에 의해 치환된 C1-C4-알킬, 즉 예를 들어 CH2-SCH3, CH2-SC2H5, n-프로필티오메틸, CH2-SCH(CH3)2, n-부틸티오메틸, (1-메틸프로필티오)메틸, (2-메틸프로필티오)메틸, CH2-SC(CH3)3, 2-(메틸티오)에틸, 2-(에틸티오)-에틸, 2-(n-프로필티오)에틸, 2-(1-메틸에틸티오)에틸, 2-(n-부틸티오)에틸, 2-(1-메틸프로필티오)에틸, 2-(2-메틸프로필티오)에틸, 2-(1,1-디메틸에틸티오)에틸, 2-(메틸티오)프로필, 2-(에틸티오)프로필, 2-(n-프로필티오)프로필, 2-(1-메틸에틸티오)프로필, 2-(n-부틸티오)프로필, 2-(1-메틸프로필티오)프로필, 2-(2-메틸프로필티오)프로필, 2-(1,1-디메틸에틸티오)프로필, 3-(메틸티오)프로필, 3-(에틸티오)프로필, 3-(n-프로필티오)프로필, 3-(1-메틸에틸티오)프로필, 3-(n-부틸티오)프로필, 3-(1-메틸프로필티오)프로필, 3-(2-메틸프로필티오)프로필, 3-(1,1-디메틸에틸티오)프로필, 2-(메틸티오)부틸, 2-(에틸티오)부틸,2-(n-프로필티오)부틸, 2-(1-메틸에틸티오)부틸, 2-(n-부틸티오)부틸, 2-(1-메틸프로필티오)부틸, 2-(2-메틸프로필티오)부틸, 2-(1,1-디메틸에틸티오)부틸, 3-(메틸티오)부틸, 3-(에틸티오)부틸, 3-(n-프로필티오)부틸, 3-(1-메틸에틸티오)부틸, 3-(n-부틸티오)부틸, 3-(1-메틸프로필티오)부틸, 3-(2-메틸프로필티오)부틸, 3-(1,1-디메틸에틸티오)부틸, 4-(메틸티오)부틸, 4-(에틸티오)부틸, 4-(n-프로필티오)부틸, 4-(1-메틸에틸티오)부틸, 4-(n-부틸티오)-부틸, 4-(1-메틸프로필티오)부틸, 4-(2-메틸프로필티오)부틸 또는 4-(1,1-디메틸에틸티오)부틸, 바람직하게는 CH2-SCH3, CH2-SC2H5, 2-(SCH3)에틸 또는 2-(SC2H5)에틸;
- (C1-C4-알콕시)카르보닐-C1-C4-알킬: 상기 언급된 바와 같은 (C1-C4-알콕시)카르보닐에 의해 치환된 C1-C4-알킬, 즉 예를 들어 CH2-CO-OCH3, CH2-CO-OC2H5, n-프로폭시카르보닐메틸, CH2-CO-OCH(CH3)2, n-부톡시카르보닐메틸, CH2-CO-OCH(CH3)-C2H5, CH2-CO-OCH2-CH(CH3)2, CH2-CO-OC(CH3)3, 1-(메톡시카르보닐)에틸, 1-(에톡시카르보닐)에틸, 1-(n-프로폭시카르보닐)에틸, 1-(1-메틸에톡시카르보닐)에틸, 1-(n-부톡시카르보닐)에틸, 2-(메톡시카르보닐)에틸, 2-(에톡시카르보닐)에틸, 2-(n-프로폭시카르보닐)에틸, 2-(1-메틸에톡시카르보닐)에틸, 2-(n-부톡시카르보닐)에틸, 2-(1-메틸프로폭시카르보닐)에틸, 2-(2-메틸프로폭시카르보닐)에틸, 2-(1,1-디메틸에톡시카르보닐)에틸, 2-(메톡시카르보닐)프로필, 2-(에톡시카르보닐)프로필, 2-(n-프로폭시카르보닐)프로필, 2-(1-메틸에톡시카르보닐)프로필, 2-(n-부톡시카르보닐)프로필, 2-(1-메틸프로폭시카르보닐)프로필, 2-(2-메틸프로폭시카르보닐)프로필, 2-(1,1-디메틸에톡시카르보닐)프로필, 3-(메톡시카르보닐)-프로필, 3-(에톡시카르보닐)프로필, 3-(n-프로폭시카르보닐)프로필, 3-(1-메틸에톡시카르보닐)프로필, 3-(n-부톡시카르보닐)프로필, 3-(1-메틸프로폭시카르보닐)프로필, 3-(2-메틸프로폭시카르보닐)프로필, 3-(1,1-디메틸에톡시카르보닐)프로필, 2-(메톡시카르보닐)부틸, 2-(에톡시카르보닐)부틸, 2-(n-프로폭시카르보닐)부틸, 2-(1-메틸에톡시카르보닐)부틸, 2-(n-부톡시카르보닐)부틸, 2-(1-메틸프로폭시카르보닐)부틸, 2-(2-메틸프로폭시카르보닐)부틸, 2-(1,1-디메틸에톡시카르보닐)부틸, 3-(메톡시카르보닐)부틸, 3-(에톡시카르보닐)부틸, 3-(n-프로폭시카르보닐)부틸, 3-(1-메틸에톡시카르보닐)부틸, 3-(n-부톡시카르보닐)부틸, 3-(1-메틸프로폭시카르보닐)부틸, 3-(2-메틸프로폭시카르보닐)부틸, 3-(1,1-디메틸에톡시카르보닐)부틸, 4-(메톡시카르보닐)부틸, 4-(에톡시카르보닐)부틸, 4-(n-프로폭시카르보닐)부틸, 4-(1-메틸에톡시카르보닐)부틸, 4-(n-부톡시카르보닐)부틸, 4-(1-메틸프로폭시카르보닐)부틸, 4-(2-메틸프로폭시카르보닐)부틸 또는 4-(1,1-디메틸에톡시카르보닐)부틸, 바람직하게는 CH2-CO-OCH3, CH2-CO-OC2H5, 1-(메톡시카르보닐)에틸 또는 1-(에톡시카르보닐)에틸;
- C1-C4-알킬술피닐: SO-CH3, SO-C2H5, SO-CH2-C2H5, SO-CH(CH3)2, n-부틸술피닐, SO-CH(CH3)-C2H5, SO-CH2-CH(CH3)2또는 SO-C(CH3)3, 바람직하게는 SO-CH3또는 SO-C2H5;
- C1-C4-할로알킬술피닐: 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환된 상기 언급된 바와 같은 C1-C4-알킬술피닐 라디칼, 즉 예를 들어 SO-CH2F, SO-CHF2, SO-CF3, SO-CH2Cl, SO-CH(Cl)2, SO-C(Cl)3, 클로로플루오로메틸술피닐, 디클로로플루오로메틸술피닐, 클로로디플루오로메틸술피닐, 2-플루오로에틸술피닐, 2-클로로에틸술피닐, 2-브로모에틸술피닐, 2-요오도에틸술피닐, 2,2-디플루오로에틸술피닐, 2,2,2-트리플루오로에틸술피닐, 2-클로로-2-플루오로에틸술피닐, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸술피닐, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸술피닐, 2,2,2-트리클로로에틸술피닐, SO-C2F5, 2-플루오로프로필술피닐, 3-플루오로프로필술피닐, 2,2-디플루오로프로필술피닐, 2,3-디플루오로프로필술피닐, 2-클로로프로필술피닐, 3-클로로프로필술피닐, 2,3-디클로로프로필술피닐, 2-브로모프로필술피닐, 3-브로모프로필술피닐, 3,3,3-트리플루오로프로필술피닐, 3,3,3-트리클로로프로필술피닐, SO-CH2-C2F5, SO-CF2-C2F5, 1-(CH2F)-2-플루오로에틸술피닐, 1-(CH2Cl)-2-클로로에틸술피닐, 1-(CH2Br)-2-브로모에틸술피닐, 4-플루오로부틸술피닐, 4-클로로부틸술피닐, 4-브로모부틸술피닐 또는 노나플루오로부틸술피닐, 바람직하게는 SO-CF3, SO-CH2Cl 또는 2,2,2-트리플루오로에틸술피닐;
- C1-C4-알킬술포닐: SO2-CH3, SO2-C2H5, SO2-CH2-C2H5, SO2-CH(CH3)2, n-부틸술포닐, SO2-CH(CH3)-C2H5, SO2-CH2-CH(CH3)2또는 SO2-C(CH3)3, 바람직하게는 SO2-CH3또는 SO2-C2H5;
- C1-C4-할로알킬술포닐: 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환된 상기 언급한 바와 같은 C1-C4-알킬술포닐 라디칼, 즉 예를 들어 SO2-CH2F, SO2-CHF2, SO2-CF3, SO2-CH2Cl, SO2-CH(Cl)2, SO2-C(Cl)3, 클로로플루오로메틸술포닐, 디클로로플루오로메틸술포닐, 클로로디플루오로메틸술포닐, 2-플루오로에틸술포닐, 2-클로로에틸술포닐, 2-브로모에틸술포닐, 2-요오도에틸술포닐, 2,2-디플루오로에틸술포닐, 2,2,2-트리플루오로에틸술포닐, 2-클로로-2-플루오로에틸술포닐, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸술포닐, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸술포닐, 2,2,2-트리클로로에틸술포닐, SO2-C2F5, 2-플루오로프로필술포닐, 3-플루오로프로필술포닐, 2,2-디플루오로프로필술포닐, 2,3-디플루오로프로필술포닐, 2-클로로프로필술포닐, 3-클로로프로필술포닐, 2,3-디클로로프로필술포닐, 2-브로모프로필술포닐, 3-브로모프로필술포닐, 3,3,3-트리플루오로프로필술포닐, 3,3,3-트리클로로프로필술포닐, SO2-CH2-C2F5, SO2-CF2-C2F5, 1-(플루오로메틸)-2-플루오로에틸술포닐, 1-(클로로메틸)-2-클로로에틸술포닐, 1-(브로모메틸)-2-브로모에틸술포닐, 4-플루오로부틸술포닐, 4-클로로부틸술포닐, 4-브로모부틸술포닐 또는 노나플루오로부틸술포닐, 바람직하게는 SO2-CF3, SO2-CH2Cl 또는 2,2,2-트리플루오로에틸술포닐;
- C2-C6-알케닐: 에테닐, 프로프-1-엔-1-일, 알릴, 1-메틸에테닐, 1-부텐-1-일, 1-부텐-2-일, 1-부텐-3-일, 2-부텐-1-일, 1-메틸프로프-1-엔-1-일, 2-메틸프로프-1-엔-1-일, 1-메틸프로프-2-엔-1-일, 2-메틸프로프-2-엔-1-일, n-펜텐-1-일, n-펜텐-2-일, n-펜텐-3-일, n-펜텐-4-일, 1-메틸부트-1-엔-1-일, 2-메틸부트-1-엔-1-일, 3-메틸부트-1-엔-1-일, 1-메틸부트-2-엔-1-일, 2-메틸부트-2-엔-1-일, 3-메틸부트-2-엔-1-일, 1-메틸부트-3-엔-1-일, 2-메틸부트-3-엔-1-일, 3-메틸부트-3-엔-1-일, 1,1-디메틸프로프-2-엔-1-일, 1,2-디메틸프로프-1-엔-1-일, 1,2-디메틸프로프-2-엔-1-일, 1-에틸프로프-1-엔-2-일, 1-에틸프로프-2-엔-1-일, n-헥스-1-엔-1-일, n-헥스-2-엔-1-일, n-헥스-3-엔-1-일, n-헥스-4-엔-1-일, n-헥스-5-엔-1-일, 1-메틸펜트-1-엔-1-일, 2-메틸펜트-1-엔-1-일, 3-메틸펜트-1-엔-1-일, 4-메틸펜트-1-엔-1-일, 1-메틸펜트-2-엔-1-일, 2-메틸펜트-2-엔-1-일, 3-메틸펜트-2-엔-1-일, 4-메틸펜트-2-엔-1-일, 1-메틸펜트-3-엔-1-일, 2-메틸펜트-3-엔-1-일, 3-메틸펜트-3-엔-1-일, 4-메틸펜트-3-엔-1-일, 1-메틸펜트-4-엔-1-일, 2-메틸펜트-4-엔-1-일, 3-메틸펜트-4-엔-1-일, 4-메틸펜트-4-엔-1-일, 1,1-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,1-디메틸부트-3-엔-1-일, 1,2-디메틸부트-1-엔-1-일, 1,2-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,2-디메틸부트-3-엔-1-일, 1,3-디메틸부트-1-엔-1-일, 1,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,3-디메틸부트-3-엔-1-일, 2,2-디메틸부트-3-엔-1-일, 2,3-디메틸-부트-1-엔-1-일, 2,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 2,3-디메틸부트-3-엔-1-일, 3,3-디메틸부트-1-엔-1-일, 3,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 1-에틸-부트-1-엔-1-일, 1-에틸-부트-2-엔-1-일, 1-에틸부트-3-엔-1-일, 2-에틸-부트-1-엔-1-일, 2-에틸-부트-2-엔-1-일, 2-에틸-부트-3-엔-1-일, 1,1,2-트리메틸프로프-2-엔-1-일, 1-에틸-1-메틸프로프-2-엔-1-일,1-에틸-2-메틸프로프-1-엔-1-일 또는 1-에틸-2-메틸프로프-2-엔-1-일;
- C2-C6-할로알케닐: 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환된 상기 언급된 바와 같은 C2-C6-알케닐, 즉 예를 들어 2-클로로에테닐, 2-클로로알릴, 3-클로로알릴, 2,3-디클로로알릴, 3,3-디클로로알릴, 2,3,3-트리클로로알릴, 2,3-디클로로부트-2-에닐, 2-브로모알릴, 3-브로모알릴, 2,3-디브로모알릴, 3,3-디브로모알릴, 2,3,3-트리브로모알릴 또는 2,3-디브로모부트-2-에틸;
- C2-C6-알키닐: 에티닐, 프로프-1-인-1-일, 프로프-2-인-1-일, n-부트-1-인-1-일, n-부트-1-인-3-일, n-부트-1-인-4-일, n-부트-2-인-1-일, n-펜트-1-인-1-일, n-펜트-1-인-3-일, n-펜트-1-인-4-일, n-펜트-1-인-5-일, n-펜트-2-인-1-일, n-펜트-2-인-4-일, n-펜트-2-인-5-일, 3-메틸부트-1-인-3-일, 3-메틸부트-1-인-4-일, n-헥스-1-인-1-일, n-헥스-1-인-3-일, n-헥스-1-인-4-일, n-헥스-1-인-5-일, n-헥스-1-인-6-일, n-헥스-2-인-1-일, n-헥스-2-인-4-일, n-헥스-2-인-5-일, n-헥스-2-인-6-일, n-헥스-3-인-1-일, n-헥스-3-인-2-일, 3-메틸펜트-1-인-1-일, 3-메틸펜트-1-인-3-일, 3-메틸펜트-1-인-4-일, 3-메틸펜트-1-인-5-일, 4-메틸펜트-1-인-1-일, 4-메틸펜트-2-인-4-일 또는 4-메틸펜트-2-인-5-일, 바람직하게는 프로프-2-인-1-일;
