KR20020047283A - 기판 처리용 유닛 - Google Patents

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KR20020047283A
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엘거쥐르겐
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마이클 골위저, 호레스트 쉐퍼
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Abstract

본 발명은 기판을 운송하기 위한 운송 시스템 뿐만 아니라 다수의 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)을 포함하는 기판 처리용 플랜트에 관련된 것이다. 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3) 각각에는 등록 시스템이 할당되고, 이 등록 시스템을 가지고, 기판에 의한 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 점유를 결정하기 위하여, 각각의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)에 대한 기판의 공급과 배출이 등록되어질 수 있다. 상기 점유를 바탕으로, 각 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)의 공급 또는 배출 요구가 생성될 수 있다.

Description

기판 처리용 유닛{UNIT FOR PROCESSING WAFERS}
이러한 형태의 플랜트는 많은 수의 제조 유닛을 포함하며, 이 제조 유닛을 이용해서 상이한 제조 공정들이 TNGOD될 수 있다. 이러한 제조 공정은, 특히, 에칭 공정, 습식 화학 공정, 확산 공정 그리고 CMP(Chemical Mechanical Polishing)와 같은 다양한 세정 공정들이다. 이러한 공정의 각각에 대해서, 하나 이상의 제조 유닛이 제공되고, 이 제조 유닛 안에서 제조 공정의 다양한 제조 단계가 수행된다.
또한, 이러한 플랜트는 많은 수의 측정 유닛을 포함하고 있다. 측정 유닛에서는, 제조 공정의 하나 이상의 제조 단계의 처리 품질이 검사된다.
전체 제조 공정은 엄격한 청정 요건 하에서 이루어져야 하기 때문에 제조 유닛과 측정 유닛은 청정실 또는 청정실 시스템내에 배치된다.
카세트로 설계된 컨테이너에 담긴 기판은 미리 정해진 배치 크기로 운송 시스템을 통해서 개별 제조 유닛에 공급된다. 또한, 이러한 기판의 처리후에 카세트의 외부로의 운송은 운송 시스템에 의해서 수행된다.
운송 시스템은 전형적으로, 예를 들어, 롤러 컨베이어의 형태인 다수의 컨베이어를 다수 개 갖는 컨베이어 시스템을 가진다. 이런 경우에, 기판을 가지고 있는 카세트는 롤러 컨베이어에 지지된 채로 이송된다. 또는, 컨베이어 시스템(5)은 또한 연속적인 컨베이어, 서스펜션 컨베이어 등과 같은 것을 포함하기도 한다.
이런한 형태의 플랜트를 제어하기 위해서, 재료 배열 시스템이 주로 제공된다. 이러한 재료 배열 시스템에 의해서, 특정 수의 기판은 저장소 등에서 이송되어 배치(batch)로 묶인다. 개별 배치에 대해서, 작업 계획이 수립되며 이 작업 계획은 기판이 플랜트를 통과하면서 개별 제조 유닛과 측정 유닛에서 기판에 실시될 개별 처리 단계를 포함하고 있다. 또한, 개별 기판에 대한 우선 순위의 할당은 재료 배열 시스템에 의해서 행해진다. 이렇게 우선 순위를 할당함으로써, 다른 배치의 기판들에 대한 처리 순서가 특정된다.
마지막으로, 기판은 재료 배열 시스템에 의해서 운송 시스템에 공급되고, 이 운송 시스템에 의해서 개별 제조 유닛과 측정 유닛에 대한 기판을 담고 있는 컨테이너의 공급이 이루어 진다. 여기서, 운송 시스템 상의 컨테이너는 미리 정의된 배치 관련 운송 작업을 로딩 받는다. 운송 작업은, 특히, 개별 컨테이너의 목적지를 담고 있고 이 목적지는 제조 유닛들과 측정 유닛들이 된다.
이러한 운송 작업에 기초하여, 컨테이너는 개별 목적지에 공급된다. 제조 유닛 또는 측정 유닛이 정상 작동중이 아닌 경우만 재료 배열 시스템에 이상 신호가 보내지고 그래서 더 이상의 기판 공급이 중지된다. 그러나 여기서 단점은 운송작업이, 제조 유닛과 측정 유닛이 작동 중이지만 이미 과 부하인 경우에도, 여전히 이송 작업이 개별 제조 유닛과 측정 유닛에 제공될 수 있다는 것이다. 이런 경우에, 관련된 제조 유닛과 측정 유닛 앞에 기판이 늘어선다. 이 경우 기판의 처리 동안 발생하는 대기 시간으로 인해서, 기판이 플랜트를 통과하는 시간이 바람직스럽지 못하게 증가하고 이 것의 결과로, 특히, 기판의 제조 비용이 또한 증가한다.
