JP3333756B2 - マスター情報担体およびその製造方法 - Google Patents
マスター情報担体およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディジタル情報信
号を磁気記録媒体に記録するために用いられるマスター
情報担体およびその製造方法に関する。
号を磁気記録媒体に記録するために用いられるマスター
情報担体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は、小型でかつ
大容量のものを実現するために、高記録密度化の傾向に
ある。代表的な磁気記録再生装置であるハードディスク
ドライブの分野においては、すでに面記録密度が３Ｇｂ
ｉｔ／ｉｎ2（４．６５Ｍｂｉｔ／ｍｍ2）を超える装置
が商品化されており、数年後には、面記録密度が１０Ｇ
ｂｉｔ／ｉｎ2（１５．５Ｍｂｉｔ／ｍｍ2）の装置の実
用化が予測されるほどの急峻な技術の進歩が認められ
る。
大容量のものを実現するために、高記録密度化の傾向に
ある。代表的な磁気記録再生装置であるハードディスク
ドライブの分野においては、すでに面記録密度が３Ｇｂ
ｉｔ／ｉｎ2（４．６５Ｍｂｉｔ／ｍｍ2）を超える装置
が商品化されており、数年後には、面記録密度が１０Ｇ
ｂｉｔ／ｉｎ2（１５．５Ｍｂｉｔ／ｍｍ2）の装置の実
用化が予測されるほどの急峻な技術の進歩が認められ
る。
【０００３】このような高記録密度化には、記録再生ヘ
ッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たして
いる。現在の磁気記録媒体のトラッキングサーボ技術で
は、磁気記録媒体に一定の角度間隔でトラッキング用サ
ーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等が記
録された領域を設け（以下、プリフォーマット記録とい
う）、磁気ヘッドが、一定間隔でこれらの信号を再生す
ることによって、磁気ヘッドの位置を確認、修正しなが
ら正確にトラック上を走査している（例えば、山口：磁
気ディスク装置の高精度サーボ技術、日本応用磁気学会
誌、Ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．３，ｐｐ７７１，１９９
６）。
ッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たして
いる。現在の磁気記録媒体のトラッキングサーボ技術で
は、磁気記録媒体に一定の角度間隔でトラッキング用サ
ーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等が記
録された領域を設け（以下、プリフォーマット記録とい
う）、磁気ヘッドが、一定間隔でこれらの信号を再生す
ることによって、磁気ヘッドの位置を確認、修正しなが
ら正確にトラック上を走査している（例えば、山口：磁
気ディスク装置の高精度サーボ技術、日本応用磁気学会
誌、Ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．３，ｐｐ７７１，１９９
６）。
【０００４】トラッキング用サーボ信号やアドレス情報
信号、再生クロック信号等は、磁気ヘッドが正確にトラ
ック上を走査するための基準信号となるものであるの
で、その記録時には、正確な位置決め精度が要求され
る。このため、従来は、磁気記録媒体を専用のサーボ記
録装置にセットし、厳密に位置制御された磁気ヘッドに
よりプリフォーマット記録を行っていた（例えば、植
松、他：メカ・サーボ、ＨＤＩ技術の現状と展望、日本
応用磁気学会第９３回研究会資料、９３−５，ｐｐ．３
５，１９９６）。
信号、再生クロック信号等は、磁気ヘッドが正確にトラ
ック上を走査するための基準信号となるものであるの
で、その記録時には、正確な位置決め精度が要求され
る。このため、従来は、磁気記録媒体を専用のサーボ記
録装置にセットし、厳密に位置制御された磁気ヘッドに
よりプリフォーマット記録を行っていた（例えば、植
松、他：メカ・サーボ、ＨＤＩ技術の現状と展望、日本
応用磁気学会第９３回研究会資料、９３−５，ｐｐ．３
５，１９９６）。
【０００５】しかしながら、専用のサーボ記録装置を用
いてプリフォーマット記録を行う従来の方法において
は、以下のような課題があった。
いてプリフォーマット記録を行う従来の方法において
は、以下のような課題があった。
【０００６】まず第１に、磁気ヘッドによる記録は、基
本的に磁気ヘッドと磁気記録媒体との相対移動に基づく
線記録であるため、上記従来の方法では、プリフォーマ
ット記録に多くの時間を要するとともに、高価な専用の
サーボ記録装置が必要であり、プリフォーマット記録が
高コストとなっていた。
本的に磁気ヘッドと磁気記録媒体との相対移動に基づく
線記録であるため、上記従来の方法では、プリフォーマ
ット記録に多くの時間を要するとともに、高価な専用の
サーボ記録装置が必要であり、プリフォーマット記録が
高コストとなっていた。
【０００７】また、第２に、ヘッド・媒体間スペーシン
グや記録ヘッドのポール形状による記録磁界の広がりの
ため、プリフォーマット記録されたトラック端部の磁化
遷移が急峻性にかけるという問題があった。磁化遷移が
急峻性に欠ける場合には、正確なトラッキングサーボ技
術の実現が困難になる。
グや記録ヘッドのポール形状による記録磁界の広がりの
ため、プリフォーマット記録されたトラック端部の磁化
遷移が急峻性にかけるという問題があった。磁化遷移が
急峻性に欠ける場合には、正確なトラッキングサーボ技
術の実現が困難になる。
【０００８】そこで、磁気ヘッドを用いた上記従来のプ
リフォーマット記録の課題を解決する手段として、基体
の表面にプリフォーマット記録の情報信号に対応する強
磁性薄膜パターンが形成されているマスター情報担体を
用いた方法が提案されている（特開平１０−４０５４４
号公報）。この方法では、マスター情報担体の表面を磁
気記録媒体の表面に接触させた状態で、マスター情報担
体に形成された強磁性薄膜を磁化することによって、磁
気記録媒体にプリフォーマット記録を行う。この方法に
よれば、記録媒体のＳ／Ｎ比、インターフェース性能等
の他の重要性能を犠牲にすることなく、良好なプリフォ
ーマット記録を効率的に行うことができる。
リフォーマット記録の課題を解決する手段として、基体
の表面にプリフォーマット記録の情報信号に対応する強
磁性薄膜パターンが形成されているマスター情報担体を
用いた方法が提案されている（特開平１０−４０５４４
号公報）。この方法では、マスター情報担体の表面を磁
気記録媒体の表面に接触させた状態で、マスター情報担
