KR100478801B1 - 웨이퍼 처리용 플랜트 - Google Patents

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KR100478801B1
KR100478801B1 KR10-2002-7005349A KR20027005349A KR100478801B1 KR 100478801 B1 KR100478801 B1 KR 100478801B1 KR 20027005349 A KR20027005349 A KR 20027005349A KR 100478801 B1 KR100478801 B1 KR 100478801B1
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Abstract

본 발명은 웨이퍼를 운송하기 위한 운송 시스템 뿐만 아니라 다수의 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)을 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트에 관련된 것이다. 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3) 각각에는 등록 시스템이 할당되고, 이 등록 시스템을 가지고, 웨이퍼에 의한 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 점유를 결정하기 위하여, 각각의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)에 대한 웨이퍼의 공급과 배출이 등록될 수 있다. 상기 점유에 기초하여, 각 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)의 공급 또는 배출 요청이 생성될 수 있다.

Description

웨이퍼 처리용 플랜트{UNIT FOR PROCESSING WAFERS}
본 발명은 청구항 1의 전제부에 따른 웨이퍼 처리용 플랜트에 관한 것이다.
이러한 형태의 플랜트는 많은 수의 제조 유닛을 포함하며, 이 제조 유닛을 이용해서 상이한 제조 공정들이 수행될 수 있다. 이러한 제조 공정은, 특히, 에칭 공정, 습식 화학 공정, 확산 공정 그리고 CMP(Chemical Mechanical Polishing)와 같은 다양한 세정 공정들이다. 이러한 공정의 각각에 대해서, 하나 이상의 제조 유닛이 제공되고, 제조 공정의 다양한 제조 단계가 이 제조 유닛에서 수행된다.
또한, 이러한 플랜트는 많은 수의 측정 유닛을 포함하고 있다. 측정 유닛에서는, 제조 공정의 하나 이상의 제조 단계의 처리 품질이 검사된다.
전체 제조 공정은 엄격한 청정 요건 하에서 이루어져야 하기 때문에, 제조 유닛과 측정 유닛은 청정실 또는 청정실 시스템내에 배치된다.
웨이퍼는 미리 정해진 배치 크기로 카세트로 설계된 컨테이너에서 운송 시스템을 통해서 개별 제조 유닛에 공급된다. 또한, 이들 웨이퍼의 처리후에 카세트의 외부로의 운송은 운송 시스템에 의해서 수행된다.
운송 시스템은 전형적으로, 예를 들어, 롤러 컨베이어의 형태로 설계된 다수의 컨베이어를 갖는 컨베이어 시스템을 가진다. 이런 경우에, 웨이퍼를 가지고 있는 카세트는 롤러 컨베이어에 지지된 채로 이송된다. 또는, 컨베이어 시스템(5)은 또한 연속적인 컨베이어, 서스펜션 컨베이어 등과 같은 것을 포함하기도 한다.
이러한 형태의 플랜트를 제어하기 위해서, 재료 배열 시스템이 주로 제공된다. 이러한 재료 배열 시스템에 의해서, 특정 수의 웨이퍼가 저장소 등으로부터 취출되어 배치(batch)로 집결된다. 개별 배치에 대해서, 작업 계획이 수립되며 이 작업 계획은 웨이퍼가 플랜트를 통과할 때 개별 제조 유닛과 측정 유닛내의 웨이퍼에 따라서 실시될 개별 처리 단계를 포함하고 있다. 또한, 개별 웨이퍼에 대한 우선 순위의 할당은 재료 배열 시스템에 의해서 행해진다. 이 우선 순위 결정의 결과는 상이한 배치의 웨이퍼에 대한 처리 순서로 된다.
마지막으로, 웨이퍼는 재료 배열 시스템에 의해서 운송 시스템에 공급되고, 이 운송 시스템에 의해서 웨이퍼를 구비한 컨테이너를 개별 제조 유닛 및 측정 유닛으로 전달한다. 여기서, 운송 시스템 상의 컨테이너는 미리 정의된 배치 관련 운송 작업에 따라 로딩된다. 운송 작업은, 특히, 개별 컨테이너의 목적지를 포함하고, 이 목적지는 제조 유닛들과 측정 유닛들로 구성된다.
