JP2005150191A - ガス供給集積ユニット - Google Patents

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Abstract

【課題】 ラインを増設するのが容易なガス供給集積ユニットを提供すること。
【解決手段】 出口流路に設けられた第1手動弁11と、第1手動弁11とプロセスガス共通流路15とを連通する位置に設けられた第2手動弁13と、第1手動弁11とパージガス共通流路16とを連通する位置に設けられた第3手動弁14とが流路ブロックにより直列一体に連結されているガスユニットを複数備えるガス供給集積ユニットにおいて、プロセスガス共通流路15の端部と連通するプロセスガス共通流路端部手動弁22と、パージガス共通流路16の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁23とを有する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体工程にプロセスガスを供給するため、プロセスガスを分岐して供給するガス供給集積ユニットに関するものである。
半導体製造工場においては、プロセスガスはタンクに収納されクリーンルームの外に配置されている。そして、タンクから同じプロセスガスをクリーンルーム内の複数箇所に供給するために、プロセスガスを分岐して供給するガス供給装置が使用されている。その様なガス供給装置においては、プロセスガスを新たに必要とする箇所が生じた場合には、1ライン増設する作業を行う必要がある。
図10に、3ラインの供給を行っているプロセスガス供給装置の回路図を示し、図11に、その回路を具体化した空圧機器の設置状態を平面図で示す。プロセスガスエアオペレート弁107が、プロセスガス供給口108を介して図示しないプロセスガスタンクと接続している。プロセスガスエアオペレート弁107は、プロセスガス共通流路105を介して、第2手動弁103A,103B,103Cに接続している。
第2手動弁103A,103B,103Cは、第1手動弁101A,101B,101Cに接続している。第1手動弁101A,101B,101Cの出口は、プロセスガス出口100A,100B,100Cと連通されている。第2手動弁103A,103B,103Cと、第1手動弁101A,101B,101Cとの間の流路には、圧力計102A,102B,102Cが連通されている。
また、パージガス手動弁110が、パージガス供給口111を介して図示しないパージガスタンクと接続している。パージガス手動弁111は、逆止弁109、パージガス共通流路106を介して、第3手動弁104A,104B,104Cに接続している。第3手動弁104A,104B,104Cは、第1手動弁101A,101B,101Cに接続している。
プロセスガス共通流路105の端部105aは止め栓により封止されている。パージガス共通流路106の端部106aは、止め栓により封止されている。
次に、図10の3ラインの回路に1ライン増設する場合について説明する。図10には、第4ラインDを右側に記載している。図12に、増設後の回路図を示し、図13に、その回路を具体化した空圧機器の配置状態を平面図で示す。
第4ラインを増設する工事手順を説明する。この工事中は、プロセスガスは供給できず、半導体製造工程も停止している必要がある。
始めに、プロセスガスエアオペレート弁107を閉弁状態とし、第3手動弁104A,104B,104Cを開弁状態とし、第1手動弁101A,101B,101Cを開弁状態とする。その状態で、パージガス手動弁111を開弁する。これにより、プロセスガスエアオペレート弁107から第1手動弁101A,101B,101C内に残っているプロセスガスを窒素ガスであるパージガスと置換する。十分な時間をかけてガス置換を行った後、パージガス手動弁110を閉弁する。
次に、パージガス共通流路106の端部106aを封止している止め栓を外して、第4ラインのパージガス共通流路の入口端部106bと、配管112により接続する。また、プロセスガス共通流路105の端部105aを封止している止め栓を外して、第4ラインのプロセスガス共通流路の入口端部105bと、配管113により接続する。
第4ラインの機器の構成は第1から第3ラインの構成と同じなので説明を省略する。第4ラインのパージガス共通流路106の新たな端部106cは、止め栓により封止されている。また、プロセスガス共通流路105の新たな端部105cは止め栓により封止されている。
次に、プロセスガス出口100Dを図示しない必要な箇所と接続する。
これにより、第4ラインの増設が終了する。
しかしながら、従来のガス供給集積ユニットには、以下の問題があった。
(1)新たなガスラインの増設工事を行う場合、既存のガスラインを停止しなければならないため、半導体製造工程が停止するときにしか増設工事を行うことができなかった。