体に形成された強磁性薄膜を磁化することによって、磁
気記録媒体にプリフォーマット記録を行う。この方法に
よれば、記録媒体のＳ／Ｎ比、インターフェース性能等
の他の重要性能を犠牲にすることなく、良好なプリフォ
ーマット記録を効率的に行うことができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】マスター情報担体を用
いた上記方法では、１枚のマスター情報担体を用いて複
数の磁気記録媒体にプリフォーマット記録を行う。従っ
て、マスター情報担体は、磁気記録媒体に繰り返し密着
させても強磁性薄膜が剥離等しないように形成すること
が好ましい。
いた上記方法では、１枚のマスター情報担体を用いて複
数の磁気記録媒体にプリフォーマット記録を行う。従っ
て、マスター情報担体は、磁気記録媒体に繰り返し密着
させても強磁性薄膜が剥離等しないように形成すること
が好ましい。
【００１０】そこで、本発明は、プリフォーマット記録
などのディジタル情報信号を多数の磁気記録媒体に記録
することができるマスター情報担体およびその製造方法
を提供することを目的とする。
などのディジタル情報信号を多数の磁気記録媒体に記録
することができるマスター情報担体およびその製造方法
を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のマスター情報担体は、磁気記録媒体に接触
させることによって前記磁気記録媒体にディジタル情報
信号を記録するためのマスター情報担体であって、非磁
性材料からなり一主面に複数の凹部を備える基体と、前
記凹部に形成された強磁性薄膜とを備え、前記強磁性薄
膜は、前記磁気記録媒体に記録される前記ディジタル情
報信号に対応する位置に形成され、前記凹部の側面と前
記強磁性薄膜の側面とが分離していることを特徴とす
る。上記本発明のマスター情報担体では、磁気記録媒体
に接触させたときに、強磁性薄膜の側面と基体凹部の側
面との間に応力が加わらないため、強磁性薄膜が脱離し
にくい。したがって、本発明のマスター情報担体によれ
ば、多数の磁気記録媒体にディジタル情報信号を記録す
ることができるマスター情報担体が得られる。
め、本発明のマスター情報担体は、磁気記録媒体に接触
させることによって前記磁気記録媒体にディジタル情報
信号を記録するためのマスター情報担体であって、非磁
性材料からなり一主面に複数の凹部を備える基体と、前
記凹部に形成された強磁性薄膜とを備え、前記強磁性薄
膜は、前記磁気記録媒体に記録される前記ディジタル情
報信号に対応する位置に形成され、前記凹部の側面と前
記強磁性薄膜の側面とが分離していることを特徴とす
る。上記本発明のマスター情報担体では、磁気記録媒体
に接触させたときに、強磁性薄膜の側面と基体凹部の側
面との間に応力が加わらないため、強磁性薄膜が脱離し
にくい。したがって、本発明のマスター情報担体によれ
ば、多数の磁気記録媒体にディジタル情報信号を記録す
ることができるマスター情報担体が得られる。
【００１２】上記本発明のマスター情報担体では、前記
凹部の側面と前記強磁性薄膜の側面との間が、潤滑剤に
よって充填されていることが好ましい。これによって、
磁気記録媒体とマスター情報担体を接触させたときに、
磁気記録媒体に傷が発生することを防止できる。
凹部の側面と前記強磁性薄膜の側面との間が、潤滑剤に
よって充填されていることが好ましい。これによって、
磁気記録媒体とマスター情報担体を接触させたときに、
磁気記録媒体に傷が発生することを防止できる。
【００１３】また、本発明の第１のマスター情報担体の
製造方法は、非磁性材料からなり一主面に複数の凹部を
備える基体と、前記凹部に形成された強磁性薄膜とを備
えるマスター情報担体の製造方法であって、前記基体の
前記凹部に前記強磁性薄膜を形成する第１の工程と、前
記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触する部分を除
去することによって、前記凹部の側面と前記強磁性薄膜
の側面とを分離させる第２の工程とを含むことを特徴と
する。上記第１の製造方法によれば、本発明のマスター
情報担体を容易に製造できる。
製造方法は、非磁性材料からなり一主面に複数の凹部を
備える基体と、前記凹部に形成された強磁性薄膜とを備
えるマスター情報担体の製造方法であって、前記基体の
前記凹部に前記強磁性薄膜を形成する第１の工程と、前
記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触する部分を除
去することによって、前記凹部の側面と前記強磁性薄膜
の側面とを分離させる第２の工程とを含むことを特徴と
する。上記第１の製造方法によれば、本発明のマスター
情報担体を容易に製造できる。
【００１４】上記第１の製造方法では、前記第２の工程
において前記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触す
る部分を除去する工程が、前記強磁性薄膜を溶解させる
溶液を用いて前記第１の工程を経た前記基体を処理する
ことによって行われることが好ましい。これによって、
本発明のマスター情報担体を特に容易に製造できる。こ
の場合、前記強磁性薄膜がＣｏを含み、前記溶液が弱酸
性溶液またはＮ−メチル−２−ピロリドンであることが
好ましい。
において前記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触す
る部分を除去する工程が、前記強磁性薄膜を溶解させる
溶液を用いて前記第１の工程を経た前記基体を処理する
ことによって行われることが好ましい。これによって、
本発明のマスター情報担体を特に容易に製造できる。こ
の場合、前記強磁性薄膜がＣｏを含み、前記溶液が弱酸
性溶液またはＮ−メチル−２−ピロリドンであることが
好ましい。
【００１５】上記第１の製造方法では、前記第２の工程
において前記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触す
る部分を除去する工程が、前記第１の工程を経た前記基
体に超音波をあてることによって行われることが好まし
い。これによって、本発明のマスター情報担体を特に容
易に製造できる。この場合、前記超音波の周波数が１Ｍ
Ｈｚ以上であることが好ましい。
において前記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触す
る部分を除去する工程が、前記第１の工程を経た前記基
体に超音波をあてることによって行われることが好まし
い。これによって、本発明のマスター情報担体を特に容
易に製造できる。この場合、前記超音波の周波数が１Ｍ