이러한 운송 작업에 기초하여, 컨테이너는 개별 목적지에 공급된다. 제조 유닛 또는 측정 유닛이 정상 작동중이 아닌 경우만 재료 배열 시스템에 이상 신호가 보내지고 그래서 더 이상의 웨이퍼 공급이 중지된다. 그러나 여기서 단점은, 제조 유닛과 측정 유닛이 작동 중이지만 이미 과부하인 경우에도, 여전히 운송 작업이 개별 제조 유닛과 측정 유닛에 제공될 수 있다는 것이다. 이런 경우에, 관련된 제조 유닛과 측정 유닛 앞에서 웨이퍼가 정체된다. 이 경우 웨이퍼의 처리 동안 발생하는 대기 시간으로 인해서, 웨이퍼가 플랜트를 통과하는 시간이 바람직스럽지 못하게 증가하고, 이 결과로, 특히, 웨이퍼의 제조 비용이 또한 증가한다.
발명은 도면을 사용해서 아래에 설명될 것이다.
도 1은 처리 스테이션의 배열이 제공된 웨이퍼 처리용 플랜트를 개략적으로 도시하는 도면,
도 2는 도 1에 따른 플랜트의 시퀀스 제어와 관련된 요소들의 블록도,
도 3은 도 1에 따른 플랜트의 제조 유닛과 측정 유닛에 대한 등록 시스템의 개략도.
본 발명은 플랜트에서 웨이퍼를 처리되는 동안 웨이퍼의 통과 시간을 가능한 한 단축시키도록 도입부에서 언급한 형태의 플랜트를 고안하는 목적을 기초로 하고 있다.
이러한 목적을 달성하기 위해서, 청구항 1의 특징이 제공된다. 본 발명의 바람직한 실시예와 유용한 개선점이 종속항에 설명되어 있다.
본 발명에 따르면, 등록 시스템은 플랜트의 제조 유닛과 측정 유닛에 각각 할당되고, 이 등록 시스템을 이용해서, 웨이퍼에 의한 제조 유닛과 측정 유닛의 점유를 결정하기 위해서, 각각의 제조 유닛과 측정 유닛으로의 웨이퍼의 공급과 배출이 등록된다. 이 점유를 기초로 하여, 각각의 제조 유닛 또는 측정 유닛에 대한 공급 또는 배출 요청이 생성된다.
따라서 등록 시스템은, 특히, 제조 유닛 또는 측정 유닛에 공급되는 또는 이들 유닛으로부터 배출되는 웨이퍼를 카운트하는데 사용되는 센서 배열을 포함하고 있다. 동시에, 보다 바람직하게, 개별 웨이퍼 또는 웨이퍼를 이송하는 컨테이너가 식별될 수 있다. 등록 시스템에 등록된 정보를 기초로 하여, 개별 제조 유닛과 측정 유닛에 대한 공급과 배출 요청이, 개별 제조 유닛 및 측정 유닛에 연결되어 있는 제어 스테이션에서 바람직하게 생성된다. 제어 스테이션에서 알고 있는, 개별 제조 유닛과 측정 유닛의 적재 용량에 기초하여, 제조 유닛과 측정 유닛은 적절한 운송 작업의 선택에 의해서 적절한 수의 웨이퍼가 공급된다. 웨이퍼는 등록 시스템에서 적절하게 식별될 수 있기 때문에, 제조 유닛과 측정 유닛으로의 개별 웨이퍼의 공급은, 현재의 처리 상태와 관련하여 그리고 제조 유닛과 측정 유닛에서 실시될 수 있는 처리 단계에 따라서, 최적화된 방법으로 실시될 수 있다.
결과적으로, 개별 제조 유닛과 측정 유닛의 앞에서 웨이퍼의 대기 시간은 크게 줄어들 수 있고, 제조 유닛과 측정 유닛의 처리 용량은 최적으로 이용될 수 있다.
등록 시스템은 기존의 제조 유닛과 측정 유닛에 장착될 수 있는 모듈일 수 있는 것이 특히 바람직하다.
