JP2693882B2 - 反応性イオンエッチング装置 - Google Patents
反応性イオンエッチング装置Info
- Publication number
- JP2693882B2 JP2693882B2 JP23419891A JP23419891A JP2693882B2 JP 2693882 B2 JP2693882 B2 JP 2693882B2 JP 23419891 A JP23419891 A JP 23419891A JP 23419891 A JP23419891 A JP 23419891A JP 2693882 B2 JP2693882 B2 JP 2693882B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- reactive ion
- ion etching
- faceted
- counter electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は反応性イオンエッチング
装置に関する。
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の反応性イオンエッチング装置は、
図２に示すように、エッチング室１を構成する対向電極
２とこの内に設けられた多角柱状の多面電極（陰極）３
Ａとからなり、エッチング室１内にガス導入管５よりエ
ッチングガスを導入し、高周波電源６により電極間に高
周波を印加して多面電極３Ａ上に保持された半導体基板
４の表面をエッチングするように構成されていた。そし
て、多面電極３Ａと対向電極２の表面は平行となってい
た。
図２に示すように、エッチング室１を構成する対向電極
２とこの内に設けられた多角柱状の多面電極（陰極）３
Ａとからなり、エッチング室１内にガス導入管５よりエ
ッチングガスを導入し、高周波電源６により電極間に高
周波を印加して多面電極３Ａ上に保持された半導体基板
４の表面をエッチングするように構成されていた。そし
て、多面電極３Ａと対向電極２の表面は平行となってい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の反応性
イオンエッチング装置は、多面電極が対向電極に対して
平行であるため、エッチング室上層部に存在するプラズ
マが多面電極上部に集中する。従って多面電極の各面で
の単位面積当りのプラズマの量が異なるため、エッチン
グ特性が不均一になるという欠点がある。本発明の目的
は、均一なエッチング特性を得ることのできるプラズマ
エッチング装置を提供することにある。
イオンエッチング装置は、多面電極が対向電極に対して
平行であるため、エッチング室上層部に存在するプラズ
マが多面電極上部に集中する。従って多面電極の各面で
の単位面積当りのプラズマの量が異なるため、エッチン
グ特性が不均一になるという欠点がある。本発明の目的
は、均一なエッチング特性を得ることのできるプラズマ
エッチング装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の反応性イオンエ
ッチング装置は、半導体基板を支持する多面電極の上部
にいくにつれて、多面電極と対向電極間の距離が長くな
る形状を有する。
ッチング装置は、半導体基板を支持する多面電極の上部
にいくにつれて、多面電極と対向電極間の距離が長くな
る形状を有する。
【０００５】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の一実施例の構成図である。
る。図１は本発明の一実施例の構成図である。
【０００６】図１において、エッチング室１は半導体基
板を支持する多面電極（陰極）３と、これに対向する電
極（陽極）２とで主に構成され、このエッチング室１の
底面部には複数のガス導入管５とガス排気孔７とを有
し、また多面電極３に高周波電源６が接続されている。
そして多面電極３は多角形錐状に形成されており、上部
にいくにつれて多面電極３と対向電極２との距離が長く
なるように構成されている。
板を支持する多面電極（陰極）３と、これに対向する電
極（陽極）２とで主に構成され、このエッチング室１の
底面部には複数のガス導入管５とガス排気孔７とを有
し、また多面電極３に高周波電源６が接続されている。
そして多面電極３は多角形錐状に形成されており、上部
にいくにつれて多面電極３と対向電極２との距離が長く
なるように構成されている。
【０００７】エッチング室１内にガス導入管５より、エ
ッチングガスを導入しながら、ガス排気孔７より排気し
てエッチング室１を真空に保ち、高周波電源６より高周
波電圧を多面電極３と対向電極２間に印加し、この間の
ガスをプラズマ化して多面電極に保持された半導体基板
４の表面をエッチングする。この時、多面電極３の上部
にいくにつれて多面電極３と対向電極２との距離が長く
なる形状となっているため、多面電極３の各面での単位
面積当りのプラズマの量が一定となり、多面電極３の各
面に支持されている半導体基板４は均一にエッチングさ
れる。
ッチングガスを導入しながら、ガス排気孔７より排気し
てエッチング室１を真空に保ち、高周波電源６より高周
波電圧を多面電極３と対向電極２間に印加し、この間の
ガスをプラズマ化して多面電極に保持された半導体基板
４の表面をエッチングする。この時、多面電極３の上部
にいくにつれて多面電極３と対向電極２との距離が長く
なる形状となっているため、多面電極３の各面での単位
面積当りのプラズマの量が一定となり、多面電極３の各
面に支持されている半導体基板４は均一にエッチングさ
れる。
【０００８】尚、上記実施例においては多面電極３を上
にゆく程小さくなるように形成した場合について説明し
たが、多面電極を従来と同様に形成し、対向電極を上に
ゆく程広く形成してもよい。
にゆく程小さくなるように形成した場合について説明し
たが、多面電極を従来と同様に形成し、対向電極を上に
ゆく程広く形成してもよい。
【０００９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半導体基
板を支持する多面電極の上部にいくにつれて、多面電極
と対向電極との距離が長くなるように構成することによ
り、多面電極の各面での単位面積当りのプラズマ量が一
定となるため、電極面に支持された半導体基板表面を均
一にエッチングできるという効果がある。
板を支持する多面電極の上部にいくにつれて、多面電極
と対向電極との距離が長くなるように構成することによ
り、多面電極の各面での単位面積当りのプラズマ量が一
定となるため、電極面に支持された半導体基板表面を均
一にエッチングできるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例の構成図。
【図２】従来の反応性イオンエッチング装置の一例の構
成図。
成図。
１ エッチング室 ２ 対向電極 ３，３Ａ 多面電極 ４ 半導体基板 ５ ガス導入管 ６ 高周波電源 ７ ガス排気孔
Claims (1)
- 【請求項１】 エッチング室を構成す対向電極とこのエ
ッチング室内に設けられ複数の半導体基板を保持する多
面電極とを有する反応性イオンエッチング装置におい
て、前記多面電極と対向電極とは、上部にいくにつれて
多面電極と対向電極間の距離が長くなるように形成され
ていることを特徴とする反応性イオンエッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23419891A JP2693882B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 反応性イオンエッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23419891A JP2693882B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 反応性イオンエッチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0574738A JPH0574738A (ja) | 1993-03-26 |
| JP2693882B2 true JP2693882B2 (ja) | 1997-12-24 |
Family
ID=16967227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23419891A Expired - Lifetime JP2693882B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 反応性イオンエッチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2693882B2 (ja) |
-
1991
- 1991-09-13 JP JP23419891A patent/JP2693882B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0574738A (ja) | 1993-03-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970805 |