본 발명은 청구항 1 의 전제부에 따른 기판 처리용 플랜트에 관한 것이다.
발명은 도면을 사용해서 아래에 설명될 것이다.
도 1은 처리 스테이션의 배열이 제공된 기판 처리용 플랜트를 개략적으로 도시하고 있다.
도 2는 도 1에 따른 플랜트의 시퀀스 제어와 관련된 요소들의 블록도를 도시하고있다.
도 3은 도 1에 따른 플랜트의 제조 유닛과 측정 유닛에 장착된 등록 시스템을 개략적으로 도시한다.
본 발명은 기판이 플랜트안에서 처리되는 동안 기판의 통과 시간이 최대한 단축되도록 도입부에서 언급한 형태의 플랜트를 고안하는 목적을 바탕으로 하고 있다.
이러한 목적을 달성하기 위해서, 청구항 1의 특징이 제공된다. 본 발명의 장점이 있는 실시예와 유용한 개선점은 종속항에 설명되어 있다.
본 발명에 따르면, 플랜트의 제조 유닛과 측정 유닛은 각각 등록 시스템을 할당 받고, 이 등록 시스템을 이용해서, 기판에 의한 제조 유닛과 측정 유닛의 점유를 결정하기 위해서, 각각의 제조 유닛과 측정 유닛의 기판 공급과 배출이 등록되어진다. 이 점유를 바탕으로, 각각의 제조 유닛 또는 측정 유닛에 대한 공급 또는 배출 요구가 생성된다.
따라서 등록 시스템은, 특히, 제조 유닛 또는 측정 유닛에 공급되는 또는 이곳으로 부터 배출되는 기판을 세는데 사용되는 센서 배열을 포함하고 있다. 동시에, 특별히 유리하게 개별 기판 또는 기판을 담아 이송하는 컨테이너가 식별될 수있다. 등록 시스템에 저장된 정보를 바탕으로, 개별 제조 유닛과 측정 유닛에 대한 공급과 배출 요구가 개별 제조 유닛 및 측정 유닛과 연결되어 있는 제어 스테이션에서 바람직하게 생성된다. 제어 스테이션에 알려진, 개별 제조 유닛과 측정 유닛의 용량의 사용 정도를 이용함으로써, 제조 유닛과 측정 유닛은 적절한 운송 작업의 선택에 의해서 적절한 수의 기판을 공급받는다. 기판은 등록 시스템에서 적절하게 식별될 수 있기 때문에, 제조 유닛과 측정 유닛 안에서 개별 기판의 공급은, 현재의 처리 상태와 관련하여 그리고 제조 유닛과 측정 유닛에서 실시될 수 있는 처리 단계에 따라서, 최적화된 방법으로 실시되어 질 수 있다.
결과적으로, 개별 제조 유닛과 측정 유닛의 앞에서 기판의 대기 시간은 크게 줄어들 수 있고, 제조 유닛과 측정 유닛의 처리 용량은 최적으로 이용될 수 있다.
등록 시스템은 현재의 제조 유닛과 측정 유닛에 장착될 수 있는 모듈일 수 있는 것이 특별한 장점이다.
사용중에 있는 알려진 제조 유닛과 측정 유닛을 이용해서, 이들의 이용 가능한 처리 용량은 등록될 수 없다. 또한, 이러한 정보를 내보낼 수 있는 인터페이스가 없다. 이러한 정보를 이용하기 위해서, 제조 유닛과 측정 유닛이 주요한 점에서 재설계될 필요가 있고, 이것은 상당히 큰 디자인 변화를 유발한다. 이것은 상당한 투자 비용을 유발하고 또한 많은 시간의 소비일 것이다.
그러나, 모듈 형태인 등록 시스템을 이용하면, 제조 유닛과 측정 유닛의 기능적인 영역이 빠르게 그리고 큰 재정 지출 없이 확대될 수 있다.
기판 처리 플랜트가 도 1에 간략하게 도시되어 있다. 플랜트는 복수 개의 처리 스테이션(1)을 구비하고 처리 스테이션(1)에는 한 개 이상의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)이 제공되어 있다.