사용중에 있는 알려진 제조 유닛과 측정 유닛을 이용해서, 이들의 이용 가능한 처리 용량은 등록될 수 없다. 또한, 이러한 정보를 출력할 수 있는 인터페이스가 없다. 이러한 정보를 이용하기 위해서, 제조 유닛과 측정 유닛이 기본적인 영역에서 재설계될 필요가 있고, 이것은 광범위한 구조적인 변경을 유발한다. 이것은 상당한 투자 비용을 유발하고 또한 많은 시간을 소비할 것이다.
그러나, 모듈 형태인 등록 시스템을 이용하면, 제조 유닛과 측정 유닛의 기능 범위가 신속하게 그리고 큰 재정 지출 없이 확대될 수 있다.
웨이퍼 처리용 플랜트가 도 1에 개략적으로 도시되어 있다. 플랜트는 복수 개의 처리 스테이션(1)을 구비하고 처리 스테이션(1)에는 한 개 이상의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)이 제공되어 있다.
제조 유닛(2)은, 웨이퍼를 처리하기 위해 필요한 제조 공정의 상이한 제조 단계들을 실시하기 위해서 사용된다. 이러한 제조 공정은, 특히, 에칭 공정, 습식 화학 공정, 확산 공정 그리고 세정 공정을 포함하고 있다. 개별 제조 공정에 대해서, 실시될 제조 단계의 수와 대응하는 한 개 이상의 제조 유닛(2)이 제공될 수 있다.
측정 유닛(3)은 개별 제조 유닛(2)에서 실시된 제조 단계의 공정 품질을 조사하기 위해서 사용된다.
개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)을 갖는 처리 스테이션(1)은 청정실(4)에 배치되어 있고 운송 시스템에 의해서 서로 연결되어 있다. 또는, 처리 스테이션(1)이 청정실(4)의 시스템을 통해서 분산될 수 있다.
운송 시스템은 복수개의 컨베이어(5a)를 가진 컨베이어 시스템(5)을 구비하며, 컨베이어 시스템(5)은 개별 처리 스테이션(1)에 웨이퍼를 제공한다. 여기서, 웨이퍼는 컨테이너(6)에 실려서 운송되며, 이 컨테이너(6)는 카세트로 설계되는 것이 바람직하다. 컨베이어(5a)는 롤러 컨베이어 또는 연속 컨베이어 등의 형태로 설계될 수 있다. 웨이퍼를 이송하기 위한 이송 스테이션 등이 컨베이어(5a) 사이에 제공될 수 있다. 또한, 운송 시스템은 저장 시스템(도시되지 않음)을 구비하며, 저장 시스템은 청정실(4)에 분산되어 있는 복수 개의 저장소를 포함하고 있다. 이러한 저장소는, 특히, 스톡커(stocker)의 형태로 될 수 있다. 이러한 저장소 안에, 웨이퍼를 구비한 컨테이너(6)가 일시적으로 저장된다. 예를 들어, 개별 제조 유닛(2)에서 잘못 처리된 웨이퍼를 포함하고 있는 컨테이너(6)는 거기에 일시적으로 저장될 수 있다. 적절한 시기에, 이들 웨이퍼는 재작업되기 위해서 저장소에서 이송되어져 특정 제조 유닛(2)에 공급된다.
도 2는 웨이퍼 처리용 플랜트의 시퀀스 제어와 관련된 블록도를 도시하고 있다. 중앙 생산 계획 및 제어 시스템(7)은 공정 제어 시스템(8)과 연결되어 있다. 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)을 구비한 개별적인 처리 스테이션(1)이 공정 제어 시스템(8)에 연결되어 있다. 또한, 컨베이어 콘트롤러(9)는 공정 제어 시스템(8)에 연결되어 있고, 컨베이어 콘트롤러(9)는 운송 시스템의 컨베이어 시스템(5)에 연결되어 있다.
상술한 플랜트의 구성 요소 각각은 적어도 하나의 컴퓨터 유닛을 가지고 있다. 개별적인 구성요소 사이의 연결은, 각각의 경우에, 이 구성요소의 개개의 컴퓨터 유닛사이의 양방향 데이터 라인으로 구성된다.
