KR20020020854A - 유체 제어 장치 및 이것을 이용한 가스 처리 장치 - Google Patents

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KR20020020854A
KR20020020854A KR1020010055411A KR20010055411A KR20020020854A KR 20020020854 A KR20020020854 A KR 20020020854A KR 1020010055411 A KR1020010055411 A KR 1020010055411A KR 20010055411 A KR20010055411 A KR 20010055411A KR 20020020854 A KR20020020854 A KR 20020020854A
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후지모토히데키
우자와노보루
사토나오유키
야마지미치오
다나카시게아키
가와노유지
오마타야수유키
후쿠이마사카즈
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오가와 슈우헤이
가부시키가이샤 후지킨
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Abstract

유체 제어 장치는 각 라인(A1, A2, A3, A4, A5, B1, B2, B3)이 복수 개의 브래킷(8, 9, 18, 19, 20)을 통해 기판(1)에 착탈 가능하게 장착되고, 통로 접속 수단(47, 48)이 위쪽으로 떼어낼 수 있도록 되어 있다.

Description

유체 제어 장치 및 이것을 이용한 가스 처리 장치 {FLUID CONTROL APPARATUS AND GAS TREATMENT SYSTEM COMPRISING SAME}
본 발명은 반도체 제조 장치에 사용되는 유체 제어 장치 및 이것을 이용한 가스 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세히 말하면, 보수 점검 시에 유체 제어 기기를 단독으로 위쪽으로 빼낼 수 있도록 조립된 집적화 유체 제어 장치 및 이것을 이용한 가스 처리 장치에 관한 것이다.
본 명세서에서 전후·상하에 대해서는 도 2의 우측을 앞, 좌측을 뒤로 하고 도 2(a)의 상하를 상하로 하며, 좌우는 뒤쪽을 향해 말하는 것으로 한다. 이 전후·상하는 편의적인 것으로, 전후가 반대로 되거나 상하가 좌우가 되기도 해서 사용되는 경우도 있다.
반도체 제조 장치에 사용되는 유체 제어 장치는 여러 가지 유체 제어 기기가 복수 열로 배치되는 동시에, 인접하는 열의 유체 제어 기기의 유로끼리 소정 개소에서 기기 접속 수단에 의해 접속됨으로써 구성되어 있지만, 최근 이런 종류의 유체 제어 장치에서는, 질량유량 제어기나 개폐 밸브 등을 튜브를 통하지 않고서 접속시키는 집적화가 진행되고 있다(예를 들면, 일본국 특허 공개 평9-29996호 공보를 참조하기 바람). 도 18은 그 일례를 보여주는 평면도로서, 이 유체 제어 장치는 바이패스 통로가 없는 5개의 라인(P1, P2, P3, P4, P5)과, 바이패스 통로가 있는 3개의 라인(Q1, Q2, Q3)의 합계 8개의 라인을 갖고 있다. 바이패스 통로 없는 라인(P1, P2, P3, P4, P5)은 질량유량 제어기(91)와, 그 입구측에 필터(93)를 통해 설치된 개폐 밸브(92)와, 그 출구측에 설치된 개폐 밸브(94)를 구비하고 있고, 바이패스 통로 있는 라인(Q1, Q2, Q3)은 질량유량 제어기(91)와, 그 입구측에 필터(93)를 통해 설치된 2개의 개폐 밸브(95, 96)와, 그 출구측에 설치된 2개의 개폐 밸브(97, 98)와, 질량유량 제어기(91)의 입구측 접속부와 출구측 접속부를 접속시키는 개폐 밸브(99a)를 갖는 바이패스 배관(99)을 구비하고 있다. 이 유체 제어 장치는 1장의 기판(100)에, 우선 블록 이음매 등의 이음매 부재(도시하지 않았음)를 나사로 장착하고, 이어서 이들 이음매 부재에 걸치도록 해서 질량유량 제어기, 필터, 개폐 밸브 등의 유체 제어 기기(91, 92, 93, 94, 95, 96, 97, 98)를 장착함으로써 조립되었다. 바이버스 배관(99)은 도면에 도시한 바와 같이 바이패스 통로 있는 라인(Q1, Q2, Q3)의 주(主) 부분과 병렬로 설치되므로, 3개의 바이패스 통로 있는 라인(Q1, Q2, Q3)의 바이패스 배관(99)을 설치하기 위해서는 3개 라인 분의공간이 필요했다.
이 종류의 유체 제어 장치는 플라즈마 처리, 에칭, CVD 성막 등을 행하는 가스 처리 장치에 사용되고 있다.
상기 종래의 유체 제어 장치에 의하면, 개개의 유체 제어 기기는 위쪽으로 빼내어 점검·수리·교환할 수 있지만, 라인의 증설 및 변경에 대해서는 충분히 고려되어 있지 않았다. 그 때문에, 시스템의 개조가 발생한 경우에는 새롭게 필요한 기기를 패널에 장착하고 패널째 교환하는 일이 행해졌는데, 이 경우에는 장기간의 장치 정지나 현지 공사 공정수의 증가로 이어진다고 하는 문제가 있었다. 또한, 상기 종래의 유체 제어 장치에서는 바이패스 통로 있는 라인의 설치 공간이 바이패스 통로 없는 라인의 설치 공간보다 크기 때문에, 전체 설치 공간이 커진다고 하는 문제나, 바이패스 통로 있는 라인의 수에 따라 기판 치수를 변경해야 한다고 하는 문제도 있었다.