- C3-C8-시클로알킬: 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 또는 시클로옥틸;
- C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬: 시클로프로필메틸, 1-시클로프로필에틸, 2-시클로프로필에틸, 1-시클로프로필프로프-1-일, 2-시클로프로필프로프-1-일, 3-시클로프로필프로프-1-일, 1-시클로프로필부트-1-일, 2-시클로프로필부트-1-일, 3-시클로프로필부트-1-일, 4-시클로프로필부트-1-일, 1-시클로프로필부트-2-일, 2-시클로프로필부트-2-일, 3-시클로프로필부트-2-일, 3-시클로프로필부트-2-일, 4-시클로프로필부트-2-일, 1-(시클로프로필메틸)에트-1-일, 1-(시클로프로필메틸)-1-(메틸)에트-1-일, 1-(시클로프로필메틸)프로프-1-일, 시클로부틸메틸, 1-시클로부틸에틸, 2-시클로부틸에틸, 1-시클로부틸프로프-1-일, 2-시클로부틸프로프-1-일, 3-시클로부틸프로프-1-일, 1-시클로부틸부트-1-일, 2-시클로부틸부트-1-일, 3-시클로부틸부트-1-일, 4-시클로부틸부트-1-일, 1-시클로부틸부트-2-일, 2-시클로부틸부트-2-일, 3-시클로부틸부트-2-일, 3-시클로부틸부트-2-일, 4-시클로부틸부트-2-일, 1-(시클로부틸메틸)에트-1-일, 1-(시클로부틸메틸)-1-(메틸)에트-1-일, 1-(시클로부틸메틸)프로프-1-일, 시클로펜틸메틸, 1-시클로펜틸에틸, 2-시클로펜틸에틸, 1-시클로펜틸프로프-1-일, 2-시클로펜틸프로프-1-일, 3-시클로펜틸프로프-1-일, 1-시클로펜틸부트-1-일, 2-시클로펜틸부트-1-일, 3-시클로펜틸부트-1-일, 4-시클로펜틸부트-1-일, 1-시클로펜틸부트-2-일, 2-시클로펜틸부트-2-일, 3-시클로펜틸부트-2-일, 3-시클로펜틸부트-2-일, 4-시클로펜틸부트-2-일, 1-(시클로펜틸메틸)에트-1-일, 1-(시클로펜틸메틸)-1-(메틸)-에트-1-일, 1-(시클로펜틸메틸)프로프-1-일, 시클로헥실메틸, 1-시클로헥실에틸, 2-시클로헥실에틸, 1-시클로헥실프로프-1-일, 2-시클로헥실프로프-1-일, 3-시클로헥실프로프-1-일, 1-시클로헥실부트-1-일, 2-시클로헥실부트-1-일, 3-시클로헥실부트-1-일, 4-시클로헥실부트-1-일, 1-시클로헥실부트-2-일, 2-시클로헥실부트-2-일, 3-시클로헥실부트-2-일, 3-시클로헥실부트-2-일, 4-시클로헥실부트-2-일, 1-(시클로헥실메틸)에트-1-일, 1-(시클로헥실메틸)-1-(메틸)에트-1-일, 1-(시클로헥실메틸)프로프-1-일, 시클로헵틸메틸, 1-시클로헵틸에틸, 2-시클로헵틸에틸, 1-시클로헵틸프로프-1-일, 2-시클로헵틸프로프-1-일, 3-시클로헵틸프로프-1-일, 1-시클로헵틸부트-1-일, 2-시클로헵틸부트-1-일, 3-시클로헵틸부트-1-일, 4-시클로헵틸부트-1-일, 1-시클로헵틸부트-2-일, 2-시클로헵틸부트-2-일, 3-시클로헵틸부트-2-일, 3-시클로헵틸부트-2-일, 4-시클로헵틸부트-2-일, 1-(시클로헵틸메틸)에트-1-일, 1-(시클로헵틸메틸)-1-(메틸)에트-1-일, 1-(시클로헵틸메틸)프로프-1-일, 시클로옥틸메틸, 1-시클로옥틸에틸, 2-시클로옥틸에틸, 1-시클로옥틸프로프-1-일, 2-시클로옥틸프로프-1-일, 3-시클로옥틸프로프-1-일, 1-시클로옥틸부트-1-일, 2-시클로옥틸부트-1-일, 3-시클로옥틸부트-1-일, 4-시클로옥틸부트-1-일, 1-시클로옥틸부트-2-일, 2-시클로옥틸부트-2-일, 3-시클로옥틸부트-2-일, 3-시클로옥틸부트-2-일, 4-시클로옥틸부트-2-일, 1-(시클로옥틸메틸)에트-1-일, 1-(시클로옥틸메틸)-1-(메틸)에트-1-일 또는 1-(시클로옥틸메틸)프로프-1-일, 바람직하게는 시클로프로필메틸, 시클로부틸메틸, 시클로펜틸메틸 또는 시클로헥실메틸.
4- 내지 7-원 헤테로시클릴은 포화된 방향족 헤테로고리와 부분적으로 또는 완전히 불포화된 방향족 헤테로고리 둘 다를 의미하는 것으로 이해하여야 하며, 상기 헤테로고리는 1, 2 또는 3개의 헤테로 원자를 가지며 여기서 헤테로 원자는 질소, 산소 및 황으로부터 선택된다.
포화된 헤테로고리의 예는 옥세탄-2-일, 옥세탄-3-일, 티에탄-2-일, 티에탄-3-일, 아제티딘-1-일, 아제티딘-2-일, 아제티딘-3-일, 테트라히드로푸란-2-일, 테트라히드로푸란-3-일, 테트라히드로티오펜-2-일, 테트라히드로티오펜-3-일, 피롤리딘-1-일, 피롤리딘-2-일, 피롤리딘-3-일, 1,3-디옥솔란-2-일, 1,3-디옥솔란-4-일, 1,3-옥사티올란-2-일, 1,3-옥사티올란-4-일, 1,3-옥사티올란-5-일, 1,3-옥사졸리딘-2-일, 1,3-옥사졸리딘-3-일, 1,3-옥사졸리딘-4-일, 1,3-옥사졸리딘-5-일, 1,2-옥사졸리딘-2-일, 1,2-옥사졸리딘-3-일, 1,2-옥사졸리딘-4-일, 1,2-옥사졸리딘-5-일, 1,3-디티올란-2-일, 1,3-디티올란-4-일, 피롤리딘-1-일, 피롤리딘-2-일, 피롤리딘-5-일, 테트라히드로피라졸-1-일, 테트라히드로피라졸-3-일, 테트라히드로피라졸-4-일, 테트라히드로피란-2-일, 테트라히드로피란-3-일, 테트라히드로피란-4-일, 테트라히드로티오피란-2-일, 테트라히드로티오피란-3-일, 테트라히드로피란-4-일, 피페리딘-1-일, 피페리딘-2-일, 피페리딘-3-일, 피페리딘-4-일, 1,3-디옥산-2-일, 1,3-디옥산-4-일, 1,3-디옥산-5-일, 1,4-디옥산-2-일, 1,3-옥사티안-2-일, 1,3-옥사티안-4-일, 1,3-옥사티안-5-일, 1,3-옥사티안-6-일, 1,4-옥사티안-2-일, 1,4-옥사티안-3-일, 모르폴린-2-일, 모르폴린-3-일, 모르폴린-4-일, 헥사히드로피리다진-1-일, 헥사히드로피리다진-3-일, 헥사히드로피리다진-4-일, 헥사히드로피리미딘-1-일, 헥사히드로피리미딘-2-일, 헥사히드로피리미딘-4-일, 헥사히드로피리미딘-5-일, 피페라진-1-일, 피페라진-2-일,피페라진-3-일, 헥사히드로-1,3,5-트리아진-1-일, 헥사히드로-1,3,5-트리아진-2-일, 옥세판-2-일, 옥세판-3-일, 옥세판-4-일, 티에판-2-일, 티에판-3-일, 티에판-4-일, 1,3-디옥세판-2-일, 1,3-디옥세판-4-일, 1,3-디옥세판-5-일, 1,3-디옥세판-6-일, 1,3-디티에판-2-일, 1,3-디티에판-2-일, 1,3-디티에판-2-일, 1,3-디티에판-2-일, 1,4-디옥세판-2-일, 1,4-디옥세판-7-일, 헥사히드로아제핀-1-일, 헥사히드로아제핀-2-일, 헥사히드로아제핀-3-일, 헥사히드로아제핀-4-일, 헥사히드로-1,3-디아제핀-1-일, 헥사히드로-1,3-디아제핀-2-일, 헥사히드로-1,3-디아제핀-4-일, 헥사히드로-1,4-디아제핀-1-일 및 헥사히드로-1,4-디아제핀-2-일이다.
불포화된 헤테로고리의 예는 디히드로푸란-2-일, 1,2-옥사졸린-3-일, 1,2-옥사졸린-5-일, 1,3-옥사졸린-2-일이다.
방향족 헤테로시클릴의 예는 5- 및 6-원 방향족 헤테로시클릭 라디칼, 푸릴 (예, 2-푸릴 및 3-푸릴), 티에틸 (예, 2-티에닐 및 3-티에닐), 피롤릴 (예, 2-피롤릴 및 3-피롤릴), 이속사졸릴 (예, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴 및 5-이속사졸릴), 이소티아졸릴 (예, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴 및 5-이소티아졸릴), 피라졸릴 (예, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴 및 5-피라졸릴), 옥사졸릴 (예, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴 및 5-옥사졸릴), 티아졸릴 (예, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴 및 5-티아졸릴), 이미다졸릴 (예, 2-이미다졸릴 및 4-이미다졸릴), 옥사디아졸릴 (예, 1,2,4-옥사디아졸-3-일, 1,2,4-옥사디아졸-5-일 및 1,3,4-옥사디아졸-2-일), 티아디아졸릴 (예, 1,2,4-티아디아졸-3-일, 1,2,4-티아디아졸-5-일 및 1,3,4-티아디아졸-2-일), 트리아졸릴 (예, 1,2,4-트라졸-1-일, 1,2,4-트리아졸-3-일 및 1,2,4-트리아졸-4-일),피리디닐 (예, 2-피리디닐, 3-피리디닐 및 4-피리디닐), 피리다지닐 (예, 3-피리다지닐 및 4-피리다지닐), 피리미디닐 (예, 2-피리미디닐, 4-피리미디닐 및 5-피리미디닐), 또한 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일 및 1,2,4-트리아진-3-일, 특히 피리딜, 피리미딜, 푸라닐 및 티에닐이다.
적합한 전이 금속 화합물은, 예를 들어 망간, 레늄, 철, 루테늄, 오스뮴, 코발트, 로듐, 이리듐, 니켈, 팔라듐, 백금, 구리, 은 또는 금의 화합물, 특히 구리, 망간, 팔라듐, 코발트 또는 니켈의 화합물이다. 상기 언급된 전이 금속의 화합물의 예는 그의 할로겐화물, 예를 들어 MnCl2, MnBr2, MnI2, ReCl3, ReBr3, ReI3, ReCl4, ReBr4, ReI4, ReCl5, ReBr5, ReCl6, FeCl2, FeBr2, FeI2, FeCl3, FeBr3, RuCl2, RuBr2, RuI2, RuCl3, RuBr3, RuI3, OsI, OsI2, OsCl3, OsBr3, OsI3, OsCl4, OsBr4, OSCl5, COCl2, CoBr2, CoI2, RhCl3, RhBr3, RhI3, IrCl3, IrBr3, IrI3, NiCl2, NiBr2, NiI2, PdCl2, PdBr2, PdI2, PtCl2, PtBr2, PtI2, PtCl3, PtBr3, PtI3, PtCl4, PtBr4, PtI4, CuCl, CuBr, CuI, CuCl2, CuBr2, AgCl, AgBr, AgI, AuCl, AuI, AuCl3, AuBr3, 및 그의 산화물 및 황화물, 예를 들어 Cu2S 및 Cu2O이다. 본 발명에 따른 방법에서, 반응 조건하에서 실제 촉매 활성인 전이 금속 화합물로 전환되는 경우에는 해당 전이 금속도 그 자체로 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 바람직한 실시태양에서, 사용한 전이 금속은 구리(II) 및(또는) 구리(I) 화합물, 특히 구리(I) 할로겐화물, 예를 들어 염화 구리(I), 브롬화구리(I) 또는 요오드화 구리(I)이다.
본 발명에 따른 방법에서, II를 I로 고리화시키는 것을 촉매작용하는 전이 금속 화합물 이외에, 해당 전이 금속에 대한 착리간드인 화합물인 조촉매를 사용할 수도 있다. 조촉매의 예는 포스핀, 예를 들어 트리페닐포스핀, 트리-o-톨릴포스핀, 트리-n-부틸포스핀, 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄, 1,3-비스(디페닐포스피노)프로판, 포스파이트, 예를 들어 트리메틸 포스파이트, 트리에틸 포스파이트 또는 트리이소프로필 포스파이트, 술피드, 예를 들어 디메틸 술피드, 및 또한 시아나이드 또는 일산화탄소이다. 바람직하다면, 조촉매는 일반적으로 전이 금속을 기준으로 하여 적어도 등몰량으로 사용된다.
또한, 전이 금속 화합물은 바람직하게는 1종 이상의 상기 언급된 조촉매를 리간드로 갖는 착화합물로 사용될 수 있다. 이러한 화합물의 예는 [NiCl2(PPh3)2], [Pd(PPh3)4], [PdCl2(PPh3)2], [PdCl2(dppe)], [PdCl2(dppp)], [PdCl2(dppb)], [CuBr(S(CH3)2)], [CuI(P(OC2H5)3)], [CuI(P(OCH3)3)], [CuCl(PPh3)3] 또는 [AuCl(P(OC2H5)3)]이다.
바람직하다면, 전이 금속 화합물은 또한 불활성 지지체,예를 들어 활성탄, 실리카 겔, 알루미나 상에, 또는 불용성 중합체, 예를 들어 스티렌/디비닐벤젠 공중합체 상에 부동화될 수 있다.
본 발명에 따른 방법에서, 전이 금속 화합물은 화합물 II를 기준으로 한 등몰량, 및 화학양론적 양 미만 또는 초과의 양 둘 다로 사용할 수 있다. 전이 금속대 사용한 화합물 II의 몰비는 통상 0.01:1 내지 5:1의 범위, 바람직하게는 0.02:1 내지 2:1의 범위 및 특히 0.05:1 내지 약 1:1.5의 범위이다. 바람직한 변수에서, 전이 금속 화합물의 등몰량, 즉 전이 금속 대 사용한 화합물 II의 몰비를 약 1:1로 사용한다. 그러나, 전이 금속 화합물을 특히 바람직하게는 촉매량, 즉 화학양론적양으로 사용한다. 전이 금속 대 사용한 화합물 II의 몰비는 1:1 미만이다. 이러한 변수에서, 전이 금속 대 사용한 화합물 II의 몰비는 특히 바람직하게는 0.05:1 내지 0.8:1의 범위, 예를 들어 0.1:1 내지 0.3:1의 범위이다.
