KR20010027125A - 가스공급장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 공정챔버 내로 가스를 공급시키기 위한 가스공급장치에 관한 것으로, 배관용적을 줄일 수 있고, 동시에 안전한 가스공급이 이루어질 수 있는 가스공급장치에 관한 것이다.

본 발명의 가스공급장치는 주배관과, 주배관의 일단에 형성되어, 각각의 끝단이 공정챔버에 각각 연결설치된 가지관과, 가지관에 형성되며, 다 수개의 밸브가 설치된 밸브박스를 구비한 것이 특징이다.

따라서, 본 발명에서는 하나의 주배관 다 수개의 가지관을 형성하고, 주배관이 아닌 가지관에 밸브박스를 형성함으로써 공간이 차지하는 부피가 줄고, 작업시간이 단축된 잇점이 있다.

그리고, 본 발명에서는 가스 공급이 안전하게 이루어지기 때문에 가스순도유지 및 누설의 우려가 없다. 또한, 본 발명에서는 가지관이 형성되므로, 한번에 여러 장비(공정챔버)로의 연결설치가 가능하다.

Description

가스공급장치{An apparatus for suppling gas}

본 발명은 가스공급장치에 관한 것으로, 배관용적을 줄일 수 있고, 동시에 안전한 가스공급이 이루어질 수 있는 가스공급장치에 관한 것이다.

도 1은 종래기술에 따른 가스공급장치의 개략적인 도면이다.

종래의 가스공급장치는 통상적으로 공정챔버 일측에 설치되어, 공정가스를 공정챔버 내로 공급시키기 위한 것으로, 주로 한 개의 주배관에 곁가지식으로 여러 갈래의 부배관이 복잡하게 연결설치된다. 이 부배관에는 각각 개폐밸브(on/off valve) 및 레귤레이터(regulator)등이 설치되어져 있다.

주배관에는 정화가스인 질소가스가 항시 공급되며, 비상 시, 공수를 공급하여 화재 및 장치 내 온도의 급격한 상승에 대비하기 위해 자동화방식으로 설정된다.

종래의 가스공급장치는 도 1을 예로하여 설명하면, 공정챔버 일측에 형성된 주배관(10)과, 주배관(10)에 형성된 주개폐밸브(10-1)과, 주배관(10)과 연결설치된 각각의 제 1부배관(12), 제 2부배관(14), 제 3부배관(16), 제 4부배관(18)과, 제 1부배관(12)에 형성된 제 1개폐밸브(10-1)과, 제 2부배관(14)에 형성된 제 2개폐밸브(14-1)과, 제 3부배관(16)에 형성된 제 3개폐밸브(16-1)과, 제 4부배관(18)에 형성된 제 4개폐밸브(18-1)로 구성된다.

상기 구성을 갖는 종래의 가스공급장치는 공정 진행 시, 주개폐밸브(10-1)를 오픈시킨 상태에서 각각 해당되는 제 1, 제 2, 제 3 또는 제 4부배관에 형성된 제 1, 제 2, 제 3 또는 제 4개폐밸브(12-1)(14-1)(16-1)(18-1)를 오픈시킨다.

도면에 도시된 제 1, 제 , 제 3, 제 4부배관(12)(14)(16)(18) 외에 가스공급을 위한 배관이 더 추가될 경우, 주배관에 연결시키게 된다.

제 1, 제 , 제 3, 제 4부배관(12)(14)(16)(18)을 통해 가스 공급 뿐만 아니라, 공수, 정화가스 등 여러 종류의 가스 또는 유체 등이 공급될 수 있다.

그러나, 종래의 기술에서는 하나의 주배관에 한꺼번에 여러 부배관이 설치됨으로 인해 작업 공간의 부피가 커지게 되고, 또한, 복잡한 구조를 가짐에 따라 가스 누설의 우려가 있었다.

또한, 다 수의 개폐밸브에 주배관 및 부배관에 각각 형성되므로, 개폐밸브 고장 시 배관 전체를 분리시키어야 했다.

그리고, 종래의 기술에서는 최종적으로 주배관으로 공급되는 가스를 이용하여 한번에 하나의 장비(공정챔버)로만 공급이 가능하기 때문에 공정 소요시간이 많이 걸리는 문제점이 있었다.