이러한 상황에서, 이 종류의 유체 제어 장치에서 라인의 증설 및 변경이 필요하게 되었을 때라도 용이하게 대응할 수 있을 것이 새로운 중요 과제로 되어 있다.
또한, 상기 종래의 유체 제어 장치를 갖춘 가스 처리 장치에서는 대상 물질이 변해 예컨대 이산화규소막을 에칭하는 장치를 폴리실리콘 에칭으로 바꾸는 경우 염소계 가스를 부가할 필요가 있지만, 이 경우 유체 제어 장치 모두를 분해해서 새롭게 변경해서 제작할 필요가 있었다. 이미 설치된 가스 처리 장치에서 유체 제어 장치를 더욱 추가·변경하고자 하면, 청정실 등의 한정된 사용 장소에서 유체 제어장치의 분리, 분해, 재조립, 증설을 용이하게 할 수 없고, 그 때문에 가스 처리 장치의 가동 시간이 현저히 저해되어 있었다.
본 발명의 목적은 라인의 증설·변경에 용이하게 대응할 수 있는 집적화 유체 제어 장치 및 이러한 유체 제어 장치를 갖춘 가스 처리 장치를 제공하는 데에 있다.
도 1은 본 발명에 의한 유체 제어 장치의 제1 실시예를 보여주는 사시도.
도 2의 (a) 및 (b)는 바이패스 통로 없는 라인의 구성을 보여주는 측면도.
도 3의 (a) 및 (b)는 바이패스 통로 있는 라인의 구성을 보여주는 측면도.
도 4는 바이패스 통로 없는 라인끼리를 접속시키는 매니폴드 블록 이음매를 보여주는 단면도.
도 5는 본 발명에 의한 유체 제어 장치의 제2 실시예를 보여주는 사시도.
도 6은 도 5의 유체 제어 장치에 새롭게 바이패스 통로 없는 라인을 추가하는 작업을 보여주기 위한 사시도.
도 7은 도 5의 유체 제어 장치에 바이패스 통로 없는 라인이 추가되어 형성된 본 발명에 의한 유체 제어 장치의 제3 실시예를 보여주는 사시도.
도 8은 본 발명에 의한 유체 제어 장치의 제4 실시예를 보여주는 사시도.
도 9는 도 8의 유체 제어 장치에 새롭게 바이패스 통로 있는 라인을 추가하는 작업의 한 단계를 보여주기 위한 사시도.
도 10은 도 8의 유체 제어 장치에 새롭게 바이패스 통로 있는 라인을 추가하는 작업의 다른 단계를 보여주기 위한 사시도.
도 11은 도 8의 유체 제어 장치에 새롭게 바이패스 통로 있는 라인을 추가하는 작업의 또 다른 단계를 보여주기 위한 사시도.
도 12는 도 8의 유체 제어 장치에 바이패스 통로 있는 라인이 추가되어 형성된 본 발명에 의한 유체 제어 장치를 보여주는 도면으로, 도 7에 도시된 제3 실시예를 다른 방향에서 본 사시도로 되어 있음.
도 13은 도 12에 도시된 유체 제어 장치의 질량유량 제어기를 빼내는 작업의 한 단계를 보여주는 사시도.
도 14는 도 12에 도시된 유체 제어 장치의 질량유량 제어기를 빼내는 작업의 다른 단계를 보여주는 사시도.
도 15는 도 12에 도시된 유체 제어 장치의 질량유량 제어기를 빼내는 작업의 또 다른 단계를 보여주는 사시도.
도 16은 도 12에 도시된 유체 제어 장치의 질량유량 제어기를 빼내는 작업의 또 다른 단계를 보여주는 사시도
도 17은 본 발명의 유체 제어 장치를 갖춘 가스 처리 장치의 일례를 보여주는 계통도.