제조 유닛(2)은, 기판을 처리하기 위해 필요한 제조 공정 중의 상이한 제조 단계들을 실시하기 위해서 사용된다. 이러한 제조 공정은, 특히, 에칭 공정, 습식 화학 공정, 확산 공정 그리고 세정 공정을 포함하고 있다. 개별 제조 공정에 대해서, 한 개 이상의 제조 유닛(2)이 실시될 제조 단계의 수와 대응하도록 제공될 수 있다.
측정 유닛(3)은 개별 제조 유닛(2)에서 실시된 제조 단계의 공정 품질을 조사하기 위해서 사용된다.
개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)이 제공되어 있는 처리 스테이션(1)은 청정실(4)에 배치되어 있고 운송 시스템에 의해서 서로 연결되어 있다. 또는, 처리 스테이션(1)이 청정실(4) 시스템에 분산될 수 있다.
운송 시스템은 복수개의 컨베이어(5a)가 제공되어있는 컨베이어 시스템(5)을 가지며 컨베이어 시스템(5)은 개별 처리 스테이션(1)에 기판을 제공한다. 여기서, 기판은 컨테이너(6)에 실려서 운송되며, 이 컨테이너(6)는 카세트로 설계되는 것이 바람직하다. 컨베이어(5a)는 롤러 컨베이어 또는 연속 컨베이어 등의 형태가 이용될 수 있다. 기판을 이송하기 위한 이송 스테이션 등이 컨베이어(5a) 사이에 제공될 수 있다. 또한, 운송 시스템은 저장 시스템(도시되지 않음)을 구비하며, 저장 시스템은 청정실(4)에 분산되어 있는 복수 개의 저장소를 포함하고 있다. 이러한 저장소는, 특히, 스톡커(stocker)의 형태로 될 수 있다. 이러한 저장소 안에, 기판이 제공되어 있는 컨테이너(6)가 일시적으로 저장된다. 예를 들어, 개별 제조 유닛(2)에서 잘못 처리된 기판을 담고 있는 컨테이너(6)는 거기에 일시적으로 저장될 수 있다. 적절한 시기에, 이것들은 재작업되기 위해서 저장소에서 이송되어져 특정 제조 유닛(2)에 공급된다.
도 2는 기판을 처리하기 위한 플랜트의 시퀀스 제어와 관련된 블록도를 도시하고 있다. 중앙 생산계획 및 제어 시스템(7)은 공정 제어 시스템(8)과 연결되어 있다. 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)이 제공되어 있는 개별적인 처리 스테이션(1)은 공정 제어 시스템(8)에 연결되어있다. 또한, 컨베이어 콘트롤러(9)는 공정 제어 시스템(8)에 연결되어 있고, 컨베이어 콘트롤러(9)는 운송 시스템의 컨베이어시스템(5)에 연결되어 있다.
앞에서 언급한 플랜트의 구성요소들 각각은 적어도 하나의 컴퓨터 유닛을 가지고 있다. 개별적인 구성요소 사이의 연결은, 각각의 경우에, 이 구성요소의 개개의 컴퓨터 유닛사이의 양방향 데이터 라인으로 구성된다.
생산계획 및 제어 시스템(7)은 용량을 결정하기 위해서 그리고 전체 플랜트에 대한 수요를 결정하기 위해서 사용된다. 개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에서 기판을 처리하기 위한 용량과 수요는 몇일에서 몇주 정도의 시간 전에 미리 계획된다. 이 계획은 이러한 목적에 특별히 적합한 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 특정 제조 단계를 할당하기 위해서 쓰인다.
또한, 기판 처리를 위한 제조 작업들과 작업 계획들은 생산 계획 및 제어 시스템(7)에서 만들어진다.
공정 제어 시스템(8)에 있어서, 처리 공정의 시작 시점에, 복수개의 기판은 모여서 배치로 되고 한 배치의 기판들은 하나의 컨테이너(6)에 수용된다. 이 목적을 위해서, 적절한 기판이 공정 제어 시스템(8)에 의해서 저장소로부터 이송되어, 수작업 또는 기계에 의해서, 컨테이너(6)에 수용되어진다.
생산 계획 및 제어 시스템(7)으로부터 개별 작업 계획과 제조 작업이 공정 제어 시스템(8)으로 읽혀지고 저장되고 관리된다. 작업 계획과 제조 작업으로부터, 개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3) 안에서 실시될 제조 단계들의 규정을 위해서 필요한 파라미터가 공정 제어 시스템(8)에 의해서 생성되고 상기 유닛 안으로 읽힌다. 마지막으로, 개별 기판에 대한 각각의 다음 처리 단계가 이 처리 단계를위한 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3) 안에서 수행될 수 있을 지에대한 검토가 공정 제어 시스템(8)에서 이루어진다.