상기의 문제점을 해결하고자, 본 발명의 목적은 작업공간이 축소되고, 한번에 많은 장비(공정챔버)로 가스 공급이 가능한 가스공급장치를 제공하려는 것이다.

상기 목적을 달성하고자, 본 발명의 가스공급장치는 주배관과, 주배관의 일단에 형성되어, 각각의 끝단이 공정챔버에 각각 연결설치된 가지관과, 가지관에 형성되며, 다 수개의 밸브가 설치된 밸브박스를 구비한 것이 특징이다.

도 1은 종래기술에 따른 가스공급장치의 개략적인 도면이고,

도 2는 본 발명에 따른 가스공급장치의 개략적인 도면이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

10, 100. 주배관

12, 14, 16, 18, 120, 140, 160, 180. 부배관

12-1, 14-1, 16-1, 18-1, 120-1, 140-1, 160-1, 180-1. 개폐밸브

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하겠다.

도 2는 본 발명에 따른 가스공급장치의 개략적인 도면이다.

본 발명의 가스공급장치는 공정챔버 내로 가스를 공급시키기 위한 것으로, 공정가스가 공급되는 주배관과, 주배관의 일단에 형성되어, 각각의 끝단이 각각 공정챔버에 연결설치된 가지관과, 가지관에 각각 설치된 개폐밸브로 이루어진다.

본 발명의 가스공급장치는 도 2를 참조하여 설명하면, 주배관(100)과, 주배관(100)에 형성된 주개폐밸브(100-1)과, 주배관의 일단에 형성된 가지관으로 이루어지며, 이 가지관은 각각의 제 1부배관(120)과, 제 2부배관(140)과, 제 3부배관(160)과, 제 4부배관(180)으로 나뉜다.

제 1부배관(120)에 형성된 제 1개폐밸브(120-1)과, 제 2부배관(140)에 형성된 제 2개폐밸브(140-1)과, 제 3부배관(160)에 형성된 제 3개폐밸브(160-1)과, 제 4부배관(180)에 형성된 제 1개폐밸브(180-1)로 구성된다.

제 1부배관 (120)은 제 1공정챔버에 연결설치되고, 제 2부배관(140)은 제 2공정챔버에 연결설치된다.

그리고, 제 3부배관(160)은 제 3공정챔버에 연결설치되고, 제 4부배관(180)은 제 4공정챔버에 연결설치된다.

본 발명의 가지관은 Z블럭으로 형성되며, 각각의 제 , 제 2, 제 3, 제 4개폐밸브(120-1)(140-1)(160-1)(180-1)는 Z블럭에어밸브가 사용되며, 평상 시에는 오픈시키어 주배관 및 가지관으로 질소가스 공급함으로써 가스의 흐름을 쉽게 조절한다.

또한, 가지관 후단에 각각의 밸브를 설치한 밸브 어셈블러리를 형성하고, 이 밸브 어셈블러리에 PT(Pressuure Transducer)센서(sensor)를 장착함으로써 항상 가스 공급압력을 확인 가능하다.

반도체 제조공정에 사용되는 가스는 웨이퍼 상의 수㎛의 박막 증착, 식각 등을 위해 사용되는 재료로, 순도 및 안전한 공급방식이 중요하다.

본 발명에서는 가스공급장치의 대부분은 낮은 압력의 부식성 가스이며, 가스공급을 위한 하나의 주배관 일단에 여러갈래의 가지관이 형성됨에 따라, 여러 장비를 연결시키어 사용할 수 있다. 도면에서는 4개의 장비가 연결가능하나 이 이상되어도 상관없다.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 하나의 주배관 다 수개의 가지관을 형성하고, 주배관이 아닌 가지관 일단에 각각의 밸브가 형성되므로 공간이 차지하는 부피가 줄고, 작업시간이 단축된다.

그리고, 본 발명에서는 가스 공급이 안전하게 이루어지기 때문에 가스순도유지 및 누설의 우려가 없다.

또한, 본 발명에서는 가지관이 형성되므로, 한번에 여러 장비(공정챔버)로의 연결설치가 가능하다.

Claims (1)

1. 공정챔버 내로 가스를 공급시키기 위한 가스공급장치에 있어서,

   주배관과, 주배관의 일단에 각각 형성되어, 끝단이 상기 공정챔버에 각각 연결설치된 가지관과, 상기 가지관에 형성되며, 다 수개의 밸브가 설치된 밸브박스를 구비한 가스공급장치.