JPS6366909B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は高周波電源に接続した電極にシリコン
ウエハ等の基板を取付け、これに均一にエツチン
グを施す方法に関する。

（従来の技術） 従来、基板に高周波電源によりエツチングする
ことは行なわれており、基板に施されるエツチン
グが不均一になると陽極と陰極の電極間距離を変
えることも行なわれている。

（発明が解決しようとする問題点） 電極間距離を変えてエツチングの不均一を修正
すると、調節したい個所以外のエツチング速度が
変えられてしまうことが多く、基板全体を均一に
エツチングするための調節が容易でない。本発明
はエツチングの速度を簡単に部分的に調節して基
板全体の均一なエツチングを行なう方法を提供す
ることを目的とするものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明では、平板状の陽極と陰極を真空室内に
平行して設け、該陰極を高周波電源に接続し、該
陰極に設けた基板にエツチングを施すようにした
ものに於て、該陽極の前面に間隔を存してこれと
同電位で且つグロー放電が侵入する多数の孔部を
備えた多孔平板を設け、基板のエツチング速度の
低い個所の多孔平板と陽極との距離を大きくする
ように調節し、その速度の高い個所の該距離を小
さくするように調節するようにした。

（作用） 高周波電源よりの通電により陽極と基板を取付
けた陰極との間にグロー放電が発生するが、該グ
ロー放電は陽極の前方に設けた該陽極と同電位の
多孔平板の孔内に入り込み、該孔内のグローは孔
の内壁間を往復する電子によつて強いグローにな
る。しかも多孔平板の背後の近くに陽極が存在す
ると該孔を通して大きくグローは拡がらないが、
その背後の近くに陽極がないと該孔を通して大き
くグローが拡がり、そのグローも強くなるので基
板のエツチングの速度が遅い個所に対向する多孔
平板を陽極から離し、陰極に接近させればその個
所のエツチング速度を速くすることが出来る。

（実施例） 本発明の実施例を図面につき説明すると、第１
図に於て１は真空室、２，３は該真空室１内に互
に平行して設けた平板状の陽極と陰極で、該陰極
３は高周波電源４に接続され、陽極２はアースに
接続される。５は陰極３に取付けした基板を示
し、該真空室１内を真空化して高周波電源４より
電力を投入すると、陽極２と陰極３の間でグロー
放電が発生し、放電領域内で生じたイオンが陰極
３の基板５に突入してその表面をエツチングす
る。

こうしたエツチング方法は従来のエツチング装
置と同様であり、この構成では基板のある個所の
エツチング速度を速めるために陽極と陰極の間隔
を調節すると他の個所のエツチング速度が変わり
基板全体のエツチング速度の均一化は困難である
が、本発明に於ては該陽極２の前面に間隔を存し
てこれと同電位の多孔平板６を設け、該陽極２と
多孔平板６との距離をエツチング速度の低い個所
では大きく、またその速度の高い個所では小さく
調節することにより均一なエツチング速度が得ら
れるようにした。

該多孔平板６の詳細は第２図示の如くであり、
グロー放電７は例えば該多孔板６の孔部６ａの口
径が陽極シースの厚味ｄの２倍以上であれば該孔
部６ａに入り込む。該孔部６ａ内に於けるグロー
放電は、該孔部６ａの内壁間を電子が往復するた
めに比較的強いグローになる。

またこの孔内に入り込んだグローは、多孔平板
６の背後の空間に何もない場合、第２図Ａに示す
ように孔部６ａを通して背後へと拡がりその強度
も高くなるが、背後に第２図Ｂに示すように陽極
２が接近して位置するとグローは孔部６ａを通し
て拡がることがなくその強度も弱くなる。

従つて、例えば第３図示のように陽極２と陰極
３間に配置した基板５の位置、、に於ける
エツチングの速度が第４図に見られるように位置
、で次第に遅くなる場合、第１図示のように
多孔平板６をエツチング速度が遅くなる側が陽極
２から大きく離れるように傾けて設置すれば、第
５図示のように基板５の各位置、、のエツ
チングを均一化出来る。

尚、第１図示のエツチング装置に於て陽極２と
陰極３の距離は15mmであり、真空室１内には
CHF₃のガスを0.075Torrの圧力に導入し、高周
波電力密度が0.25W／cm²となるように電源４から
電力を与え、多孔平板６には直径３mmの孔部６ａ
を５mm間隔で千鳥状に配列した。

陽極２と多孔平板６はそのいずれかを第６図又
は第７図示の如く湾曲させ、また陰極３を回転さ
せるように構成してもよい。

（発明の効果） このように本発明によるときは、陽極の前面に
多孔平板を設け、これと陽極との距離をエツチン
グ速度の低い個所で大きく、速い個所では小さく
調節するようにしたので、陽極から離れた該多孔
平板の孔部には強いグロー放電を発生させ得、多
孔平板であるのでこれを曲げて陽極との距離を調
節出来、簡単に基板全体を均一にエツチングする
ように調節出来る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の説明線図、第２図は
グロー放電状態の説明図、第３図は一般的エツチ
ング装置の説明線図、第４図は第３図のエツチン
グ速度の線図、第５図は第１図示の場合のエツチ
ング速度の線図、第６図及び第７図は本発明の他
の実施例の説明線図である。 １……真空室、２……陽極、３……陰極、４…
…高周波電源、５……基板、６……多孔平板。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 平板状の陽極と陰極を真空室内に平行して設
   け、該陰極を高周波電源に接続し、該陰極に設け
   た基板にエツチングを施すようにしたものにした
   ものに於いて、該陽極の前面に間隔を存してこれ
   と同電位で且つグロー放電が侵入する多数の孔部
   を備えた多孔平板を設け、基板のエツチング速度
   の低い個所の多孔平板と陽極との距離を大きくす
   るように調節し、その速度の高い個所の該距離を
   小さくするように調節することを特徴とする高周
   波エツチングの均一化方法。