また、増設工事を終了した後においても、プロセスガス共通流路105、及びパージガス共通流路106の図12に大気暴露部として斜線で示す部分が、大気に暴露されるため、大気中の水分が流路の内壁に付着する問題があった。すなわち、プロセスガスに水分が混入すると、プロセスガスの機能が不完全となる場合があり、第4ラインを増設した後、パージガス共通流路よりパージガスを長時間流して、空気暴露した流路の水分を除去する必要があったからである。実際に、数時間から数十時間のパージが行われていた。
(2)余分な配管112,113を必要とするため、ガス供給集積ユニットが横方向に大きくなり、集積化による小型化の要請に反していた。また、第4ラインは、ボルトにより、ベースプレート120に取り付けられているが、その位置あわせを配管112,113により調整する必要があり、配管工事に無駄な時間がかかる問題があった。
そこで、本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、ラインを増設するのが容易なガス供給集積ユニットを提供することを目的とする。
本発明に係るガス供給集積ユニットは、次のような構成を有している。
(1)出口流路に設けられた第1手動弁と、該第1手動弁とプロセスガス共通流路とを連通する位置に設けられた第2手動弁と、該第1手動弁とパージガス共通流路とを連通する位置に設けられた第3手動弁とが流路ブロックにより直列一体に連結されているガスユニットを複数備えるガス供給集積ユニットにおいて、プロセスガス共通流路の端部と連通するプロセスガス共通流路端部手動弁と、パージガス共通流路の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁とを有する。
(2)(1)に記載するガス供給集積ユニットにおいて、前記ガスユニットのガスの流れと直角方向に交差して複数設置され、前記ガスユニットが取り付けられるレールと、増設するガスユニットが、前記プロセスガス共通流路端部手動弁と連通する別のプロセスガス共通流路端部手動弁と、前記パージガス共通流路の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁と連通する別のパージガス共通流路端部手動弁とを有することを特徴とする。
(3)(2)に記載するガス供給集積ユニットにおいて、前記増設するガスユニットが、既設のガス供給集積ユニットと接続するための高さ調整手段を備えていることを特徴とする。
続いて、上記構成を有する発明の作用効果について説明する。
通常、プロセスガス共通流路の端部と連通するプロセスガス共通流路端部手動弁、及びパージガス共通流路の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁とは、閉弁状態にある。そして、新しいラインを増設する場合にも、少なくともパージ終了までは、プロセスガス共通流路端部手動弁及びパージガス共通流路端部手動弁とは閉弁されている。
次に、第4ラインを構成する第4ガスユニットを、ガスの流れと直角方向に交差して複数は位置されたレールに取り付け、レール上を移動させて、第4ガスユニットのプロセスガス共通流路の入口端部をプロセスガス共通流路端部手動弁の出口と接続する位置に、パージガス共通流路の入口端部をパージガス共通流路端部手動弁の出口と接続する位置に移動させる。
このとき、第4ガスユニットのプロセスガス共通流路の入口端部を構成するブロック、及びパージガス共通流路の入口端部を構成するブロックとは、例えば、高さ方向でスペーサ板の厚み分だけ低くなっているため、それらのブロックは、干渉することなくプロセスガス共通流路端部手動弁の出口の真下位置まで、同様に、パージガス共通流路端部手動弁の出口の真下位置まで移動できる。次に、第4ガスユニット全体の下面にスペーサ板を挿入することにより、第4ユニットのプロセスガス共通流路の入口端部をプロセスガス共通流路端部手動弁の出口と接続させ、パージガス共通流路の入口端部をパージガス共通流路端部手動弁の出口と接続させることができる。次に、接続ボルト、第4ガスユニット固定ボルトを締める。
次に、第4ガスユニットの新たなプロセスガス共通流路端部手動弁とパージガス共通流路端部手動弁とを閉弁状態とし、第2手動弁を閉弁状態とし、第1手動弁及び第3手動部とを開弁状態として、第3ガスユニットのパージガス共通流路端部手動弁を開弁する。
これにより、第4ガスユニット内にパージガスを流して、第4ガスユニット内の水分の除去を行う。水分が十分除去でき、半導体製造装置側の準備が整ったら、第3手動弁を閉じ、第2手動弁を開くことにより、第4ガスラインにプロセスガスを供給することができる。