Ｈｚ以上であることが好ましい。
【００１６】上記第１の製造方法では、前記第２の工程
において前記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触す
る部分を除去する工程が、前記第１の工程を経た前記基
体に固体粒子を衝突させることによって行われることが
好ましい。これによって、本発明のマスター情報担体を
特に容易に製造できる。
において前記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触す
る部分を除去する工程が、前記第１の工程を経た前記基
体に固体粒子を衝突させることによって行われることが
好ましい。これによって、本発明のマスター情報担体を
特に容易に製造できる。
【００１７】本発明の第２のマスター情報担体の製造方
法は、非磁性材料からなり一主面に複数の凹部を備える
基体と、前記凹部に形成された強磁性薄膜とを備えるマ
スター情報担体の製造方法であって、前記基体の前記凹
部に対応する部分に開口部を有するレジスト膜であって
前記開口部の幅が表面側に向かって狭くなるレジスト膜
を、非磁性材料からなる基板上に形成する第１の工程
と、前記基板をエッチングすることによって、一主面に
前記複数の凹部を備える前記基体を形成する第２の工程
と、前記基体上に強磁性薄膜を形成したのち前記レジス
ト膜を除去することによって、前記凹部内に、側面が前
記凹部の側面と分離している強磁性薄膜を形成する第３
の工程とを含むことを特徴とする。これによって、本発
明のマスター情報担体を容易に製造できる。
法は、非磁性材料からなり一主面に複数の凹部を備える
基体と、前記凹部に形成された強磁性薄膜とを備えるマ
スター情報担体の製造方法であって、前記基体の前記凹
部に対応する部分に開口部を有するレジスト膜であって
前記開口部の幅が表面側に向かって狭くなるレジスト膜
を、非磁性材料からなる基板上に形成する第１の工程
と、前記基板をエッチングすることによって、一主面に
前記複数の凹部を備える前記基体を形成する第２の工程
と、前記基体上に強磁性薄膜を形成したのち前記レジス
ト膜を除去することによって、前記凹部内に、側面が前
記凹部の側面と分離している強磁性薄膜を形成する第３
の工程とを含むことを特徴とする。これによって、本発
明のマスター情報担体を容易に製造できる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
て、図面を参照しながら説明する。
【００１９】（実施形態１）実施形態１では、本発明の
マスター情報担体の一例について説明する。
マスター情報担体の一例について説明する。
【００２０】実施形態１のマスター情報担体１０は、非
磁性材料からなり一主面に複数の凹部を備える基体と、
基体の凹部に形成された強磁性薄膜とを備える。
磁性材料からなり一主面に複数の凹部を備える基体と、
基体の凹部に形成された強磁性薄膜とを備える。
【００２１】マスター情報担体１０の平面図を、図１に
模式的に示す。図１を参照して、マスター情報担体１０
の一主面には、信号領域１０ａが形成されている。信号
領域１０ａは、略放射状に形成されている。
模式的に示す。図１を参照して、マスター情報担体１０
の一主面には、信号領域１０ａが形成されている。信号
領域１０ａは、略放射状に形成されている。
【００２２】図１の点線で囲んだ部分Ａの拡大図を、図
２に模式的に示す。図２に示すように、信号領域１０ａ
には、磁気記録媒体に記録されるディジタル情報信号
（たとえば、プリフォーマット記録）に対応する位置
に、強磁性薄膜によって形成されたマスター情報パター
ンが形成されている。図２において、ハッチングを施し
た部分が強磁性薄膜によって構成された部分である。
２に模式的に示す。図２に示すように、信号領域１０ａ
には、磁気記録媒体に記録されるディジタル情報信号
（たとえば、プリフォーマット記録）に対応する位置
に、強磁性薄膜によって形成されたマスター情報パター
ンが形成されている。図２において、ハッチングを施し
た部分が強磁性薄膜によって構成された部分である。
【００２３】図２には、マスター情報担体１０の径方向
（すなわちトラック幅方向）に１０トラック分のマスタ
ー情報パターンを示している。なお、参考のため、マス
ター情報パターンが磁気記録媒体に転写記録された後、
磁気記録媒体上でデータ領域となるトラック部分を破線
によって示している。
（すなわちトラック幅方向）に１０トラック分のマスタ
ー情報パターンを示している。なお、参考のため、マス
ター情報パターンが磁気記録媒体に転写記録された後、
磁気記録媒体上でデータ領域となるトラック部分を破線
によって示している。
【００２４】マスター情報担体１０の一主面には、磁気
記録媒体に記録されるディジタル情報信号に対応して、
マスター情報担体１０の周方向において一定角度毎に、
かつ径方向には全記録トラック分、図２のようなマスタ
ー情報パターンが形成されている。
記録媒体に記録されるディジタル情報信号に対応して、
マスター情報担体１０の周方向において一定角度毎に、
かつ径方向には全記録トラック分、図２のようなマスタ
ー情報パターンが形成されている。
【００２５】マスター情報パターンは、例えば図２に示
されるように、クロック信号、トラッキング用サーボ信
号、アドレス情報信号等の各々の領域をトラック長さ方
向に順次配列したものである。なお、図１および図２は
一例であり、磁気記録媒体に記録されるディジタル情報
信号に応じてマスター情報パターンの構成や配置等は変
化する。
されるように、クロック信号、トラッキング用サーボ信
号、アドレス情報信号等の各々の領域をトラック長さ方
向に順次配列したものである。なお、図１および図２は
一例であり、磁気記録媒体に記録されるディジタル情報
信号に応じてマスター情報パターンの構成や配置等は変
化する。
【００２６】マスター情報担体１０について、ビット長
さ方向（トラック長さ方向）の一部断面図の一例を図３
に示す。
さ方向（トラック長さ方向）の一部断面図の一例を図３
に示す。
【００２７】図３を参照して、マスター情報担体１０
は、非磁性材料からなり一主面に複数の凹部１１を備え
る基体１０ｂと、基体１０ｂの凹部１１に形成された強
磁性薄膜１０ｃとを備える。
は、非磁性材料からなり一主面に複数の凹部１１を備え
る基体１０ｂと、基体１０ｂの凹部１１に形成された強
磁性薄膜１０ｃとを備える。
【００２８】基体１０ｂには、たとえば、ガラス基板、
プラスチック基板、Ｓｉ基板などを用いることができ
る。
プラスチック基板、Ｓｉ基板などを用いることができ
る。
【００２９】強磁性薄膜１０ｃは、強磁性材料からな
り、磁気記録媒体に信号を転写記録できるものであれば
よい。強磁性薄膜１０ｃには、たとえば、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｆｅ−Ｃｏ合金などを用いることができる。上述したよ
うに、強磁性薄膜１０ｃは、磁気記録媒体に記録される
ディジタル情報信号（たとえば、プリフォーマット記
録）に対応する位置に形成されている。
り、磁気記録媒体に信号を転写記録できるものであれば
よい。強磁性薄膜１０ｃには、たとえば、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｆｅ−Ｃｏ合金などを用いることができる。上述したよ
うに、強磁性薄膜１０ｃは、磁気記録媒体に記録される
ディジタル情報信号（たとえば、プリフォーマット記
録）に対応する位置に形成されている。
【００３０】凹部１１部分の拡大図を図４に示す。図４
を参照して、凹部１１の側面１２と、強磁性薄膜１０ｃ
の側面１３とは分離しており、側面１２と側面１３との
間には空隙が存在する。基体１０ｂの表面における側面
１２と側面１３との間隔Ｌ１は、凹部１１の開口部表面
の幅Ｌ２の５％以上２０％以下であることが好ましい。
間隔Ｌ１を幅Ｌ２の５％以上とすることによって、磁気
記録媒体に密着させてディジタル情報信号の転写記録を
行う際に、マスター情報担体１０に発生する応力を十分
に緩和することができるため、耐久性が特に高く、多数
の磁気記録媒体にディジタル情報信号を記録することが
できるマスター情報担体が得られる。また、間隔Ｌ１を
広くした場合には、凹部１１間の距離を短くする必要が
あるが、間隔Ｌ１を幅Ｌ２の２０％以下とすることによ
って、製造が容易なマスター情報担体が得られる。
を参照して、凹部１１の側面１２と、強磁性薄膜１０ｃ
の側面１３とは分離しており、側面１２と側面１３との
間には空隙が存在する。基体１０ｂの表面における側面
１２と側面１３との間隔Ｌ１は、凹部１１の開口部表面
の幅Ｌ２の５％以上２０％以下であることが好ましい。
間隔Ｌ１を幅Ｌ２の５％以上とすることによって、磁気
記録媒体に密着させてディジタル情報信号の転写記録を
行う際に、マスター情報担体１０に発生する応力を十分
に緩和することができるため、耐久性が特に高く、多数
の磁気記録媒体にディジタル情報信号を記録することが
できるマスター情報担体が得られる。また、間隔Ｌ１を
広くした場合には、凹部１１間の距離を短くする必要が
あるが、間隔Ｌ１を幅Ｌ２の２０％以下とすることによ
って、製造が容易なマスター情報担体が得られる。
【００３１】また、上記マスター情報担体１０では、凹
部１１の側面１２と強磁性薄膜１０ｃの側面１３との間
の空隙を潤滑剤で充填してもよい。潤滑剤としては、た
とえば、メディア用に用いられる潤滑剤を用いることが
できる。具体的には、商品名ＦＯＭＢＬＩＮ、Ｚｄｏｌ
（ｐ−フルオロポリエーテル）などを用いることができ
る。凹部１１の側面１２と強磁性薄膜１０ｃの側面１３
との間の空隙を潤滑剤で充填することによって、マスタ
ー情報担体１０を磁気記録媒体に密着させたときに、磁
気記録媒体に傷がつくことを防止できる。
部１１の側面１２と強磁性薄膜１０ｃの側面１３との間
の空隙を潤滑剤で充填してもよい。潤滑剤としては、た
とえば、メディア用に用いられる潤滑剤を用いることが
できる。具体的には、商品名ＦＯＭＢＬＩＮ、Ｚｄｏｌ
（ｐ−フルオロポリエーテル）などを用いることができ
る。凹部１１の側面１２と強磁性薄膜１０ｃの側面１３
との間の空隙を潤滑剤で充填することによって、マスタ
ー情報担体１０を磁気記録媒体に密着させたときに、磁
気記録媒体に傷がつくことを防止できる。
【００３２】次に、マスター情報担体１０の使用方法の
一例について、図５を参照しながら説明する。
一例について、図５を参照しながら説明する。
【００３３】図５（ａ）に示すように、マスター情報担
体１０を磁気記録媒体５１に密着させた状態で、マスタ
ー情報担体１０の強磁性薄膜１０ｃを磁化させることに
よって、磁気記録媒体５１にディジタル情報信号（たと
えば、プリフォーマット記録）を記録することができ
る。また、強磁性薄膜１０ｃをあらかじめ磁化させてお
いた後、マスター情報担体１０を磁気記録媒体５１に密
着させることによっても磁気記録媒体５１にディジタル
情報信号を記録することができる。
体１０を磁気記録媒体５１に密着させた状態で、マスタ
ー情報担体１０の強磁性薄膜１０ｃを磁化させることに
よって、磁気記録媒体５１にディジタル情報信号（たと
えば、プリフォーマット記録）を記録することができ
る。また、強磁性薄膜１０ｃをあらかじめ磁化させてお
いた後、マスター情報担体１０を磁気記録媒体５１に密
着させることによっても磁気記録媒体５１にディジタル
情報信号を記録することができる。
【００３４】磁気記録媒体５１は、たとえば、ハードデ
ィスク等に用いられる磁気ディスクなどである。
ィスク等に用いられる磁気ディスクなどである。
【００３５】磁気記録層５１ａを有する磁気ディスクに
プリフォーマット記録を行ったときの状態を、図５
（ｂ）に模式的に示す。図５（ｂ）に示すように、強磁
性薄膜１０ｃに対応するように、磁気信号が磁気ディス
クの磁気記録層５１ａに記録される。
プリフォーマット記録を行ったときの状態を、図５
（ｂ）に模式的に示す。図５（ｂ）に示すように、強磁
性薄膜１０ｃに対応するように、磁気信号が磁気ディス
クの磁気記録層５１ａに記録される。
【００３６】このように、本発明のマスター情報担体１
０を用いて磁気記録媒体にディジタル情報信号を記録す
る場合には、マスター情報担体１０を磁気記録媒体に密
着させる必要があり、この際に、マスター情報担体１０
に局所的な応力が加わることになる。しかし、本発明の
マスター情報担体１０では、凹部１１の側面１２と強磁
性薄膜１０ｃの側面１３とが分離しているため、凹部１
１の側面１２と強磁性薄膜１０ｃの側面１３との間に応
力が加わることがない。したがって、１枚のマスター情
報担体１０を用いて繰り返し多数の磁気記録媒体にディ
ジタル情報信号の記録を行っても、強磁性薄膜１０ｃが
脱落しにくく、信頼性よく多数の磁気記録媒体にディジ
タル情報信号を記録することができる。
０を用いて磁気記録媒体にディジタル情報信号を記録す
る場合には、マスター情報担体１０を磁気記録媒体に密
着させる必要があり、この際に、マスター情報担体１０
に局所的な応力が加わることになる。しかし、本発明の
マスター情報担体１０では、凹部１１の側面１２と強磁
性薄膜１０ｃの側面１３とが分離しているため、凹部１
１の側面１２と強磁性薄膜１０ｃの側面１３との間に応
力が加わることがない。したがって、１枚のマスター情
報担体１０を用いて繰り返し多数の磁気記録媒体にディ