본 발명에 따라, 상기 방법은 염기의 존재하에서 수행된다. 적합한 염기는 일반적으로 II에서 아미드기를 탈양자화시킬 수 있는 모든 염기성 화합물이다. 바람직한 것은 염기, 예를 들어 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속, 특히 리튬, 칼륨, 나트륨, 세슘 또는 칼슘의 알콕시드, 아미드, 수소화물, 수산화물, 중탄산염, 및 탄산염이다. 적합한 염기의 예는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올 및 tert-부탄올의 나트륨 또는 칼륨 알콕시드이고, 또한 수소화 나트륨 및 수소화 칼륨, 수소화 칼슘, 아미드화 나트륨, 아미드화 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 세슘, 중탄산 나트륨, 중탄산 칼륨, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 및 수산화 리튬이다. 본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시태양에서, 사용한 염기는 수소화 나트륨이다. 본 발명에 따른 방법의 또다른 실시태양에서, 특히 바람직하게는 사용한 염기가 탄산 칼륨 및(또는) 중탄산 칼륨이다. 염기는 화학양론적 양 미만, 초과 또는 등몰량으로 사용할 수 있다. 바람직한 것은 화합물 II를 기준으로 적어도 염기의 등몰량을 사용하는 것이다. 특히 염기 대 화합물 II의 몰비 (염기당량으로 계산)는 1:1 내지 1:5의 범위, 특히 바람직하게는 1:1 내지 1:1.5의 범위이다.
II의 I로의 전환은 바람직하게는 유기 용매 중에서 수행된다. 적합한 용매는 일반적으로 반응 조건하에서 불화성인 모든 유기 용매이다. 이들의 예는 탄화수소, 예를 들어 헥산 또는 톨루엔, 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 1,2-디클로로에탄 또는 클로로벤젠 에테르, 예를 들어 디옥산, 테트라히드로푸란 (THF), 메틸 tert-부틸 에테르, 디메톡시에탄, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 및 트리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 비양성자성 극성 용매, 예를 들어 유기 아미드, 예를 들어 디메틸 포름아미드 (DMF), N-메틸피롤리돈 (NMP), N,N-디메틸아세트아미드 (DMA), 디메틸 술폭시드 (DMSO), 유기 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴 또는 프로피오니트릴, 및 또한 3급 질소 염기, 예를 들어 피리딘이다. 물론, 언급한 용매의 혼합물을 사용할 수도 있다. 바람직한 것은 비양성자성 극성 용매, 예를 들어 DMSO, DMF, NMP, DMA, 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 피리딘, 디메톡시에탄, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 및 트리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 또는 이들의 혼합물이다.
그의 특성에 따라, 반응 온도는 해당 화합물 II의 반응성에 따른다. 일반적으로, 반응 온도는 실온 이상이다. II의 I로의 전환은 바람직하게 200 ℃ 미만의 온도에서 수행된다. 종종, 반응은 승온, 예를 들어 50 ℃ 초과, 특히 70 ℃ 초과 및 특히 바람직하게는 100 ℃ 초과에서 수행된다. 반응은 바람직하게는 180 ℃ 미만, 특히 160 ℃ 미만의 온도에서 수행된다.
표적 화합물 I을 얻기 위해 반응 생성물을 마무리처리하는 것은 이러한 목적에 대해 통상적인 방법에 의해 수행된다. 일반적으로, 혼합물을 추출에 의해 먼저 마무리처리하거나, 또는 사용한 용매를 통상의 방법, 예를 들어 증류에 의해 제거한다. 또한, 반응 혼합물을 물로 희석한 후 표적 화합물 I을 반응 혼합물로부터 휘발성 유기 용매 (일부는 다시 증류 제거됨)를 사용하여 추출할 수도 있다. 또한, 표적 화합물을 반응 혼합물로부터 물을 첨가함으로써 침전시킬 수도 있다. 이로써 I의 생성물을 함유하는 조 생성물을 얻는다. 추가의 정제를 위해, 통상의 방법, 예를 들어 결정화 또는 크로마토그래피 (예, 알루미나 또는 실리카 겔에 대한 크로마토그래피)를 사용할 수 있다. 마찬가지로, 광학적으로 활성인 흡착물에 대한 방법에 의해 얻을 수 있는 물질을 크로마토그래피하여 순수한 이성질체를 얻을 수 있다.
화학식 II에서 R3은 바람직하게는 수소가 아닌 라디칼이다. 본 발명에 따른 방법에서, 바람직한 것은 R1내지 R6은 서로 독립적으로, 그러나 바람직하게는 서로 조합되어 하기와 같은 의미를 가질 수 있는 화학식 II의 화합물을 사용하는 것이다:
R1은 수소 또는 C1-C4-알킬, 특히 메틸 또는 에틸이고;
R2는 시아노, 디플루오로메톡시, 트리플루오로메틸 또는 메틸술포닐이고;
R3은 할로겐이고;
R4는 할로겐이고;
R5는 플로오르, 염소 또는 시아노이고;
R6수소, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C2-C4-알케닐, C2-C4-할로알케닐, C2-C4-알키닐, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시카르보닐-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, 페닐-C1-C4-알킬, 4- 내지 7-원 헤테로시클릴 또는 헤테로시클릴-C1-C4-알킬이고, 여기서 페닐 고리, 시클로알킬 고리 및 헤테로시클릴 고리는
비치환되거나 또는 시아노, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬 및 C1-C4-알콕시로 구성된 군으로부터 선택된 1 또는 2개의 치환기를 가질 수 있다. R6의 바람직한 의미에 대한 예를 하기 표 1에 나타내었다.
이들 중, 특히 바람직한 것은 R1이 메틸인 화합물 II이다. R2는 특히 트리플루오로메틸, 특히 바람직하게는 디플루오로메톡시이다. R3은 특히 염소 또는 브롬이다. R4는 특히 플루오르 또는 염소이다. R5는 특히 염소이다. R6은 특히 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐 또는 페닐-C1-C4-알킬이다.
특히 바람직한 화학식 II의 화합물의 예는 R1이 CH3이고 R2가 OCHF2또는 CF3이고 R5가 Cl이고 R3, R4및 R6은 각 경우 표 1의 각 열에 상응하는 화학식 IIa 및 IIc의 화합물이다 (화합물 IIa.1-IIa.116, 화합물 IIb.1-IIb.116, 화합물 IIc.1-IIc.116 및 화합물 IId.1-IId.116).
화학식 II의 화합물은 신규하며 화학식 I의 벤족사졸의 제조에서 유용한 중간체이다. 따라서, 화합물 II도 마찬가지로 본 발명의 주제의 일부를 구성한다.
놀랍게도, 화합물 II는 화학식 III의 3-(피라졸-3-일)아닐린으로부터 출발하여 양호한 수율로 제조될 수 있다는 것을 알게 되었다.
<화학식 III>
화합물 III으로부터 화합물 II를 제조하는 방법은 제1 변형법에 따라 하기 단계를 포함한다:
i. 화학식 III의 3-(피라졸-3-일)아닐린을 할로겐화시켜 화학식 IV의 2-할로-3-(피라졸-3-일)아닐린을 얻는 단계,
ii. 3-할로-2-(피라졸-3-일)아닐린 IV를 화학식 R6-C(O)-Y (식 중, Y는 이탈기임)의 아실화제와 반응시켜 화학식 II의 아닐리드 및(또는) 화학식 V의 디아실 화합물을 얻는 단계,
iii. 적절하다면, 화학식 V를 부분적으로 가용매분해시켜 화학식 II의 아닐리드를 얻는 단계.
상기 화학식 III, IV 및 V에서, R1내지 R6및 X는 상기 정의된 바와 같다. 이들 변수들의 바람직한 의미 및 특히 바람직한 의미는 상기 화합물 II에 대해 언급된 것을 적용한다. 이 변형법은 특히 R3이 수소가 아닐 경우 사용된다.
화학식 IV의 3-할로-2-(피라졸-3-일)아닐린 및 화학식 V의 N,N-디아실-3-할로-2-(피라졸-3-일)아닐린은 마찬가지로 신규하며 I을 II로부터 제조하는 것에서 유용한 중간체이다. 또한, 화합물 II, IV 및 V는 놀랍게도 할로겐 원자 X 대신 수소 원자를 함유하는 종래 기술의 화합물의 제초 활성보다 우수하며 유용한 제초 활성을 갖는다. 이들 화합물에서, 상기에서 R1내지 R6및 X에 대해 언급한 것을 적용한다.
따라서, 화학식 IV 및 V의 화합물 중, 특히 바람직한 것은 R1이 메틸이고 R2가 디플루오로메톡시 또는 트리플루오로메틸이고 R5가 염소인 화합물 (화합물 IVa 및 Va (R2=OCHF2및 X=Br), 화합물 IVb 및 Vb (R2=OCHF2및 X=요오드), 화합물 IVc및 Vc (R2=CF3및 X=Br), 화합물 IVd 및 Vd (R2=CF3및 X=요오드)이다.
화학식 IVa 내지 IVd의 바람직한 화합물의 예는 R3, R4및 X가 표 2의 각 열에 기재된 의미를 갖는 화합물이다 (화합물 IVa.1-IVa.8, IVb.1-IVb.8, IVc.1-IVc.8, IVd.1-IVd.8).
특히 화학식 Va (여기서 R=OCHF2및 X=Br)의 바람직한 화합물은 R3, R4및 R6이 각 경우 표 1의 한 열에 기재된 의미를 갖는 화합물이다 (화합물 Va.1-Va.116). 화학식 Vb(R2=OCHF2및 X = 요오드)의 바람직한 화합물의 예는 R3, R4및 R6이 각 경우 표 1의 한 열에 기재된 의미를 갖는 화합물이다 (화합물 Vb.1-Vb.116). 화학식 Vc (R2=CF3및 X=Br)의 바람직한 화합물은 R3, R4및 R6이 각 경우 표 1의 한 열에 기재된 의미를 갖는 화합물이다 (화합물 Vc.1-Vc.116). 화학식 Vd (R2=CF3및 X=요오드)의 바람직한 예는 R3, R4및 R6이 각 경우 표 1의 한 열에 기재된 의미를 갖는 화합물이다 (화합물 Vd.1-Vd.116)이다.
화학식 III의 화합물을 화학식 IV의 2-할로-3-(피라졸-3-일)아닐린으로 전환시키기 위한 (단계 i) 적합한 할로겐화제는, 브롬, 염소와 브롬의 혼합물, 염화 브롬, 요오드, 요오드와 염소의 혼합물, 염화 요오드, N-할로숙신이미드, 예를 들어N-브로모숙신이미드 및 N-요오도숙신이미드, 아할로겐산 (hypohalic acid), 예를 들어 차아브롬산, 및 또한 디브로모이소시아누르산 및 브롬/디옥산 착화합물이다. 할로겐화제는 일반적으로 III을 기준으로 등몰량 또는 몰량보다 과량으로, 바람직하게는 대략 화학양론적으로 필요한 양으로 사용된다. 몰량보다 과량은 III의 양의 5배 이하일 수 있다. 상기 언급된 할로겐화 중, 바람직한 것은 브롬화제 및 요오드화제이고, 본 발명의 바람직한 실시태양에서는 원소 브롬을 사용한다.
적절할 경우, 촉매량 또는 화학양론적 양의 루이스 산성 촉매 또는 브뢴스테드 산성 촉매, 예를 들어 염화 알루미늄 또는 브롬화 알루미늄, 염화 철(III) 또는 브롬화 철(III), 또는 황산, 또는 반응 동안 형성된 실제 촉매로부터의 촉매 전구체, 예를 들어 철을 첨가하여 반응 i)을 가속화시킬 수 있다. 화합물 IV을 요오다이드 (X = 요오드)로 제조한다면, 촉매로서 질산, 요오드산, 삼산화황, 과산화 수소 또는 염화 알루미늄/염화 구리(II) 착화합물도 첨가할 수 있다.
반응 i)의 또다른 변형법에서, 목적하는 할로겐이 산화제의 첨가에 의해 배출되는 할로겐으로부터의 할로겐화물 염의 형태로 사용된다. 이러한 "할로겐화제"의 예는 염화 나트륨 또는 브롬화 나트륨의 과산화 수소와의 혼합물이다.
할로겐화는 보통 불활성 용매, 예를 들어 탄화수소 (예, 헥산), 할로겐화 탄화 수소 (예, 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 1,2-디클로로에탄 또는 클로로벤젠), 고리형 에테르 (예, 디옥산), 카르복시산 (예, 아세트산, 프로피온산 또는 부탄산), 무기산 (예, 염산 또는 황산), 또는 물 중에서 수행된다. 물론, 상기 언급된 용매의 혼합물을 사용할 수도 있다.
적절하다면, 반응은 염기, 예를 들어 알칼리 금속 수산화물 (예, KOH), 또는 카르복시산의 알칼리 금속염 (예, 아세트산 나트륨 또는 프로피온산 나트륨)의 존재하에서 수행된다.
일반적으로, 반응 온도는 해당 용매의 융점 및 비점에 의해 결정된다. 반응은 바람직하게는 0 내지 100 ℃의 범위, 특히 0 내지 80 ℃의 범위의 온도에서 수행된다.
단계 ii)에서, 반응 i)에서 얻어진 화학식 IV의 2-할로-3-(피라졸-3-일)아닐린은 아실화제 R6-C(O)-Y와 반응된다. 여기서, R6은 상기 언급된 의미를 갖는다. Y는 통상의 이탈기이다.
아실화제의 예는 카르복시산 (Y = OH), 카르복시산 에스테르, 예를 들어 C1-C4-알킬 에스테르 (Y=C1-C4-알킬, 특히 메틸 또는 에틸), 비닐 에스테르 (Y=CH=CH2), 2-프로페닐 에스테르 (Y=C(CH3)=CH2), 산 무수물 (Y=O-C(O)-R6), 아실 할로겐화물, 특히 아실 클로라이드 (Y=할로겐, 특히 염소), 무수물 R6-C(O)-O-C(O)-R6과 카르복시산과의 혼합물, 예를 들어 포름산, 및 또한 혼합된 무수물 (Y=O-C(O)-R' (식 중, R'=H 또는, 예를 들어 C1-C6-알킬), 예를 들어 피발산과 혼합된 무수물 (R'=tert-부틸) 또는 포름산과 혼합된 무수물 (화학식 H-C(O)-O-C(O)-R6의 화합물)이다.
아실화제는 바람직하게는 화합물 IV 1 mol을 기준으로 1.0 내지 5 mol, 특히1.0 내지 2.0 mol의 양으로 사용된다.
적절하다면, 촉매량 또는 화학양론적 양의 산성 또는 염기성 촉매는 IV의 아실화 동안 첨가된다. 촉매는 바람직하게는 화합물 IV 1 mol을 기준으로 0.001 내지 5 mol의 양, 특히 0.01 내지 1.2 mol의 양으로 사용된다.
염기성 촉매의 예는 질소 염기, 예를 들어 트리알킬 아민 (예, 트리에틸 아민), 피리딘 화합물 (예, 피리딘 그 자체 또는 디메틸아미노피리딘), 또한 옥소 염기 (예, 탄산 나트륨 또는 탄산 칼륨) 또는 나트륨, 칼륨 또는 칼슘의 수산화물이다.
산성 촉매의 예는 특히 무기산, 예를 들어 황산이다.
아실화는 보통 용매 중에서 수행된다. 적합한 용매는 적절하다면 액체 아실화제 그 자체, 또는 적절하다면 액체 촉매이다. 적합한 용매는 또한 불활성 유기 용매, 예를 들어 탄화수소 (예, 헥산 또는 톨루엔), 할로겐화 탄화수소 (예, 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 1,2-디클로로에탄 또는 클로로벤젠), 또한 에테르 (예, 디옥산, 테트라히드로푸란, 메틸 tert-부틸 에테르 또는 디메톡시에탄)이다.