생산 계획 및 제어 시스템(7)은 용량을 결정하기 위해서 그리고 전체 플랜트에 대한 수요를 결정하기 위해서 사용된다. 개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에서 웨이퍼를 처리하기 위한 용량과 수요는 몇일에서 몇주 정도의 시간 전에 미리 계획된다. 이 계획은 이러한 목적에 특별히 적합한 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 특정 제조 단계를 할당하기 위해서 쓰인다.
또한, 웨이퍼 처리를 위한 제조 작업들과 작업 계획들은 생산 계획 및 제어 시스템(7)에서 생성된다.
공정 제어 시스템(8)에 있어서, 처리 공정의 시작 시점에, 복수개의 웨이퍼가 배치로 결합되며, 하나의 배치의 웨이퍼들은 하나의 컨테이너(6)에 수용된다. 이 목적을 위해서, 적절한 웨이퍼가 공정 제어 시스템(8)에 의해서 저장소로부터 이송되어, 수작업 또는 기계에 의해서, 컨테이너(6)에 수용된다.
생산 계획 및 제어 시스템(7)으로부터 개별 작업 계획과 제조 작업이 공정 제어 시스템(8)에서 판독되어 저장되고 관리된다. 작업 계획과 제조 작업으로부터, 개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에서 실시될 제조 단계들의 규정을 위해서 필요한 파라미터가 공정 제어 시스템(8)에 의해서 생성되고 이들 유닛에서 판독된다. 마지막으로, 개별 웨이퍼에 대한 각각의 다음 처리 단계가 이러한 목적으로 구상된 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에서 수행될 수 있을 지에 대한 조사가 공정 제어 시스템(8)에서 이루어진다.
또한, 공정 제어 시스템(8)의 데이터를 이용함으로써, 개별 웨이퍼 또는 개별 배치의 처리에 대한 우선 순위가 결정되며, 이 계획은 일반적으로 몇분에서 몇 시간내에 변한다. 웨이퍼의 우선 순위 결정은, 이 경우에, 특히 웨이퍼의 처리 상태에 의존한다.
플랜트의 컨베이어 시스템(5)은 공정 제어 시스템(8)의 기준값에 따라서 컨베이어 콘트롤러(9)에 의해서 제어된다. 이 목적을 위해서, 컨베이어 콘트롤러(9)는 컨베이어 시스템(5)의 구동 요소를 제어하기 위한 다수의 모터와 전달 장치를 가지고 있다.
본 발명에 따르면, 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3) 각각에는 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)으로의 웨이퍼의 공급과 배출이 등록될 수 있도록 하는 등록 시스템이 할당되어 있다. 이 데이터로부터, 웨이퍼를 구비한 개별 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 점유가 결정된다. 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)이 연결되어 있는 공정 제어 시스템(8)에 있어서, 이들 유닛의 점유는 공급과 배출 요청을 생성하기 위해서 사용된다. 이와 같은 공급과 배출 요청을 사용하여, 공정 제어 시스템(8)에 있어서, 이와 같은 요청에 따라 적절한 수의 웨이퍼를 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 공급하거나 이송하기 위하여 운송 작업이 운송 시스템에 로딩된다.
또한, 원칙적으로 이러한 등록 시스템은 저장 시스템의 저장소에 할당될 수 있다.
본 실시예에서, 등록 시스템은 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 기능을 제한하지 않으면서 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 장착될 수 있는 모듈을 포함하고 있다. 따라서 모듈은 기존의 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 쉽게 장착될 수 있다.
이러한 등록 시스템의 한 가지 예가 도 3에 도시되어 있다. 도 3은 제조 유닛(2)을 구비한 처리 스테이션(1)을 도시한다. 웨이퍼의 공급과 배출은 로딩 및 언로딩 스테이션을 통해서 행해진다. 로딩 및 언로딩 스테이션은 웨이퍼를 제조 유닛(2)에 공급하는 로딩 포트(10)와 웨이퍼를 이송하기 위한 언로딩 포트(11)를 가지고 있다. 로딩 포트(10)와 언로딩 포트(11)는 각각 프로세싱 플랩(flap)(12)을 가지고 있다. 프로세싱 플랩(12)을 개방함으로써, 웨이퍼를 구비한 컨테이너(6)가 로딩 포트(10)의 개구부를 통해서 제조 유닛(2)에 공급되고, 언로딩 포트(11)의 개구부를 통해서 제조 유닛(2)으로부터 이송된다.