以上説明したように、本発明のガス供給集積ユニットによれば、出口流路に設けられた第1手動弁と、該第1手動弁とプロセスガス共通流路とを連通する位置に設けられた第2手動弁と、該第1手動弁とパージガス共通流路とを連通する位置に設けられた第3手動弁とが流路ブロックにより直列一体に連結されているガスユニットを複数備えるガス供給集積ユニットにおいて、プロセスガス共通流路の端部と連通するプロセスガス共通流路端部手動弁と、パージガス共通流路の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁とを有するので、既存のガスラインに影響を与えることなく、すなわち、半導体製造工程を稼働したままで、新たなガスラインの増設工事を行うことができる。
また、増設工事終了後においても、既設のプロセスガス共通流路やパージガス共通流路を、大気暴露することなく新たなガスユニットを取り付けることができるため、増設工事が短時間で済む。
さらに、ガスユニットのガスの流れと直角方向に交差して複数設置され、ガスユニットが取り付けられるレールと、増設するガスユニットが、プロセスガス共通流路端部手動弁と連通する別のプロセスガス共通流路端部手動弁と、パージガス共通流路の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁と連通する別のパージガス共通流路端部手動弁とを有するので、例えば、第5ライン用の第5ガスユニットを増設する必要が発生した場合にも、同様の工事を行うことができる。
さらに、増設するガスユニットが、既設のガス供給集積ユニットと接続するための高さ調整手段を備えているので、増設するガスユニットの位置決めが容易であり、増設工事の作業効率が良い。
次に、本発明に係るガス供給集積ユニットの一実施の形態について図面を参照して説明する。図1に、既設の2ラインへプロセスガスの供給を行っているガスユニットA,Bからなるガス供給集積ユニットの回路図、及びそれに増設するための第3ガスユニットCの回路図とを示す。
プロセスガスエアオペレート弁17は、プロセスガス供給口18を介して図示しないプロセスガスタンクと接続している。プロセスガスエアオペレート弁17は、プロセスガス共通流路15を介して、第2手動弁13A,13Bの一方のポートに接続している。
第2手動弁13A,13Bの他ポートは、第1手動弁11A,11Bに接続している。第1手動弁11A,11Bの出口ポートは、プロセスガス出口10A,10Bと連通されている。第2手動弁13A,13Bと、第1手動弁11A,11Bとを連通させている流路に、圧力計12A,12Bが連通されている。
また、パージガス手動弁20が、パージガス供給口21を介して図示しないパージガスタンクと接続している。パージガス手動弁20は、逆止弁19、パージガス共通流路16を介して、第3手動弁14A,14Bの一方のポートに接続している。第3手動弁14A,14Bの他のポートは、第1手動弁11A,11Bに接続している。
プロセスガス共通流路15の端部は、プロセスガス共通流路端部手動弁22により封止されている。また、パージガス共通流路16の端部は、パージガス共通流路端部手動弁23により封止されている。
図2に、その回路を具体化した空圧機器の設置状態を平面図で示す。2本のレール26,27が、両端をレール固定棒41,29により平行に固定されている。レール26,27に沿って、ユニット固定板28,29,30が横方向に平行移動可能に取り付けられている。プロセスガス用ユニット固定板28には、プロセスガスエアオペレート弁17が固定されている。パージガス用ユニット固定板29には、パージガス手動弁20と逆止弁19が固定されている。
第1ガスユニット固定板30Aには、上から第1手動弁11A、圧力計12A、そしてパイプ38Aにつながれて、第3手動弁14A、第2手動弁13Aが固定されている。同じく、第2ガスユニット固定板30Bには、上から第1手動弁11B、圧力計12B、そしてパイプ38Bにつながれて、第3手動弁14B、第2手動弁13B、そして少し右側にずれた位置に既設プロセスガス共通流路端部手動弁22のが固定されている。また、パイプ38Bを避けて少し右側にずれた位置に既設のパージガス共通流路端部手動弁23が固定されている。
それらの既設ガスユニットから少し離れて、増設する第3ガスユニットが第3ガスユニット固定板30C上に固定されている。すなわち、第3ガスユニット固定板30Cには、上から第1手動弁11C、圧力計12C、パイプ38Cにつながれて、第3手動弁14C、第2手動弁13C、そして少し右側にずれた位置に既設のプロセスガス共通流路端部手動弁24が固定されている。また、パイプ38Cを避けて少し右側にずれた位置にパージガス共通流路端部手動弁25が固定されている。
また、第3ユニット固定板30Cのプロセスガス共通流路端部手動弁24の位置には、切り欠き部34が形成され、パージガス共通流路端部手動弁25の位置には、切り欠き部35が形成されている。
