KR20020029314A - β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정에잔류하는 유기 용매의 감소화 방법 - Google Patents
β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정에잔류하는 유기 용매의 감소화 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20020029314A KR20020029314A KR1020010062745A KR20010062745A KR20020029314A KR 20020029314 A KR20020029314 A KR 20020029314A KR 1020010062745 A KR1020010062745 A KR 1020010062745A KR 20010062745 A KR20010062745 A KR 20010062745A KR 20020029314 A KR20020029314 A KR 20020029314A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- epoxypropyl
- isocyanurate
- tris
- crystals
- reaction solution
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/14—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/30—Only oxygen atoms
- C07D251/34—Cyanuric or isocyanuric esters
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
Description
Claims (25)
- 하기 (A), (B), (C) 및 (D) 단계를 포함하는, 결정의 내부에 2 내지 15 wt% 의 α형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정의 제조 방법:(A) 시아누르산과 에피클로로히드린을 반응시켜 시아누르산과 에피클로로히드린의 첨가 생성물을 형성한 후, 탈염산 반응시켜 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 반응 용액을 수득하는 단계,(B) (A) 단계에서 수득된 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 반응 용액으로부터 에피클로로히드린을 제거시키고, 수득된 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 용매에 용해시키는 단계,(C) (B) 단계에서 수득된 액체를 20 ℃/hr 내의 결정화용 냉각 속도로 점차적으로 냉각시킨 후, 여과로 결정을 수득하는 단계, 및(D) (C) 단계에서 수득된 결정을 세정 및 건조시키는 단계.
- 제 1 항에 있어서, (A) 단계가 1 몰의 시아누르산 (a), 5 내지 180 몰의 에피클로로히드린 (b) 및 촉매로서 3차 아민, 4차 암모늄염, 4차 암모늄 염기, 트리치환 포스핀 및 4차 포스포늄염으로 이루어진 군으로부터 선택된 0.001 내지 0.1 몰의 하나 이상의 화합물 (c) 를 반응시켜, 반응 용액을 수득하고, 반응 용액에 2 내지 6 몰의 알칼리 금속 히드록시드 또는 알칼리 금속 알콜레이트를 첨가하여 탈염산시킨 후, 생성 알칼리 금속염을 제거시켜 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 반응 용액을 수득하는 단계인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 단계 (B)에서 용해시키는 용매가 아세토니트릴, 톨루엔, 디옥산 또는 디메틸포름아미드인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 초음파가 (C) 단계에서 액체를 점차적으로 냉각시키는 방법에서 액체에 적용되는 방법.
- 제 1 항에 있어서, (D) 단계의 세정이 α형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트에 대해 20 ℃에서 0.5 g/100 g 이상의 용해도 및 β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트에 대해 20 ℃에서 0.5 g/100 g 미만의 용해도를 제공할 수 있는 용매를, β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정에 대해 0.5 내지 10 중량배의 양으로 이용하여 실시되는 방법.
- 제 1 항에 있어서, (C) 단계에서 수득된 결정의 평균 입자 크기가 20 내지 500 ㎛ 이고, (D) 단계의 건조가 대기압하 또는 감압하에 120 내지 140 ℃ 온도의 기체 스트림에서 실시되는 방법.
- 제 1 항에 있어서, (C) 단계에서 수득된 결정의 평균 입자 크기가 10 내지 20 ㎛ 이고, (D) 단계의 건조가 대기압하 또는 감압하에 40 내지 120 ℃ 온도의 기체 스트림에서 실시되는 방법.
- 하기 (A), (B), (C') 및 (D) 단계를 포함하는, 결정의 내부에 2 내지 15 wt% 의 α형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정의 제조 방법:(A) 시아누르산과 에피클로로히드린을 반응시켜 시아누르산과 에피클로로히드린의 첨가 생성물을 형성한 후, 탈염산 반응시켜 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 반응 용액을 수득하는 단계,(B) (A) 단계에서 수득된 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 반응 용액으로부터 에피클로로히드린을 제거시키고, 수득된 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 용매에 용해시키는 단계,(C') 액체가 포화 용액을 형성하는 온도보다 5 내지 20 ℃ 낮은 온도에서, (B) 단계에서 수득된 액체에 종자 결정을 첨가하고, 액체를 20 ℃/hr 내의 결정화용 냉각 속도로 점차적으로 냉각시킨 후, 여과로 결정을 수득하는 단계, 및(D) (C') 단계에서 수득된 결정을 세정 및 건조시키는 단계.