도 18은 종래의 유체 제어 장치를 보여주는 평면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 기판
A1, A2, A3, A4, A5 : 바이패스 통로 없는 라인
B1, B2, B3 : 바이패스 통로 있는 라인
2, 3, 4, 5, 6, 7 : 유체 제어 기기
8, 9, 18, 19, 20, 42 : 브래킷
11, 12, 13, 14, 15, 16, 17 : 이음매 부재
35 : 바이패스 배관
40, 43 : 매니폴드 블록 이음매
40c, 43c : 라인 증설용 분기로
41 : 통로 폐쇄 블록(폐쇄 부재)
47, 48 : 통로 접속 수단
100 : 플라즈마 에칭 장치
본 발명에 의한 유체 제어 장치는, 하나의 라인이, 상단에 배치된 복수 개의 유체 제어 기기와, 하단에 배치된 복수 개의 이음매 부재에 의해 형성되고, 복수 개의 라인이, 그 입구가 동일 방향을 향하도록 기판 상에 병렬형으로 배치되며, 소정의 라인끼리 통로 접속 수단에 의해 접속되어 있는 유체 제어 장치에 있어서, 각 라인이 복수 개의 브래킷을 통해 기판에 착탈 가능하게 장착되고, 상기 통로 접속 수단이 위쪽으로 떼어낼 수 있게 되어 있는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명의 유체 제어 장치에 의하면, 각 라인이 복수 개의 브래킷을 통해 기판에 착탈 가능하게 장착되고, 통로 접속 수단이 위쪽으로 떼어낼 수 있게 되어 있기 때문에, 라인을 증설할 때에는 필요에 따라서 통로 접속 수단을 위쪽으로 떼어낸 후 증설해야 하는 라인을 기판 상에 장착하고, 마지막으로 증설 후에 필요한 통로 접속 수단을 장착하는 것만으로도 충분하며, 또한 라인을 변경할 때에는 필요에 따라 통로 접속 수단을 위쪽으로 떼어낸 후 변경되는 구(舊) 라인을 빼내어 이것을 대신하는 라인을 기판 상에 장착하고, 마지막으로 변경 후에 필요한 통로 접속 수단을 장착하는 것만으로도 충분하므로 라인의 증설 및 변경을 용이하게 행할 수 있다.
하단에 배치되어 3개 이상의 라인을 하나의 이음매로 접속시키는 매니폴드 블록 이음매가 입구측 및 출구측의 적어도 한쪽에 설치되어 있고, 이 매니폴드 블록 이음매는 브래킷을 통해 기판에 장착되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 복수 개의 라인을 접속시키는 구성이 간소화되어 유체 제어 장치의 조립이나 변경이 용이해진다.
매니폴드 블록 이음매에, 개구가 폐쇄 부재에 의해 폐쇄되어 있는 라인 증설용 분기로가 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 라인 증설 시에는 폐쇄 부재를 빼내고 매니폴드 블록 이음매의 분기로에 새로운 라인의 대응하는 부재를 접속시키는 것만으로 충분하므로, 유체 제어 장치의 증설이나 변경이 보다 용이해진다.
복수 개의 라인은 바이패스 통로 없는 라인과 바이패스 통로 있는 라인으로 이루어지고, 바이패스 통로 있는 라인은 소정의 유체 제어 기기의 입구측과 출구측을 유체 제어 기기의 위쪽에서 접속시키는 바이패스 배관을 갖고 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 각 라인의 폭을 바이패스 통로 있는 것과 바이패스 통로 없는 것에서 동일하게 할 수 있어, 변경 등에 용이하게 대응할 수 있는 동시에 유체 제어 기기의 점유 공간을 작게 억제할 수 있다.
상기 유체 제어 장치는 예컨대 플라즈마 처리 장치와 같은 가스 처리 장치에 사용되는 것이 바람직하다. 이렇게 해서 얻은 가스 처리 장치는 그 사양 변경에따른 설비 개조를 용이하게 할 수 있어, 가스 처리 장치의 가동 시간을 저해하는 요인이 억제된다.
본 발명의 실시예를 이하에서 도면을 참조로 설명한다.
본 발명에 의한 유체 제어 장치의 제1 실시예는 도 1에 도시된 바와 같이 3개의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3)과, 3개의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)이 기판(1)에 병렬형으로 배치되어 형성되어 있다.
각각의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3) 및 각각의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)은 상단에 배치된 질량유량 제어기, 개폐 밸브, 차단 개방기 등의 복수 개의 유체 제어 기기(2, 3, 4, 5, 6, 7)와, 하단에 배치되어 유체 제어 기기(2, 3, 4, 5, 6, 7)끼리를 연통시키는 복수 개의 이음매 부재(11, 12, 13, 14, 15, 16, 17)에 의해 형성되어 있다.
각각의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3)의 유체 제어 기기는 질량유량 제어기(2)와, 질량유량 제어기(2)의 입구측에 필터(4)를 통해 설치된 입구측 개폐 밸브(3)와, 질량유량 제어기(2)의 출구측에 설치된 출구측 개폐 밸브(5)이고, 각각의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)의 유체 제어 기기는 질량유량 제어기(2)와, 질량유량 제어기(2)의 입구측에 필터(4)를 통해 설치된 입구측 차단 개방기(6)와, 질량유량 제어기(2)의 출구측에 설치된 출구측 차단 개방기(7)이다.
