KR20010027125A - 가스공급장치 - Google Patents
가스공급장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010027125A KR20010027125A KR1019990038711A KR19990038711A KR20010027125A KR 20010027125 A KR20010027125 A KR 20010027125A KR 1019990038711 A KR1019990038711 A KR 1019990038711A KR 19990038711 A KR19990038711 A KR 19990038711A KR 20010027125 A KR20010027125 A KR 20010027125A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- pipe
- gas supply
- sub
- gas
- main pipe
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
Abstract
본 발명은 공정챔버 내로 가스를 공급시키기 위한 가스공급장치에 관한 것으로, 배관용적을 줄일 수 있고, 동시에 안전한 가스공급이 이루어질 수 있는 가스공급장치에 관한 것이다.
본 발명의 가스공급장치는 주배관과, 주배관의 일단에 형성되어, 각각의 끝단이 공정챔버에 각각 연결설치된 가지관과, 가지관에 형성되며, 다 수개의 밸브가 설치된 밸브박스를 구비한 것이 특징이다.
따라서, 본 발명에서는 하나의 주배관 다 수개의 가지관을 형성하고, 주배관이 아닌 가지관에 밸브박스를 형성함으로써 공간이 차지하는 부피가 줄고, 작업시간이 단축된 잇점이 있다.
그리고, 본 발명에서는 가스 공급이 안전하게 이루어지기 때문에 가스순도유지 및 누설의 우려가 없다. 또한, 본 발명에서는 가지관이 형성되므로, 한번에 여러 장비(공정챔버)로의 연결설치가 가능하다.
Description
본 발명은 가스공급장치에 관한 것으로, 배관용적을 줄일 수 있고, 동시에 안전한 가스공급이 이루어질 수 있는 가스공급장치에 관한 것이다.
도 1은 종래기술에 따른 가스공급장치의 개략적인 도면이다.
종래의 가스공급장치는 통상적으로 공정챔버 일측에 설치되어, 공정가스를 공정챔버 내로 공급시키기 위한 것으로, 주로 한 개의 주배관에 곁가지식으로 여러 갈래의 부배관이 복잡하게 연결설치된다. 이 부배관에는 각각 개폐밸브(on/off valve) 및 레귤레이터(regulator)등이 설치되어져 있다.
주배관에는 정화가스인 질소가스가 항시 공급되며, 비상 시, 공수를 공급하여 화재 및 장치 내 온도의 급격한 상승에 대비하기 위해 자동화방식으로 설정된다.
종래의 가스공급장치는 도 1을 예로하여 설명하면, 공정챔버 일측에 형성된 주배관(10)과, 주배관(10)에 형성된 주개폐밸브(10-1)과, 주배관(10)과 연결설치된 각각의 제 1부배관(12), 제 2부배관(14), 제 3부배관(16), 제 4부배관(18)과, 제 1부배관(12)에 형성된 제 1개폐밸브(10-1)과, 제 2부배관(14)에 형성된 제 2개폐밸브(14-1)과, 제 3부배관(16)에 형성된 제 3개폐밸브(16-1)과, 제 4부배관(18)에 형성된 제 4개폐밸브(18-1)로 구성된다.
상기 구성을 갖는 종래의 가스공급장치는 공정 진행 시, 주개폐밸브(10-1)를 오픈시킨 상태에서 각각 해당되는 제 1, 제 2, 제 3 또는 제 4부배관에 형성된 제 1, 제 2, 제 3 또는 제 4개폐밸브(12-1)(14-1)(16-1)(18-1)를 오픈시킨다.
도면에 도시된 제 1, 제 , 제 3, 제 4부배관(12)(14)(16)(18) 외에 가스공급을 위한 배관이 더 추가될 경우, 주배관에 연결시키게 된다.
제 1, 제 , 제 3, 제 4부배관(12)(14)(16)(18)을 통해 가스 공급 뿐만 아니라, 공수, 정화가스 등 여러 종류의 가스 또는 유체 등이 공급될 수 있다.
그러나, 종래의 기술에서는 하나의 주배관에 한꺼번에 여러 부배관이 설치됨으로 인해 작업 공간의 부피가 커지게 되고, 또한, 복잡한 구조를 가짐에 따라 가스 누설의 우려가 있었다.
또한, 다 수의 개폐밸브에 주배관 및 부배관에 각각 형성되므로, 개폐밸브 고장 시 배관 전체를 분리시키어야 했다.
그리고, 종래의 기술에서는 최종적으로 주배관으로 공급되는 가스를 이용하여 한번에 하나의 장비(공정챔버)로만 공급이 가능하기 때문에 공정 소요시간이 많이 걸리는 문제점이 있었다.
상기의 문제점을 해결하고자, 본 발명의 목적은 작업공간이 축소되고, 한번에 많은 장비(공정챔버)로 가스 공급이 가능한 가스공급장치를 제공하려는 것이다.
상기 목적을 달성하고자, 본 발명의 가스공급장치는 주배관과, 주배관의 일단에 형성되어, 각각의 끝단이 공정챔버에 각각 연결설치된 가지관과, 가지관에 형성되며, 다 수개의 밸브가 설치된 밸브박스를 구비한 것이 특징이다.
도 1은 종래기술에 따른 가스공급장치의 개략적인 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 가스공급장치의 개략적인 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10, 100. 주배관
12, 14, 16, 18, 120, 140, 160, 180. 부배관
12-1, 14-1, 16-1, 18-1, 120-1, 140-1, 160-1, 180-1. 개폐밸브
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하겠다.
도 2는 본 발명에 따른 가스공급장치의 개략적인 도면이다.