- 제 8 항에 있어서, (A) 단계가 1 몰의 시아누르산 (a), 5 내지 180 몰의 에피클로로히드린 (b) 및 촉매로서 3차 아민, 4차 암모늄염, 4차 암모늄 염기, 트리치환 포스핀 및 4차 포스포늄염으로 이루어진 군으로부터 선택된 0.001 내지 0.1 몰의 하나 이상의 화합물 (c) 를 반응시켜, 반응 용액을 수득하고, 반응 용액에 2 내지 6 몰의 알칼리 금속 히드록시드 또는 알칼리 금속 알콜레이트를 첨가하여 탈염산시킨 후, 생성 알칼리 금속염을 제거시켜 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 반응 용액을 수득하는 단계인 방법.
- 제 8 항에 있어서, 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 (B) 단계에서 용해시키는 용매가 아세토니트릴, 톨루엔, 디옥산 또는 디메틸포름아미드인 방법.
- 제 8 항에 있어서, (C') 단계에서 종자 결정의 첨가가 하기 수학식 1 및 2를 만족시키는 방법:[수학식 1]1 ×1010≥T ≥1 ×102[수학식 2]T = 1.4 ×1012(m/(M ×D3))[식중, T 는 반응 용액중 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트의 중량당 첨가된 종자 결정의 수(수/g)이고, m 은 첨가된 종자 결정의 중량(g)이고, D 는 종자 결정의 평균 입자 크기 2 내지 300 ㎛ 이고, M 은 반응 용액중 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트의 중량(g)이다].
- 제 8 항에 있어서, (C') 단계에서 첨가된 종자 결정이 β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트이거나, β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트와 α형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트의 혼합물인 방법.
- 제 8 항에 있어서, 초음파가 (C') 단계에서 액체를 점차적으로 냉각시키는 방법에서 액체에 적용되는 방법.
- 제 8 항에 있어서, (D) 단계의 세정이 α형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트에 대해 20 ℃에서 0.5 g/100 g 이상의 용해도 및 β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트에 대해 20 ℃에서 0.5 g/100 g 미만의 용해도를 제공할 수 있는 용매를, β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정에 대해 0.5 내지 10 중량배의 양으로 이용하여 실시되는 방법.
- 제 8 항에 있어서, (C') 단계에서 수득된 결정의 평균 입자 크기가 20 내지 500 ㎛ 이고, (D) 단계의 건조가 대기압하 또는 감압하에 120 내지 140 ℃ 온도의 기체 스트림에서 실시되는 방법.
- 제 8 항에 있어서, (C') 단계에서 수득된 결정의 평균 입자 크기가 10 내지20 ㎛ 이고, (D) 단계의 건조가 대기압하 또는 감압하에 40 내지 120 ℃ 온도의 기체 스트림에서 실시되는 방법.
- 하기 (A), (B), (C") 및 (D) 단계를 포함하는, 결정의 내부에 2 내지 15 wt% 의 α형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정의 제조 방법:(A) 시아누르산과 에피클로로히드린을 반응시켜 시아누르산과 에피클로로히드린의 첨가 생성물을 형성한 후, 탈염산 반응시켜 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 반응 용액을 수득하는 단계,(B) (A) 단계에서 수득된 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 함유하는 반응 용액으로부터 에피클로로히드린을 제거시키고, 수득된 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 용매에 용해시키는 단계,(C") (B) 단계에 수득된 액체를 액체가 포화 용액을 형성하는 온도 이상의 온도로 가열시킨 후, 액체가 포화 용액을 형성하는 온도보다 5 내지 20 ℃ 낮은 온도로 액체를 냉각시키고, 종자 결정을 여기에 첨가시킨 후, 액체를 20 ℃/hr 내의 결정화용 냉각 속도로 점차적으로 냉각시킨 후, 여과로 결정을 수득하는 단계, 및(D) (C") 단계에서 수득된 결정을 세정 및 건조시키는 단계.