상기 공정 단계의 바람직한 실시태양에 있어서, IV의 반응은 진한 황산의 존재하에서 액체 무수물 중에서 수행된다. 또다른 실시태양에서, 반응은 물 및 수불혼화성 유기 용매의 2-상 시스템 중에서 수행된다. 이러한 실시태양은 특히 고체 아칠화제, 예를 들어 고체 아실 클로라이드를 사용하는 경우에 특히 적합하다. 이러한 경우, 사용한 촉매는 종종 염기성 촉매, 특히 무기 염기이다.
이러한 공정 단계의 또다른 바람직한 실시태양에서, IV와 무수물 (R6-CO)2O 또는 R6-CO-O-CHO 또는 카르복시산 R6-COOH와의 반응은 불활성 용매중 진한 황산의 존재하에서 수행된다. 일반적으로, 이러한 변형법에서는 적은 양의 아실화제, 예를 들어 화합물 IV 1 몰당 1 내지 1.5 mol을 필요로 한다. 이러한 변형법에서는, 모노-N-아실 화합물 II는 놀랍게도 어떠한 유의량의 N,N-디아실 화합물 V가 형성되지 않으면서 양호한 수율 및 높은 선택성으로 얻어진다.
IV의 아실화에서, 아닐리드 II 이외에 화학식 V의 디아실 화합물도 또한 종종 형성된다. 반응을 어떻게 수행하는가에 따라, 상기는 유일한 반응 생성물로 얻어질 수도 있다. 이러한 경우, 적절하다면 화합물 II와의 혼합물 중 디아실 화합물 V는 부분적으로 가용매분해된다. 여기서, 화합물 V는 화합물 II 및 카르복시산 R6-COOH, 그의 염 또는 유도체, 예를 들어 에스테르 R6-COOR' (예를 들어 R' = C1-C4-알킬)로 절단된다.
적합한 가용매분해제는, 예를 들어 물 또는 알코올, 예를 들어 C1-C4-알카놀 (예, 메탄올, 에탄올 또는 이소프로판올), 또는 이들 알코올의 물과의 혼합물이다.
V의 부분적 가용매분해는 바람직하게는 산성 또는 염기성 촉매의 존재하에서 수행된다. 염기성 촉매의 예는 알칼리 금속 수산화물, 예를 들어 수산화 나트륨 또는 수산화 칼륨, 또는 C1-C4-알카놀의 알콕시드, 특히 메톡시화 나트륨 또는 메톡시화 칼륨, 또는 에톡시화 나트륨 또는 에톡시화 칼륨이다. 산성 촉매의 예는 무기산, 예를 들어 염산 또는 황산이다.
보통, 가용매분해 촉매는 화합물 V 1 몰당 0.1 내지 5 mol의 양으로 사용된다. 상기 공정 단계의 바람직한 변형법에서, 촉매는 화합물 V 1 몰당 0.5 mol 이상의 양으로, 특히 대략 등몰량 또는 과잉몰량으로, 바람직하게는 화합물 V를 기준으로 2 mol 이하로 사용된다.
바람직한 가용매분해제는 C1-C4-알카놀이다. 바람직한 촉매는 알칼리 금속 수산화물 또는 알칼리 금속 C1-C4-알콕시드, 예를 들어 수산화 나트륨, 메톡시화 나트륨 및 에톡시화 나트륨이다.
보통, 부분적인 가용매화분해는 용매 중에서 수행된다. 적합한 용매는, 특히 가용매분해제 그 자체, 예를 들어 C1-C4-알카놀, 또는 상기 가용매분해제와 불활성 용매와의 혼합물이다. 불활성 용매의 예는 상기 언급된 용매들이다.
본 발명의 바람직한 실시태양에서, V를 가용매분해시켜 II를 얻는 것을 C1-C4-알카놀 중에서 상응하는 알콕시드, 바람직하게는 메톡시화 나트륨 및 에톡시화 나트륨을 각각 사용한 메탄올 또는 에탄올의 존재하에서 수행된다.
가용매분해 온도는 종종 0 ℃ 초과이고, 일반적으로는 용매의 비점에 의해서만 제한을 받는다. 바람직하게는, 반응 온도는 0 내지 100 ℃의 범위, 특히 20 내지 80 ℃의 범위이다.
단계 i), ii) 및 iii) 중에서 얻어진 생성물 IV, V 및 II는 이러한 목적에 통상적인 마무리처리 방법에 의해 단리될 수 있다. 적절하다면, 반응 ii)의 반응 생성물을 더 마무리처리하지 않고 다음 단계 iii)에서 사용할 수 있다. 종종, 반응 ii) 또는 iii)에서 얻어지는 화합물 II의 조생성물은 벤족사졸 I의 고리화 전에 결정화 및(또는) 크로마토그래피에 의해 정제된다.
본 발명에 따른 방법에서 출발 물질로 사용되는 화학식 III의 3-(피라졸-3-일)아닐린은 종래 기술, 예를 들어 WO 제98/27090호, WO 제99/55702호, WO 제92/06962호, WO 제92/02509호, WO 제96/15115호 또는 US 제5,032,165호에 공지되어 있거나, 또는 이들은 공지된 방법과 유사한 방법에 의해 제조될 수 있다. 일부에서 화학식 III의 화합물은 WO 제92/06962호, WO 제92/02509호 또는 US 제5,032,165호에 기재된 방법에 의해, 화학식 VI의 페닐-치환된 피라졸로부터 출발하여 연속적인 니트로화 및 형성된 니트로기의 수소화에 의해 제조될 수 있다.
3-(피라졸-3-일)벤젠 VI의 니트로화는 온화한 반응으로 상응하는 화학식 VII의 3-(피라졸-3-일)-1-니트로벤젠을 제공한다.
상기 식에서, R1내지 R5는 상기 정의된 바와 같다.
놀랍게도, 상기 반응이 일어날 때 VI의 피라졸 고리가, R3이 수소인 경우에도 임의의 유의한 범위로 니트로화되지 않는다. R3이 수소인 임의의 화학식 VI의 화합물은 하기에서 화합물 VI-A로도 나타낸다. 이는 화합물 VI에 상응하게 적용된다.
VI의 니트로화는 방향족 화합물의 니트로화에 대해 종래 기술, 및 또한 WO 제92/06962호, WO 제92/02509호 또는 US 제5,032,165호에 기재된 것과 같은 통상의 니트로화제를 사용해 수행될 수 있다. 적합한 시약은 진한 질산 및 발연 질산을 포함하는 상이한 농도의 질산, 진한 황산과 질산 (니트로화산 (nitrating acid))의 혼합물, 및 또한 아실 니트레이트 및 알킬 니트레이트이다.
니트로화는 용매의 부재하에서 과량의 니트로화제 또는 불활성 용매 또는 희석제 중에서 수행될 수 있고, 여기서 적합한 불활성 용매 또는 희석제는 예를 들어 물, 무기산, 유기산, 할로겐화 탄화수소 (예, 염화메틸렌), 무수물 (예, 아세트산 무수물), 및 이들 용매의 혼합물이다.
시약에 따라, 출발 물질 VI 또는 VI-A 및 니트로화제는 대략 등몰량으로 사용될 수 있다. 그러나, 출발 물질의 전환을 극대화시키기 위해서는 과량, 예를 들어 VI를 기준으로 약 20 배 이하의 몰량의 니트로화제를 사용하는 것이 유리할 수 있다. 반응이 용매의 부재하에서 니트로화제, 예를 들어 니트로화산 중에서 수행될 경우, 니트로화제는 더욱 과량으로 존재한다.
반응 온도는 보통 -100 ℃ 내지 200 ℃, 바람직하게는 -30 내지 50 ℃이다.
바람직한 니트로화제는 니트로화산, 즉 진한 황산과 진한, 바람직하게는 100 % 농도의 질산의 혼합물이다. 니트로화를 위해, 화합물 VI 또는 VI-A는 바람직하게는 황산 중에 용해되거나 현탁되고, 이어서 질산이 바람직하게는 온도 제어 하에서 첨가된다. 이어서, 반응은 -30 내지 50 ℃의 범위, 바람직하게는 -20 내지 +30 ℃의 범위의 온도에서 수행된다. 반응 지속 시간은 일반적으로 0.5 내지 5 시간이다.
니트로화된 화합물 VII 또는 VII-A (R3=H인 화합물 VII)는 반응 혼합물로부터 통상의 방법, 예를 들어 반응 혼합물을 물 및(또는) 얼음에 부운 후 얻어진 반응 생성물을 여과 또는 추출함으로써 단리된다. 적절하다면, 수성상은 중화제, 예를 들어 알칼리 금속 수산화물, 카르보네이트 또는 비카르보네이트를 사용하여 반응 혼합물을 단리하기 전에 중화시킨다. 필요한 경우, 그 후 반응 생성물을 재결정화시킬 수 있다.
얻어진 니트로 화합물 VII 또는 VII-A의 화학식 III의 3-(피라졸-3-일)아닐린으로의 환원은, 방향족 니트로 화합물의 상응하는 아닐린으로의 환원에 대해 종래 기술 (예를 들어, 문헌 [J. March, Advanced Organic Chemistry, 3rded., J. Wiley & Sons, New York, 1985, p. 1183] 및 상기 문헌에 인용된 문헌 참조) 및 또한 이 거명에 의해 본원에 명백히 포함되는 EP-A 제361114호, WO 제92/06962호, WO 제92/02509호 또는 US 제5,032,165호에 기재된 바와 같은 방향족 니트로기를 위한 통상의 환원제를 사용해 수행된다.
환원은, 예를 들어 니트로 화합물 VII를 산성 반응 조건하에서, 즉 발생기 수소 하에서 철, 아연 또는 주석과 같은 금속 또는 리튬 알루미늄 히드리드 또는 나트륨 보로히드리드와 같은 착히드리드와 함께, 바람직하게는 니켈 또는 코발트의 전이 금속 화합물, 예를 들어 NiCl2(P(페닐)3)2, 또는 CoCl2(문헌 [Ono et al. Chem. Ind. (London), 1983 p. 480] 참조), 또는 NaBH2S3(문헌 [Lalancette et al. Can. J. Chem. 49, 1971, p. 2990] 참조)의 존재하에서 수행되는데, 여기서 사용한 시약에 따라 환원 반응들은 그대로, 또는 용매 또는 희석제 중에서 수행될 수 있다. 환원제에 따라 적합한 용매는 예를 들어 알코올 (예, 메탄올, 에탄올, n- 및 이소프로판올, n-, 2-, 이소- 및 tert-부탄올), 또한 탄화수소 (예, 헥산 또는 톨루엔), 할로겐화 탄화수소 (예, 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 1,2-디클로로에탄 또는 클로로벤젠), 또한 에테르 (예, 디옥산, 테트라히드로푸란, 메틸 tert-부틸 에테르 또는 디메톡시에탄), 및 또한 지방족 카르복시산 및 상기 언급된 C1-C4-알코올과의 에스테르 (예, 아세트산 또는 프로피온산), 또는 상기 언급된 용매이다.
금속을 이용한 환원의 경우, 반응은 바람직하게는 용매의 부재하 무기산 중에서, 특히 진한 염산 또는 희석된 염산 중에서, 또는 아세트산 또는 프로피온산과 같은 액체 유기산 중에서 수행된다. 그러나, 산은 또한 상기 언급된 것 중의 하나와 같은 불활성 용매로 희석될 수도 있다. 착할로겐화물을 이용한 환원은 바람직하게는 에테르 또는 알코올과 같은 용매 중에서 수행된다.
종종, VII의 III으로의 환원은 전이 금속 촉매의 존재하에서 수소를 이용해, 예를 들어 백금, 팔라듐, 니켈, 루테늄 또는 로듐 기재 촉매의 존재하에서 수소를 이용해 수행된다. 촉매는 전이 금속을 원소 형태 또는 착화합물 형태, 전이 금속의 염 또는 산화물 형태로 함유할 수 있고, 여기서 활성을 변형시키기 위해 통상의 코리간드 (coligand), 예를 들어 유기 포스핀 화합물 (예, 트리페닐포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리-n-부틸포스핀 또는 포스파이트)을 사용할 수 있다. 촉매는 보통 화합물 VII 1 몰당 0.001 내지 1 mol의 양 (촉매 금속으로 계산)으로 사용된다.
촉매는 담지형 또는 비담지형으로 사용될 수 있다. 적합한 담지체는 예를 들어 활성탄, 탄산 칼슘, 황산 칼슘, 황산바륨, 실리카 겔, 알루미나, 알루모실리케이트 (alumosilicate), 제올라이트 또는 유기 중합체, 예를 들어 N-비닐락탐 기재 팝콘 중합체 또는 촉매 금속의 결합에 적합한 관능기를 갖는 폴리스티렌이다. 적합한 촉매는 특히 미분된 니켈, 예를 들어 라니 니켈의 형태이다.
VII의 III으로의 전환은 종종 불활성 유기 용매 중 전이 금속 촉매의 존재하에서 수소를 이용하여 수행된다. 적합한 용매는 주로 상기 언급된 모든 용매이다. 바람직한 용매는 특히 사용한 촉매가 미분된 니켈일 경우 상기 언급된 알코올 및그의 에테르 또는 에스테르와의 혼합물이다.
환원에 필요한 수소 압력은 광범위로 변화될 수 있고, 일반적으로는 대기압 내지 50 bar 이하, 바람직하게는 10 bar 이하, 및 특히 3 bar 이하의 초대기압의 범위이다. 물론, 반응은 또한 대기압 미만의 수소 부분 압력, 예를 들어 0.2 내지 1 bar 범위에서 수행될 수도 있다.
반응에 필요한 온도는 광범위로 변화될 수 있고, 촉매의 반응성 및 선택한 수소 부분 압력에 따라 보통 0 내지 150 ℃의 범위, 바람직하게는 10 내지 100 ℃의 범위이고, 더 낮은 온도 및 더 높은 온도 모두에서 반응을 수행하는 것도 가능하다.
X 및 R3이 브롬 또는 요오드인 화합물 III을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법의 특정 실시태양에서, 화학식 VI-A의 3-(피라졸-3-일)벤젠을 출발 물질로 직접 사용한다.
제1 단계 a)에서, 이들 화합물들을 니트로화제와 반응시켜 3-(피라졸-3-일)-1-니트로벤젠 VII-A를 얻는다.
이어서, 단계 b)에서 화합물 VII-A를 환원제와 반응시켜 화학식 III-A의 3-(피라졸-3-일)아닐린 (R3=H인 화합물 III)을 얻는다. 이어서, 화합물 III-A를 상기 기재된 방법으로 직접 브롬화시켜 R3및 X 둘 다가 브롬인 화합물 IV (화합물 IV-Br2)를 얻거나, 또는 이들을 요오드화시켜 R3및 X 둘 다가 요오드인 화합물 IV-I2를 얻을 수 있다.
이어서, 단계 ii 및 적절하다면 단계 iii을 상기 기재된 방법으로 수행한다.