도 2에 도시한 바와 같이, 각각의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3)의 질량유량 제어기(2)는 입구측 접속부(2a) 및 출구측 접속부(2b)를 그 하단부 전후면에 갖고 있고, 바깥쪽 돌출 가장자리가 있는 역U자형 브래킷(8)을 통해 기판(1)에 장착되어 있다. 필터(4) 및 입구측 개폐 밸브(3)는 이들의 아래쪽에 배치된 블록형 이음매(11)에 의해 연통되어 있다. 입구측 개폐 밸브(3)의 전반부 아래쪽에는 또 다른 블록형 이음매(12)가 배치되고, 이 이음매(l2)에 입구측 관형 이음매(13)가 설치되어 있다. 또한, 필터(4)의 후반부 아래쪽에도 블록형 이음매(14)가 배치되며, 이 이음매(14)에 질량유량 제어기(2)의 입구측 접속부(2a)에 접속되는 관형 이음매(15)가 장착되어 있다. 출구측 개폐 밸브(5)의 전반부의 아래쪽에는 필터(4)의 아래쪽에 설치된 이음매(14)와 마찬가지의 블록형 이음매(16)가 배치되고, 이 이음매(16)에는 질량유량 제어기(2)의 출구측 접속부(2b)에 접속되는 관형 이음매(17)가 장착되어 있다. 입구측의 하단에 있는 3개의 블록형 이음매(11, 12, 14)는 위쪽으로부터의 나사(37)에 의해 필터(4) 및 입구측 개폐 밸브(3)와 결합되고, 또한 바깥쪽 돌출 가장자리가 있는 역U자형 브래킷(9)에 장착되어 있다. 그리고, 이 브래킷(9)은 기판(1)에 장착되어 있다. 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3)은 도 2에 도시된 상태에서 기판(1)에 착탈 가능하게 되어 있고, 질량유량 제어기(2)는 그 양측의 이음매(15, 17)를 빼냄으로써, 또한 필터(4) 및 각 개폐 밸브(3, 5)는 나사(37)를 빼냄으로써 각각 단독으로 위쪽으로 떼어낼 수 있게 되어 있다.
입구측 개폐 밸브(3)의 아래쪽의 질량유량 제어기(2)로부터 먼 부분에는, 입구측 관형 이음매(13)를 갖는 블록형 이음매(12)가 배치되어 있는 데에 반해서, 출구측 개폐 밸브(5)의 아래쪽의 질량유량 제어기(2)로부터 먼 부분에는 그와 같은 이음매는 설치되지 않고, 대신에 도 1에 도시된 바와 같이 3개의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3)끼리를 하나의 이음매로 접속시키는 매니폴드 블록 이음매(40)가 설치되어 있다.
이 매니폴드 블록 이음매(40)는 도 4에 도시된 바와 같이 좌우 방향으로 뻗은 통로, 즉 각각의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3)과 직교하는 주통로(40a)와, 이 주통로(40a)로부터 분기되어 위쪽으로 뻗는 5개의 분기통로(40b, 40c)를 갖고 있다. 주통로(40a)는 그 일단이 왼쪽으로 개방되고 타단은 폐쇄되어 있다. 분기 통로(40b, 40c) 중의 3개(40b)에, 각 라인(A1, A2, A3)의 출구측 개폐 밸브(5)의 본체(5a)의 후반부가 장착되고, 나머지 2개(40c)는 매니폴드 블록 이음매(40)에 나사(37)에 의해 장착된 통로 폐쇄 블록(폐쇄 부재, 41)이 장착되어 있다. 따라서, 각각의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3)의 질량유량 제어기(2)를 통과한 유체는 출구측 개폐 밸브(5) 아래쪽의 블록형 이음매(16)를 지나 출구측 개폐 밸브(5) 내로 들어가, 그 곳으로부터 매니폴드 블록 이음매(40) 내의 통로(40b, 40a)로 유입된다. 매니폴드 블록 이음매(40)는 바깥쪽 돌출 가장자리가 있는 역U자형 브래킷(42)을 통해 기판(1)에 고정되어 있다.
도 3에 도시한 바와 같이, 각각의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)의 질량유량 제어기(2)는 입구측 접속부(2a) 및 출구측 접속부(2b)를 그 하단부 전후면에 갖고 있고, 바깥쪽 돌출 가장자리가 있는 역U자형 브래킷(18)을 통해 기판(1)에 장착되어 있다. 입구측 차단 개방기(6)는 블록형 본체(21)와, 이것에 장착된 2개의 개폐 밸브 액츄에이터(22, 23)와, 본체(21)의 상면에 장착된 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(24)와, 본체(21)의 측면에 장착된 통로 블록(25)에 의해 형성되어 있다.
필터(4) 및 입구측 차단 개방기(6)의 통로 블록(25)은 이들의 아래쪽에 배치된 블록형 이음매(11)에 의해 연통되어 있다. 차단 개방기(6)의 본체(21)의 전단부의 아래쪽에는 블록형 이음매(12)가 배치되고, 이 이음매(12)에는 입구측 관형 이음매(13)가 설치되어 있다. 또한, 필터(4)의 후반부의 아래쪽에도 블록형 이음매(14)가 배치되고, 이 이음매(14)에는 질량유량 제어기(2)의 입구측 접속부에 접속되는 이음매(15)가 장착되어 있다. 하단에 있는 3개의 블록형 이음매(11, 12, 14)는 위쪽으로부터의 나사(37)에 의해 필터(4) 및 차단 개방기(6)의 본체(21)와 결합되고, 또한 바깥쪽 돌출 가장자리가 있는 역U자형 브래킷(19)에 장착되어 있다. 그리고, 이 브래킷(19)이 기판(1)에 장착되어 있다.