図2のAA断面図を図3に示す。パイプ形状のプロセスガス共通流路15が継手ブロック42を介して、V流路ブロック32Aに形成されたV流路321Aと連通している。V流路321Aは、手動弁入口流路131Aを通って、手動弁の弁室を介して手動弁連通路133AによりV流路ブロック32Bに形成されたV流路321Bと連通している。従って、第2手動弁13Aの開閉にかかわらず、手動弁入口流路131Aと手動弁連通路133Aとは、常時連通している。
第3手動弁の出口流路132Aは、流路ブロック33Aに形成されたプロセスガス出口流路331Aと連通している。
第2ガスユニットの流路構成は、第1ガスユニットの流路構成とほぼ同じなので、詳細は省略する。相違する点のみ説明する。
図4に図2のBB断面図を示す。第2手動弁13Bの手動弁連通路133Bは、流路ブロック36Bに形成された流路361Bを介して、プロセスガス共通流路端部手動弁22の入口流路22aと連通している。そして、プロセスガス共通流路端部手動弁22の出口流路22bは、流路ブロック37に形成された流路371Bを介して、図2に示す継手孔37aと連通している。
一方、増設する第3ガスユニットが固定された第3ガスユニット固定板30Cの下側、レール26の上側には、高さ調整板31が挟まれている。第3ガスユニット固定板30Cの切り欠き部34は、図が見にくくなるので、切り欠き部34のみ記載して向こう側に見えるはずの部分を省略して記載している。
パージガス共通流路端部手動弁23、第3ガスユニットのパージガス共通流路端部手動弁25の構造は、図4に示す構造とほぼ同じなので説明を省略する。相違している点は、パージガス共通流路端部手動弁23の出口流路と連通する流路が形成された流路ブロック39が、図2の下側方向に延設され、その上面に第3手動弁14Cの入口流路と連通するための継手孔39aが形成されていることである。
次に、第3ガスユニット固定板30Cを第2ガスユニット固定板30Bに近づけて継手孔37aと第3ガスユニットの第2手動弁13Cの手動弁入口流路131Cとの孔位置を図2の平面方向で合わせる。その状態における図3に対応する断面図を図5に示す。継手孔37aと手動弁入口流路131Cとは高さ方向では、ちょうど高さ調整板31の厚みだけ離れている。また、図4に対応する断面図を図6に示す。流路ブロック37Bが、切り欠き部34の空間に入り込むことで、図5の位置関係が実現されている。
この状態で、高さ調整板31を取り外す。そして、図示しないボルトにより固定する。これにより、継手孔37aと第3ガスユニットの第2手動弁13Cの手動弁入口流路131Cとが連通される。
以上により、第3ガスユニットの取付工事は終了する。次に、第3ガスユニットの新たなプロセスガス共通流路端部手動弁24とパージガス共通流路端部手動弁25とを閉弁状態とし、第2手動弁13Cを閉弁状態とし、第1手動弁11C及び第3手動部14Cとを開弁状態として、第2ガスユニットのパージガス共通流路端部手動弁23を開弁する。
これにより、第3ガスユニット内にパージガスを流して、第3ガスユニット内の水分の除去を行う。水分が十分除去でき、半導体製造装置側の準備が整ったら、第3手動弁14Cを閉じ、第2手動弁13Cを開くことにより、第3ガスラインにプロセスガスを供給することができる。
以上説明したように、本発明のガス供給集積ユニットによれば、出口流路に設けられた第1手動弁11と、第1手動弁11とプロセスガス共通流路15とを連通する位置に設けられた第2手動弁13と、第1手動弁11とパージガス共通流路16とを連通する位置に設けられた第3手動弁14とが流路ブロックにより直列一体に連結されているガスユニットを複数備えるガス供給集積ユニットにおいて、プロセスガス共通流路15の端部と連通するプロセスガス共通流路端部手動弁22と、パージガス共通流路16の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁23とを有するので、既存のガスラインに影響を与えることなく、すなわち、半導体製造工程を稼働したままで、新たなガスラインの増設工事を行うことができる。
また、本発明のガス供給集積ユニットによれば、大気暴露される配管が図9に斜線で示す部分のみとなるので、既設のプロセスガス共通流路15やパージガス共通流路16を、大気暴露することなく新たなガスユニットCを取り付けることができるため、増設工事が短時間で済む。
さらに、ガスユニットのガスの流れと直角方向に交差して複数設置され、ガスユニットが取り付けられるレール26,27と、増設するガスユニットCが、プロセスガス共通流路端部手動弁22と連通する別のプロセスガス共通流路端部手動弁24と、パージガス共通流路端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁23と連通する別のパージガス共通流路端部手動弁25とを有するので、例えば、第4ライン用の第4ガスユニットを増設する必要が発生した場合にも、同様の工事を行うことができる。