또한, 공정 제어 시스템(8)안에 있는 데이타를 이용함으로써, 개별 기판이나 개별 배치의 처리에 대한 우선 순위가 결정되며, 이 계획은 일반적으로 몇분에서 몇 시간내에 변한다. 기판의 우선 순위 결정은, 이 경우에, 특히 기판의 처리 상태에 달렸다.
플랜트의 컨베이어 시스템(5)은 공정 제어 시스템(8)의 기정의에 따른 컨베이어 콘트롤러(9)에 의해서 제어된다. 이 목적을 위해서, 컨베이어 콘트롤러(9)는 컨베이어 시스템(5)의 구동 요소를 제어하기 위한 다수개의 모터와 전송기를 가지고 있다.
본 발명에 따르면, 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3) 각각에는 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)에 대한 기판의 공급과 배출이 등록될 수 있도록 하는 등록 시스템이 할당되어 있다. 이 데이타로부터, 기판이 공급되어진 개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 점유가 결정되어 진다. 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)이 연결되어 있는 공정 제어 시스템(8)에 있어서, 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 점유는 공급과 배출 요청을 만들어 내기위해서 사용된다. 이와 같은 공급과 배출 요청을 사용하면서, 공정 제어 시스템(8)에 있어서, 이와 같은 요청에 따라 적절한 수의 기판을 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 공급하거나 이송하기 위하여 운송 작업이 운송 시스템에 로딩되어진다.
또한, 원칙적으로 이러한 등록 시스템은 저장 시스템의 저장소에 할당될 수있다.
본 실시예에서, 등록 시스템은 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 기능을 제한하지 않으면서 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 장착될 수 있는 모듈을 포함하고 있다. 따라서 모듈은 현재 사용중인 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 쉽게 장착될 수 있다.
이러한 등록 시스템의 한 가지 예가 도면 3에 도시되어 있다. 도 3은 제조 유닛(2)이 제공되어 있는 처리 스테이션 1을 도시한다. 기판의 공급과 배출은 로딩 및 언로딩 스테이션을 통해서 행해진다. 로딩 및 언로딩 스테이션은 기판을 제조 유닛(2)에 공급하는 로딩 포트(10)와 기판을 이송하기 위한 언로딩 포트(11)를 가지고 있다. 로딩 포트(10)와 언로딩 포트(11)는 각각 프로세싱 플랩(flap)(12)을 가지고 있다. 프로세싱 플랩(12)를 개방함으로써, 기판을 담고 있는 컨테이너(6)가 제조 유닛(2)에 로딩 포트(10)의 개구부를 통해서 공급되어지고 언로딩 포트(11)의 개구부를 통해서 제조 유닛(2)으로 부터 이송되어 진다.
또한, 로딩 및 언로딩 스테이션은 두개의 컨베이어(13a, 13b)를 가지고 있다. 첫번째 컨베이어(13a)를 통해서, 기판을 담고 있는 컨테이너(6)가 로딩 포트(10)에 공급된다. 컨베이어(13b)를 사용함으로써, 언로딩 포트(11)에서 제거된 컨테이너(6)가 운송되어진다.
등록 시스템은 로딩 및 언로딩 스테이션을 통해서 공급되는 기판의 수를 등록하기 위한 센서의 배열을 갖는다. 도 3에 도시된 실시예에서, 센서의 배열은 광 센서를 포함하며, 이 광 센서는 광벽(light barrier)이다.
각각의 경우에, 광벽은 전달되는 광선(14)을 방출하는 전송기(15)와 전달되는 광선(14)을 받는 수신기(16)를 가지고 있다. 물체의 감지는 전달되는 광선(14)의 광로의 방해의 결과로서 행해진다.
광선을 사용함으로써, 로딩 및 언로딩 스테이션을 통해서 움직이는 컨테이너(6)가 등록된다. 이 목적을 위해서, 광벽은 예를 들어, 마이크로 콘트롤러인 평가 유닛(17)과 연결되어 있고 평가 유닛(17)은 전달되는 광선(14)의 광로의 차단 횟수를 센다.
원칙적으로, 컨테이너(6)는 또한 광벽에 의해서 연속적으로 등록고 있는 처리 플랩(12)의 개폐에 의해서 그 수가 세어질 수 있다.
본 실시예에서, 각 경우에, 한 개의 광벽은 로딩 및 언로딩 스테이션의 컨베이어(13a, 13b)중 한 개에 장착되어져 있고, 그래서 컨베이어(13a, 13b) 위에서 이송되는 컨테이너(6)가 광벽에 의해서 개별적으로 세어진다.
광벽 신호는 평가 유닛(17)에 의해서 세어진다. 그리고 나서 카운팅 펄스는, 기판에 의한 제조 유닛(2)의 점유를 결정하기 위하여, 공정 제어 시스템(8)에서 평가되고 그리고 이 평가로부터 공급과 배출 요청이 만들어 진다.
또는, 제조 유닛(2)의 점유는 평가 유닛에서 결정되어지고 나서 공정 제어 시스템(8)에 읽힐 수 있다.
원칙적으로, 등록 시스템은 센서 배열 없이 만들어 질 수 있다. 예를 들어, 적절한 디지탈 신호를 제조 유닛(2)에 보냄으로써 제조 유닛(2)안에 들어오거나 나가는 컨테이너(6)의 수를 세기 위해서, 로딩 포트(10)와 언로딩 포트(11)의 처리플랩(12)의 움직임이 등록될 수 있다.
또는, 컨테이너(6)를 세기 위한 등록 시스템은 액추에이터의 배열을 갖을 수 있다. 액추에이터는, 예를 들어, 기계적 스위치 등과 같은 것으로 구성되어질 수있다.
원칙적으로, 앞에서 언급한 액추에이터나 센서 배열은 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 공급되고 이들로부터 이송되는 개별 기판의 수를 세기위한 목적을 위해서 또한 사용될 수 있다.
특히 장점이 있는 실시예에 있어서, 등록 시스템 각각은 기판 또는 기판이 담겨진 컨테이너(6)를 식별하기 위한 장치를 가지고 있다. 이 목적을 위해서, 기판 및/또는 컨테이너(6)는, 각 경우에, 편리하게 바코드에 의해서 식별된다.
다음, 기판 및/또는 컨테이너(6)는 바코드 리더에 의해서 식별되고, 바 코드 리더는 제조 유닛(2)와 측정 유닛(3)의 로딩 및 언로딩 스테이션에 적절하게 배열되어 있다.
이러한 바코드 리더는 유리하게 기판 및/또는 컨테이너(6)의 식별을 위한 수단이 될 수있을 뿐만 아니라 동시에, 각각의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)에 공급 또는 배출되는 기판 및/또는 켄테이너(6)의 수를 등록하는 센서의 배열을 형성할 수 있다.
이 경우에, 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 들어오고 나가는 기판의 수가 등록 시스템에 의해서 공정 제어 시스템(8)에 전달되어 질 수 있고, 또한 어떤 기판이 특정 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 어떤 처리 단계에 있는지 등록하는 게 가능하다.
이러한 정보를 이용함으로써, 공정 제어 시스템(8)에 있어서, 공급과 배출 요구는 기판의 각 처리 단계에 정확히 부합하게 만들어진다.
플랜트의 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)은 각 경우에 전형적으로 미리 정해진 수의 체임버(chamber)를 갖는다. 등록 시스템을 통해서, 개별 체임버로의 기판의 할당이 적절하게 등록된다. 이런 경우에, 특히 등록 시스템을 통해서 기판의 식별이 용이하다. 그리고 나서, 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 개별 체임버에 대한 공급과 배출 요구는 공정 제어 시스템(8)에서 만들어 진다.

Claims (24)

  1. 다수 개의 제조 유닛과 측정 유닛 그리고 기판을 운송하는 운송 시스템을 갖는 기판 처리용 플랜트에 있어서,
    상기 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3) 각각은 기판에 의한 상기 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 점유를 결정하기 위해서 상기 각각의 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 대한 상기 기판의 공급과 배출을 등록할 수 있는 등록 시스템을 할당 받고, 상기 각각의 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 대하여 상기 점유의 기능으로서 공급 요구 또는 배출 요구가 생성될 수 있는 것을 특징으로하는
    기판 처리용 플랜트.