또한, 로딩 및 언로딩 스테이션은 두개의 컨베이어(13a, 13b)를 가지고 있다. 제 1 컨베이어(13a)를 통해서, 웨이퍼를 구비한 컨테이너(6)가 로딩 포트(10)에 공급된다. 컨베이어(13b)를 사용함으로써, 언로딩 포트(11)로부터 제거된 컨테이너(6)가 운송된다.
등록 시스템은 로딩 및 언로딩 스테이션을 통해서 공급되는 웨이퍼의 수를 등록하기 위한 센서 배열을 갖는다. 도 3에 도시된 실시예에서, 센서 배열은 광 센서를 포함하며, 이 광 센서는 광 차단 장치(light barrier)이다.
각각의 경우에, 광 차단 장치는 전달되는 광선(14)을 방출하는 전송기(15)와 전달되는 광선(14)을 수광하는 수신기(16)를 가지고 있다. 물체의 감지는 전달되는 광선(14)의 광로의 차단 결과로서 행해진다.
광선을 사용함으로써, 로딩 및 언로딩 스테이션을 통해서 움직이는 컨테이너(6)가 등록된다. 이 목적을 위해서, 광 차단 장치는 예를 들어, 마이크로 콘트롤러인 평가 유닛(17)과 연결되어 있고 평가 유닛(17)은 전달되는 광선(14)의 광로의 차단 횟수를 센다.
원칙적으로, 컨테이너(6)는 또한 광 차단 장치에 의해서 연속적으로 등록되는 프로세싱 플랩(12)의 개폐에 의해서 그 수가 카운트될 수 있다.
본 실시예에서, 각 경우에, 한 개의 광 차단 장치는 로딩 및 언로딩 스테이션의 컨베이어(13a, 13b)중 한 개에 장착되어 있고, 그래서 컨베이어(13a, 13b)상에서 이송되는 컨테이너(6)가 광 차단 장치에 의해서 개별적으로 카운트된다.
광 차단 장치의 신호는 평가 유닛(17)에 의해서 카운트된다. 그리고 나서 카운팅 펄스는, 웨이퍼에 의한 제조 유닛(2)의 점유를 결정하기 위하여, 공정 제어 시스템(8)에서 평가되고 그리고 이 평가로부터 공급과 배출 요청이 생성된다.
또는, 제조 유닛(2)의 점유는 평가 유닛에서 결정되어 공정 제어 시스템(8)에서 판독된다.
원칙적으로, 등록 시스템은 센서 배열 없이 설계될 수 있다. 예를 들어, 적절한 디지탈 신호를 제조 유닛(2)에 보냄으로써 제조 유닛(2)에 반입 및 반출되는 컨테이너(6)의 수를 카운트하기 위해서, 로딩 포트(10)와 언로딩 포트(11)의 프로세싱 플랩의 움직임이 등록될 수 있다.
또는, 컨테이너(6)를 카운트하기 위한 등록 시스템은 액츄에이터의 배열을 갖을 수 있다. 액츄에이터는, 예를 들어, 기계적 스위치 등으로 구성될 수 있다.
원칙적으로, 상술한 액츄에이터 또는 센서 배열은 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 공급되고 이들로부터 이송되는 개별 웨이퍼의 수를 카운트하기 위한 목적으로 또한 사용될 수 있다.
특히 바람직한 실시예에 있어서, 등록 시스템 각각은 웨이퍼 또는 웨이퍼를 반송하는 컨테이너(6)를 식별하기 위한 장치를 가지고 있다. 이 목적을 위해서, 웨이퍼 및/또는 컨테이너(6)는, 각 경우에, 편리하게 바코드에 의해서 식별된다.