III-A의 IV로의 할로겐화는 III의 IV로의 할로겐화와 유사하게 상기 기재된 방법으로 수행된다. III의 IV로의 할로겐화와는 달리, 완전한 전환을 달성하기 위해 할로겐화제는 바람직하게는 III-A를 기준으로 약 2 당량 이상의 양, 예를 들어 1:1.9 내지 1:2.5의 몰비로 사용하며, 할로겐화제보다 훨씬 과량으로도 사용할 수 있다. III-A의 IV-Br2또는 IV-I2로의 전환을 위해, 바람직한 할로겐화제는 원소 할로겐, 바람직하게는 브롬이다. 이어서, 반응은 아세트산, 프로피온산 또는 부탄산과 같은 카르복시산 중에서, 또는 염산 또는 황산과 같은 무기산 중에서, 이들 산의 혼합물 중에서, 물 중에서, 또는 이들 산 중 1종 이상과 물과의 혼합물 중에서 수행된다. 반응에 필요한 온도는 간단한 통상의 실험에서 당업자에 의해 결정될 수 있고, 이는 바람직하게는 -10 ℃ 내지 120 ℃, 특히 10 ℃ 내지 60 ℃의 범위이다.
화학식 II, IV 및 V의 화합물 및 그의 농업적으로 유용한 염은 놀랍게도 (이성질체 혼합물 및 순수한 이성질체의 형태 둘 다) 제초제로 사용하는데 적합하다.
적합한 농업적으로 유용한 염은 특히 상기 양이온의 염, 또는 그의 양이온 및 음이온이 각각 화합물 II, IV 및 V의 제초 작용에 대해 어떠한 악영향도 미치지 않는 상기 산의 산 부가 염이다. 따라서, 적합한 양이온은 특히 알칼리 금속 (바람직하게는 나트륨 및 칼륨)의 이온, 알칼리 토 금속 (바람직하게는 칼슘, 마그네슘 및 바륨)의 이온, 전이 금속 (바람직하게는 망간, 구리, 아연 및 철)의 이온, 및 또한 바람직하다면 1 내지 4개의 C1-C4-알킬 치환기 및(또는) 1개의 페닐 또는 벤질 치환기를 가질 수 있는 암모늄 이온 (바람직하게는 디이소프로필암모늄, 테트라메틸암모늄, 테트라부틸암모늄, 트리메틸벤질암모늄), 또한 포스포늄 이온, 술포늄 이온 (바람직하게는 트리(C1-C4-알킬)술포늄) 및 술폭소늄 이온 (바람직하게는 트리 (C1-C4-알킬)술폭소늄)이다.
유용한 산 부가 염의 음이온은 주로 클로라이드, 브로마이드, 플루오라이드, 수소 술페이트, 술페이트, 이수소 포스페이트, 수소 포스페이트, 포스페이트, 니트레이트, 수소 카르보네이트, 카르보네이트, 헥사플루오로실리케이트, 헥사플루오로포스페이트, 벤조에이트, 및 C1-C4-알카논산의 음이온, 바람직하게는 포르메이트, 아세테이트, 프로피오네이트 및 부티레이트이다. 이들은 I을 상응하는 음이온의산, 바람직하게는 염산, 브롬화 수소산, 황산, 인산 또는 질산과 반응시킴으로써 형성될 수 있다.
화합물 II, IV 및 V의 제초 활성의 면에서, 변수 X 및 R1내지 R6(단독 또는 조합물)은 바람직하게는 하기 정의된 바와 같다:
R1은 수소 또는 C1-C4-알킬, 특히 메틸 또는 에틸이고;
R2는 시아노, 디플루오로메톡시, 트리플루오로메틸 또는 메틸술포닐이고;
R3은 할로겐이고;
R4는 할로겐이고;
R5는 플루오르, 염소 또는 시아노이고;
X는 브롬이고;
R6은 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C2-C4-알케닐, C2-C4-할로알케닐, C2-C4-알키닐, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시카르보닐-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, 페닐-C1-C4-알킬, 4- 내지 7-원 헤테로시클릴 또는 헤테로시클릴-C1-C4-알킬이고, 여기서 각 페닐 고리, 시클로알킬 고리 및 헤테로시클릴 고리는 비치환되거나 또는 시아노, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬 및 C1-C4-알콕시로 구성된 군으로부터 선택되는 1 또는 2개의 치환기를 가질 수 있다. R6의 바람직한 의미의 예는 표 1에 기재되어 있다.
이들 중, 특히 바람직한 것은 R1이 메틸인 화합물 II, IV 및 V이다. R2는 특히 트리플루오로메틸 및 특히 바람직하게는 디플루오로메톡시이다. R3은 특히 염소 또는 브롬이다. R4는 특히 플루오르 또는 염소이다. R5는 특히 염소이다. R6은 특히 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐 또는 페닐-C1-C4-알킬이다. X는 특히 브롬이다.
화합물 II, IV 또는 V 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하는 제초성 조성물 및(또는) 그의 농업적으로 상용가능한 염은 농작물이 없는 지역에서 특히 높은 사용율에서 식생을 제어한다. 이들은 밀, 벼, 옥수수, 콩 및 목화와 같은 농작물에 대해서는 농작물 식물에 어떠한 유의한 피해도 야기하지 않으면서 활엽 잡초 및 잔디 잡초에 대해 작용한다. 이러한 효과는 낮은 사용률에서 주로 관찰된다.
해당 사용 방법에 따라, 화합물 II, IV 또는 V, 또는 이들 화합물의 혼합물, 또는 그의 농업적으로 상용가능한 염, 또는 이들을 포함하는 조성물이 또다른 많은 농작물 식물에서 원치않는 식물들을 제거하기 위해 추가적으로 사용될 수 있다. 적합한 농작물의 예는 양파 (Allium cepa), 파인애플 (Ananas comosus), 땅콩 (Arachis hypogaea), 아스파라거스 (Asparagus officinalis), 사탕무 알티시마종(Beta vulgaris spec. altissima), 사탕무 라파종 (Beta vulgaris spec. rapa), 유채 변종 나푸스 (Brassica napus var. napus), 유채 변종 나포브라씨카 (Brassica napus var. napobrassica), 브라씨카 라파 변종 실베스트리스 (Brassica rapa var. silvestris), 차나무 (Camellia sinensis), 잇꽃 (Carthamus tinctorius), 피칸 (Carya illinoinensis), 레몬 (Citrus limon), 당귤나무 (Citrus sinensis), 아라비카 커피나무 (Coffea arabica) [로브스타 커피 (Coffea canephora), 리베리카 커피 (Coffea liberica)], 오이 (Cucumis sativus), 우산잔디 (Cynodon dactylon), 당근 (Daucus carota), 기름야자 (Elaeis guineensis), 딸기 (Fragaria vesca), 콩 (Glycine max), 육지면 (Gossypium hirsutum) [아이오니움 (Gossypium arboreum), 고시퓸 헤르바세움 (Gossypium herbaceum), 고시퓸 비티폴륨 (Gossypium vitifolium)], 해바라기 (Helianthus annuus), 파라 고무나무 (Hevea brasiliensis), 보리 (Hordeum vulgare), 호프 (Humulus lupulus), 고구마 (Ipomoea batatas), 탈각 호두 (Juglans regia), 렌즈콩 (Lens culinaris), 아마 (Linum usitatissimum), 토마토 (Lycopersicon lycopersicum), 사과나무 종 (Malus spec.), 카사바 (Manihot esculenta), 자주개자리(Medicago sativa), 바나나 종 (Musa spec.), 담배 (Nicotiana tabacum) [니코티아나 루스티카 (N. rustica)], 올리브 (Olea europaea), 벼 (Oryza sativa), 제비콩 (Phaseolus lunatus), 덩굴 강낭콩 (Phaseolus vulgaris), 독일 가문비 (Picea abies), 소나무 종 (Pinus spec.), 완두 (Pisum sativum), 양앵두 (Prunus avium), 복숭아나무 (Prunus persica), 서양배 (Pyrus communis), 리베스 실베스트레 (Ribes sylvestre), 피마자 (Ricinus communis), 사탕수수 (Saccharum officinarum), 호밀 (Secale cereale), 감자 (Solanum tuberosum), 수수 (Sorghum bicolor) [겉보리 (s. vulgare)], 카카오 (Theobroma cacao), 붉은 토끼풀 (Trifolium pratense), 밀 (Triticum aestivum), 마카로니 밀 (Triticum durum), 잠두 (Vicia faba), 포도나무 (Vitis vinifera) 및 옥수수 (Zea mays)이다.
또한, 화합물 II, IV 또는 V는 유전 공학적 변형 방법을 비롯한 육종으로 인해 제초제의 작용에 내성이 생긴 작물에서도 사용할 수 잇다.
또한, 화합물 II, IV 또는 V 및 그들의 농업적으로 유용한 염은 식물의 탈수 및(또는) 고엽에도 적합하다.
탈수제로서, 이들은 특히 감자, 평지씨 (oilseed rape), 해바라기 및 콩과 같은 농작물 식물의 기생 부분을 탈수시키는데 적합하다.
경제적 관심은 또한;
- 이들 과실의 수확을 촉진하여 감귤류 과실, 올리브 또는 다른 종 및 사과류 과실, 핵과류 및 견과류 종류에서 단 기간의 시간 낙과에 집중하거나 또는 과실의 식물에 대한 접착성을 감소시키는 것, 및 또한
- 유용한 식물, 특히 목화의 제어된 고엽에 있다.
본 발명에 따른 화학식 II, IV 및(또는) V의 화합물 및 그들의 농업적으로 유용한 염의 사용에 의해 촉진되는 낙과는 식물의 과실 또는 잎과 줄기간의 이탈 조직의 형성으로 인한 것이다. 목화의 고엽에 특히 경제적인 관심이 있는데, 이는 수확을 촉진하기 때문이다. 상기는 개개의 식물이 성숙하는 기간을 단축하는 동시에 수확 후에 섬유 품질이 개선된다.
화합물 II, IV 및 V 또는 이들을 포함하는 조성물은, 예를 들어 직접 분무가능한 수용액제, 분말제, 현탁제, 또한 고농축된 수성, 유성 또는 다른 현탁제, 분산액제, 유제, 유성 분산액제, 페이스트제, 분진제, 살포제, 또는 입제의 형태로 분무, 오토마이징 (atomizing), 더스팅 (dusting), 살포 (broadcasting) 또는 살수 (watering)함으로써 사용할 수 있다. 사용 형태는 의도한 목적에 달려있지만, 모든 경우에서 본 발명에 따른 활성 화합물을 매우 미세하게 분산시켜야 한다. 제초 조성물은 제초 유효량의 하나 이상의 화학식 II, IV 또는 V의 화합물 또는 II, IV 또는 V의 농업적으로 유용한 염과 농작물 보호제에 통상적으로 사용되는 보조제를 포함한다.
적절한 불활성 보조제로는 주로 등유 및 디젤유와 같은 중간 내지 고 비점 광유 분획물, 또한 코울타르유, 및 식물성유 또는 동물성유, 지방족, 시클릭 및 방향족 탄화수소, 예를 들어 파라핀, 테트라히드로나프탈렌, 알킬화 나프탈렌 및 이들의 유도체, 알킬화 벤젠 및 이들의 유도체, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올 및 시클로헥산올과 같은 알코올, 시클로헥사논과 같은 케톤, 예를 들어 N-메틸피롤리돈과 같은 아민 및 물 등의 강한 극성 용매가 있다.
수성 사용 형태는 유제 농축물, 현탁제, 페이스트제, 습윤성 분말제 또는 수분산성 입제로부터 물을 첨가함으로써 제조할 수 있다. 유제, 페이스트제 또는 유성 분산액제를 제조하기 위해서는, 화합물 II, III 또는 IV, 또는 오일 또는 용매에 용해시킨 것을 습윤제, 점착제, 분산제, 또는 유화제를 사용하여 물 중에 균질화시킬 수 있다. 다르게는, 활성 성분, 습윤제, 점착제, 분산제 또는 유화제, 필요에 따라 용매 또는 오일을 포함하는 농축물을 제조하는 것도 가능하며 이들 농축물은 물로 희석시키기에 적합하다.
적절한 계면 활성제는 방향족 술폰산 예를 들어, 리그노술폰산, 페놀술폰산, 나프탈렌술폰산 및 디부틸나프탈렌술폰산 및 지방산의 알칼리 금속염, 알칼리 토금속염 및 암모늄염, 알킬 술포네이트 및 알킬아릴 술포네이트, 알킬 술페이트, 라우릴 에테르 술페이트 및 지방 알코올 술페이트의 알칼리 금속염, 알칼리 토금속염 및 암모늄염, 및 황산화 헥사데칸올, 헵타데칸올 및 옥타데칸올의 염, 지방 알코올 글리콜 에테르의 염, 술폰화 나프탈렌 및 그의 유도체와 포름알데히드와의 축합물, 나프탈렌 또는 나프탈렌술폰산과 페놀 및 포름알데히드와의 축합물, 폴리옥시에틸렌 옥틸페놀 에테르, 에톡실화 이소옥틸페놀, 에톡실화 옥틸페놀 또는 에톡실화 노닐페놀, 알킬페닐 폴리글리콜 에테르 또는 트리부틸페닐 폴리글리콜 에테르, 알킬아릴 폴리에테르 알코올, 이소트리데실 알코올, 지방 알코올/에틸렌 옥시드 축합물, 에톡실화 피마자유, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 또는 폴리옥시프로필렌 알킬 에테르, 라우릴 알코올 폴리글리콜 에테르 아세테이트, 소르비톨 에스테르, 리그노술파이트 폐액 또는 메틸셀룰로스가 있다.
분말제, 살포제 및 더스트제는 활성 성분과 고체 담체를 혼합 또는 분쇄시킴으로써 제조할 수 있다.
입제, 예를 들어 피복 입제, 함침 입제 및 균질 입제는 활성 성분을 고체 담체에 결합시킴으로써 제조할 수 있다. 고체 담체로는 무기질 토류, 예를 들어 실리카, 실리카 겔, 실리케이트, 활석, 고령토, 석회석, 석회, 백악, 교회(膠灰) 점토, 황토, 점토, 백운석, 규조토, 황산 칼슘, 황산 마그네슘, 산화 마그네슘, 분쇄된 합성 물질, 황산 암모늄, 인산 암모늄, 질산 암모늄 및 우레아와 같은 비료, 곡분, 목피분, 목분 및 낙화생분과 같은 식물성 산물, 셀룰로스성 분말 또는 기타 고체 담체 등이 있다.
사용할 준비가 되어 있는 제제 중의 활성 성분 II, IV 및 V의 농도는 넓은 범위 내에서 변할 수 있다. 일반적으로, 제형은 약 0.001 내지 98 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 95 중량%의 활성 화합물 1 종 이상을 포함한다. 활성 화합물은 90 내지 100 %, 바람직하게는 95 내지 100 % (NMR 스펙트럼에 의함)의 순도로 사용한다.
본 발명에 따른 화합물 II, IV 또는 V는 예를 들어 하기와 같이 제형화시킬 수 있다:
I. 화합물 제IIa.9번 (표 1 참조) 20 중량부를 알킬화 벤젠 80 중량부, 8 내지 10 몰의 산화에틸렌과 1 몰의 올레산 N-모노에탄올아미드와의 부가물 10 중량부, 칼슘 도데실벤젠술포네이트 5 중량부 및 40 몰의 산화에틸렌과 1 몰의 피마자유와의 부가물 5 중량부로 구성된 혼합물에 용해시켰다. 이 용액을 물 100,000 중량부에 붓고 미세하게 분포시켜 활성 화합물을 0.02 중량% 포함하는 수분산액을 얻었다.