- 제 17 항에 있어서, (A) 단계가 1 몰의 시아누르산 (a), 5 내지 180 몰의 에피클로로히드린 (b) 및 촉매로서 3차 아민, 4차 암모늄염, 4차 암모늄 염기, 트리치환 포스핀 및 4차 포스포늄염으로 이루어진 군으로부터 선택된 0.001 내지 0.1 몰의 하나 이상의 화합물 (c) 를 반응시켜, 반응 용액을 수득하고, 반응 용액에 2 내지 6 몰의 알칼리 금속 히드록시드 또는 알칼리 금속 알콜레이트를 첨가하여 탈염산시킨 후, 생성 알칼리 금속염을 제거시켜 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트의 반응 용액을 수득하는 단계인 방법.
- 제 17 항에 있어서, 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트를 (B) 단계에서 용해시키는 용매가 아세토니트릴, 톨루엔, 디옥산 또는 디메틸포름아미드인 방법.
- 제 17 항에 있어서, (C") 단계에서 종자 결정의 첨가가 하기 수학식 1 및 2를 만족시키는 방법:[수학식 1]1 ×1010≥T ≥1 ×102[수학식 2]T = 1.4 ×1012(m/(M ×D3))[식중, T 는 반응 용액중 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트의 중량당 첨가된 종자 결정의 수(수/g)이고, m 은 첨가된 종자 결정의 중량(g)이고, D 는 종자 결정의 평균 입자 크기 2 내지 300 ㎛ 이고, M 은 반응 용액중 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트의 중량(g)이다].
- 제 17 항에 있어서, (C") 단계에서 첨가된 종자 결정이 β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트이거나, β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트와 α형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트의 혼합물인 방법.
- 제 17 항에 있어서, 초음파가 (C") 단계에서 액체를 점차적으로 냉각시키는 방법에서 액체에 적용되는 방법.
- 제 17 항에 있어서, (D) 단계의 세정이 α형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트에 대해 20 ℃에서 0.5 g/100 g 이상의 용해도 및 β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트에 대해 20 ℃에서 0.5 g/100 g 미만의 용해도를 제공할 수 있는 용매를, β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정에 대해 0.5 내지 10 중량배의 양으로 이용하여 실시되는 방법.
- 제 17 항에 있어서, (C") 단계에서 수득된 결정의 평균 입자 크기가 20 내지 500 ㎛ 이고, (D) 단계의 건조가 대기압하 또는 감압하에 120 내지 140 ℃ 온도의 기체 스트림에서 실시되는 방법.
- 제 17 항에 있어서, (C") 단계에서 수득된 결정의 평균 입자 크기가 10 내지20 ㎛ 이고, (D) 단계의 건조가 대기압하 또는 감압하에 40 내지 120 ℃ 온도의 기체 스트림에서 실시되는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000311505 | 2000-10-12 | ||
JPJP-P-2000-00311505 | 2000-10-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020029314A true KR20020029314A (ko) | 2002-04-18 |
KR100816313B1 KR100816313B1 (ko) | 2008-03-24 |
Family
ID=18791252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020010062745A KR100816313B1 (ko) | 2000-10-12 | 2001-10-11 | β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정에잔류하는 유기 용매의 감소화 방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6903212B2 (ko) |
JP (1) | JP4221549B2 (ko) |
KR (1) | KR100816313B1 (ko) |
TW (1) | TWI320410B (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160099551A (ko) * | 2013-12-17 | 2016-08-22 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 고용해성 변성 에폭시 수지 조성물 |
KR20220137136A (ko) * | 2013-01-11 | 2022-10-11 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 고용해성 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 및 제조방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009008509A1 (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 無機粒子を含有した液状エポキシ樹脂形成用製剤 |
CN102174040B (zh) * | 2011-03-11 | 2013-09-04 | 黄山华惠科技有限公司 | 一种电子级异氰尿酸三缩水甘油酯的制备方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3240611B2 (ja) * | 1992-09-28 | 2001-12-17 | 日産化学工業株式会社 | 高純度エポキシ樹脂の製造方法 |
AU714033B2 (en) * | 1996-07-19 | 1999-12-16 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Method for producing purified epoxy compound |
TWI243169B (en) * | 1998-03-02 | 2005-11-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | Optically active epoxy compound |
JP3465743B2 (ja) * | 1998-04-20 | 2003-11-10 | 日産化学工業株式会社 | β型トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート結晶体及びその製造方法 |
TWI225059B (en) * | 1998-04-20 | 2004-12-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | beta-form tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate crystals and process for their production |