본 발명의 가스공급장치는 공정챔버 내로 가스를 공급시키기 위한 것으로, 공정가스가 공급되는 주배관과, 주배관의 일단에 형성되어, 각각의 끝단이 각각 공정챔버에 연결설치된 가지관과, 가지관에 각각 설치된 개폐밸브로 이루어진다.
본 발명의 가스공급장치는 도 2를 참조하여 설명하면, 주배관(100)과, 주배관(100)에 형성된 주개폐밸브(100-1)과, 주배관의 일단에 형성된 가지관으로 이루어지며, 이 가지관은 각각의 제 1부배관(120)과, 제 2부배관(140)과, 제 3부배관(160)과, 제 4부배관(180)으로 나뉜다.
제 1부배관(120)에 형성된 제 1개폐밸브(120-1)과, 제 2부배관(140)에 형성된 제 2개폐밸브(140-1)과, 제 3부배관(160)에 형성된 제 3개폐밸브(160-1)과, 제 4부배관(180)에 형성된 제 1개폐밸브(180-1)로 구성된다.
제 1부배관 (120)은 제 1공정챔버에 연결설치되고, 제 2부배관(140)은 제 2공정챔버에 연결설치된다.
그리고, 제 3부배관(160)은 제 3공정챔버에 연결설치되고, 제 4부배관(180)은 제 4공정챔버에 연결설치된다.
본 발명의 가지관은 Z블럭으로 형성되며, 각각의 제 , 제 2, 제 3, 제 4개폐밸브(120-1)(140-1)(160-1)(180-1)는 Z블럭에어밸브가 사용되며, 평상 시에는 오픈시키어 주배관 및 가지관으로 질소가스 공급함으로써 가스의 흐름을 쉽게 조절한다.
또한, 가지관 후단에 각각의 밸브를 설치한 밸브 어셈블러리를 형성하고, 이 밸브 어셈블러리에 PT(Pressuure Transducer)센서(sensor)를 장착함으로써 항상 가스 공급압력을 확인 가능하다.
반도체 제조공정에 사용되는 가스는 웨이퍼 상의 수㎛의 박막 증착, 식각 등을 위해 사용되는 재료로, 순도 및 안전한 공급방식이 중요하다.
본 발명에서는 가스공급장치의 대부분은 낮은 압력의 부식성 가스이며, 가스공급을 위한 하나의 주배관 일단에 여러갈래의 가지관이 형성됨에 따라, 여러 장비를 연결시키어 사용할 수 있다. 도면에서는 4개의 장비가 연결가능하나 이 이상되어도 상관없다.
상술한 바와 같이, 본 발명에서는 하나의 주배관 다 수개의 가지관을 형성하고, 주배관이 아닌 가지관 일단에 각각의 밸브가 형성되므로 공간이 차지하는 부피가 줄고, 작업시간이 단축된다.
그리고, 본 발명에서는 가스 공급이 안전하게 이루어지기 때문에 가스순도유지 및 누설의 우려가 없다.
또한, 본 발명에서는 가지관이 형성되므로, 한번에 여러 장비(공정챔버)로의 연결설치가 가능하다.
Claims (1)
- 공정챔버 내로 가스를 공급시키기 위한 가스공급장치에 있어서,주배관과, 주배관의 일단에 각각 형성되어, 끝단이 상기 공정챔버에 각각 연결설치된 가지관과, 상기 가지관에 형성되며, 다 수개의 밸브가 설치된 밸브박스를 구비한 가스공급장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990038711A KR20010027125A (ko) | 1999-09-10 | 1999-09-10 | 가스공급장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990038711A KR20010027125A (ko) | 1999-09-10 | 1999-09-10 | 가스공급장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010027125A true KR20010027125A (ko) | 2001-04-06 |
Family
ID=19611019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990038711A KR20010027125A (ko) | 1999-09-10 | 1999-09-10 | 가스공급장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20010027125A (ko) |
-
1999
- 1999-09-10 KR KR1019990038711A patent/KR20010027125A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6039360A (en) | Couplings for fluid controllers | |
US6648020B2 (en) | Fluid control apparatus and gas treatment system comprising same | |
CN101253458B (zh) | 垫片式节流器及使用了该节流器的压力式流量控制装置 | |
KR100242982B1 (ko) | 반도체 장비의 가스 공급 장치 | |
JP7161780B2 (ja) | バルブ装置 | |
US11365830B2 (en) | Valve device, fluid control device and semiconductor manufacturing apparatus using the valve device | |
JPH05172265A (ja) | ガス制御装置 | |
JP7157461B2 (ja) | バルブ装置 | |
US5094143A (en) | Port mounted fluid control valve construction | |
EP0905391A2 (en) | Device for preventing bolt from slipping off | |
JP2922453B2 (ja) | ガス供給集積ユニット | |
KR20010027125A (ko) | 가스공급장치 | |
US6634385B2 (en) | Apparatus for conveying fluids and base plate | |
JPH1151226A (ja) | プロセスガス供給ユニット | |
KR100725109B1 (ko) | 연속피복설비 | |
JPH1183659A (ja) | 差圧発信器の調整方法及び差圧発信器調整用三岐弁 | |
CN112296909A (zh) | 一种用于自动化生产线的智能控制夹具装置及控制系统 | |
KR100219409B1 (ko) | 반도체 가스공급 시스템 | |
JPH1089517A (ja) | マニホールド | |
JP2005150191A (ja) | ガス供給集積ユニット | |
JPH06117559A (ja) | バルブ構造 | |
JP2003086579A (ja) | ガス供給集積ユニット | |
KR20010073407A (ko) | 반도체 제조용 가스 공급라인 | |
JP2005150191A5 (ko) | ||
JPH10110849A (ja) | ガスユニット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |