KR20020018946A - 자기전사방법 - Google Patents

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KR20020018946A
KR20020018946A KR1020010051264A KR20010051264A KR20020018946A KR 20020018946 A KR20020018946 A KR 20020018946A KR 1020010051264 A KR1020010051264 A KR 1020010051264A KR 20010051264 A KR20010051264 A KR 20010051264A KR 20020018946 A KR20020018946 A KR 20020018946A
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니시카와마사카주
와타나베세이이치
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무네유키 가코우
후지 샤신 필름 가부시기가이샤
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Abstract

자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체를 접촉하여 자기전사하는 방법에 있어서, 자기신호의 신호탈락 등이 없는 자기전사방법을 제공한다.
자기전사용 마스터담체를 슬레이브매체와 밀착시켜서 전사용 자계를 인가하는 자기전사방법에 있어서, 자기전사용 마스터담체 상의 서보영역이 데이터영역보다도 볼록형상으로 형성되어 있고, 데이터영역과 서보영역과의 고저차가 50nm이상, 800nm미만인 자기전사용 마스터담체로서 사용한 자기전사방법.

Description

자기전사방법{METHOD OF MAGNETIC TRANSFER}
본 발명은, 대용량, 고기록밀도의 자기기록 재생장치용 자기기록매체로의 기록정보의 자기전사방법에 관한 것으로, 특히 대용량, 고기록밀도의 자기기록매체로의 서보신호, 어드레스신호, 그 외 통상의 영상신호, 음악신호, 데이터신호 등의 기록에 이용되는 자기전사방법에 관한 것이다.
디지털 화상의 이용의 진전 등으로, 퍼스컴 등으로 취급하는 정보량이 비약적으로 증가하고 있다. 정보량이 증가함에 따라, 정보를 기록하는 대용량이며 값싼, 또한 기록, 판독시간이 짧은 자기기록매체가 요구되고 있다.
하드디스크 등의 고밀도 기록매체나, ZIP(Iomega사) 등의 대용량의 리무버블형 자기기록매체에는, 플로피 디스크에 비해서 정보기록영역은 좁은 트랙으로 구성되어 있고, 좁은 트랙폭에 정확하게 자기헤드를 주사하고, 신호의 기록과 재생을 고S/N비로 행하기 위해서는, 트래킹 서보기술을 이용하여 정확한 주사를 행할 필요가 있다.
그래서, 하드디스크, 리무버블형 자기기록매체와 같은 대용량의 자기매체에서는, 디스크 한바퀴에 대해서, 일정한 각도 간격으로 트래킹용 서보신호나 어드레스 정보신호, 재생 클럭신호 등의 기록된 영역을 설치하여 두고, 자기헤드는, 일정 간격으로 이들 신호를 재생함으로써, 헤드의 위치를 확인 수정하면서 정확하게 트랙 상을 주사하고 있다. 이들 신호는, 자기기록매체의 제조시에 프리포맷이라 칭하여 미리 자기기록매체에 기록하는 방법이 행해지고 있다.
트래킹용 서보신호나 어드레스 정보신호, 재생클럭신호 등의 기록에는 정확한 위치결정정보가 요구되므로, 자기기록매체를 드라이브에 짜넣은 후, 전용 서보기록장치를 이용하여 엄밀하게 위치제어된 자기헤드에 의해 프리포맷기록이 행해지고 있다.
그러나, 자기헤드에 의한 서보신호나 어드레스 정보신호, 재생클럭신호의 프리포맷기록에 있어서는, 전용 서보기록장치를 이용하여 자기헤드를 엄밀하게 위치제어하면서 기록을 행하기 위하여, 1장씩, 1트랙씩 기록하여 작성되므로, 프리포맷 기록에 장시간을 요구하고 있다. 또한, 자기기록밀도가 증대함에 따라서 프리포맷기록해야할 신호량이 많게 되고, 또한 장시간을 요구하게 된다. 따라서 자기기록매체의 제조에 있어서, 서보신호 등의 프리포맷 기록공정에 요구하는 비용의 제조비용에 차지하는 비율이 크게 되므로, 이 공정에서의 저비용화가 요망되고 있다.
한편, 1트랙씩 프리포맷정보를 기록하지 않고, 프리포맷정보를 마스터담체로부터 슬레이브매체로의 자기전사로 행하는 방식도 제안되고 있다. 예컨대, 일본 측개소63-183623호 공보, 일본 특개평10-40544호 공보 및 일본 특개평10-269566호 공보에 전사기술이 소개되어 있다.
일본 특개소63-183623호 공보나 일본 특개평10-40544호 공보에 기재된 방법에서는, 자기전사용 마스터담체로서 기판의 표면에 정보신호에 대응하는 요철형상이 형성되고, 요철형상이 적어도 볼록부 표면에 강자성 박막이 형성된 자기전사용 마스터담체의 표면을, 강자성 박막 또는 강자성 분말을 포함하는 조성물의 도포층이 형성된 시트형상 또는 디스크형상 자기기록매체의 표면에 접촉, 또는 추가로 교류 바이어스자계, 또는 직류자계를 인가하여 볼록부 표면을 구성하는 강자성재료를 여기함으로써, 요철형상에 대응하는 자화패턴을 자기기록매체에 기록하는 것이다.
이 방법은, 자기전사용 마스터담체의 볼록부 표면을 프리포맷해야할 자기기록매체, 즉 슬레이브매체에 밀착시켜서 동시에 볼록부를 구성하는 강자성재료를 여자함으로써, 슬레이브매체에 소정의 프리포맷정보의 기록을 형성하는 전사방법이고, 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체와의 상대적인 위치를 변화시킴이 없이 정적으로 행할 수 있고, 정확한 프리포맷기록이 가능하고, 또한 기록에 필요한 시간도 극히 단시간이라는 특징을 보유하고 있다.
또한, 이 자기전사방법은 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체의 양자를 정지한 상태로 접촉시켜서 전사하는 방식이기 때문에, 서보신호 기록공정에서의 자기전사용 마스터담체, 슬레이브매체 모두에 파손이 발생하는 경우가 적고, 높은 내구성이 기대되는 방식이다.
그런데, 자기전사방법은 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체를 접촉 후, 자계를 인가하여 자기전사를 행하면, 자기전사를 반복하는 중에, 전사신호의 신호탈락이 발생하는 경우가 있고, 서보영역에 기록한 신호가 서보신호의 기능을 발휘하지 않고, 사실상 기록매체로서 사용할 수 없다라는 문제가 있었다. 그래서, 신호탈락에 관해서 해석을 행한 결과, 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체와의 밀착부족이 신호탈락의 원인인 것을 알아내었다.
본 발명은, 자기전사용 마스터담체로부터 슬레이브매체로의 자기전사에 있어서 제작한 슬레이브매체를 대용량 자기기록매체로서 사용하기 위해서는, 불가결한 공정인 슬레이브매체에 서보영역을 형성하는 공정에 있어서, 신호의 일부에 탈락 등이 생김이 없고 슬레이브매체에 대해서 서보신호를 정확하게 전사할 수 있는 자기전사방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
도 1은, 본 발명의 자기전사방법에 이용하는 자기전사용 마스터담체를 설명하는 도이다.
도 2는, 본 발명의 자기전사방법에 이용하는 자기전사용 마스터담체의 다른 예를 설명하는 도이다.
도 3은, 본 발명의 자기전사방법에 이용하는 자기전사용 마스터담체의 다른 예를 설명하는 도이고, 평면도이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
1 … 자기전사용 마스터담체 2 … 서보영역
3 … 데이터영역 4 … 슬레이브매체
5 … 부착물 6 … 방사형상 돌기
7 … 동심원형상 돌기 h1 … 서보영역의 높이
h2 … 돌기의 높이
본 발명은, 자기전사용 마스터담체를 슬레이브매체와 밀착시켜서 전사용 자계를 인가하는 자기전사방법에 있어서, 자기전사용 마스터담체 상의 서보영역이 데이터영역보다도 볼록형상이고, 데이터영역과 서보영역과의 고저차가 50nm이상, 800nm미만인 자기전사용 마스터담체를 사용한 자기전사방법에 의해서 해결할 수 있다. 또한, 자기전사용 마스터담체가 데이터영역에 서보영역의 높이를 초과하지 않는 돌기를 보유하는 상기 자기전사방법이다.
본 발명의 자기전사방법은, 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체를 밀착하여 전사용 자계를 주어서 자기전사용 마스터담체로부터 서보신호를 슬레이브매체에 전사할 때에, 밀착불량 등의 의한 서보신호의 탈락 등을 방지하는 것이다.
이하에 도면을 참조하여 본 발명을 설명한다.
도 1은, 본 발명의 자기전사방법에 이용하는 자기전사용 마스터담체를 설명하는 도이고, 도 1(A)는, 평면도이고, 도 1(B)는 일부의 단면도이고, 도 1(C)는 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체를 밀착시킨 상태를 설명하는 단면도이다.
자기전사용 마스터담체(1)의 서보신호를 기록한 서보영역(2)은, 자기기록매체면에 규칙적으로 배치되어 있지만, 일반적으로는 자기기록매체의 전체의 면적에 대해서 서보영역은 10%이하의 면적을 차지하고 있다. 그래서, 자기전사용 마스터담체에 서보영역(2)을 데이터영역(3)에 대해서 볼록형상으로 되도록 형성하면, 자기전사용 마스터담체의 면적의 90%이상을 차지하는 데이터 신호영역은 오목형상으로되므로, 자기전사용 마스터담체(1)와 슬레이브매체(4)를 밀착시킨 경우에는, 양자의 사이로부터 공기가 빠져나가기 쉽게 되고, 또한 자기전사용 마스터담체에, 먼지 등이 부착물(5)로서 존재하고 있는 경우에도, 데이터영역의 오목형상부에 이물이 들어가고, 부착물에 의해서 자기전사용 마스터담체의 변형이 일어나기 어렵게 되며, 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체와의 밀착성이 개선되고, 전사된 신호의 탈락을 방지할 수 있는 것을 발견하였다.
게다가 검토를 행한 결과, 이상과 같이 자기전사용 마스터담체의 대부분의 면적을 차자하는 부분을 오목형상으로 성형하는 것이므로, 부착물에 의한 신호탈락, 밀착성을 대폭적으로 향상할 수 있는 것을 확인할 수 있지만, 슬레이브매체 상에 자기기록한 서보신호의 재생이, 서보영역과 데이터영역의 사이의 부분에서 특이적으로 뒤틀리는 것을 알아내었다.
데이터영역과 서보영역에 관해서 검토한 결과, 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체와의 밀착시에 서보신호영역에 가까운 부분에는, 서보신호영역으로부터 떨어진 부분에 비해서 큰 힘이 가해진다. 그 때문에, 서보영역의 패턴끝부에서 슬레이브매체가 뒤틀리고, 전사상태가 변화하기 때문에, 신호 어긋남이 발생하는 것으로 생각된다.
그래서, 본 발명에서는, 데이터영역과 서보영역과의 고저차를 특정 범위로 설정함으로써, 데이터영역과 서보영역의 경계부에 발생하는 전사의 이상을 방지하는 것이다. 구체적으로는, 데이터영역에 비해서 서보영역의 높이(h1)를 50nm이상, 800nm미만의 범위로 설정하는 것이므로, 이물의 부착에 의한 신호탈락과 함께 밀착부의 변형에 의한 전사이상을 방지하는 것이다. 높이가 50nm보다도 작은 경우에는, 이물의 부착에 의해서 서보영역의 밀착불량이 생기고 서보신호의 탈락 등이 생기는 가능성이 있으므로 바람직하지 않고, 한편, 800nm보다도 큰 경우에는, 데이터영역과 서보영역의 사이에서의 높이의 다름에 의한 변형량이 크게 되어서 전사이상이 생길 가능성이 있는 것에서 바람직하지 않다.
도 2는, 본 발명의 자기전사방법에 이용하는 자기전사용 마스터담체의 다른 예를 설명하는 도이고, 도 2(A)는, 평면도이고, 도 2(B)는 일부의 단면도이고, 도 2(C)는 다른 예를 나타내는 단면도이다.
자기전사용 마스터담체(1)의 서보신호를 기록한 서보영역(2)을 데이터영역 (3)에 대해서 볼록형상으로 되도록 형성함과 아울러, 자기전사용 마스터담체의 데이터신호영역에 방사형상 돌기(6)를 형성함으로써, 자기전사용 마스터담체의 면적의 90%이상을 차지하는 데이터 신호영역에 있어서, 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체를 밀착시킨 경우에 생기는 변형을 방지하는 것이다.
이와 같이, 돌기를 설치함으로써, 데이터영역에 면하는 슬레이브매체의 변형을 방지할 수 있으므로 파형 뒤틀림을 경감할 수 있다. 이것에 의해서 데이터영역과 서보영역의 경계부에서의 전사불량을 방지하는 것이 가능하게 된다.
돌기의 높이(h2)는, 서보영역의 높이(h1)를 초과하지 않는 것이 바람직하고, 돌기의 폭은 반경 20mm의 위치에 있어서, 10㎛~100㎛인 것이 바람직하고, 돌기는 서보영역의 사이에 복수개 설치하여도 좋다.
또한, 도 3은, 본 발명의 자기전사방법에 이용하는 자기전사용 마스터담체의다른 예를 설명하는 도이고 평면도이다.
자기전사용 마스터담체(1)의 서보신호를 기록한 서보영역(2)을 데이터영역 (3)에 대해서 볼록형상으로 되도록 형성함과 아울러, 자기전사용 마스터담체의 데이터 신호영역에 동심원형상 돌기(7)를 형성함으로써, 자기전사용 마스터담체의 면적의 90%이상을 차지하는 데이터 신호영역에 있어서, 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체를 밀착시킨 경우에 생기는 변형을 방지하는 것이다.
본 발명의 자기전사용 마스터담체는, 기체 상에 포토리소그래피에 의해서 형성하는 포토 제작법, CD-ROM제조용 스탬퍼의 제작에서 이용되고 있는 방법, 즉 레이저 조사에 의해서 형성한 패턴 상에 기체용 부재를 전주에 의해서 형성하는 방법 등을 이용할 수 있다.
포토 제작법에 의해서 제작하는 경우에는, 실리콘, 석영, 유리, 알루미늄, 합성수지 등의 비자성의 표면이 평활한 부재를 기판으로 하여, 이것에 자성층을 형성함으로써 제작할 수 있다.
구체적으로, 기판 상에 포토 레지스트을 도포하고, 자기전사에 의해 형성하는 패턴에 합치한 레지스트 패턴을 패턴노광, 또는 직접 가상선긋기에 의해 형성한다.
패턴노광의 경우는 반응성 에칭, 또는 아르곤 플라스마 등에 의한 물리적 에칭, 또는 에칭액에 의한 화학적 에칭에 의해, 기판 상에 패턴을 형성한다.
다음에서, 하지층을 스패터링법에 의해서 소정의 두께로 성막한 후에, 자성재료를 성막하여 자성층을 형성한다.