출구측 차단 개방기(7)는 질량유량 제어기(2)와 가까운 쪽에 배치된 제1 블록형 본체(26)와, 이것에 장착된 제1 개폐 밸브 액츄에이터(27)와, 제1 블록형 본체(26)의 뒤쪽에 인접해서 배치된 제2 블록형 본체(28)와, 이것에 장착된 2개의 개폐 밸브 액츄에이터(29, 30)와, 제1 본체(26)의 상면에 장착된 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(31)와, 제1 본체(26)의 앞면에 장착된 통로 블록(32)과, 제2 본체(28)의 상면에 장착된 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(33)에 의해 형성되어 있다.
출구측 차단 개방기(7)의 통로 블록(32)의 아래쪽에 블록형 이음매(16)가 배치되고, 이 이음매(16)에는 질량유량 제어기(2)의 출구측 접속부(2b)에 접속되어 있는 관형 이음매(17)가 장착되어 있다. 통로 블록(32) 아래쪽의 블록형이음매(16)는 단독으로 바깥쪽 돌출 가장자리가 있는 역U자형 브래킷(20)을 통해 기판(1)에 장착되어 있다.
필터(4) 아래쪽의 블록형 이음매(14)와 질량유량 제어기(2) 접속용 관형 이음매(15) 사이에는 바이패스용 통로를 분기시키는 관형의 T형 이음매(34)가 배치되어 있고, 질량유량 제어기(2)의 위쪽을 통과하는 역U자형의 바이패스 배관(35)의 일단이 이 T형 이음매(34)에 접속되며, 그 타단은 출구측 차단 개방기(7)의 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(31)에 접속되어 있다. 바이패스 배관(35) 도중에는, 이것을 역L자 부분(35a)과 I자 부분(35b)으로 분할할 수 있게 하는 관형 이음매(36)가 설치되어 있다.
바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)은 도 3에 도시된 상태로 기판(1)에 착탈 가능하게 되어 있고, 질량유량 제어기(2)는 그 양측의 이음매(15, 17)를 빼냄으로써, 또한 필터(4)와, 각 차단 개방기(6, 7)의 본체(21, 26, 28) 및 통로 블록(25, 32)은 나사(37)를 빼냄으로써 각각 단독으로 위쪽으로 빼낼 수 있게 되어 있다.
출구측 차단 개방기(7)의 후단부의 아래쪽에는 각각의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3)의 출구측과 마찬가지로 매니폴드 블록 이음매(43)가 배치되어 있다. 이 매니폴드 블록 이음매(43)는, 상세한 도시는 생략하지만, 도 4에 도시된 매니폴드 블록 이음매(40)의 분기 통로(40b, 40c) 수를 3개로 한 것으로, 각각의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)의 출구측 차단 개방기(7)의 제2 블록형 본체(28)의 후단부의 통로끼리가 이 매니폴드 블록 이음매(43)에 의해 접속되어 있다. 바이패스 통로 없는 라인용 매니폴드 블록 이음매(40)를 지지하는 브래킷(42)은 기판(1)의 일단으로부터 타단까지 뻗어 있고, 바이패스 통로 있는 라인용 매니폴드 블록 이음매(43)도 이 브래킷(42)에 장착되어 있다. 바이패스 통로 없는 라인용 매니폴드 블록 이음매(40)와 바이패스 통로 있는 라인용 매니폴드 블록 이음매(43)는 연통 파이프(44)에 의해 접속되어 있고, 이들에 공통인 출구가 바이패스 통로 있는 라인용 매니폴드 블록 이음매(43)의 종단부로 되며, 여기에 관형 이음매(46)를 갖는 개폐 밸브(45)가 설치되어 있다.
바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)끼리는 그 입구측 차단 개방기(6)의 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(24)끼리, 그리고 출구측 차단 개방기(7)의 제2 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(33)끼리가 각각 통로 접속 수단으로서의 역U자형 연통 배관(47, 48)에 의해 접속되어 있다.
전술한 바와 같이 구성된 유체 제어 장치에 있어서, 예컨대 바이패스 통로 없는 라인을 2 라인 증설하는 경우에는 다음과 같이 한다.
우선, 도 5에 도시한 바와 같이, 바이패스 통로 없는 라인용 매니폴드 블록 이음매(40)로부터 통로 폐쇄 블록(41)을 2개 모두 빼내고, 이어서 도 6에 도시한 바와 같이, 도 2에 도시된 상태까지 조립된 바이패스 통로 없는 라인(A4)을 장착한다. 이 때의 작업은 출구측 개폐 밸브(5)의 본체(5a)를 매니폴드 블록 이음매(40)의 분기 통로(40c)에 맞추어 브래킷(8, 9)을 기판(1)에 고정하는 것만으로 충분하다. 이 작업을 또 하나의 바이패스 통로 없는 라인(A5)에 대해서도 행함으로써, 도 7에 도시된 바와 같이 5개의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3, A4, A5)과,3개의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)이 기판(1)에 병렬형으로 배치되어 형성된 유체 제어 장치를 얻을 수 있다.
또한, 도 8에 도시된 바와 같은 5개의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3, A4, A5)과, 2개의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2)이 기판(1)에 병렬형으로 배치되어 형성된 유체 제어 장치에 있어서, 바이패스 통로 있는 라인을 1 라인 증설하는 경우에는 다음과 같이 한다.