II. 화합물 제IIa.17번 (표 1 참조) 20 중량부를 시클로헥사논 40 중량부, 이소부탄올 30 중량부, 7 몰의 산화에틸렌과 1 몰의 이소옥틸페놀과의 부가물 20중량부 및 40 몰의 산화에틸렌과 1 몰의 피마자유와의 부가물 10 중량부로 구성된 혼합물에 용해시켰다. 이 용액을 물 100,000 중량부에 붓고 미세하게 분포시켜 활성 화합물을 0.02 중량% 함유하는 수분산액을 얻었다.
III. 활성 성분 제IIa.12번 (표 1 참조) 20 중량부를 시클로헥사논 25 중량부, 비점이 210 내지 280 ℃인 광유 분획물 65 중량부 및 40 몰의 산화에틸렌과 1 몰의 피마자유와의 부가물 10 중량부로 이루어진 혼합물에 용해시켰다. 이 용액을 물 100,000 중량부에 붓고, 미세하게 분포시켜 활성 화합물을 0.02 중량% 포함하는 수분산액을 얻었다.
IV. 활성 화합물 제IIa.69번 (표 1 참조) 20 중량부를 디이소부틸나프탈렌술폰산의 나트륨염 3 중량부, 아황산염 폐액으로부터 얻은 리그노술폰산의 나트륨염 17 중량부 및 실리카겔 분말 60 중량부와 완전히 혼합하고, 혼합물을 해머 밀 중에서 분쇄시켰다. 혼합물을 물 20,000 중량부에 미세하게 분포시켜서, 활성 화합물을 0.1 중량% 포함하는 분무 혼합물을 얻었다.
V. 활성 성분 제IVa.1번 (표 2 참조) 3 중량부를 미분 고령토 97 중량부와 혼합하였다. 이로써 활성 화합물을 3 중량% 포함하는 더스트제를 얻었다.
VI. 활성 성분 제IVa.4번 (표 2 참조) 20 중량부를 도데실벤젠술폰산의 칼슘염 2 중량부, 지방 알코올 폴리글리콜 에테르 8 중량부, 페놀/우레아/포름알데히드 축합물의 나트륨염 2 중량부 및 파라핀 광유 68 중량부와 철저히 혼합하여 안정한 유분산액을 얻었다.
VII. 활성 화합물 제Va.9번 1 중량부를 시클로헥사논 70 중량부, 에톡실화이소옥틸페놀 20 중량부 및 에톡실화 피마자유 10 중량부로 이루어진 혼합물에 용해시켜 안정한 유제 농축물을 얻었다.
VIII. 활성 화합물 제Va.12번 1 중량부를 시클로헥사논 80 중량부 및 웨톨 (Wettol (등록상표)) EM 31 (= 에톡실화 피마자유 기재 비이온성 유화제) 20 중량부로 이루어진 혼합물에 용해시켜 안정한 유제 농축물을 얻었다.
제초 조성물 또는 활성 성분은 발아전 또는 발아후 방법에 의해 사용될 수 있다. 또한, 제초 조성물 또는 활성 성분으로 예비 처리한 작물 식물 종자를 살포함으로써 제초 조성물 또는 활성 성분은 사용될 수 있다. 특정 농작물이 활성 성분에 대하여 내성이 적을 경우, 가능한 한 활성 성분이 민감한 농작물의 잎과 거의 접촉하지 않게 하면서 이들 작물의 아래에서 또는 노출된 토양 표면에서 자라는 원치않는 식물의 잎에 도달하게 하는 방법으로 분무기를 사용하여 제초 조성물을 분무하는 사용 기술이 사용될 수 있다 (후방 집중식 레이-바이 처리법: post- directed, lay-by).
활성 성분 II, IV 또는 V의 사용률은 제어 표적, 계절, 표적 식물 및 성장 단계에 따라, 활성 성분 (a.s.) 0.001 내지 3.0 kg/ha, 바람직하게는 0.01 내지 1.0 kg/ha이다.
작용 범위를 확대하고 상승 효과를 달성하기 위하여, 화합물 II, IV 또는 V는 다수의 대표적인 기타 군의 제초성 또는 성장 조절 활성 성분들과 혼합될 수 있으며, 이들과 함께 사용할 수 있다. 적합한 혼합물 성분의 예로는 1,2,4-티아디아졸, 1,3,4-티아디아졸, 아미드, 아미노인산 및 그의 유도체, 아미노트리아졸, 아닐리드, (헤트)아릴옥시알칸산, 및 이들의 유도체, 벤조산 및 그의 유도체, 벤조티아디아지논, 2-아로일-1,3-시클로헥산디온, 1-헤트아로일-1,3-시클로헥산디온, 헤트아릴 아릴 케톤, 벤질이속사졸리돈, 메타-CF3-페닐 유도체, 카르바메이트, 퀴놀린카르복시산 및 그의 유도체, 클로로아세트아닐리드, 시클로헥센온 옥심 에테르 유도체, 디아진, 디클로로프로피온산 및 그의 유도체, 디히드로벤조푸란, 디히드로푸란-3-온, 디니트로아닐린, 디니트로페놀, 디페닐 에테르, 디피리딜, 할로카르복시산 및 이들의 유도체, 우레아, 3-페닐우라실, 이미다졸, 이미다졸리논, N-페닐-3,4,5,6-테트라히드로프탈이미드, 옥사디아졸, 옥시란, 페놀, 아릴옥시- 및 헤테로아릴옥시페녹시프로피온산 에스테르, 페닐아세트산 및 그의 유도체, 2-페닐프로피온산 및 그의 유도체, 피라졸, 페닐피라졸, 피리다진, 피리딘카르복시산 및 그의 유도체, 피리미딜 에테르, 술폰아미드, 술포닐우레아, 트리아진, 트리아지논, 트리아졸리논, 트리아졸카르복사미드 및 우라실 등이 있다.
또한, 화합물 II, IV 및(또는) V를 단독으로 사용하거나, 동시에 다른 제초제와 함께 또는 다른 작물 보호제, 예를 들어 살충제 또는 식물 병원성 진균 또는 세균 억제용 약제와 혼합하여 사용하는 것이 유리할 수 있다. 또한 영양 및 미량 원소 결핍증 치료에 사용되는 무기염 용액과의 혼화성이 중요하다. 비식물독성 오일 및 오일 농축물을 사용할 수도 있다.
하기 실시예들은 본 발명을 예시하기 위한 것이며 제한하려는 것이 아니다.
모든1H-NMR 스펙트럼은 CDCl3중 270 MHz 분광계로 측정하였다. TMS에 대한 면에서 화학적 이동 (ppm) 및 해당 신호의 적분을 결정하였다. 하기 약어를 사용하였다: s = 단일선, d = 이중선, q = 사중선, t = 삼중선, br = 넓은 신호.
<실시예 1: 2-에틸-4,6-디클로로-7-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (1)의 제조>
1.12-브로모-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 IVa. 4
변형법 A:
50 g (0.12 mol)의 4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린을 200 ml의 디클로로메탄에 용해하고 20 g (0.13 mol)의 브롬과 혼합하였다. 반응 혼합물을 HPLC (C18컬럼, 메탄올/물 구배 0-100)에 의해 더 이상 변화가 관찰되지 않을 때까지 실온에서 교반하였다. 이어서 반응 혼합물을 포화 중탄산 나트륨 용액 및 포화 염화 나트륨 용액으로 추출하였다. 유기 상을 황산 마그네슘 상에 건조시키고 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔상에서 크로마토그래피 (에틸 아세테이트/클로로헥산)하여 60 g의 2-브로모-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 IVa.4를 얻었다.
1H-NMR δ ppm: 7.4 (s,1H), 6.7 (t,1H), 4.2 (br,2H), 3.9 (s,3H)
변형법 B:
50 g (0.129 mol)의 4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린을 150 ml의 빙초산에 첨가하였다. 혼합물을 53 g (0.64 mol)의 아세트산 나트륨과 혼합하였다. 실온에서, 20.6 g (0.129 mol)의 브롬을 적가하고, 혼합물을 밤새 교반하였다. 아세트산을 감압하에서 제거하고, 잔류물을 50 ml의 톨루엔과 혼합하고 혼합물을 농축 건조시켰다. 잔류물을 200 ml의 에틸 아세테이트에 용해하고 100 ml의 2 N NaOH 용액으로 세척하고 황산 마그네슘 상에서 건조시켜 농축하였다. 이로써 56 g의 표제 화합물을 얻었다.
1.2N-프로피오닐-2-브로모-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIa.12
변형법 A:
48 g (0.103 mol)의 화합물 IVa.4를 480 ml의 프로피온산 무수물에 용해하고 0.5 g의 진한 황산을 이 용액에 첨가하였다. 이어서 용액을 75 ℃에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 감압하에서 농축하여 메틸 tert-부틸 에테르 및 물로 희석하고, 유기상을 분리하였다. 이어서 유기상을 포화 중탄산 나트륨 용액으로 세척하고 황산 마그네슘 상에 건조시켰다. 용매를 농축건조시켜 57.4 g의 디프로피오닐 화합물 (R1=메틸, R2=디플루오로메톡시, R3=브롬, R4=R5=염소, X=브롬 및 R6=에틸인 화합물 V)을 얻었고, 이는 소량의 상응하는 N-프로피오닐아닐리드 IIa.12를 함유하였다. 이어서 얻어진 혼합물을 부분 가용매분해하였다. 이 목적을 위해, 아실화 반응 생생물을 300 ml의 메탄올에 용해하고 17.9 g의 30 중량% 농도 메톡시화 나트륨 용액 및 메탄올을 이 용액에 첨가하였다. 이어서 혼합물을 실온에서 HPLC (C18컬럼, 메탄올/물 구배 0-100)에 의해 더 이상 전환이 관찰되지 않을 때까지 교반하였다. 마무리처리를 위해, 약 500 ml의 디클로로메탄을 반응 혼합물에 첨가하고 얻어진 용액으로 희석된 염산, 물 및 포화 수성 염화 나트륨 용액을 연속적으로 세척하였다. 실리카 겔 상에서의 크로마토그래피 (이동상: 시클로헥산/에틸 아세테이트)에 의해 41.4 g의 N-프로피오닐-2-브로모-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플로오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIa.12를 얻었다.
융점: 173-175 ℃.
1H-NMR δ ppm : 7.6 (s,1H), 7.2 (br. s,1H), 6.7 (t,1H), 3.9 (s,3H), 2.5 (br. q, 2H), 1.3 (br. t, 3H).
1H-NMR 스펙트럼에서, 디프로피오닐 화합물은 하기 신호를 나타내었다:
1H-NMR δ ppm: 7.7 (s,1H), 6.7 (t,1H), 3.9 (s,3H), 2.8-2.4 (m,4H), 1.2 (m, 6H).
변형법 B:
이전 단계로부터 56 g (0.12 mol)의 아닐린 IVa.4를 500 ml의 톨루엔에 용해시키고 0.6 g의 진한 황산 및 17.2 g (0.13 mol)의 프로피온산 무수물과 혼합하였다. 혼합물을 실온에서 2 시간 동안 교반하고, 침전물을 흡입여과하고, 소량의 메틸 tert-부틸 에테르로 세척하고, 300 ml의 에틸 아세테이트에 용해하고 생성물을 완전히 용해하는데 충분한 10 % NaOH 용액과 혼합하였다. 유기 상을 분리하고 49 g의 표제 화합물 IIa.12를 농축에 의해 상기 상으로부터 단리하였다.
1.32-에틸-4,6-디클로로-7-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (1)
a) 등몰량의 CuBr을 사용한 변형법:
70 ℃에서, 2 g의 아닐리드 IIa.12 (0.0038 mol)를 20 ml의 DMSO 중 0.1 g (0.0038 mol)의 수소화 나트륨 (97 중량%)과 가스의 방출이 중지될 때까지 반응시켰다. 이어서, 0.55 g (0.0038 mol)의 브롬화 구리(I)을 첨가하고 혼합물을 140 ℃에서 HPLC에서 더 이상 변화가 없을 때까지 가열하였다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 빙수를 첨가하여 혼합물을 약 100 ml의 에틸 아세테이트로 추출하였다. 추출물을 황산 나트륨 상에서 건조시키고, 용매를 증발건조시키고 잔류물을 실리카 겔 상에서 크로마토그래피하였다 (이동상: 시클로헥산/에틸 아세테이트). 이로써 1.1 g의 벤족사졸 (1)을 얻었다.
융점: 131-132 ℃.
1H-NMR δ ppm : 7.5 (s,1H), 6.7 (t,1H), 3.9 (s,3H), 2.4 (q,2H), 1.4 (t,3H)
b) 촉매량의 CuCl을 이용한 변형법:
3 g (5.7 mmol)의 아닐리드 IIa.12를 10 ml의 디메틸 포름아미드 및 1 ml의피리딘에 용해시켰다. 0.43 g (3.1 mmol)의 K2CO3을 첨가하고, 혼합물을 90 ℃에서 2 시간 동안 가열하였다. 이어서 0.12 g (1.2 mmol)의 Cu(I) Cl을 첨가하고, 혼합물을 140 ℃에서 2 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 감압하에서 농축시키고 잔류물을 시클로헥산/에틸 아세테이트 9/1을 사용하여 실리카 겔 상에서 크로마토그래피하였다. 이로써 1.9 g의 벤족사졸 (1)을 얻었다.
c) 촉매량의 CuBr을 이용한 변형법:
상기 변형법과 유사하게, 3 g의 아닐리드 IIa.12를 0.3 g (2.3 mmol)의 Cu(I)Br 및 0.43 g (3.1 mmol)의 K2CO3와 함께, 다른 조건은 동일하게 하여 반응시켰다. 이로써 1.96 g의 벤족사졸 (1)을 얻었다.
d) 촉매량의 Cu(I)I을 이용한 변형법:
상기 변형법과 유사하게, 3 g의 아닐리드 IIa.12를 0.23 g (1.2 mmol)의 Cu(I)I 및 0.43 g (3.1 mmol)의 K2CO3와 함께, 다른 조건은 동일하게 하여 반응시켰다. 이로써 1.8 g의 벤족사졸 (1)을 얻었다.
e) 촉매량의 Cu(I)Br 및 염기 KHCO3을 이용한 변형법:
상기 변형법과 유사하게, 3 g의 아닐리드 IIa.12를 0.63 g (6.3 mmol)의 KHCO3및 0.17 g (1.2 mmol)의 Cu(I)Br과 함께, 다른 조건은 동일하게 하여 반응시켰다. 이로써 1.8 g의 벤족사졸 (1)을 얻었다.
<실시예 2: 2-에틸-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-2-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (2)의 제조>
2.12-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 IVa.1
변형법 A:
57 g (0.165 mol)의 4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린을 300 ml의 디클로로메탄 중 용해시키고 26.5 g (0.165 mol)의 브롬과 혼합하였다. 반응 혼합물을 HPLC (상기 참조)에서 더 이상 변화가 없을 때까지 실온에서 교반하였다. 반응 혼합물을 농축하였다. 이로써 61 g의 화합물 IVa.1을 얻었다.