그 후, 포토 레지스트를 리프트오프로 제거한다. 또한, 자기전사에 있어서 슬레이브매체와 접촉하는 볼록형상의 자성층만을 포토 제작법으로 제작하여도 좋다.
자성층의 형성전에 기판 상에는, 원하는 자기이방성을 형성하기 위해서 비자성의 하지층을 설치하는 것이 바람직하고, 결정구조와 격자상수를 자성층에 합치시키는 것이 필요하다.
비자성의 하지층으로서는, Cr, CrTi, CoCr, CrTa, CrMo, NiAl, Ru 등을 이용할 수 있다.
또한 비자성의 하지층의 막두께로서는, 바람직하게는 200nm이상, 1000nm이하, 더욱 바람직하게는 300nm이상, 700nm이하이다.
또한, 자성층으로서는, 바람직한 자성층 두께는 50nm이항, 800nm이하, 더욱 바람직하게는 100nm이상, 500nm이하이다.
구체적으로는, 자성층으로서는, Co, Co합금(CoNi, CoNiZr, CoNbTaZr 등), Fe, Fe합금(FeCo, FeCoNi, FeNiMo, FeAlSi, FeAl, FeTaN), Ni, Ni합금(NiFe)을 이용할 수 있다. 이들 중에서도 특히 바람직하게는 FeCo, FeCoNi이다.
또한, 자성층의 위에 다이아몬드형상 탄소(DLC) 등의 경질탄소 보호막을 설치하는 것이 바람직하고, 경질탄소 보호막 상에 윤활제층을 설치하여도 좋다.
보호막으로서 바람직하게는, 5~30nm의 다이아몬드형상 탄소막과 윤활제가 존재하는 것이 더욱 바람직하다.
윤활제는, 자기전사용 마스터담체와 슬레이브매체를 밀착함에 있어서 접촉과정에서 생기는 어긋남을 보정할 때에 마찰로 생기는 손상을 방지하는 작용을 한다.
또한, 자기전사용 마스터담체는, CD-ROM 제조용 스탬퍼의 제조와 마찬가지로, 이하의 방법에 의해서 제작할 수 있다.
표면조도가 작은 석영, 유리 등의 원판형상의 기판에 포토 레지스트를 도포하고, 전처리 베이킹한 포토 레지스트층에, 기판을 회전시키면서 서보신호에 대응하여 변조한 레이저광을 조사하고, 원판의 전체면의 포토 레지스트에 각 트랙마다 회전중심으로부터 반경방향으로 방사형상으로 연장하는 서보신호에 상당하는 패턴을 원주 상의 각 서보신호에 대응하는 부분에 노광하여 현상 후에 베이킹처리를 행한다.
또한, 돌기를 형성하는 경우에는, 돌기와 서보영역의 높이의 차에 상당하는 포토 레지스트층을 형성한 후에, 서보영역만의 노광을 행해서 현상처리를 하고, 추가로 돌기의 높이에 상당하는 포토 레지스트층을 형성하고, 돌기와 서보영역의 패턴의 노광을 행하여 현상함으로써, 원하는 높이의 돌기와, 데이터영역과 서보영역의 고저차를 형성할 수 있다.
원하는 패턴이 형성된 기판 상에 화학도금에 의해서 얇게 은도금층을 형성하고, 은도금층을 한쪽의 전극으로하여 은도금층 상에 니켈을 전주하여 기판으로부터 니켈층을 벗겨내어 형성해야할 패턴을 보유하는 금속반을 제작한다.
다음으로, 신호에 따른 패턴을 보유하는 금속반에 진공성막수단에 의해서 자성층을 형성한다. 자성층의 형성은, 진공증착법, 스패터링법, 이온플레이팅법 등의 진공성막수단에 의해서 행할 수 있고, 특히 스패터링에 의해서 행하는 것이 바람직하다.
다음으로, 자성층 상에, 다이아몬드형상 탄소 등의 탄소막을 스패터링 등에 의해서 형성하여도 좋다.