다음, 웨이퍼 및/또는 컨테이너(6)는 바코드 리더에 의해서 식별되고, 바 코드 리더는 제조 유닛(2)와 측정 유닛(3)의 로딩 및 언로딩 스테이션에 적절하게 배열되어 있다.
이러한 바코드 리더는 유리하게 웨이퍼 및/또는 컨테이너(6)의 식별을 위한 수단이 될 수있을 뿐만 아니라 동시에, 각각의 제조 유닛(2) 또는 측정 유닛(3)에 공급 또는 배출되는 웨이퍼 및/또는 컨테이너(6)의 수를 등록하는 센서의 배열을 형성할 수 있다.
이 경우에, 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)에 반입 및 반출하는 웨이퍼의 수가 등록 시스템에 의해서 공정 제어 시스템(8)에 기록될 수 있고, 또한 어떤 웨이퍼가 특정 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 어떤 처리 단계에 있는지도 등록할 수 있다.
이러한 정보를 이용함으로써, 공정 제어 시스템(8)에 있어서, 공급과 배출 요청은 웨이퍼의 각 처리 단계에 정확히 부합되게 생성된다.
플랜트의 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)은 각 경우에 전형적으로 미리 정해진 수의 챔버(chamber)를 갖는다. 등록 시스템을 통해서, 개별 챔버로의 웨이퍼의 할당이 적절하게 등록된다. 이런 경우에, 특히 등록 시스템을 통해서 웨이퍼의 식별이 용이하다. 그리고 나서, 제조 유닛(2)과 측정 유닛(3)의 개별 챔버에 대한 공급과 배출 요청은 공정 제어 시스템(8)에서 생성된다.

Claims (26)

  1. 웨이퍼 처리용 플랜트에 있어서,
    제조 유닛과 측정 유닛으로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나의 장치를 각각이 포함하는 복수의 유닛과,
    상기 웨이퍼를 운송하기 위한 운송 시스템을 포함하되,
    상기 복수의 유닛 각각은, 상기 웨이퍼에 이송하기 위한 적어도 하나의 로딩 포트와, 상기 로딩 포트를 폐쇄하기 위한 하나의 프로세싱 플랩과, 상기 웨이퍼를 방출하기 위한 적어도 하나의 언로딩 포트와, 상기 언로딩 포트를 폐쇄하기 위한 하나의 프로세싱 플랩을 구비한 로딩 및 언로딩 스테이션을 포함하며,
    상기 복수의 유닛 각각은, 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에서의 웨이퍼의 점유를 결정하기 위해서, 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛으로의 상기 웨이퍼의 반입 및 반출을 등록하도록 구성된 등록 시스템을 포함하며,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 있어서, 하나의 선택된 요청은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에서의 웨이퍼 점유의 함수로서 생성되며, 상기 선택된 요청은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 대한 공급 요청과 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 대한 배출 요청으로 구성된 그룹으로부터 선택되며,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템은, 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 반입되고 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛으로부터 반출되는 다수의 웨이퍼를 등록하기 위한 센서 구성을 가지며,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템의 상기 센서 구성은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 로딩 포트를 폐쇄하는 상기 프로세싱 플랩의 작동의 등록을 가능하게 하며,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템의 상기 센서 구성은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 언로딩 포트를 폐쇄하는 상기 프로세싱 플랩의 작동의 등록을 가능하게 하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 웨이퍼를 보유하는 컨테이너와,
    상기 복수의 유닛에 상기 웨이퍼를 공급하기 위한 상기 컨테이너와,
    상기 복수의 유닛으로부터 상기 웨이퍼를 배출하기 위한 상기 컨테이너를 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 로딩 및 언로딩 스테이션의 상기 로딩 포트와 상기 언로딩 포트로 상기 웨이퍼를 운송하는 개별 컨베이어를 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 상기 등록 시스템의 상기 센서 구성은 상기 컨베이어상의 상기 웨이퍼의 등록을 가능하게 하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 센서 구성은 복수의 광 센서를 갖는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 광 센서는 광 차단 장치(light barrier), 광 센서, 및/또는 바코드 리더로 구성된 그룹으로부터 선택된 장치를 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템은, 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 로딩 포트를 폐쇄하는 상기 프로세싱 플롭의 작동과, 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 언로딩 포트를 폐쇄하는 상기 프로세싱 플롭의 작동을 표시하는 디지털 신호를 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛으로부터 수신하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템은, 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 공급되고 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛으로부터 방출되는 상기 다수의 웨이퍼를 등록하기 위한 액츄에이터 구성을 가지는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 액츄에이터 구성은 기계적 스위치를 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 대한 상기 선택된 요청을 생성하는 처리 제어 시스템을 포함하되,