さらに、増設するガスユニットが、既設のガス供給集積ユニットと接続するための高さ調整板31を備えているので、増設するガスユニットの位置決めが容易であり、増設工事の作業効率が良い。
次に、本発明の第2の実施例を説明する。第2実施例のガス供給集積ユニットの構成及び作用効果は、第1実施例とほぼ同じなので、相違する点のみ説明して、他を割愛する。
図5に対応する図面を図7に示し、図6に対応する図面を図8に示す。
図7及び図8において、ユニット固定板28,29、第1ガスユニット固定板30A、第2ガスユニット固定板30Bの下に高さ調整板40,40A,40Bが各々取り付けられている。第3ガスユニット固定板30Cの下には、始め高さ調整板40Cは取り付けられていない。
また、図7及び図8において、流路ブロック37Bが第2ガスユニット固定板30Bに取り付けられているのではなく、第3ガスユニット固定板30Cに取り付けられている。
図7及び図8の状態に位置決めした後、図示しない高さ調整板40Cを第3ガスユニット固定板30Cの下面に挟むことにより、流路ブロック37Bに形成されたポートを、プロセスガス共通流路端部手動弁22の出力ポートと連通させる。
なお、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されることなく、色々な応用が可能である。
例えば、プロセスガス共通流路端部手動弁22を一度でも開いたことがわかる機構を取り付けると良い。通常は、プロセスガス共通流路端部手動弁22により封止すると共に安全のため、継手孔16aにも、止め栓をしている。その場合には、誤ってプロセスガス共通流路端部手動弁22を開いたとしても、継手孔16aが封止しているので、プロセスガスは外に漏れない。しかし、増設工事の時、作業するとプロセスガス共通流路端部手動弁22の出力ポートから継手孔16aまでの空間に残存していたプロセスガスが外に漏れる危険性がある。それを防止するために、プロセスガス共通流路端部手動弁22が一度でも開かれて、その後閉じられたとしても、外部から確認できる機構を付けておくと、安全性を高めることができる。
本発明の一実施例であるガス供給集積ユニットの構成を示す回路図である。 第1実施例の構成を示す平面図である。 図2のAA断面図である。 図2のBB断面図である。 図3において、第3ガスユニット固定板30Cを移動させた後の断面図である。 図4において、第3ガスユニット固定板30Cを移動させた後の断面図である。 第2実施例の図5に対応する図面である。 第2実施例の図6に対応する図面である。 本発明のガス供給集積ユニットを使用したときの大気暴露部を示す回路図である。 従来のガス供給ユニットの構成を示す回路図である。 図10を具体化した構成を示す平面図である。 従来の増設後ガス供給ユニットを示す回路図である。 図12を具体化した構成を示す平面図である。
符号の説明
11 第1手動弁
13 第2手動弁
14 第3手動弁
15 プロセスガス共通流路
16 パージガス共通流路
17 プロセスガスエアオペレート弁
20 パージガス手動弁
22,24 プロセスガス共通流路端部手動弁
23,25 パージガス共通流路端部手動弁

Claims (3)

  1. 出口流路に設けられた第1手動弁と、該第1手動弁とプロセスガス共通流路とを連通する位置に設けられた第2手動弁と、該第1手動弁とパージガス共通流路とを連通する位置に設けられた第3手動弁とが流路ブロックにより直列一体に連結されているガスユニットを複数備えるガス供給集積ユニットにおいて、
    前記プロセスガス共通流路の端部と連通するプロセスガス共通流路端部手動弁と、
    前記パージガス共通流路の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁とを有することを特徴とするガス供給集積ユニット。
  2. 請求項1に記載するガス供給集積ユニットにおいて、
    前記ガスユニットのガスの流れと直角方向に交差して複数設置され、前記ガスユニットが取り付けられるレールと、
    増設するガスユニットが、前記プロセスガス共通流路端部手動弁と連通する別のプロセスガス共通流路端部手動弁と、前記パージガス共通流路の端部と連通するパージガス共通流路端部手動弁と連通する別のパージガス共通流路端部手動弁とを有することを特徴とするガス供給集積ユニット。
  3. 請求項2に記載するガス供給集積ユニットにおいて、
    前記増設するガスユニットが、既設のガス供給集積ユニットと接続するための高さ調整手段を備えていることを特徴とするガス供給集積ユニット。
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