ジタル情報信号の記録を行っても、強磁性薄膜１０ｃが
脱落しにくく、信頼性よく多数の磁気記録媒体にディジ
タル情報信号を記録することができる。
【００３７】実施形態１のマスター情報担体１０を用い
て磁気記録媒体にプリフォーマット記録を行ったとこ
ろ、１０万ショット以上の記録回数を経過してもプリフ
ォーマット記録の信号の欠落は認められなかった。すな
わち、マスター情報担体１０を用いることによって、信
頼性よく多数の磁気記録媒体にプリフォーマット記録を
行うことができることが確認された。
て磁気記録媒体にプリフォーマット記録を行ったとこ
ろ、１０万ショット以上の記録回数を経過してもプリフ
ォーマット記録の信号の欠落は認められなかった。すな
わち、マスター情報担体１０を用いることによって、信
頼性よく多数の磁気記録媒体にプリフォーマット記録を
行うことができることが確認された。
【００３８】以上説明したように、実施形態１のマスタ
ー情報担体によれば、多数の磁気記録媒体にディジタル
情報信号を転写記録することができる。
ー情報担体によれば、多数の磁気記録媒体にディジタル
情報信号を転写記録することができる。
【００３９】（実施形態２）実施形態２では、実施形態
１で説明したマスター情報担体１０を製造する方法の一
例について説明する。なお、実施形態１で説明した部分
については、重複する説明を省略する。
１で説明したマスター情報担体１０を製造する方法の一
例について説明する。なお、実施形態１で説明した部分
については、重複する説明を省略する。
【００４０】図６を参照して、実施形態２の製造方法で
は、まず、図６（ａ）に示すように、非磁性材料からな
る基板６０上に、レジスト膜６１を形成する。レジスト
膜６１には、たとえばフォトレジストを用いることがで
きる。レジスト膜６１は、図２に示した基体１０ｂの凹
部１１に対応する位置に開口部を有するように形成され
る。
は、まず、図６（ａ）に示すように、非磁性材料からな
る基板６０上に、レジスト膜６１を形成する。レジスト
膜６１には、たとえばフォトレジストを用いることがで
きる。レジスト膜６１は、図２に示した基体１０ｂの凹
部１１に対応する位置に開口部を有するように形成され
る。
【００４１】その後、図６（ｂ）に示すように、レジス
ト膜６１が形成されていない部分（開口部）の基板６０
をエッチングすることによって、凹部１１を有する基体
１０ｂを形成する。エッチングには、イオンエッチング
等のドライエッチングやウエットエッチングを用いるこ
とができる。特に、反応性イオンエッチングを用いた場
合には、エッチングの異方性制御が容易でエッチング速
度が速いため、高速で精度が高いエッチングを行うこと
ができる。たとえば、基体１０ｂにＳｉ（シリコン）基
板を用いる場合には、反応性ガスとしてＣＦ4などを用
いてエッチングを行うことができる。
ト膜６１が形成されていない部分（開口部）の基板６０
をエッチングすることによって、凹部１１を有する基体
１０ｂを形成する。エッチングには、イオンエッチング
等のドライエッチングやウエットエッチングを用いるこ
とができる。特に、反応性イオンエッチングを用いた場
合には、エッチングの異方性制御が容易でエッチング速
度が速いため、高速で精度が高いエッチングを行うこと
ができる。たとえば、基体１０ｂにＳｉ（シリコン）基
板を用いる場合には、反応性ガスとしてＣＦ4などを用
いてエッチングを行うことができる。
【００４２】その後、図６（ｃ）に示すように、レジス
ト膜６１を形成した基体１０ｂ上に強磁性材料からなる
強磁性薄膜１０ｃを形成する。強磁性薄膜１０ｃは、蒸
着法、スパッタリング法またはメッキ法などによって形
成できる。
ト膜６１を形成した基体１０ｂ上に強磁性材料からなる
強磁性薄膜１０ｃを形成する。強磁性薄膜１０ｃは、蒸
着法、スパッタリング法またはメッキ法などによって形
成できる。
【００４３】その後、図６（ｄ）に示すように、レジス
ト膜６１をリムーバ等の薬液を用いて除去することによ
って、不要な強磁性薄膜１０ｃを除去する。なお、薬液
処理に際して、物理的な研磨処理を併用してもよい。
ト膜６１をリムーバ等の薬液を用いて除去することによ
って、不要な強磁性薄膜１０ｃを除去する。なお、薬液
処理に際して、物理的な研磨処理を併用してもよい。
【００４４】その後、図６（ｅ）に示すように、強磁性
薄膜１０ｃのうち、凹部１１の側面に接触している部分
を除去することによって、マスター情報担体１０が製造
される。
薄膜１０ｃのうち、凹部１１の側面に接触している部分
を除去することによって、マスター情報担体１０が製造
される。
【００４５】図６（ｅ）の工程において、強磁性薄膜１
０ｃのうち、凹部１１の側面に接触している部分を除去
する方法には、以下に述べるような様々な方法を用いる
ことができる。
０ｃのうち、凹部１１の側面に接触している部分を除去
する方法には、以下に述べるような様々な方法を用いる
ことができる。
【００４６】たとえば、第１の方法として、図６（ｄ）
の工程を経た基体１０ｂを、強磁性薄膜１０ｃを溶解さ
せるような溶液で処理してもよい。処理に用いる溶液
は、強磁性薄膜１０ｃの材料に応じて選べぶことができ
る。たとえば、強磁性薄膜１０ｃにＣｏを含む強磁性材
料を用いる場合には、たとえば希硝酸のような弱酸性溶
液に浸漬したり、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中で煮沸
すればよい。弱酸性溶液としては、希硝酸の他に、たと
えば、フッ酸と硝酸の混合液、乳酸と塩酸と硝酸の混合
液、または塩酸などを用いることができる。上記処理に
よって、マスター情報担体１０を容易に製造できる。
の工程を経た基体１０ｂを、強磁性薄膜１０ｃを溶解さ
せるような溶液で処理してもよい。処理に用いる溶液
は、強磁性薄膜１０ｃの材料に応じて選べぶことができ
る。たとえば、強磁性薄膜１０ｃにＣｏを含む強磁性材
料を用いる場合には、たとえば希硝酸のような弱酸性溶
液に浸漬したり、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中で煮沸
すればよい。弱酸性溶液としては、希硝酸の他に、たと
えば、フッ酸と硝酸の混合液、乳酸と塩酸と硝酸の混合
液、または塩酸などを用いることができる。上記処理に
よって、マスター情報担体１０を容易に製造できる。
【００４７】また、第２の方法として、図６（ｄ）の工
程を経た基体１０ｂを超音波で処理してもよい。たとえ
ば、本多電子株式会社製のＷ３５７Ｐシリーズあるいは
Ｗ３５７ＬＳシリーズ（日本特許２５２１７３０号）を
用いて基体１０ｂに流水式高周波超音波をあてることに
より、凹部１１の側面に接触している強磁性薄膜１０ｃ