1H-NMR δ ppm : 7.2 (s,1H), 6.7 (t,1H), 4.5 (br,2H), 3.9 (s,3H)
변형법 B:
19.5 g (59 mmol)의 6-클로로-4-플루오로-3-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린을 200 ml의 빙초산에 첨가하였다. 47.8 g (0.59 mol)의 아세트산 나트륨을 이 혼합물에 첨가하였다. 실온에서, 10.3 g (64 mmol)의 브롬을 적가하고 혼합물을 밤새 교반하였다. 아세트산을 감압하에서 제거하여 잔류물을 200 ml의 톨루엔과 혼합하여 농축건조시켰다. 잔류물을 200 ml의 디클로로메탄에 용해하고, 200 ml의 5 % 농도 NaOH 수용액으로 세척하고, 황산 마그네슘 상에 건조시켜 농축하였다. 이로써 24 g의 표제 화합물 IVa.1을 얻었다.
2.2N-프로피오닐-2-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIa. 9
변형법 A:
43 g (0.106 mol)의 화합물 IVa.1을 200 ml의 프로피온산 무수물에 용해시키고, 0.5 g의 진한 황산을 첨가하였다. 이어서 혼합물을 75 ℃에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 감압하에서 농축시켜 메틸 tert-부틸 에테르 및 물로 희석하고, 유기상을 분리하였다. 이어서 유기상을 포화 중탄산 나트륨 수용액으로 세척하고 황산 마그네슘 상에 건조시켰다. 용매를 증발건조시켜 47 g의 디프로피오닐 화합물 (R1=메틸, R2=디플루오로메톡시, R3=염소, R4=플루오르, R5=염소, X=브롬 및 R6=에틸인 화합물 V)을 얻었고, 이는 소량의 상응하는 N-프로피오닐아틸리드 IIa.9를 함유하였다. 이어서 얻어진 혼합물을 부분 가용매분해하였다. 이 목적 위해, 아실화의 반응 생성물을 100 ml의 메탄올에 용해시키고, 메탄올 중 32.7g의 30 중량% 농도의 메톡시화 나트륨 용액을 상기 용액에 첨가하였다. 이어서 혼합물을 HPLC (상기 참조)에서 더 이상 전환이 없을 때까지 실온에서 교반하였다. 마무리 처리를 위해, 약 500 ml의 디클로로메탄을 반응 혼합물에 첨가하고, 얻어진 용액을 희석된 염산, 물 및 포화 중탄산 나트륨 수용액으로 연속적으로 세척하였다. 실리카 겔 상의 크로마토그래피 (이동상: 시클로헥산/에틸 아세테이트)하여 14 g의 N-프로피오닐-2-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIa.13을 얻었다.
1H-NMR δ ppm : 7.6 (br. s,1H), 7.3 (d,1H), 6.7 (t,1H), 3.9 (s,3H), 2.4(q,2H), 1.3 (t,3H)
변형법 B:
23 g (57 mmol)의 아닐린 IVa.1를 20 ml의 톨루엔에 용해시키고 0.28 g의 진한 황산 및 8.1 g (63 mmol)의 프로피온산 무수물과 혼합하였다. 혼합물을 실온에서 16 시간 동안 교반한 후 100 ml의 물 및 100 ml의 톨루엔으로 희석하고, 상들을 분리하고 수성상을 총 200 ml의 톨루엔으로 1회 이상 추출하였다. 합한 유기상들을 황산 마그네슘 상에서 건조시킨 후 농축하였다. 잔류물을 50 ml의 시클로헥산/에틸 아세테이트 4:1 (v/v) 중 용해하고 가열한 후 흡입여과하였다. 이로써 21 g의 표제 화합물 IIa.13을 얻었다.
2.32-에틸-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (2)
70 ℃에서 14 g (0.03 mol)의 화합물 IIa.9를 50 ml 중 DMSO 중 (광유 중 97 중량% 현탁액으로서) 0.75 g (0.03 mol)의 수소화 나트륨과 함께 기체 방출이 중단될 때까지 반응시켰다. 이어서 0.56 g (0.0039 mol)의 브롬화 구리(I)를 첨가하고 HPLC에서 더 이상 변화가 없을 때까지 혼합물을 140 ℃에서 가열하였다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 빙수를 첨가하고 혼합물을 약 100 ml의 에틸 아세테이트로 추출하였다. 추출물을 황산 마그네슘 상에서 건조시킨 후, 용매를 증발건조시켜 잔류물을 실리카 겔 상에서 크로마토그래피하였다 (이동상: 시클로헥산/에틸 아세테이트). 이로써 1.1 g의 벤족사졸 (6)을 얻었다.
융점: 73-75 ℃.
1H-NMR δ ppm : 7.3 (s,1H), 6.7 (t,1H), 3.9 (s,3H), 3.0 (q,2H), 1.44 (t,3H)
<실시예 3: 2-메틸-4,6-디클로로-7-(4-브로모-2-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (3)의 제조>
3.1N-아세틸-2-브로모-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIa.8
실시예 1.2 변형법 A와 유사하게, 5.0 g (0.011 mol)의 아닐린 IVa.4를 먼저 100 ml의 빙초산과 함께, 다른 조건은 동일하게 하여 반응시킨 후, 얻어진 디아세틸 화합물 Va.8을 메탄올 중 8.5 g (0.047 mol)의 메톡시화 나트륨을 이용하여 절단하였다. 이로써 5.26 g의 아닐리드 IIa.8을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.6 (s,1H), 7.1 (br. s,1H), 6.7 (t,1H), 3.9 (s,3H), 2.1 (s,3 H).
3.22-메틸-4,6-디클로로-7-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (3)
100 ml의 디메틸 술폭시드 중 5.2 g (0.01 mol)의 아닐리드 IIa.8을 0.24 g (0.01 mol)의 NaH 및 0.22 g (1.5 mmol)의 Cu(I)Br과 함께 실시예 2.1의 공정에 따라 반응시켰다. 이로써 1.9 g의 벤족사졸 (3)을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.5 (s,1H), 6.8 (t,1H), 3.9 (s,3H), 2.6 (s,3H).
<실시예 4: 2-tert-부틸-4,6-디클로로-7-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (4)의 제조>
4.1N-피발로일-2-브로모-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIa.36
100 ml의 디클로로메탄 중 용해된 3.8 g (8.2 mmol)의 아닐리드 IVa.4를 3.9 g (49.2 mmol)의 피리딘 및 촉매량의 4-디메틸아미노피리딘과 혼합하였다. 3.2 g (24.7 mmol)의 피발로일 클로라이드를 이 혼합물에 적가하였다.
얻어진 혼합물을 40 ℃에서 가열하고 박막 크로마토그래피 (시클로헥산/에틸 아세테이트 4/1 v/v)에서 더 이상 변화가 없을 때까지 교반하였다. 혼합물을 200 ml의 에틸 아세테이트로 희석하고 200 ml의 10 % 농도 염산으로 2회 및 100 ml의 포화 NaHCO3용액으로 1회 세척하고, 유기상을 황산 마그네슘 상에 건조시켰다. 얻어진 잔류물을 실리카 겔 크로마토그래피 (시클로헥산/에틸 아세테이트 4/1 v/v)하여 1.4 g의 아닐리드 IIa.36을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ (ppm) 7.6 (s,1H), 7.2 (br,1H), 6.7 (t,1H) 3.8 (s,3H), 1.4 (s,9H).
4.22-tert-부틸-4,6-디클로로-7-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (4)
1.3 g (2.4 mmol)의 아닐리드 IIa.36을 10 ml의 디메틸포름아미드 및 1 ml의 피리딘에 용해시키고 0.26 g (2.6 mmol)의 KHC03와 혼합하였다. 혼합물을 90 ℃에서 1.5 시간 동안 가열하였다. 이어서 0.07 g (0.5 mmol)의 Cu(I) Br을 첨가하고, 혼합물을 140 ℃에서 2 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 농축하고 잔류물을 실리카 겔 상에서 크로마토그래피 (시클로헥산/에틸 아세테이트 4/1 v/v)하여 0.34 g의 벤족사졸 (4)를 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ (ppm) 7.5 (s,1H), 6.8 (t,3H), 3.9 (s,3H), 1.5 (s,9H).
<실시예 5: 2-메틸-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (5)의 제조>
5.1N-아세틸-2-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 IIa.5
실시예 2.2의 제조 공정과 유사하게, 실시예 2.1로부터 13.5 g (33 mmol)의 아닐린 IVa.1을 100 ml 중 빙초산 중에서, 다른 반응 조건들은 동일하게 하여 반응시켰다. 먼저, 얻어진 디아세틸 화합물 Va.5를 메탄올 중 9.6 g (53 mol)의 메톡시화 나트륨을 사용하여 절단하여 7.7 g의 아닐리드 IIa.5를 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ (ppm) 7.3 (d,1H), 6.9 (br. s,1H), 6.7 (t,1H), 3.9 (s,3H), 2,2 (s,3H).
5.22-메틸-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (5)
실시예 2.3에 기재된 공정에 의한 7.7 g (17.2 mmol)의 아미드 IIa.5의 반응으로 4.28 g의 벤족사졸 (5)를 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ (ppm) 7.2 (d,1H), 6.8 (t,1H), 3.9 (s,3H), 2.7 (s,3H).
<실시예 6: 2-메톡시메틸-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (6)의 제조>
6.1.N-메톡시아세틸-2-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 IIa.69
100 ml의 테트라히드로푸란 중 실시예 2.1로부터의 5.63 g (14 mmol)의 아닐린 화합물 IVa.1을 3.32 g (42 mmol)의 피리딘, 1.52 g의 메톡시아세틸 클로라이드 및 촉매량의 4-디메틸아미노피리딘과 혼합하였다. 이 혼합물을 환류하에서 교반하면서 16 시간 동안 가열하였다. 휘발성 성분들을 감압하에서 제거하고, 잔류물을 100 ml의 에틸 아세테이트에 용해하고 유기 상을 100 ml의 2 N HCl로 3회 및 포화 NaHCO3수용액으로 연속적으로 3회 세척하고 MgSO4상에서 건조시켰다. 얻어진 디아세틸 화합물 Va.69 (5.87 g)을 직접 더 반응시켰다: 반응 생성물을 50 ml의 메탄올에 용해시키고, 3.85 g (21.4 mmol)의 30 중량% 농도의 메탄올 중 메톡시화 나트륨 용액을 첨가하고 혼합물을 실온에서 2 시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 1 N HCl로 산성하시키고 각각 100 ml의 염화 메틸렌으로 3회 세척하고, 합한 유기상들을 100 ml의 물로 1회 세척하고 MgSO4상에서 건조시키고 농축 후 얻어진 잔류물을 시클로헥산/에틸 아세테이트 (2/1 v/v)를 사용하여 실리카 겔 상에서 크로마토그래피하였다. 이로써 3.1 g의 아닐리드 IIa.69를 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ (ppm) = 8.0 (br.s,1H), 7.3 (d,1H), 6.8 (t,1H), 4.1 (s,2H), 3.8 (s,3H), 3.6 (s,3H).
6.22-메톡시메틸-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (6)
실시예 2.3에 기재된 공정에 의한 3.0 g (6.3 mmol)의 아닐리드 IIa.69의 반응으로 0.98 g의 벤족사졸 (6)을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.3 (d,1H), 6.8 (t,1H), 4.8 (s,2H), 3.9 (s,3H), 3.5 (s,3H).
<실시예 7: 2-시클로프로필-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (7)의 제조>
7.12-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 IVc. 1
28 g (0.086 mol)의 4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 (EP-A 제0791571호에 기재됨)을 200 ml의 아세트산에 용해시키고 35 g (0.42 mol)의 아세트산 나트륨과 혼합하였다. 13.7 g (0.086 mol)의 브롬을 이 혼합물에 적가하였다. 혼합물을 밤새 교반하고, 휘발성 성분들을 감압하에서 제거하고 잔류물을 200 ml의 디클로로메탄 중에 용해하였다. 이 용액을 2 N 수성 NaOH로 세척하고 MgSO4상에서 건조시키고, 용액의 농축 후 얻어진잔류물을 시클로헥산/에틸 아세테이트 (4/1 v/v)를 사용하여 실리카 겔 상에서 크로마토그래피하였다. 이로써 20 g의 표제 화합물 IVc.1을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.2 (d,1H), 4.5 (br.s,2H), 4.0 (s,3H).
7.2N-시클로프로필카르보닐-2-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIc.85
실시예 7.1로부터 2 g (4.9 mmol)의 아닐린 화합물 IVc.1을 10 ml의 디클로로메탄 및 1 ml의 피리딘을 용해시켰다. 주걱 끝으로 4-디메틸아미노피리딘 및 0.5 g (4.9 mmol)의 시클로프로판카르보닐 클로라이드를 첨가하였다. 혼합물을 16 시간 동안 교반하고, 100 ml의 물로 희석하고 각각 50 ml의 디클로로메탄으로 3 회 추출하였다. 합한 유기상들을 MgSO4상에서 건조시키고 시클로헥산/에틸 아세테이트 (4/1 v/v)을 사용하여 실리카 겔 상에서 크로마토그래피하였다.
첫번째 분획물: 1.2 g의 디아실 화합물 Vc.85:1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.4 (d,1H), 4.1 (s,3H), 2.1 (m,2H), 1.2 (m,4H), 0.9 (m,4H).
두번째 분획물: 0.8 g의 모노아크릴아닐리드 IIc.85:1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.3 (d,1H), 7.1 (br.s,1H), 4.1 (s,3H), 1.6 (m,1H), 1.2-0.8 (m,4H).
디아실 화합물 Vc.85를 20 ml의 메탄올에 용해시키고, 용액을 5 ml의 30 중량% 농도의 (메탄올 중) 메톡시화 나트륨 용액과 혼합하고 2 시간 동안 교반하였다. 이어서 용액을 100 ml의 염화 메틸렌과 혼합하고 10 % 농도 염산을 사용하여pH 1로 조절하고, 유기상을 분리하였다. 용매의 건조 및 제거 후 얻어진 잔류물을 분획물 1과 합하였다. 이로써 2 g의 표제 화합물 IIc.85를 얻었다.
7.32-시클로프로필-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (7)
20 ml의 디메틸포름아미드 및 2 ml의 피리딘 중 단계 7.2로부터 2.0 g (4.2 mmol)의 아닐리드 IIc.85를 0.5 g (5 mmol)의 KHC03와 혼합하였다. 혼합물을 90 ℃에서 2 시간 동안 교반하고, 이어서 0.14 g (0.9 mmol)의 Cu(I)Br를 첨가하고, 혼합물을 교반하면서 140 ℃에서 4 시간 동안 가열하였다. 반응 혼합물을 농축하고 시클로헥산/에틸 아세테이트를 이용하여 실리카 겔 상에서 크로마토그래피하였다. 이로써 1.1 g의 벤족사졸 (7)을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ (ppm) 7.2 (d,1H), 4.1 (s,3H), 2.2 (m,1H), 1.4-1.2 (m,4H).
<실시예 8: 2-이소프로필-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (8)의 제조>
8.1N-이소프로필카르보닐-2-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIc.17
화합물 IVc.1로부터 실시예 7.2에 기재된 제조 공정을 이용하여 표제 화합물 IIc.17을 제조하였다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.3 (d,1H), 7.1 (br.s,1H), 4.1 (s,3H), 2.7 (septett,1H), 1.3 (d,6H).