우선, 도 9에 도시한 바와 같이 바이패스 통로 있는 라인용 매니폴드 블록 이음매(43)로부터 통로 폐쇄 블록(41)을 떼어내고, 동시에 2개의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2)의 입구측 차단 개방기(6)의 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(24)와, 출구측 차단 개방기(7)의 제2 본체(28)측 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(33)를 역U자형 연통 배관(47, 48)과 함께 떼어낸다. 계속해서, 도 10에 도시한 바와 같이, 도 3에 도시된 상태까지 조립된 바이패스 통로 있는 라인(B3)을 장착한다. 이 때의 작업은 출구측 차단 개방기(7)의 제2 블록형 본체(28)를 매니폴드 블록 이음매(43)의 분기 통로(43c)에 맞추어 브래킷(18, 19, 20)을 기판(1)에 고정하는 것만으로 충분하다. 그리고, 도 11에 도시한 바와 같이, 3개의 라인(B1, B2, B3)의 입구측 차단 개방기(6)의 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(24)와, 출구측 차단 개방기(7)의 제2 본체(28)측 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(33)를 역U자형 연통 배관(47, 48)과 함께 장착한다. 이에 따라, 도 12에 도시한 바와 같이, 5개의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3, A4, A5)과, 3개의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)이 기판(1)에 병렬형으로 배치되어 형성된 유체 제어 장치를얻을 수 있다.
또한, 5개의 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3, A4, A5)과, 3개의 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)이 기판(1)에 병렬형으로 배치되어 형성된 유체 제어 장치(도 12의 것)에 있어서, 바이패스 통로 있는 라인(B3)의 질량유량 제어기(2)를 교환할 때에는 다음과 같이 한다.
우선, 도 13에 도시한 바와 같이, 바이패스 통로 있는 라인(B3)의 바이패스 배관(35)의 관형 이음매(36)를 빼낸다. 이어서, 도 14에 도시한 바와 같이, 출구측 차단 개방기(7)의 관형 접속부를 갖는 블록형 이음매(31)를 바이패스 배관(35)의 역L자 부분(35a)이 붙은 채로 떼어낸다. 계속해서, 도 15에 도시한 바와 같이, 질량유량 제어기(2)의 입구측 및 출구측에 접속되어 있는 관형 이음매(15, 17)를 빼낸다. 이에 따라, 도 16에 도시한 바와 같이 질량유량 제어기(2)를 위쪽으로 떼어낼 수 있게 된다. 질량유량 제어기(2)를 장착하려면 이들 일련의 작업을 반대로 하면 된다.
상기 유체 제어 장치는 플라즈마 처리, 에칭, CVD 성막 등을 행하는 가스 처리 장치에 사용되는 것이 바람직하다. 도 17은 가스 처리 장치의 일례를 보여주고 있다.
이 가스 처리 장치는 통상 3계통(C, D, E) 정도의 실장된 유체 제어 장치(101)를 갖는 플라즈마 에칭 장치(100)이며, 유체 제어 장치(101)는 가스 누설의 피해 방지를 위해 밀폐 구조로, 그리고 배기 가능한 케이스에 수납되어 있다. 또한, 유체 제어 장치(101)로부터 공급된 에칭 가스는 가스 도입 배관(103) 및 반응실(102) 안에 배치된 가스 샤워 헤드(104)를 경유해서 반응실(102) 내로 도입된다. 도입된 에칭 가스는 배기 배관(108)으로부터 도시하지 않는 배기계에 의해 반응실(102) 밖으로 배기된다. 그 때, 기판 홀더(105)에 플라즈마 발생용 고주파 전원(106)으로부터 고주파를 공급해서 기판(107) 근방에 플라즈마 방전을 발생시켜 기판(107)을 에칭 처리하도록 구성되어 있다.
이 플라즈마 에칭 장치(100)에 의하면, 예컨대 가스 종으로서 CHF3, O2, C2F6를 이용해서 이산화규소막의 에칭을 행할 수 있다. 이 장치에 의해 폴리실리콘도 에칭할 수 있도록 하기 위해서는 가스 종으로서 Cl2, SF6의 증설이 필요하게 된다. 이 경우, 종래의 유체 제어 장치에서는 질량유량 제어기 등의 모든 유체 제어 기기를 빼내고 용접 배관을 신규로 작성해서 재차 유체 제어 기기를 조립하지만, 이 경우 가스 배관 전체가 장시간 대기에 노출되어 대기 중의 수분과 배관 중에 흡착되어 있는 가스 성분이 반응해서 배관에 부식을 발생시킨다고 하는 문제가 생긴다. 따라서, 증설 또는 변경하는 곳 이외의 부품 모두의 가스 접촉부를 분해 세정할 필요가 있었다. 이에 반해서, 전술한 본 발명의 유체 제어 장치를 갖춘 플라즈마 에칭 장치에서는 필요한 가스의 부분만을 유체 제어 장치 부분에 부가할 수 있어 개조가 현저히 용이하게 되었다.
상기 유체 제어 장치를 갖춘 가스 처리 장치로서는 플라즈마 에칭 장치 이외에, 가스를 혼합해서 사용하거나, 또는 복수 개의 가스를 도입하는 장치인 CVD 장치, 플라즈마 CVD 장치, 스퍼터 장치 등이 있으며, 어느 가스 처리 장치라도 그 가스의 개변이 용이하게 된다.