を除去することができる。このとき使用する周波数は、
１ＭＨｚ以上であることが好ましい。周波数が１ＭＨｚ
以上の超音波を用いることによって、凹部１１の側面に
接触している強磁性薄膜１０ｃを容易に除去することが
できる。上記超音波処理によって、マスター情報担体１
０を容易に製造できる。
程を経た基体１０ｂを超音波で処理してもよい。たとえ
ば、本多電子株式会社製のＷ３５７Ｐシリーズあるいは
Ｗ３５７ＬＳシリーズ（日本特許２５２１７３０号）を
用いて基体１０ｂに流水式高周波超音波をあてることに
より、凹部１１の側面に接触している強磁性薄膜１０ｃ
を除去することができる。このとき使用する周波数は、
１ＭＨｚ以上であることが好ましい。周波数が１ＭＨｚ
以上の超音波を用いることによって、凹部１１の側面に
接触している強磁性薄膜１０ｃを容易に除去することが
できる。上記超音波処理によって、マスター情報担体１
０を容易に製造できる。
【００４８】また、第３の方法として、図６（ｄ）の工
程を経た基体１０ｂに固体粒子を衝突させてもよい。固
体粒子には様々なものを用いることができる。なお、常
温で気化する固体粒子を用いた場合には、衝突させた固
体粒子を除去、洗浄等する工程が不要であるため、製造
が容易になる。具体的には、たとえば、図６（ｄ）の工
程を経た基体１０ｂにドライアイス粒子を衝突させれば
よい。ドライアイス粒子は、たとえば、Ｅｃｏ−Ｓｎｏ
ｗ（ＡＴＳ Ｅｃｏ−Ｓｎｏｗ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製、
ＵＳＰ５８０６５４４）を用いて基体１０ｂに衝突させ
ることができる。この場合、等間隔に開けられた噴射口
から噴射された炭酸ガスが、断熱膨張によって冷却さ
れ、固体粒子（ドライアイス）となって高速で基体１０
ｂおよび強磁性薄膜１０ｃの表面に衝突する。このとき
の動力学作用によって、凹部１１の側面１２に接触して
いる強磁性薄膜１０ｃを除去することができる。上記処
理によって、マスター情報担体１０を容易に製造でき
る。
程を経た基体１０ｂに固体粒子を衝突させてもよい。固
体粒子には様々なものを用いることができる。なお、常
温で気化する固体粒子を用いた場合には、衝突させた固
体粒子を除去、洗浄等する工程が不要であるため、製造
が容易になる。具体的には、たとえば、図６（ｄ）の工
程を経た基体１０ｂにドライアイス粒子を衝突させれば
よい。ドライアイス粒子は、たとえば、Ｅｃｏ−Ｓｎｏ
ｗ（ＡＴＳ Ｅｃｏ−Ｓｎｏｗ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製、
ＵＳＰ５８０６５４４）を用いて基体１０ｂに衝突させ
ることができる。この場合、等間隔に開けられた噴射口
から噴射された炭酸ガスが、断熱膨張によって冷却さ
れ、固体粒子（ドライアイス）となって高速で基体１０
ｂおよび強磁性薄膜１０ｃの表面に衝突する。このとき
の動力学作用によって、凹部１１の側面１２に接触して
いる強磁性薄膜１０ｃを除去することができる。上記処
理によって、マスター情報担体１０を容易に製造でき
る。
【００４９】あるいは、図６（ｄ）の工程を経た基体１
０ｂに向けて、たとえば、ＡＲＩＥＳ（ＦＳＩ社製）を
用いて、等間隔に開けられた噴射口よりアルゴン／窒素
の混合ガスを噴射してもよい。この際、断熱膨張により
アルゴン／窒素の混合ガスは冷却されて固体粒子とな
り、高速で基体１０ｂおよび強磁性薄膜１０ｃの表面に
衝突する。このときの動力学作用によって、凹部１１の
側面１２に接触している強磁性薄膜１０ｃを除去するこ
とができる。上記処理によって、マスター情報担体１０
を容易に製造できる。
０ｂに向けて、たとえば、ＡＲＩＥＳ（ＦＳＩ社製）を
用いて、等間隔に開けられた噴射口よりアルゴン／窒素
の混合ガスを噴射してもよい。この際、断熱膨張により
アルゴン／窒素の混合ガスは冷却されて固体粒子とな
り、高速で基体１０ｂおよび強磁性薄膜１０ｃの表面に
衝突する。このときの動力学作用によって、凹部１１の
側面１２に接触している強磁性薄膜１０ｃを除去するこ
とができる。上記処理によって、マスター情報担体１０
を容易に製造できる。
【００５０】以上説明したように、実施形態２で説明し
たマスター情報担体の製造方法によれば、実施形態１で
説明したマスター情報担体１０を容易に製造できる。
たマスター情報担体の製造方法によれば、実施形態１で
説明したマスター情報担体１０を容易に製造できる。
【００５１】なお、凹部１１の側面１２と強磁性薄膜１
０ｃの側面１３との間の空隙を潤滑剤で充填する場合に
は、たとえば、スピンコート法を用いることができる
（実施形態３において同様である）。
０ｃの側面１３との間の空隙を潤滑剤で充填する場合に
は、たとえば、スピンコート法を用いることができる
（実施形態３において同様である）。
【００５２】また、上記実施形態では、凹部１１に強磁
性薄膜１０ｃが形成された基体１０ｂ（図６（ｄ）の状
態）を製造する方法として、リフトオフを用いる場合を
示したが、他の方法を用いてもよい。たとえば、凹部１
１を形成した基体１０ｂ上に強磁性材料からなる薄膜を
形成した後、凹部１１上に位置する強磁性薄膜上にレジ
スト膜を形成し、凹部１１上を除く部分の強磁性薄膜を
エッチングしてもよい。
性薄膜１０ｃが形成された基体１０ｂ（図６（ｄ）の状
態）を製造する方法として、リフトオフを用いる場合を
示したが、他の方法を用いてもよい。たとえば、凹部１
１を形成した基体１０ｂ上に強磁性材料からなる薄膜を
形成した後、凹部１１上に位置する強磁性薄膜上にレジ
スト膜を形成し、凹部１１上を除く部分の強磁性薄膜を
エッチングしてもよい。
【００５３】（実施形態３）実施形態３では、実施形態
１で説明したマスター情報担体１０を製造する他の一例
について説明する。なお、実施形態１で説明した部分に
ついては、重複する説明を省略する。
１で説明したマスター情報担体１０を製造する他の一例
について説明する。なお、実施形態１で説明した部分に
ついては、重複する説明を省略する。
【００５４】図７を参照して、実施形態３の製造方法で
は、まず、図７（ａ）に示すように、非磁性材料からな
る基板７０上に、レジスト膜７１を形成する。レジスト
膜７１には、たとえばフォトレジストを用いることがで
きる。レジスト膜７１は、図２に示した基体１０ｂの凹
部１１に対応する位置に開口部７２を有するように形成
される。なお、このとき、形成されるレジスト膜７１
は、その開口部７２の幅が表面側に向かって狭くなるよ
うに形成される。すなわち、レジスト膜７１の開口部７
２は、その垂直断面が、底面が広い台形状になるように
形成される。このようなレジスト膜７１は、以下のよう
に形成できる。まず、基板７０上にレジスト膜を全面に
塗布し、プリベークを行った後、フォトマスクを用いて
露光機でパターン露光を行う。次に、ベーキングを行
い、露光機を用いて全面露光を行う。次に、レジスト膜
を現像することによって、レジスト膜７１を形成でき
る。レジスト膜７１には、たとえば、ＡＺ５２１４Ｅ
（ＳＨＩＰＬＡＹ社製）を用いることができる。
は、まず、図７（ａ）に示すように、非磁性材料からな
る基板７０上に、レジスト膜７１を形成する。レジスト
膜７１には、たとえばフォトレジストを用いることがで
きる。レジスト膜７１は、図２に示した基体１０ｂの凹
部１１に対応する位置に開口部７２を有するように形成
される。なお、このとき、形成されるレジスト膜７１
は、その開口部７２の幅が表面側に向かって狭くなるよ
うに形成される。すなわち、レジスト膜７１の開口部７
２は、その垂直断面が、底面が広い台形状になるように
形成される。このようなレジスト膜７１は、以下のよう
に形成できる。まず、基板７０上にレジスト膜を全面に
塗布し、プリベークを行った後、フォトマスクを用いて
露光機でパターン露光を行う。次に、ベーキングを行
い、露光機を用いて全面露光を行う。次に、レジスト膜
を現像することによって、レジスト膜７１を形成でき
る。レジスト膜７１には、たとえば、ＡＺ５２１４Ｅ
（ＳＨＩＰＬＡＹ社製）を用いることができる。
【００５５】その後、図７（ｂ）に示すように、レジス
ト膜７１が形成されていない部分の基板７０をエッチン
グすることによって、凹部１１を備える基体１０ｂを形
成する。このとき、レジスト膜７１が形成されていない
部分の基板７０をエッチングすることによって、開口部
表面の幅Ｌ２がレジスト膜７１の開口部７２表面の幅Ｌ
３よりも狭い凹部１１を形成できる。ここで、エッチン
グには、イオンエッチング等のドライエッチングやウエ
ットエッチングを用いることができる。特に、反応性イ
オンエッチングを用いた場合には、エッチングの異方性
制御が容易でエッチング速度が速いため、高速で精度が
高いエッチングを行うことができる。たとえば、基体１
０ｂにＳｉ（シリコン）基板を用いる場合には、反応性
ガスとしてＣＦ４などを用いてエッチングを行うことが
できる。
ト膜７１が形成されていない部分の基板７０をエッチン
グすることによって、凹部１１を備える基体１０ｂを形
成する。このとき、レジスト膜７１が形成されていない
部分の基板７０をエッチングすることによって、開口部
表面の幅Ｌ２がレジスト膜７１の開口部７２表面の幅Ｌ
３よりも狭い凹部１１を形成できる。ここで、エッチン
グには、イオンエッチング等のドライエッチングやウエ
ットエッチングを用いることができる。特に、反応性イ
オンエッチングを用いた場合には、エッチングの異方性
制御が容易でエッチング速度が速いため、高速で精度が
高いエッチングを行うことができる。たとえば、基体１
０ｂにＳｉ（シリコン）基板を用いる場合には、反応性
ガスとしてＣＦ４などを用いてエッチングを行うことが
できる。
【００５６】その後、図７（ｃ）に示すように、レジス
ト膜７１を形成した基体１０ｂ上に強磁性材料からなる
強磁性薄膜１０ｃを形成する。強磁性薄膜１０ｃは、蒸
着法またはスパッタリング法などの気相堆積法によって
形成できる。このとき、レジスト膜７１は、その開口部
表面の幅Ｌ３が凹部１１の開口部表面の幅Ｌ２よりも狭
くなるように形成されているため、強磁性薄膜１０ｃ
は、凹部１１の全体に形成されず、強磁性薄膜１０ｃの
側面は、凹部１１の側面から分離することになる。すな
わち、強磁性薄膜１０ｃの側面と凹部１１の側面との間
には空隙が形成される。
ト膜７１を形成した基体１０ｂ上に強磁性材料からなる
強磁性薄膜１０ｃを形成する。強磁性薄膜１０ｃは、蒸
着法またはスパッタリング法などの気相堆積法によって
形成できる。このとき、レジスト膜７１は、その開口部
表面の幅Ｌ３が凹部１１の開口部表面の幅Ｌ２よりも狭
くなるように形成されているため、強磁性薄膜１０ｃ
は、凹部１１の全体に形成されず、強磁性薄膜１０ｃの
側面は、凹部１１の側面から分離することになる。すな
わち、強磁性薄膜１０ｃの側面と凹部１１の側面との間
には空隙が形成される。
【００５７】その後、図６（ｄ）に示すように、レジス
ト膜７１をリムーバ等の薬液を用いて除去することによ
って、マスター情報担体１０を製造できる。なお、薬液
処理に際して、物理的な研磨処理を併用してもよい。
ト膜７１をリムーバ等の薬液を用いて除去することによ
って、マスター情報担体１０を製造できる。なお、薬液
処理に際して、物理的な研磨処理を併用してもよい。
【００５８】以上説明したように、実施形態３で説明し
たマスター情報担体の製造方法によれば、実施形態１で
説明したマスター情報担体１０を容易に製造できる。
たマスター情報担体の製造方法によれば、実施形態１で
説明したマスター情報担体１０を容易に製造できる。
【００５９】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、
本発明の技術的思想に基づいて他の実施形態に適用する
ことができる。
げて説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、
本発明の技術的思想に基づいて他の実施形態に適用する
ことができる。
【００６０】例えば、上記実施形態では、主にハードデ
ィスクドライブ等に搭載される磁気記録媒体にディジタ
ル情報信号を転写記録するためのマスター情報担体につ
いて説明したが、本発明のマスター情報担体は、フレキ
シブル磁気ディスク、磁気カードおよび磁気テープ等の
磁気記録媒体に対して応用することもできる。
ィスクドライブ等に搭載される磁気記録媒体にディジタ
ル情報信号を転写記録するためのマスター情報担体につ
いて説明したが、本発明のマスター情報担体は、フレキ
シブル磁気ディスク、磁気カードおよび磁気テープ等の
磁気記録媒体に対して応用することもできる。
【００６１】また、上記実施形態では、磁気記録媒体に
記録される情報信号が、トラッキング用サーボ信号やア
ドレス情報信号、再生クロック信号等からなるプリフォ
ーマット信号である場合を中心に説明したが、他の情報
信号の記録にも本発明のマスター情報担体を用いること
ができる。例えば、本発明のマスター情報担体を用いて
様々なデータ信号やオーディオ、ビデオ信号の記録を行
うことも原理的に可能である。この場合には、本発明の
マスター情報担体とこれを用いた磁気記録媒体への記録
技術によって、ソフトディスク媒体の大量複写生産を行
うことができ、ソフトディスク媒体を安価に提供するこ
とが可能である
記録される情報信号が、トラッキング用サーボ信号やア
ドレス情報信号、再生クロック信号等からなるプリフォ