8.22-이소프로필-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (8)
화합물 IIc.17로부터 실시예 7.3에 기재된 제조 공정을 이용하여 벤족사졸 8을 제조하였다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.2 (d,1H), 4.1 (s,3H), 3.3 (septett,1H), 1.3 (d,6H).
<실시예 9: 2-메틸-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (9)의 제조>
9.1N-아세틸-2-브로모-4-플루오로-6-클로로-3-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IIc.5
화합물 IVc.1로부터 실시예 7.2에 기재된 제조 공정을 이용하여 표제 화합물 IIc.5를 제조하였다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.3 (d,1H), 7.1 (br.s,1H), 4.1 (s,3H), 2.2 (s,3H).
9.22-메틸-4-클로로-6-플루오로-7-(4-클로로-5-트리플루오로메틸-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤족사졸 (9)
화합물 IIc.5로부터 실시예 7.3에 기재된 제조 공정을 이용하여 벤족사졸 9를 제조하였다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.2 (d,1H), 4.1 (s,3H), 2.6 (s,3H).
<2-브로모-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린에 대한 제조 실시예>
2-브로모-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤젠으로부터 하기 기재된 합성 순서를 이용하여 실시예 1.2에서 사용된 2-브로보-4,6-디클로로-3-(4-브로모-5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 IVa.4를 제조하였다:
10.12,4-디클로로-5-(5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)니트로벤젠
3.0 g (10.2 mmol)의 1,3-디클로로-4-(5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)벤젠을 10 ml의 진한 황산에 용해시켰다. 0 ℃에서, 0.7 g (11.2 mmol)의 100 % 농도 질산을 적가하고, 이어서 혼합물을 0 ℃ 내지 10 ℃에서 1 시간 동안 교반하였다. 이어서 반응 혼합물을 얼음에 붓고 침전물을 흡입여과하고, 100 ml의 물로 세척하고 건조시켰다. 이로써 3.24 g의 니트로벤젠을 융점 134 - 137 ℃의 황색 고체로 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 8.4 (s,1H), 7,6 (s,1H), 6,6 (t,1H), 6.4 (s,1H), 3.8 (s,3H).
10.22,4-디클로로-5-(5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린
1.5 g (4.2 mmol)의 2,4-디클로로-5-(5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)니트로벤젠을 50 ml의 테트라히드로푸란 및 50 ml의 메탄올의 혼합물에 용해시키고 4 g의 라니 니켈과 혼합하였다. 혼합물을 실온 및 0.3 bar의 수소의 게이지 압력하에서 4 시간 동안 교반한 후 규조토를 통해 여과하였다. 여액을 황산 마그네슘을 이용하여 건조시킨 후 증발건조시켰다. 이로써 1.3 g의 아닐린을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3) δ(ppm) 7.4-7.1 (m,2H), 6.6 (t,1H), 6.4 (s,H), 4.1 (br,2H), 3.8 (s,3H).
10.32-브로모-4,6-디클로로-3-(5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐리드 IVa. 4
1 g (2.9 mmol)의 2,4-디클로로-5-(5-디플루오로메톡시-1-메틸-1H-피라졸-3-일)아닐린 및 2.4 g (29 mmol)의 아세트산 나트륨을 100 ml의 빙초산에 초기에 충전하고, 0.93 (5.6 mmol)의 브롬을 실온에서 적가하였다. 반응 혼합물을 밤새 교반한 후 농축하고, 잔류물을 톨루엔에 용해하고 50 ml의 5 중량% 농도의 수산화 나트륨 수용액으로 중성이 될 때까지 세척하였다. 이로써 1.3 g의 아닐린 IVa.4를 얻었다. 얻어진 생성물은 실시예 1.1에 따라 얻어진 화합물과 동일하였다.
<사용예>
화합물 II, IV 및 V의 제초 활성을 하기의 온실 실험으로 증명했다.
사용한 배양 용기는 하층토로서 약 3.0 % 부식토와 함께 양토질 모래로 채워진 플라스틱제 화분이었다. 시험 식물의 종자를 종별로 분리하여 파종하였다.
발아 전 처리의 경우에는, 파종한 후 활성 성분을 물에 현탁 또는 유화시켜서 미세 분산 노즐을 통해 직접 적용하였다. 발아 및 성장을 촉진하기 위하여 화분에 약간 관개한 후, 식물이 뿌리를 내릴 때까지 투명 플라스틱 후드로 덮어두었다. 이렇게 덮어두면 활성 화합물에 의해 손상을 받지 않는 한 시험 식물이 균일하게 발아하게 된다.
발아 후 처리에 있어서, 시험 식물을 먼저 성장 형태에 따라 3 내지 15 cm 의 높이로 성장시킨 후에야 물에 현탁 또는 유화시킨 활성 화합물로 처리하였다. 이 목적을 위하여, 시험 식물을 화분에 직접 파종해서 그 화분에서 성장시키거나, 또는 별도로 묘목으로 성장시킨 후 처리하기 수일 전에 시험 용기에 옮겨 심었다. 발아 후 처리를 위한 사용률은 31.3 g의 a.s./ha.이었다.
종에 따라, 식물을 10 내지 25 ℃ 또는 20 내지 35 ℃로 유지하였다. 시험 기간은 2 내지 4 주 동안 지속되었다. 이 기간 동안에, 식물을 돌보고 각종 처리에 대한 이들의 반응을 평가하였다.
평가는 0 내지 100의 등급으로 하였다. 100은 식물이 발아하지 않았거나 또는 적어도 지상 부분이 완전 사멸했음을 나타내고, 0은 손상되지 않거나 또는 정상적으로 성장하였음을 나타낸다.
온실 실험에 사용된 식물은 하기 종으로 이루어진다.
바이엘 (Bayer) 코드 일반명
AMARE 어저귀 (velvet leaf)
CHEAL 명나무 (lamb's-quarters)
BRAPL 마멀레이드 그래스 (marmalade grass)
SETFA 가을강아지풀 (giant foxtail)
실험한 화합물은 하기와 같았다:
31.3 g/ha의 사용률에서 화합물 IIa-17은 AMARE 및 CHEAL에 대해 매우 양호한 제초후 활성을 나타내였다.
31.3 g/ha의 사용률에서 화합물 IV.1은 AMARE, CHEAL, BRAPL 및 SETFA에 대해 매우 양호한 제초후 활성을 나타내었고, 15.6 g/ha의 사용률에서 BRAPL에 대해 매우 양호한 활성을 나타내었으며 SETFA에 대해 매우 양호 내지 양호한 활성을 나타내었다. 31.3 g/ha의 사용률 및 15.6 g/ha의 사용률 둘 다에서, 비교 화합물은 화합물 IVa.1보다 BRAPL 및 SETFA에 대해 낮은 제초 작용을 나타내었다.
건조/고엽 활성:
사용한 시험 식물은 온실 조건 (상대 습도 50 내지 70 %; 낮/밤 온도 27/20 ℃)하에서 성장한 4개의 잎 (떡잎이 없음)이 있는 어린 목화 식물이었다. 어린 목화 식물을 활성 화합물 IIa.17 또는 IVa.1의 수성 제제 (분무 혼합물을 기준으로 0.15 중량%의 지방 알코올 에톡실레이트 (바스프 악티엔게젤샤프트 (BASF Aktiengesellschaft)의 플루라팍 (PLURAFAC) LF 700))를 사용하여 식물의 잎에 흘러내릴 때까지 처리하였다. 사용한 물의 양은 1000 ℓ/ha (환산값)이었다. 13 일 후, 많은 잎이 떨어졌고 고엽 정도 (%)를 결정하였다. 처리하지 않은 대조군 식물에서는 잎이 떨어지지 않았다.

Claims (18)

  1. 화학식 II의 2-할로-3-(피라졸-3-일)아닐리드를 원소 주기율표 VIIa, VIIIa 또는 Ib 아족의 전이 금속 화합물 및 염기의 존재하에서 반응시켜 화학식 I의 화합물을 얻는 것을 포함하는, 화학식 I의 7-(피라졸-3-일)-벤족사졸의 제조 방법.
    <화학식 I>
    <화학식 II>
    상기 식에서,
    R1은 수소, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-할로알킬이고;
    R2는 시아노, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알킬티오, C1-C4-할로알킬티오, C1-C4-알킬술피닐, C1-C4-할로알킬술피닐, C1-C4-알킬술포닐 또는 C1-C4-할로알킬술포닐이고;
    R3은 수소, 할로겐, 시아노, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-할로알킬이고;
    R4는 할로겐이고;
    R5는 플루오르, 염소 또는 시아노이고;
    R6은 수소, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-할로알케닐, C2-C6-알키닐, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, C1-C4-시아노알킬, C1-C4-알킬티오-C1-C4-알킬, (C1-C4-알콕시)카르보닐-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬옥시-C1-C4-알킬, 페닐, 페닐-C1-C4-알킬, 4- 내지 7-원 헤테로시클릴 또는 헤테로시클릴-C1-C4-알킬이고, 여기서 각 시클로알킬 고리, 페닐 고리 및 헤테로시클릴 고리는 비치환되거나 또는 시아노, 니트로, 아미노, 히드록실, 카르복실, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알킬티오로 구성된 군으로부터 서로 독립적으로 선택되는 1, 2 또는 3개의 치환기를 가질 수 있고;
    X는 브롬 또는 요오드이다.
  2. 제1항에 있어서, 전이 금속 화합물이 구리, 망간, 팔라듐, 코발트 및 니켈의화합물로부터 선택되는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 전이 금속 화합물이 구리(I) 화합물로부터 선택되는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 전이 금속 대 사용한 화합물 II의 몰비가 0.05:1 내지 1:1의 범위인 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 염기는 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 알콕시드, 아미드, 수소화물, 수산화물, 중탄산염, 및 탄산염으로부터 선택되는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 II 화합물을 기준으로 등몰량 이상의 염기를 사용하는 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 II 화합물의 화학식 I 화합물로의 전환이 극성 비양성자성 용매 또는 용매 혼합물 중에서 수행되며, 상기 용매가 디메틸포름아미드 (DMF), 디메틸 술폭시드 (DMSO), N-메틸피롤리돈 (NMP), N,N-디메틸아세트아미드 (DMA), 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 피리딘 및 디메틸디에틸렌 글리콜 또는 트리에틸렌 글리콜 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것인 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    R1은 수소, 메틸 또는 에틸이고;
    R2는 시아노, 디플루오로메톡시, 트리플루오로메톡시 또는 메틸술포닐이고;
    R3은 할로겐이고;
    R4는 할로겐이고;
    R5는 플루오로, 염소 또는 시아노이고;
    R6은 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C2-C4-알케닐, C2-C4-할로알케닐, C2-C4-알키닐, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시카르보닐-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, 페닐-C1-C4-알킬, 4- 내지 7-원 헤테로시클릴 또는 헤테로시클릴-C1-C4-알킬이고, 여기서 페닐 고리, 시클로알킬 고리 및 헤테로시클릴 고리는 비치환되거나 또는 시아노, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬 및 C1-C4-알콕시로 구성된 군으로부터 선택된 1 또는 2개의 치환기를 가질 수 있는 화합물 II를 반응시키는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 화합물 II를 제조하기 위해
    i. 화학식 III의 3-(피라졸-3-일)아닐린을 할로겐화시켜 화학식 IV의 2-할로-3-(피라졸-3-일)아닐린을 얻는 단계,
    ii. 3-할로-2-(피라졸-3-일)아닐린 IV를 화학식 R6-C(O)-Y (식 중, Y는 이탈기임)의 아실화제와 반응시켜 화학식 II의 아닐리드 및(또는) 화학식 V의 디아실 화합물을 얻는 단계,
    iii. 적절할 경우, 화학식 V를 부분적으로 가용매분해시켜 화학식 II의 아닐리드를 얻는 단계
    의 공정 단계를 더 포함하는 방법.
    <화학식 III>
    <화학식 IV>
    <화학식 V>
    상기 식들에서,
    R1내지 R6및 X는 상기 정의된 바와 같다.
  10. 제9항에 있어서, R3및 X가 브롬인 화합물 II-A를 제조하기 위해 단계 i에서 화학식 III-A의 3-(피라졸-3-일)아닐린을 브롬화시켜 화학식 IV-A의 2-브로모-3-(4-브로모피라졸-3-일)-아닐린을 얻는 방법.
    <화학식 III-A>
    <화학식 IV-A>
    상기 식들에서,
    R1, R2, R4및 R5는 상기 정의된 바와 같다.
  11. 제10항에 있어서, 화합물 III-A를 제조하기 위해
    a. 화학식 VI-A의 3-(피라졸-3-일)벤젠을 니트로화시켜 화학식 VII-A의 3-(피라졸-3-일)-1-니트로벤젠을 얻는 단계,
    b. 화합물 VII-A을 환원제와 반응시켜 제10항에 따른 화학식 III-A의 3-(피라졸-3-일)아닐린을 얻는 단계
    의 공정 단계들을 더 포함하는 방법.
    <화학식 VI-A>
    <화학식 VII-A>
    상기 식들에서,
    R1, R2, R4및 R5는 상기 정의된 바와 같다.
  12. 제9항에 따른 화학식 II, IV 또는 V의 화합물 및 그의 농업적으로 허용되는 염.
  13. 제12항에 있어서,
    R1이 수소, 메틸 또는 에틸이고;
    R2가 시아노, 디플루오로메톡시, 트리플루오로메틸 또는 메틸술포닐이고;
    R3이 할로겐이고;
    R4가 할로겐이고;
    R5가 플루오르, 염소 또는 시아노이고;
    R6이 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C2-C4-알케닐, C2-C4-할로알케닐, C2-C4-알키닐, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시카르보닐-C1-C4-알킬, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-시클로알킬-C1-C4-알킬, 페닐, 페닐-C1-C4-알킬, 4- 내지 7-원 헤테로시클릴 또는 헤테로시클릴-C1-C4-알킬이고, 여기서 페닐 고리, 시클로알킬 고리 및 헤테로시클릴 고리는 비치환되거나 또는 시아노, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬 및 C1-C4-알콕시로 구성된 군으로부터 선택되는 1 또는 2개의 치환기를 가질 수 있는 화합물.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, X가 브롬인 화합물.
  15. 제12항, 제13항 또는 제14항에 있어서, R2가 디플루오로메톡시인 화합물.
  16. 제12항에 따른 화학식 II, IV, 및(또는) V의 화합물 및 그의 농업적으로 유용한 염의 제초제로서 또는 식물의 탈수/고엽을 위한 용도.
  17. 제초 유효량의 제12항에 따른 화학식 II, IV 또는 V의 화합물 1종 이상 또는 화합물 II, IV 또는 V의 농업적으로 유용한 염 및 1종 이상의 불활성 액체 및(또는) 고체 담체 및 필요하다면 1종 이상의 계면활성제를 포함하는 조성물.
  18. 제초 유효량의 제12항에 따른 화학식 II, IV 또는 V의 화합물 1종 이상 또는 제12항에 따른 화합물 II, IV 또는 V의 농업적으로 유용한 염을 식물, 그의 서식지 또는 종자에 작용하도록 하는 것을 포함하는, 원치않은 식물의 방제 방법.
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