또한, 니켈의 전주에 의해서 형성한 금속반을 주형으로하여 추가로 니켈을 전주하고, 얻어진 니켈반을 자기전사용 마스터담체의 기체로서 자성층을 형성하여도 좋다. 이 방법에 의하면 일회의 패턴의 형성공정에서 얻어진 금속반을 모형으로 하여 다수장의 자기전사용 마스터담체을 형성하는 것이 가능하게 된다.
또한, 본 발명의 자기전사방법에 있어서 사용되는 슬레이브매체로서는, 강성의 기체를 사용한 하드디스크용 자기기록매체, 가요성 재료의 기체를 이용하는 플로피 디스크용 자기기록매체 모두를 이용할 수 있고, 강자성금속입자를 결합제 중에 분산한 도포형 자기기록매체, 또는 기판 상에 강자성 금속박막을 형성한 금속박막형 자기기록매체를 이용할 수 있다.
구체적으로는, 도포형 자기기록매체로서는, Zip(아이오메가사)용 기록매체인 Zip100, Zip250, 또는 HiFD라 불리우는 고밀도 플로피 디스크 등의 자기기록매체를 들 수 있다.
금속박막형 자기기록매체로서는, 자성재료로서, Co, Co합금(CoPtCr, CoCr, CoPtCrTa, CoPtCrNbTa, CoCrB, CoNi 등), Fe, Fe합금(FeCo, FePt, FeCoNi)을 이용할 수 있다. 자속밀도가 크고, 자기전사용 마스터담체의 자성층과 동일 방향, 즉 면내 기록이면 면내방향, 수직이면 수직방향의 자기이방성을 보유하고 있는 것이 명확한 전사를 행하기 위해서 바람직하다.
또한, 자성층의 하부, 즉 기판측에 필요한 자기이방성을 형성하기 위해서 비자성의 하지층을 설치하는 것이 바람직하고, 결정구조와 격자상수를 자성층에 합치키는 것이 바람직하다.
(실시예)
이하에 실시예 및 비교예를 나타내고, 본 발명을 설명한다.
실시예1
표면조도(Ra)가 0.2nm의 합성석영제의 3.7형 원판에 포토 레지스트를 스핀코드한 후 전처리 베이킹하였다. 전처리 베이킹 후의 포토 레지스트는 두께 60nm이었다. 이 포토 레지스트를 형성한 원판을 회전시키면서, 서보신호에 대응하여 변조한 레이저광을 조사하고, 원판면의 포토 레지스트에 각 트랙에 회전중심을부터 반경방향으로 방사형상으로 연장하는 서보신호에 상당하는 패턴을 원주 상의 각 프레임에 대응하는 부분에 노광하고, 알카리 현상액으로 현상하였다.
여기서, 형성된 패턴은 10도 간격으로 0.3도의 영역에, 중심으로부터 반경방향 20mm ~ 40mm의 위치까지의 폭 5㎛ 등간격의 방사형상으로 하고, 각 방사형상의 선의 간격은 반경방향 20nm의 최내주 위치에서 0.5㎛ 간격으로 하였다.
다음으로, 패턴이 형성된 기판 상에 다시 포토 레지스트를 140nm의 두께로 도포하고, 앞에 형성한 서보영역의 패턴 상에 다시 패턴을 형성함과 아울러, 서보영역의 중간의 데이터영역에는 방사형상으로 중심으로부터 반경 20mm의 위치에서 폭 100㎛의 돌기를 형성하였다. 이 돌기는 방사형상으로 형성되고, 선폭은 중심으로부터 반경이 크게 됨에 따라서 넓게 되는 것이다.
포토 레지스트 표면을 세정 후, 베이킹을 행하여 원반을 제작하였다. 다음으로, 은의 화학도금을 실시한 후, 은도금층을 전극으로하여 니켈층을 전주에 의해 300㎛의 두께로 설치하여 원반으로부터 박리하여 금속반을 제작하고, 게다가 금속판을 주형으로 하여 니켈을 전주하여 자기전사용 마스터담체의 기판을 제작하였다.