본 발명에 따른 집적화 유체 제어 장치 및 이러한 유체 제어 장치를 갖춘 가스 처리 장치는 라인의 증설·변경에 용이하게 대응할 수 있다.

Claims (6)

  1. 하나의 라인(A1, A2, A3, A4, A5, B1, B2, B3)이, 상단에 배치된 복수 개의 유체 제어 기기(2, 3, 4, 5, 6, 7)와, 하단에 배치된 복수 개의 이음매 부재(11, 12, 13, l4, 15, 16, 17)에 의해 형성되고, 복수 개의 라인(A1, A2, A3, A4, A5, B1, B2, B3)이, 그 입구가 동일 방향을 향하도록 기판(1) 상에 병렬형으로 배치되며, 소정의 라인(B1, B2, B3)끼리 통로 접속 수단(47, 48)에 의해 접속되어 있는 유체 제어 장치에 있어서,
    각 라인(A1, A2, A3, A4, A5, B1, B2, B3)이 복수 개의 브래킷(8, 9, 18, 19, 20)을 통해 상기 기판(1)에 착탈 가능하게 장착되고, 상기 통로 접속 수단(47, 48)이 위쪽으로 떼어낼 수 있게 되어 있는 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  2. 제1항에 있어서, 하단에 배치되어 3개 이상의 라인(A1, A2, A3, A4, A5, B1, B2, B3)을 하나의 이음매로 접속시키는 매니폴드 블록 이음매(40, 43)가 입구측 및 출구측 중 적어도 한쪽에 설치되어 있고, 이 매니폴드 블록 이음매(40, 43)는 브래킷(42)을 통해 상기 기판에 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 매니폴드 블록 이음매(40, 43)에는 개구가 폐쇄 부재(41)에 의해 폐쇄되어 있는 하나 이상의 라인 증설용 분기로(40c)가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 복수 개의 라인(A1, A2, A3, A4, A5, B1, B2, B3)은 바이패스 통로 없는 라인(A1, A2, A3, A4, A5)과 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)으로 이루어지고, 상기 바이패스 통로 있는 라인(B1, B2, B3)은 소정의 유체 제어 기기(2)의 입구측과 출구측을 그 유체 제어 기기(2)의 위쪽에서 접속시키는 바이패스 배관(35)을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 유체 제어 장치를 갖춘 가스 처리 장치.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 유체 제어 장치를 갖춘 플라즈마 처리 장치.
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TW (1) TW522443B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111945136A (zh) * 2020-08-13 2020-11-17 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备及其集成供气系统

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7048007B2 (en) * 1998-03-05 2006-05-23 Swagelok Company Modular surface mount manifold assemblies
US7039999B2 (en) * 2002-04-25 2006-05-09 Tarr Adam L Method for installation of semiconductor fabrication tools
JP2004183771A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Fujikin Inc 流体制御装置
JP4677805B2 (ja) * 2005-03-22 2011-04-27 株式会社フジキン 流体制御装置
US7320339B2 (en) * 2005-06-02 2008-01-22 Ultra Clean Holdings, Inc. Gas-panel assembly
JP2007034667A (ja) * 2005-07-27 2007-02-08 Surpass Kogyo Kk 流量コントローラ、これに用いるレギュレータユニット、バルブユニット
EP1895214A1 (en) * 2005-08-10 2008-03-05 Fujikin Incorporated Fluid control device
JP4780555B2 (ja) * 2005-09-12 2011-09-28 株式会社フジキン 流体制御装置
TWI391804B (zh) * 2005-09-29 2013-04-01 3M Innovative Properties Co 流體控制裝置及其方法
US7575616B2 (en) * 2006-02-10 2009-08-18 Entegris, Inc. Low-profile surface mount filter
US20070270746A1 (en) * 2006-05-19 2007-11-22 Alcon, Inc. Surgical system having pneumatic manifolds with integral air cylinders
US20070282262A1 (en) * 2006-05-19 2007-12-06 Alcon, Inc. Surgical system having integral pneumatic manifolds
US9180232B2 (en) * 2006-05-19 2015-11-10 Novartis Ag Surgical system having manifolds with integral pneumatic accumulators
US20080009977A1 (en) * 2006-07-10 2008-01-10 Ultra Clean Holdings Apparatus and Method for Monitoring a Chemical-Supply System
KR101466998B1 (ko) * 2006-08-23 2014-12-01 가부시키가이샤 호리바 에스텍 집적형 가스 패널 장치
WO2008030501A2 (en) * 2006-09-06 2008-03-13 Ultra Clean Holdings, Incorporated Pre-certified process chamber and method
US20090078324A1 (en) * 2007-09-21 2009-03-26 Ultra Clean Technology, Inc. Gas-panel system
US20090114295A1 (en) * 2007-11-06 2009-05-07 Ultra Clean Holdings, Inc. Gas-panel assembly
WO2010101077A1 (ja) * 2009-03-04 2010-09-10 株式会社堀場エステック ガス供給装置
JP5254948B2 (ja) * 2009-12-25 2013-08-07 株式会社堀場エステック 流体機器固定装置