TW550263B (en) * | 1998-09-01 | 2003-09-01 | Nissan Chemical Ind Ltd | Method for reducing an organic solvent remaining in tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate crystals |
-
2001
- 2001-10-05 JP JP2001310205A patent/JP4221549B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-08 TW TW090124851A patent/TWI320410B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-10-11 KR KR1020010062745A patent/KR100816313B1/ko active IP Right Grant
- 2001-10-11 US US09/973,766 patent/US6903212B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220137136A (ko) * | 2013-01-11 | 2022-10-11 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 고용해성 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 및 제조방법 |
KR20160099551A (ko) * | 2013-12-17 | 2016-08-22 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 고용해성 변성 에폭시 수지 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6903212B2 (en) | 2005-06-07 |
JP4221549B2 (ja) | 2009-02-12 |
US20020045752A1 (en) | 2002-04-18 |
JP2002234891A (ja) | 2002-08-23 |
TWI320410B (en) | 2010-02-11 |
KR100816313B1 (ko) | 2008-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101203496A (zh) | 纯的无定形瑞舒伐他汀钙的制备方法 | |
JP2009507831A (ja) | ゾレドロン酸の結晶性三水和物 | |
US6111104A (en) | Method for reducing an organic solvent remaining in tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate crystals | |
KR100510159B1 (ko) | β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아뉴레이트 결정 및 이의제조 방법 | |
KR100816313B1 (ko) | β형 트리스-(2,3-에폭시프로필)-이소시아누레이트 결정에잔류하는 유기 용매의 감소화 방법 | |
JP2006290869A (ja) | 新規ピロール誘導体とこれを利用した光感応性フィルム | |
JP3465743B2 (ja) | β型トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート結晶体及びその製造方法 | |
CN109991810B (zh) | 高溶解性三-(2,3-环氧丙基)-异氰脲酸酯及制造方法 | |
WO2004080974A1 (en) | A purification method of ionic liquids to obtain their high purity | |
JP2010184902A (ja) | イオン液体の精製方法および回収方法 | |
CN103492360A (zh) | 由酯合成羟烷基酰胺 | |
JP3903644B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
US6605718B2 (en) | Method for reducing organic solvents remaining in tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate crystals | |
JP4221536B2 (ja) | トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート結晶体中の残留有機溶媒の低減化方法 | |
JP4221546B2 (ja) | トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート結晶体中の残留有機溶媒の低減化方法 | |
WO1999045005A1 (fr) | Compose epoxy optiquement actif | |
EP0370357B1 (en) | Process for producing 3-iminonitriles | |
JP4390193B2 (ja) | エポキシ樹脂の製造法 | |
JP2854959B2 (ja) | ビス(3―ニトロフェノキシ)化合物の製造法 | |
JPH0825943B2 (ja) | 高融点ジブロモプロピルエーテル化合物の製造方法 | |
CN109529794B (zh) | 光学纯扁桃酸衍生物-纤维素手性固定相、制备方法及应用 | |
JP2659237B2 (ja) | 新規な陰イオン性シクロファン誘導体 | |
JP2010150249A (ja) | ビスフェノールa(bpa)の直接的晶析法を用いた高純度ビスフェノールaの製造方法 | |
JPS611675A (ja) | 発色団置換ビニル‐ハロメチル‐s‐トリアジン類の製造法 | |
WO2016142173A1 (en) | 4-(2-methyl-1h-imidazol-1-yl)-2,2-diphenylbutanenitrile solid form |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
B701 | Decision to grant | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
G170 | Re-publication after modification of scope of protection [patent] | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130227 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140220 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150224 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160219 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170221 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180302 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190306 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200303 Year of fee payment: 13 |