  2. 제 1 항에 있어서,
    컨테이너(6)안에 있는 상기 기판은 담긴 채로 상기 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 공급되고 상기 유닛들로부터 배출되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3) 각각은 로딩 및 언로딩 스테이션을 갖고,상기 로딩 및 언로딩 스테이션은 상기 기판을 공급하기 위한 그리고 제 1 처리 플랩(12)에 의해서 닫히는 적어도 하나의 로딩 포트(10)와, 처리 플랩(12)에 의해서 닫히며 상기 기판을 배출하기 위한 적어도 하나의 언로딩 포트(11)를 갖는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 기판은 개별 컨베이어(13a, 13b) 상의 상기 개별 로딩 포토(10)에 공급되고 개별 컨베이어(13a, 13b) 상의 상기 개별 언로딩 포트(11)로 부터 배출되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    등록 시스템은 각각의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)에 공급되는 그리고 여기서 배출되는 기판의 수를 등록하기 위한 센서 배열을 갖는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 로딩 포트(10)와 언로딩 포트(11)의 상기 처리 플랩(12)의 움직임이 상기 센서 배열에 의해서 등록될 수 있는 것을 특징으로하는
    기판 처리용 플랜트.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 컨베이어(13a, 13b) 상의 상기 기판이나 컨테이너(6)가 상기 센서의 배열에 의해서 등록될 수 있는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  8. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 센서 배열은 다수의 광 센서를 갖는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 광 센서는 광벽(light barrier), 광 센서, 및/또는 바코드 리더로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  10. 제 3 항에 있어서,
    상기 로딩 포트(10)와 언로딩 포트(11)의 상기 처리 플랩(12)의 움직임이 상기 각각의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)으로 부터 디지털 신호의 형태로 발신되고 상기 등록 시스템에 판독되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  11. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 등록 시스템은 상기 각각의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)에 공급되는 그리고 거기에서 배출되는 기판의 수를 등록하기 위한 액추에이터 배열을 갖는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 액츄에이터는 기계적 스위치로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  13. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 등록 시스템은 공정 제어 시스템(8)과 연결되어 있고, 상기 공정 제어 시스템(8) 안에서 상기 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3) 각각에 대한 공급 요구와 배출 요구가 생성되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트
  14. 제 13 항에 있어서,
    공급되고 배출되는 기판의 수가 상기 등록 시스템으로 부터 상기 공정 제어 시스템(8)으로 읽히며 이것을 기초로, 상기 개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 기판에 의한 점유가 상기 공정 제어 시스템(8) 안에서 결정되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  15. 제 13 항에 있어서,
    등록 시스템 각각은 평가 유닛(17)을 가지며, 상기 평가 유닛(17) 내부에서는 공급되는 기판의 수와 배출되는 기판의 수가 상기 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3) 각각의 점유를 결정하기 위해서 사용되고, 상기 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 점유는 상기 공정 제어 시스템(8) 안으로 읽히는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 등록 시스템은 상기 기판을 식별하는 수단을 갖는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 기판 및/또는 기판을 담고 있는 컨테이너(6)가 바코드에 의해서 식별되고, 상기 기판을 식별하는 상기 수단은 바코드 리더에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 기판을 식별하기 위한 상기 수단은 바코드 리더이고, 상기 바코드 리더는 상기 각각의 등록 시스템의 센서 배열을 형성하는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  19. 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)은, 각 경우에, 복수개의 체임버(chamber)를 가지고 있고, 상기 등록 시스템은 어떤 기판이 얼마나 많이 상기 개별 체임버에 배치되어 있는가를 등록하기 위해서 사용되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 상기 개별 체임버에 대한 상기 공급과 배출 요청이 상기 공정 제어 시스템(8)에서 생성되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  21. 제 16 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공정 제어 시스템(8)에 있어서, 컨테이너(6)에 담겨있는 기판에 대한 상기 각각의 추후 처리 단계가 상기 개별적인 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에서 실시될 수 있을지에 대한 점검이 수행되는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  22. 제 16 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
    각각의 경우에, 상기 공정 제어 시스템(8)에서 수행될 처리 단계를 규정하기위한 파라미터 집합이 상기 공정 제어 시스템(8)으로부터 상기 연결되어 있는 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)으로 읽히는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  23. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플랜트는 복수개의 저장소를 가지고 있는 저장 시스템을 가지며, 기판에 의한 상기 저장소의 점유를 등록하기 위하여 등록 시스템이 상기 저장소에 배열되어 있는 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
  24. 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 등록 시스템은 상기 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 장착될 수 있는 모듈의 형태인 것을 특징으로 하는
    기판 처리용 플랜트.
KR10-2002-7005349A 1999-10-29 2000-10-24 웨이퍼 처리용 플랜트 KR100478801B1 (ko)

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