KR20020050894A - 피에조 어레이의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 프로젝션 엔진에서 사용되는 반도체 처리기술 분야에 적용되어 피에조 어레이(piezo. array)의 상부를 모두 연결하지 않고 상부의 공통부분(common)을 잡아 멤브레인(membrane)에 의한 변위감소 및 표면의 균일성을 개선하는 피에조 어레이(piezo. array)의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법에 관한 것으로서, 어레이(array)의 에지(edge) 일부에 스텝(step)형의 비아 홀(hole)을 형성하고, 이를 통해 상부 전극을 하부로 끌어내리고, 이를 에어 갭(air gap)에 형성되는 금속 라인(metal line)을 통해 모두 연결하고 공통부분(common)으로 설정하는 것이다.

Description

피에조 어레이의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법{Embodiment method for uniform surface and maximum displacement of piezo. array}

본 발명은 피에조 어레이(piezo. array)의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 프로젝션 엔진에서 사용되는 반도체 처리기술 분야에 적용되어 피에조 어레이(piezo. array)의 상부를 모두 연결하지 않고 상부의 공통부분(common)을 잡아 멤브레인(membrane)에 의한 변위감소 및 표면의 균일성을 개선하는 피에조 어레이(piezo. array)의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법에 관한 것이다.

일반적으로, 피에조 어레이(piezo. array)의 변위는 최대로 하여 기기의 성능을 향상시키고자 하는 노력이 계속되고 있다.

또한, 기기의 반복적인 구동에 따라 어레이의 균일성이 저하되는데, 이와 같이 균일성이 저하되는 것을 해결하기 위한 노력이 진행중이다. 또한, 기기의 사용에 따라 이미지 디그리데이션(image degradation) 및 표면 랜덤 스캐터링(surface random scattering)을 방지하기 위한 노력이 진행중이다.

한편, 피에조 어레이(piezo. array)의 상부 공통부분(common)을 위해 사용되는 멤브레인(membrane) 층의 반복구동에 따른 피로(fatigue) 현상 및 랜덤 스캐터링(random scattering)에 따른 콘트라스트(contrast) 저하 및 비균일한 표면이 되는 것을 방지하기 위하여 멤브레인(membrane) 없이 상부 공통부분(common)을 잡는 방법이 제시되고 있다.

도 1은 종래 기술에 의한 피에조 어레이(piezo. array)의 구성을 설명하기 위한 단면도이다.

상기 첨부도면 도 1을 참조하면, 종래 기술에서는 피에조 어레이(piezo. array)의 상부 공통부분(common)을 위해 모든 어레이의 상부를 멤브레인(membrane;4)으로 연결하였다.

도 1에서와 같이 피에조 어레이(piezo. array)가 인가되는 전기적 신호에 의해 반복적으로 구동을 하게 되면 브리지 영역(bridge area)으로 표시된 영역은 피로(fatigue) 현상이 발생하여 상부 공통부분(common)이 끊어질 확률이 높게 되는 문제점이 발생된다.

또한, 반복 구동에 대한 멤브레인(membrane)의 변형이 완전히 복구되지 않고 남아있게 되어 신호가 인가되지 않는 상황에서도 미러 표면(mirror surface)의 평탄도(flatness)가 변형되고 그 부분에서 랜덤 스캐터링(random scattering)이 생겨 콘트라스트(contrast)가 떨어지는 현상이 발생되는 문제점이 있다.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그 목적은 피에조 어레이(piezo. array)의 상부를 모두 연결하지 않고 상부의 공통부분(common)을 잡아 멤브레인(membrane)에 의한 변위감소 및 표면의 균일성을 개선하는 피에조 어레이(piezo. array)의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법을 제공하는데 있다.

도 1은 종래 기술에 의한 피에조 어레이(piezo. array)의 구성을 설명하기 위한 단면도.

도 2는 본 발명에 의한 피에조 어레이(piezo. array)의 구성을 설명하기 위한 단면도.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 어레이(array)의 에지(edge) 일부에 스텝(step)형의 비아 홀(hole)을 형성하고, 이를 통해 상부 전극을 하부로 끌어내리고, 이를 에어 갭(air gap)에 형성되는 금속 라인(metal line)을 통해 모두 연결하고 공통부분(common)으로 설정하는 것을 특징으로 하는 피에조 어레이(piezo. array)의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법을 제공한다.

이때, 본 발명의 부가적인 특징에 따르면, 상기 상부 전극은 하부 전극과 절연(isolation) 되는 것이 바람직하다.

본 발명의 상술한 목적과 여러 가지 장점은 이 기술 분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 후술되는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 기술하고자 한다.

도 2는 본 발명에 의한 피에조 어레이(piezo. array)의 구성을 설명하기 위한 단면도이다.

상기 첨부도면 도 2를 참조하면, 어레이의 에지(edge) 일부에 스텝(step)형의 비아 홀(hole)을 형성하고, 이를 통해 상부 전극(15)을 하부로 끌어내리고, 이를 에어 갭(air gap)에 형성되는 금속 라인(metal line)(16)을 통해 모두 연결하고 공통부분(common)으로 설정한다.

이때, 상기 상부 전극(15)은 하부 전극(12)과 반드시 절연(isolation)시켜야 한다.

상기와 같은 구성을 통해 멤브레인(membrane;14)의 피로(fatigue) 현상에 의한 표면의 평탄도(surface flatness)를 개선할 수 있게 된다.

또한, 미러 어레이(mirror array)의 에지(edge) 부분 및 평탄(flat)하지 않은 표면(surface)에서 생기는 랜덤 스캐터링(random scattering)에 의한 이미지 퀄리티(image quality)의 저하를 방지할 수 있게 된다.

또한, 멤브레인(membrane;14)에 의해 구동시 피에조 매트리얼(piezo. meterial)의 변위 홀딩 효과(holding effect)를 해소할 수 있게 된다.

이상의 설명에서 본 발명은 특정의 실시 예와 관련하여 도시 및 설명하였지만, 특허청구범위에 의해 나타난 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 개조 및 변화가 가능하다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 쉽게 알 수 있을 것이다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 피에조 어레이(piezo. array)의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법은 피에조 어레이의 상부를 모두 연결하지 않고 상부의 공통부분(common)을 잡음으로써 멤브레인(membrane)에 의한 변위감소 및 표면의 균일성을 개선하게 되고, 미러 어레이(mirror array)의 에지(edge) 부분 및 평탄(flat)하지 않은 표면(surface)에서 생기는 랜덤 스캐터링(random scattering)에 의한 이미지 퀄리티(image quality)의 저하를 방지할 수 있게 되는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 어레이(array)의 에지(edge) 일부에 스텝(step)형의 비아 홀(hole)을 형성하고, 이를 통해 상부 전극을 하부로 끌어내리고, 이를 에어 갭(air gap)에 형성되는 금속 라인(metal line)을 통해 모두 연결하고 공통부분(common)으로 설정하는 것을 특징으로 하는 피에조 어레이(piezo. array)의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 상부 전극은 하부 전극과 절연(isolation) 된 것을 특징으로 하는 피에조 어레이(piezo. array)의 균일한 표면 및 최대 변위 구현방법.