ーマット信号である場合を中心に説明したが、他の情報
信号の記録にも本発明のマスター情報担体を用いること
ができる。例えば、本発明のマスター情報担体を用いて
様々なデータ信号やオーディオ、ビデオ信号の記録を行
うことも原理的に可能である。この場合には、本発明の
マスター情報担体とこれを用いた磁気記録媒体への記録
技術によって、ソフトディスク媒体の大量複写生産を行
うことができ、ソフトディスク媒体を安価に提供するこ
とが可能である
【００６２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のマスター
情報担体によれば、耐久性が高く、多数の磁気記録媒体
にディジタル情報信号を記録することができるマスター
情報担体が得られる。
情報担体によれば、耐久性が高く、多数の磁気記録媒体
にディジタル情報信号を記録することができるマスター
情報担体が得られる。
【００６３】また、本発明のマスター情報担体の製造方
法によれば、本発明のマスター情報担体を容易に製造で
きる。
法によれば、本発明のマスター情報担体を容易に製造で
きる。
【図１】 本発明のマスター情報担体について、一例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図２】 本発明のマスター情報担体について、マスタ
ー情報パターンの一例を示す模式図である。
ー情報パターンの一例を示す模式図である。
【図３】 本発明のマスター情報担体について、一例を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図４】 図３の一部拡大図である。
【図５】 本発明のマスター情報担体について、使用の
一例を示す工程図である。
一例を示す工程図である。
【図６】 本発明のマスター情報担体の製造方法につい
て、一例を示す工程図ある。
て、一例を示す工程図ある。
【図７】 本発明のマスター情報担体の製造方法につい
て、他の一例を示す工程図である。
て、他の一例を示す工程図である。
１０ マスター情報担体 １０ａ 信号領域 １０ｂ 基体 １０ｃ 強磁性薄膜 １１ 凹部 １２ 凹部の側面 １３ 強磁性薄膜の側面 ６０、７０ 基板 ６１、７１ レジスト膜 ７２ 開口部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−40544（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−273070（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/62 - 5/86
Claims (10)
- 【請求項１】 磁気記録媒体に接触させることによって
前記磁気記録媒体にディジタル情報信号を記録するため
のマスター情報担体であって、 非磁性材料からなり一主面に複数の凹部を備える基体
と、前記凹部に形成された強磁性薄膜とを備え、 前記強磁性薄膜は、前記磁気記録媒体に記録される前記
ディジタル情報信号に対応する位置に形成され、 前記凹部の側面と前記強磁性薄膜の側面との間に空隙が
存在することを特徴とするマスター情報担体。 - 【請求項２】 磁気記録媒体に接触させることによって
前記磁気記録媒体にディジタル情報信号を記録するため
のマスター情報担体であって、 非磁性材料からなり一主面に複数の凹部を備える基体
と、前記凹部に形成された強磁性薄膜とを備え、 前記強磁性薄膜は、前記磁気記録媒体に記録される前記
ディジタル情報信号に対応する位置に形成され、 前記基体表面における前記凹部の側面と前記強磁性薄膜
の側面との距離が、前記凹部の開口部幅の５％以上２０
％以下であることを特徴とするマスター情報担体。 - 【請求項３】 前記凹部の側面と前記強磁性薄膜の側面
との間が、潤滑剤によって充填されている請求項１また
は２に記載のマスター情報担体。 - 【請求項４】 非磁性材料からなり一主面に複数の凹部
を備える基体と、前記凹部に形成された強磁性薄膜とを
備えるマスター情報担体の製造方法であって、 前記基体の前記凹部に前記強磁性薄膜を形成する第１の
工程と、 前記強磁性薄膜のうち前記凹部の側面に接触する部分を
除去することによって、前記凹部の側面と前記強磁性薄
膜の側面とを分離させる第２の工程とを含むことを特徴
とするマスター情報担体の製造方法。 - 【請求項５】 前記第２の工程において前記強磁性薄膜
のうち前記凹部の側面に接触する部分を除去する工程
が、前記強磁性薄膜を溶解させる溶液を用いて前記第１
の工程を経た前記基体を処理することによって行われる
請求項４に記載の マスター情報担体の製造方法。 - 【請求項６】 前記強磁性薄膜がＣｏを含み、前記溶液
が弱酸性溶液またはＮ−メチル−２−ピロリドンである
請求項５に記載のマスター情報担体の製造方法。 - 【請求項７】 前記第２の工程において前記強磁性薄膜
のうち前記凹部の側面に接触する部分を除去する工程
が、前記第１の工程を経た前記基体に超音波をあてるこ
とによって行われる請求項４に記載のマスター情報担体
の製造方法。 - 【請求項８】 前記超音波の周波数が１ＭＨｚ以上であ
る請求項７に記載のマスター情報担体の製造方法。 - 【請求項９】 前記第２の工程において前記強磁性薄膜
のうち前記凹部の側面に接触する部分を除去する工程
が、前記第１の工程を経た前記基体に固体粒子を衝突さ
せることによって行われる請求項４に記載のマスター情
報担体の製造方法。 - 【請求項１０】 非磁性材料からなり一主面に複数の凹
部を備える基体と、前記凹部に形成された強磁性薄膜と
を備えるマスター情報担体の製造方法であって、 前記基体の前記凹部に対応する部分に開口部を有するレ
ジスト膜であって前記開口部の幅が表面側に向かって狭
くなるレジスト膜を、非磁性材料からなる基板上に形成
する第１の工程と、 前記基板をエッチングすることによって、一主面に前記
複数の凹部を備える前記基体を形成する第２の工程と、 前記基体上に強磁性薄膜を形成したのち前記レジスト膜
を除去することによって、前記凹部内に、側面が前記凹
部の側面と分離している強磁性薄膜を形成する第３の工
程とを含むことを特徴とするマスター情報担体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14468899A JP3333756B2 (ja) | 1999-05-25 | 1999-05-25 | マスター情報担体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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