금속반 상에 연자성층:FeCo층(원자비 50:50)을 25℃에서 스패터링에 의해서 제작하여 서보영역이 데이터영역에 대해서 60nm 높은 자기전사용 마스터담체를 얻었다. 스패터링 압력은 1.5×10-4Pa(1.08m Torr)로 하였다. 투입전력은 2.80W/㎠으로 하였다.
데이터영역에 대해서 서보영역의 높이를 200nm으로하고, 서보영역과 돌기의 높이의 차를 60nm으로 하였다.
다음으로, 슬레이브매체로서, 시판 아이오메가사 Zip250용 도포형 자기기록매체(후지 샤신 필름 제작)를 사용하였다. 슬레이브매체의 보자력(Hc)은 199kA/m (25000e)이었다.
피크자계강도가 398kA/m(5000Oe: 슬레이브 Hc의 2배)로 되는 형태로 전자석장치를 이용하여, 슬레이브매체의 초기직류자화를 행하고, 다음에 초기직류자화한 슬레이브와 자기전사용 마스터담체를 밀착시켜, 전자석 장치를 이용하여 199kA/m (2500Oe)의 자계를 인가함으로써 자기전사를 행하였다.
얻어진 슬레이브매체를 이하의 평가방법에 의해서 평가를 행하고, 자기전사정보의 평가흘 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예2
기판 상에 형성된 포토 레지스트에 의해서 두께 60nm의 서보영역의 패턴을 형성한 후에, 패턴이 형성된 기판 상에 다시 포토 레지스트를 340nm의 두께로 도포하고, 앞에 형성한 서보영역의 패턴 상에 다시 패턴을 형성함과 아울러, 서보영역의 중간의 데이터영역에는 방사형상으로 중심으로부터 반경 20mm의 위치에서 폭 100㎛의 돌기를 형성하고, 서보영역의 데이터영역에 대한 높이를 400nm으로 하고, 서보영역과 돌기의 높이의 차를 60nm으로 한 점을 제외하고, 실시예1과 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하여 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예3
기판 상에 형성된 포토 레지스트에 의해서 두께 60nm의 서보영역의 패턴을 형성한 후에, 패턴이 형성된 기판 상에 다시 포토 레지스트를 690nm의 두께로 도포하고, 앞에 형성한 서보영역의 패턴 상에 다시 패턴을 형성함과 아울러, 서보영역의 중간의 데이터영역에는 방사형상으로 중심으로부터 반경 20mm의 위치에서 폭 100㎛의 돌기를 형성하고, 서보영역의 데이터영역에 대한 높이를 750nm으로 하고, 서보영역과 돌기의 높이의 차를 60nm으로 한 점을 제외하고, 실시예1과 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하여 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예4
포토 레지스트를 200nm의 두께로 1회만 도포함과 아울러 돌기를 설치한 점을제외하고, 실시예1과 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하고 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예5
포토 레지스트를 400nm의 두께로 1회만 도포함과 아울러 돌기를 설치한 점을 제외하고, 실시예2와 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하고 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예6
포토 레지스트를 750nm의 두께로 1회만 도포함과 아울러 돌기를 설치한 점을 제외하고, 실시예3과 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하고 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
비교예1
데이터영역과 서보영역의 높이를 동일하게함과 아울러, 돌기를 설치하지 않고, 또한 은의 화학도금을 실시한 후, 은도금층을 전극으로서 니켈층을 전주에 의해 300㎛의 두께로 설치하여 원반으로부터 박리하여 금속반을 자기전사용 마스터담체의 기판으로 한 점을 제외하고 실시예1과 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하고 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
비교예2
포토 레지스트를 20nm의 두께로 1회만을 도포하고 서보영역을 데이터영역보다도 20nm 높게 한 점을 제외하고, 실시예4와 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하고 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
비교예3
기판 상에 형성한 포토 레지스트에 의해서 두께 60nm의 서보영역의 패턴을 형성한 후에, 패턴이 형성된 기판 상에 다시 포토 레지스트를 890nm의 두께로 도포하고, 앞에 형성한 서보영역의 패턴 상에 다시 패턴을 형성함과 아울러, 서보영역을 데이터영역보다도 950nm 높게 한 점을 제외하고, 실시예1과 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하고 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
비교예4
기판 상에 포토 레지스트를 950nm의 두께로 1회만 도포하고, 서보영역의 데이터영역보다도 950nm 높게 함과 아울러 돌기를 설치하지 않은 점을 제외하고, 실시예1과 마찬가지로 자기전사용 마스터담체를 제작하고 실시예1과 마찬가지로 평가를 행하고 그 결과를 표 1에 나타낸다.