    상기 처리 제어 시스템은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템에 연결되어 있는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 처리 제어 시스템은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 반입되는 웨이퍼를 나타내는 제 1 번호를 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템으로부터 수신하고,
    상기 처리 제어 시스템은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 반출되는 웨이퍼를 나타내는 제 2 번호를 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템으로부터 수신하고,
    상기 처리 제어 시스템은 상기 제 1 번호와 상기 제 2 번호를 이용하여 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에서의 상기 웨이퍼 점유를 결정하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템은 평가 유닛을 포함하며,
    상기 평가 유닛은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛으로 반입되는 상기 웨이퍼를 나타내는 번호와 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛으로부터 반출되는 상기 웨이퍼를 나타내는 번호를 이용하여, 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에서의 상기 웨이퍼의 점유를 결정하며,
    상기 처리 제어 시스템은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에서의 상기 웨이퍼의 점유를 수신하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템은 상기 웨이퍼를 식별하는 장치를 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 웨이퍼를 식별하는 상기 장치는 상기 웨이퍼를 식별하는 바코드 리더인 웨이퍼 처리용 플랜트.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛은 복수의 챔버를 구비하여 형성되어 있으며,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템은 상기 복수의 챔버 중 개별적인 챔버에 어느 웨이퍼가 할당되고 얼마나 많은 웨이퍼가 할당되어 있는지를 등록하도록 구성되어 있는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 대한 상기 선택된 요청을 생성하는 처리 제어 시스템을 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  17. 제 13 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 대한 상기 선택된 요청을 생성하는 처리 제어 시스템과,
    상기 운송 시스템에 의해 운송되는 웨이퍼를 보유하는 컨테이너와,
    상기 컨테이너내의 상기 웨이퍼에 대한 바로 다음의 처리 단계가 상기 복수의 유닛 중 하나의 유닛에서 실행될 수 있는지를 체크하는 상기 처리 제어 시스템을 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  18. 제 13 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 대한 상기 선택된 요청을 생성하는 처리 제어 시스템을 포함하되,
    상기 처리 제어 시스템은 상기 복수의 유닛에 파라미터 세트를 제공하며,
    상기 파라미터 세트는 특정 배스의 웨이퍼로 수행되는 처리 단계를 규정하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  19. 제 1 항에 있어서,
    복수의 저장 장치에서의 웨이퍼의 점유를 등록하기 위한 등록 시스템을 포함하는 복수의 저장 장치를 구비한 저장 시스템을 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  20. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템은 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛에 후미 장착될 수 있는 모듈인 웨이퍼 처리용 플랜트.
  21. 삭제
  22. 삭제
  23. 삭제
  24. 삭제
  25. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 상기 로딩 및 언로딩 스테이션의 상기 로딩 포트와 상기 언로딩 포트로 상기 웨이퍼를 운송하는 개별 컨베이어와,
    상기 웨이퍼를 보유하는 컨테이너와,
    상기 복수의 제조 유닛과 상기 복수의 측정 유닛에 상기 웨이퍼를 공급하는 상기 컨테이너와,
    상기 복수의 제조 유닛과 상기 복수의 측정 유닛으로부터 상기 웨이퍼를 방출하는 상기 컨테이너를 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
  26. 제 1 항에 있어서,
    상기 웨이퍼를 이송하는 컨테이너와,
    바코드를 구비한 상기 컨테이너와,
    상기 웨이퍼를 이송하는 상기 컨테이너를 식별하는 바코드 리더를 포함하는 상기 복수의 유닛 중 상기 각각의 유닛의 상기 등록 시스템을 포함하는 웨이퍼 처리용 플랜트.
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