DE102010043865A1 (de) 2009-11-30 2011-07-14 Horiba Stec Co., Ltd. Fluid device
JP5775696B2 (ja) * 2011-01-31 2015-09-09 株式会社フジキン 流体制御装置
US8851113B2 (en) * 2012-03-27 2014-10-07 Lam Research Coporation Shared gas panels in plasma processing systems
JP5616416B2 (ja) * 2012-11-02 2014-10-29 株式会社フジキン 集積型ガス供給装置
TWI651486B (zh) * 2013-12-05 2019-02-21 Ｃｋｄ股份有限公司 流體供給控制裝置
TWI693638B (zh) 2014-04-07 2020-05-11 美商蘭姆研究公司 獨立於配置的氣體輸送系統
US10557197B2 (en) 2014-10-17 2020-02-11 Lam Research Corporation Monolithic gas distribution manifold and various construction techniques and use cases therefor
JP6468801B2 (ja) 2014-10-29 2019-02-13 株式会社フジキン 継手
CN105714271B (zh) * 2014-12-22 2020-07-31 株式会社堀场Stec 汽化系统
JP6471938B2 (ja) * 2015-03-30 2019-02-20 株式会社フジキン 流体供給装置、ライン保持具及び流体供給装置の製造方法
US10022689B2 (en) 2015-07-24 2018-07-17 Lam Research Corporation Fluid mixing hub for semiconductor processing tool
US10118263B2 (en) 2015-09-02 2018-11-06 Lam Researech Corporation Monolithic manifold mask and substrate concepts
US10215317B2 (en) 2016-01-15 2019-02-26 Lam Research Corporation Additively manufactured gas distribution manifold
US9879795B2 (en) 2016-01-15 2018-01-30 Lam Research Corporation Additively manufactured gas distribution manifold
KR20190075100A (ko) * 2016-10-24 2019-06-28 가부시키가이샤 후지킨 유체제어장치 및 이 유체제어장치를 사용한 제품 제조방법
JP6735688B2 (ja) * 2017-01-25 2020-08-05 東京エレクトロン株式会社 ガス導入部材
CN112888893A (zh) * 2018-10-26 2021-06-01 株式会社富士金 流体供给系统、流体控制装置以及半导体制造装置
KR20210116656A (ko) * 2019-02-05 2021-09-27 스웨이지락 캄파니 다중 밸브 조립체를 위한 통합 액추에이터 매니폴드
JP7333944B2 (ja) * 2019-06-27 2023-08-28 株式会社フジキン 流体制御装置
WO2020261985A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30 株式会社フジキン 流体制御装置
US20230167931A1 (en) 2020-02-20 2023-06-01 Ihara Science Corporation Connection method and axial alignment mechanism

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2570493A1 (fr) * 1984-09-17 1986-03-21 Asm Sud Europe Systeme modulaire de circuit pour le controle et la mesure de debits de gaz
JPS62180200A (ja) * 1986-01-31 1987-08-07 Nobuo Mikoshiba ユニツト式高純度配管構造
JPH07122500A (ja) * 1993-10-28 1995-05-12 Fujitsu Ltd ガス機器及びこれを利用したガス供給装置
JPH0929996A (ja) 1995-07-18 1997-02-04 Seiko Epson Corp インクジェット記録方法
JP2922453B2 (ja) * 1996-01-05 1999-07-26 シーケーディ株式会社 ガス供給集積ユニット
KR100232112B1 (ko) * 1996-01-05 1999-12-01 아마노 시게루 가스공급유닛
US5992463A (en) * 1996-10-30 1999-11-30 Unit Instruments, Inc. Gas panel
US6293310B1 (en) * 1996-10-30 2001-09-25 Unit Instruments, Inc. Gas panel
JP3997338B2 (ja) * 1997-02-14 2007-10-24 忠弘 大見 流体制御装置
US6231260B1 (en) * 1997-07-11 2001-05-15 Insync Systems, Inc. Mounting plane for integrated gas panel
US6068016A (en) * 1997-09-25 2000-05-30 Applied Materials, Inc Modular fluid flow system with integrated pump-purge
JP4378553B2 (ja) * 1997-10-13 2009-12-09 忠弘 大見 流体制御装置
KR20010083047A (ko) * 1998-06-12 2001-08-31 제이. 그레고리 홀링스헤드 모듈형 화학물질 전달 블록

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111945136A (zh) * 2020-08-13 2020-11-17 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备及其集成供气系统

Also Published As

Publication number Publication date
EP1191265B1 (en) 2006-04-12
IL145332A0 (en) 2002-06-30
DE60118674D1 (de) 2006-05-24
DE60118674T2 (de) 2006-09-21
IL145332A (en) 2004-08-31
US6648020B2 (en) 2003-11-18
SG91938A1 (en) 2002-10-15
EP1191265A3 (en) 2003-04-09
US20020033195A1 (en) 2002-03-21
CA2357177A1 (en) 2002-03-11
JP2002089798A (ja) 2002-03-27
EP1191265A2 (en) 2002-03-27
TW522443B (en) 2003-03-01

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