(평가방법)
ㆍ신호탈락 및 밀착평가방법
자기전사를 행한 슬레이브매체를 자기현상액(시그마 하이케미컬사 제작 시그마카Q)를 10배로 희석하고, 슬레이브매체 상에 적하, 건조시키고, 현상된 자기전사신호끝의 변동량을 평가하였다. 서보신호역을 미분간섭형 현미경으로 50배의 확대율로 100시야 관측하고, 신호탈락이 2개소 이하에서 있으면 양호하게 하였다.
ㆍ신호뒤틀림
전자변환특성 측정장치(교도덴시 제작:SS-60)에 의해 슬레이브매체 전사신호의 신호뒤틀림의 평가를 행하였다. 헤드에는, 헤드갭:0.17㎛, 트랙폭:4.0㎛인 유도헤드를 이용하였다. 재생신호를 관측하고, 재생신호를 디지털 오실로스코프(레크로이사 제작LC334AM)로 하고, 신호의 반치폭(PW50)에 의해 평가하였다. PW50이 300nm미만이면 양호, 300nm이상이면 불량으로 하였다.
데이터영역의돌기 고저차(nm) 신호탈락개수 신호뒤틀림(nm)
서보/데이터 서보/돌기
실시예1 있음 200 60 2 양호 280 양호
실시예2 있음 400 60 1 양호 291 양호
실시예3 있음 750 60 1 양호 296 양호
실시예4 없음 200 1 양호 290 양호
실시예5 없음 400 2 양호 294 양호
실시예6 없음 750 2 양호 298 양호
비교예1 없음 43 불량 272 양호
비교예2 있음 20 4 불량 294 양호
비교예3 있음 950 60 0 양호 342 불량
비교예4 없음 950 0 0 양호 350 불량
본 발명의 자기전사용 마스터담체를 이용한 자기전사방법에 의해서, 하드디스크, 대용량 리무버블 디스크매체, 대용량 플랙시블 매체 등의 디스크형상 매체에, 단시간에 생산성 양호하고, 트래킹용 서보신호나 어드레스 정보신호, 재생클럭신호 등의 프리포맷기록을 전사탈락 등의 품위의 저하를 가져오지 않고 안정한 자기전사를 행할 수 있다.

Claims (2)

  1. 자기전사용 마스터담체를 슬레이브매체와 밀착시켜서 전사용 자계를 인가하는 자기전사방법에 있어서, 자기전사용 마스터담체 상의 서보영역이 데이터영역보다도 볼록형상으로 형성되어 있고, 데이터영역과 서보영역과의 고저차가 50nm이상, 800nm미만인 자기전사용 마스터담체를 사용한 것을 특징으로 하는 자기전사방법.
  2. 제 1항에 있어서, 자기전사용 마스터담체가 데이터영역에 서보영역의 높이를 초과하지 않는 돌기를 보유하는 것을 특징으로 하는 자기전사방법.
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