JP2003187420A - 磁気パターン転写用のマスター体及び磁気記録媒体 - Google Patents
磁気パターン転写用のマスター体及び磁気記録媒体Info
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Abstract
でき、しかもゴミ等にも対応できるマスター体を提供す
る。 【解決手段】 磁気情報が記録可能な磁気記録媒体へ所
定の磁気パターンを転写するためのマスター体であっ
て、前記磁気パターンが形成されている以外のブランク
領域の少なくとも一部に、ゴミを収容できる窪み部を形
成している。
Description
部記憶装置等として広く採用されている磁気記憶装置に
搭載されている磁気ディスク等の磁気記録媒体へ所定の
磁気パターンを転写する際に用いるマスター体に関す
る。
高記録密度化されて来ている。情報量の増加と共に多量
の情報を記録することが可能であり大容量で、再生時の
アクセス時間が短く、安価な磁気記録媒体が求められて
いる。このような大容量な磁気記録媒体を実現するため
には狭トラック幅としても精度良く磁気ヘッドが走査で
きるように所謂トラッキングサーボ技術が用いられてい
る。
磁気ディスクの1周中のある間隔でトラッキング用のサ
ーボ信号等の磁気パターンが所謂プリフォーマットされ
ている。磁気ヘッドはこの磁気パターンを読取って自己
の位置を修正して高精度にトラック上を走行する。
パターンを有する磁気記録媒体を作製するために、磁気
記録媒体専用のサーボ情報記録装置を用いて1枚ずつ、
1トラックずつ記録することにより行われている。上記
サーボ情報記録装置は記録ヘッドを高精度に位置決めす
る機構が必要であり、高価である。また、磁気記録媒体
の容量が大きくなるに従って磁気パターンを記録するの
に要する時間も長時間となるので、大容量の磁気記録媒
体の製造においては、磁気パターン記録工程が製造工程
において占める割合が大きくなり、製造コストを上昇さ
せることとなっていた。
ックずつ磁気パターンの記録を行わずに、磁気パターン
に応じてパターニングした磁性層を有するディスク(マ
スター体と称する)を準備し、このマスター体を介して
製品となる磁気記録媒体へ磁気パターンを転写するよう
にした技術の提案がなされている。
ォーマットする磁気記録媒体に十分密着させた状態で外
部磁界を供給することで上記磁性層が励磁されて磁気的
な転写がなされ、短時間に所定の磁気パターンを有する
磁気記録媒体を作製できるので製造工程の簡素化と低コ
スト化を図ることができる。
ターン転写装置100の一例を示した図である。磁気記
録媒体120上にマスター体110が配置され、磁界発
生手段となる磁石101から磁界105が供給されるよ
うになっている。マスター体110にはサーボ信号等に
基づいた所定の磁気パターンに対応して磁性層111が
形成されている。図1の状態で、上記磁界105を受け
ることで磁性層111が励磁され、上記磁性層111の
パターンが磁気記録媒体120側へ転写パターン121
として転写される。
は、マスター体110の磁性層111を磁気記録媒体1
20に十分接近させて磁界105を供給することで、マ
スター体110の有する磁気パターンを磁気記録媒体1
20側へ精度良く転写できる。そのためには、マスター
体110の下面110Aを磁気記録媒体120の上面1
20Aに密着させることが重要である。
マスター体110では磁気記録媒体120と接触する下
面は全体に平坦である。磁気記録媒体120側の上面も
一般に平坦である。
スター体110と磁気記録媒体120との間にゴミDA
Sが存在した場合には、この両者を十分に密着させるこ
とができず、適正な転写が実現できないという問題が生
じる。
分等が介在すると十分に密着させることが困難である。
そして、その逆に一度、平坦な面同士が密着状態になる
と空気や水分の表面張力により、今度は引き離すこと
(剥離)が困難になるという問題も生じる。
側となる磁気記録媒体との密着及び分離が容易に実現で
き、しかもゴミ等にも対応できるマスター体を提供する
ことである。
載の如く、磁気情報が記録可能な磁気記録媒体へ所定の
磁気パターンを転写するためのマスター体であって、前
記磁気パターンが形成されている以外のブランク領域の
少なくとも一部に窪み部を形成した磁気パターン転写用
のマスター体により達成される。
に形成した窪み部内にゴミを収容するような状態を実現
して、磁気パターンが形成された部分と磁気記録媒体と
を密着できる。上記ブランク領域はマスター体に広範囲
に存在しているので、前述したゴミによる障害を大幅に
低減できる。
おくことで、マスター体と磁気記録媒体との接触面積が
減少するので、この両者を密着させること及び密着後に
剥離することを容易に行えるようになる。
成すればよい。また、一つの広いブランク領域の場合に
は複数の窪み部を形成してもよい。
記載の磁気パターン転写用のマスター体において、前記
窪み部を形成した領域内に、該窪み部を補強するための
補強部材が配設されている構成を採用してもよい。
合には、磁気記録媒体にマスター体を密着させるために
外力を加えたときに変形する虞があるので、この変形を
防止するために補強することが好ましい。本請求項2に
記載の発明によると、補強部材により窪み部の変形が防
止される。前記補強部材は、窪み部内に別の補強用材を
形成するようにしてもよいが、マスター体の一部を残す
状態に一体形成すると、製造工程を簡素化し、低コスト
で本マスター体を製作できる。
記載の磁気パターン転写用のマスター体において、前記
補強部材は、前記窪み部内で幅方向に延びる梁状又は前
記窪み部内に点在する柱状に形成してもよい。
梁状や柱状に形成すると簡易に加工することができる。
記載の磁気パターン転写用のマスター体において、幅を
細くした前記梁状部材が所定間隔を持って複数配設され
ている形態を採用してもよい。
ー体において、柱径を小さくした前記柱状部材が所定間
隔を持って複数配設されている形態を採用してもよい。
マスター体の製造工程によっては磁性材料が補強部材側
にも形成されてしまう場合がある。このような場合に
は、請求項4に記載の発明によると、補強部材を小さく
分割化することで磁性材料が存在していることによる影
響を抑制しつつ、前記窪み部を確実に補強できる。
ら4のいずれかに記載の磁気パターン転写用のマスター
体によって磁気パターンが転写された磁気記録媒体であ
れば、正確な磁気パターンがプリフォーマットされ、精
度良く磁気ヘッドを走査できる。
の一方側に窪みを設けるという構成で、前述した従来の
問題を解決する。本発明は特に、転写用の磁気パターン
はマスター体の下面全体に存在するのではなく、その逆
に磁気パターンが形成されていない領域(ブランク領域
と称する)の方が広い面積を占めるという点に着目して
いる。このブランク領域に窪みを形成し、マスター体と
磁気記録媒体との間に存在したゴミをこの窪み部内に収
容することで障害に対処する。上記のように、マスター
体にはブランク領域が極めて広いので、この部分を窪ま
せることがゴミの影響を除くことに関して極めて有効で
ある。
前述した磁気記録媒体へマスター体を密着及び剥離する
ことが困難であるという問題も同時に解消できる。
実施例を説明する。
大して模式的に示した図である。この図3は、マスター
体の1つのトラックを側面から見た構成である。また、
図3ではマスター体10がその下で磁気記録媒体20と
接し、ゴミDASが存在した場合の状態を示している。
ンに応じて形成されている磁性層11が存在する以外の
ブランク領域BLが窪み部13として形成されている。
ク領域BLが、磁性層11が存在する磁気パターン部分
よりも広い面積を占めるので、微小なゴミDASが進入
した場合でもブランク領域BLに存在する確率が高い。
この広いブランク領域BLを窪み部13としておくこと
で、ゴミDASによりマスター体10を磁気記録媒体2
0に密着できないという障害を大幅に低減できる。
とで磁性層11が存在するマスター体10の下面10A
を、磁気記録媒体20の上面20Aと容易に密着させ、
さらに剥離することもできる。よって、2つの広い平坦
面を密着させる際の問題及び剥離する際の問題も生じな
い。
ときは、そのブランク領域毎に1つの窪み部13を設け
てもよいし、1つのブランク領域が広い面積となる場合
は複数の窪み部13を形成してもよい。
等で用いられているリソグラフィー技術を用いて作製で
きる。例えばSiO2等の基板上にフォトレジストを塗
布、磁化パターン応じたフォトマスクを用いて露光、現
像、エッチングし、軟磁性材料をスパッタリングして磁
性層11を形成する工程等を経て作製できる。このエッ
チングの際に、窪み部13を同時に形成するようにすれ
ば一体に形成できる。よって、従来と同様な工程で本実
施例のマスター体10を作製できる。
3と同様に模式的に示した図である。本第2実施例では
第1実施例について示した図3と同様の部位に図4でも
同一の符号を用い、重複する説明を省略して本実施例の
特徴部分を中心に説明する。この点については本実施例
以後の実施例でも同様とする。
向に延在する梁状の補強部材15を新たに配設してい
る。磁気パターンを転写する際には、マスター体10を
磁気記録媒体20に密着させるために、外力が加えられ
る。その際、窪み部13の面積が広くなると変形するこ
とが想定される。そこで、本実施例では窪み部13内に
補強部材として上記梁状補強部材15を配設して変形の
防止を図っている。
状に応じて適宜、幅や長さを設定すればよい。図5はマ
スター体の窪み部13での梁状補強部材15の配置を例
示している。図5の15Aで示すように1つの長い梁状
補強部材としてもよいし、15B〜15Dに示すように
分割した状態で配置してもよい。さらに、図示はしない
が梁状補強部材15は直線的である必要はなく曲線的で
もよい。
の構成を図3と同様に模式的に示した図である。本第3
実施例は、マスター体10を製造する工程で上記梁状補
強部材15の端部に磁性部分15MAが形成されてしま
う場合に、本来の磁気パターンに影響が無いように修正
する形態である。
成技術を応用して製作することができる。その作製手順
には種々の組合せが存在する。例えば、マスター用基板
表面を磁気パターンに応じてエッチングしてから、その
エッチング部分にスパッタリング法等で軟磁性材料を形
成するプロセスを採用できる。この場合に上記梁状補強
部材15を同時に形成するようにしても、この梁状補強
部材15側に磁性部分が形成されることはない。
料を形成した後にエッチングして磁気パターンを形成す
る場合は問題となる。製作工程の簡素化を図るために、
梁状補強部材15もエッチングで一体形成しようとする
と、梁状補強部材15の前端に磁性部分が残ってしま
う。このような磁性部分が存在すると、本来の磁気パタ
ーンを転写する時に一緒に磁気記録媒体20側へ転写さ
れてしまう。
ー体10は、磁性部分15MAが存在するが梁状補強部
材15の梁幅BWを細く形成して不要な転写を抑制でき
るようにしている。このように誤転写を抑制できる細く
形成する梁状補強部材15の梁幅BWは磁気パターン幅
の1/2程度までとするのが好ましい。
近させて配設した第3実施例の他の例について示す図で
ある。本例のように細い梁状補強部材15を複数接近さ
せて配設すること、細い梁状補強部材15への圧力の集
中を緩和し、磁性部分15MAの影響も抑制しつつ窪み
部13の補強をより確実に行うことができる。図7に示
すような細い梁状補強部材15は、図4に示した1つの
梁状部材の幅よりも広い幅の範囲に、互いの間隔をその
梁状補強部材の幅と同程度として配置することが好まし
い。
第2及び第3実施例で用いた梁状補強部材15に替え
て、柱状補強部材16を窪み部13内に点在させた場合
の実施例である。
4と同様に模式的に示した図である。本第4実施例で
は、窪み部13内に柱状補強部材16を点在させて、窪
み部13の変形防止を図っている。この柱状補強部材1
6は、窪み部13の形状に応じて適宜、柱径や設定数を
定めればよい。また、図9はマスター体の窪み部13で
の柱状補強部材16の配置を例示している。図9の16
Aで示すように柱状補強部材をマスター体10の半径方
向に連続して配置してもよいし、16B、16Cに示す
ように千鳥、或いは順次ずらして配置してもよい。ま
た、図示はしないが柱径の異なる複数の柱状補強部材1
6を用いてもよい。
ー体の構成を前記図6及び図7と同様に模式的に示した
図である。本第5実施例は、前記第3実施例と同様にマ
スター体10を製造する工程で柱状補強部材16の端部
に磁性部分16MAが形成されてしまう場合に修正する
形態である。
0は、磁性部分16MAが存在するが柱状補強部材16
の柱径HWを小さく形成して不要な転写を抑制できるよ
うしている。このように誤転写を抑制できる柱径HWは
磁気パターン幅の1/2程度である。
数接近させて配設した例である。本例のように複数配設
することで細い柱状補強部材16への圧力の集中を緩和
しつつ、磁性部分16MAの影響を抑制して窪み部13
の補強を行うことができる。図11に示すような小さい
柱状補強部材16は、図8に示した1つの柱状部材の径
よりも大きい範囲に、互いの間隔をその柱状補強部材の
幅と程度として配設することが好ましい。
材16は円柱状となっているが楕円、角状でもよい。ま
た、前述した実施例を組合せて梁状補強部材と柱状補強
部材とを組合せて用いてもよい。
号の転写のために限らず、アドレス信号、再生クロック
信号、さらにはデータ等を予め磁気記録媒体へ転写する
際にも用いることができる。
したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるもの
ではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の
範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
を開示する。
録媒体へ所定の磁気パターンを転写するためのマスター
体であって、前記磁気パターンが形成されている以外の
ブランク領域の少なくとも一部に窪み部を形成した、こ
とを特徴とする磁気パターン転写用のマスター体。
転写用のマスター体において、前記窪み部を形成した領
域内に、該窪み部を補強するための補強部材が配設され
ている、ことを特徴とする磁気パターン転写用のマスタ
ー体。
転写用のマスター体において、前記補強部材は、前記窪
み部内で幅方向に延びる梁状又は前記窪み部内に点在す
る柱状に形成されている、ことを特徴とする磁気パター
ン転写用のマスター体。
転写用のマスター体において、幅を細くした前記梁状部
材が所定間隔を持って複数配設されている、ことを特徴
とする磁気パターン転写用のマスター体。
転写用のマスター体において、柱径を小さくした前記柱
状部材が所定間隔を持って複数配設されている、ことを
特徴とする磁気パターン転写用のマスター体。
載の磁気パターン転写用のマスター体によって磁気パタ
ーンが転写された、ことを特徴とする磁気記録媒体。
に、請求項1記載の発明によれば、マスター体に形成し
た窪み部内にゴミを収容できる形態であるので、ゴミが
存在した場合でもこれを障害とすることなく磁気パター
ンが形成された部分と磁気記録媒体とを密着させること
ができる。
ることで、マスター体と磁気記録媒体との接触面積が減
少するので、この両者を密着させること及び密着後に剥
離することを容易に行えるようになる。
と、補強部材により窪み部の変形を防止することができ
る。この補強部材は、窪み部内にマスター体の一部を残
す状態にして一体形成すると製造工程を簡素化して、低
コストで製作できる。
強部材を分割化することで存在する磁性材料の影響を抑
制しつつ、前記窪み部を確実に補強できる。
記録媒体は、正確な磁気パターンがプリフォーマットさ
れ、精度良く磁気ヘッドを走査できる。
置の一例を示した図である。
DASが存在した場合の様子を示した図である。
的に示した図である。
的に示した図である。
例示した図である。
的に示した図である。
模式的に示した図である。
的に示した図である。
例示した図である。
式的に示した図である。
て模式的に示した図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 磁気情報が記録可能な磁気記録媒体へ所
定の磁気パターンを転写するためのマスター体であっ
て、 前記磁気パターンが形成されている以外のブランク領域
の少なくとも一部に窪み部を形成した、ことを特徴とす
る磁気パターン転写用のマスター体。 - 【請求項2】 請求項1に記載の磁気パターン転写用の
マスター体において、 前記窪み部を形成した領域内に、該窪み部を補強するた
めの補強部材が配設されている、ことを特徴とする磁気
パターン転写用のマスター体。 - 【請求項3】 請求項2に記載の磁気パターン転写用の
マスター体において、 前記補強部材は、前記窪み部内で幅方向に延びる梁状又
は前記窪み部内に点在する柱状に形成されている、こと
を特徴とする磁気パターン転写用のマスター体。 - 【請求項4】 請求項3に記載の磁気パターン転写用の
マスター体において、 幅を細くした前記梁状部材が所定間隔を持って複数配設
されている、ことを特徴とする磁気パターン転写用のマ
スター体。 - 【請求項5】 請求項1から4のいずれかに記載の磁気
パターン転写用のマスター体によって磁気パターンが転
写された、ことを特徴とする磁気記録媒体。
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2002
- 2002-04-19 US US10/126,109 patent/US7115328B2/en not_active Expired - Fee Related
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JP2010033649A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Toshiba Storage Device Corp | 磁気転写用マスター体およびトラックピッチ変動測定方法 |
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