JP2004241023A - 磁気転写用マスター担体 - Google Patents
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Abstract
【課題】磁気転写用マスター担体を用い、300nm以下の最短ビット長からなる転写パターンをスレーブ媒体に良好に転写する。
【解決手段】磁気転写用マスター担体10を、該担体10の表面の信号領域11に形成されている凹凸パターンが、該信号領域11において凸部の上面11aの総面積が凹部における凸部の上面11aの延長面11bの総面積よりも小さくなるように形成する。
【選択図】 図2
【解決手段】磁気転写用マスター担体10を、該担体10の表面の信号領域11に形成されている凹凸パターンが、該信号領域11において凸部の上面11aの総面積が凹部における凸部の上面11aの延長面11bの総面積よりも小さくなるように形成する。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体等のスレーブ媒体に情報を転写するための凹凸パターンを表面に備えた磁気転写用マスター担体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、微細凹凸パターンにより転写情報を担持したマスター担体と転写を受ける磁気記録媒体によるスレーブ媒体とを密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報(例えばサーボ信号)に対応する磁化パターンをスレーブ媒体の記録面に転写記録する磁気転写が知られている(例えば、特許文献1〜3参照)。
【0003】
磁気転写は、転写すべき情報を担持するマスター担体を磁気ディスク媒体等の磁気記録媒体(スレーブ媒体)と密着させた状態で、転写用磁界を印加することにより、マスター担体の有する情報パターンに対応する磁気パターンをスレーブ媒体に磁気的に転写するもので、マスター担体とスレーブ媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確なプリフォーマット記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。
【0004】
【特許文献1】
特開平10−40544号公報
【0005】
【特許文献2】
特開2001−14667号公報
【0006】
【特許文献3】
特開2002−74655号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上述の従来の磁気転写方法は、最短ビット長が500nm〜1μm程度で技術が積み重ねられてきた。しかしながら、近年の磁気記録媒体、特にハードディスク媒体の記録密度向上は著しく、現在100nmオーダー以下の最短ビット長を実現している。サーボ信号における最短ビット長は、通常データ領域の最短ビット長の2、3倍となるが、それでも300nm程度以下のビット長を含むパターンでの転写適性を議論する必要が生じてきた。
【0008】
本発明は上記事情に鑑み、300nm以下の最短ビット長からなる転写パターンを良好にスレーブ媒体に転写することができる磁気転写用マスター担体を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気転写用マスター担体は、転写すべき信号パターンに応じた凹凸パターンが形成された信号領域を表面に有する磁気転写用マスター担体であって、
前記凹凸パターンの最短ビット長が300nm以下であり、
前記凹凸パターンが、前記信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における前記凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されていることを特徴とするものである。
【0010】
前記基板の凹凸パターンの凹部の底面から凸部の上面までの高さの平均値が50nm以上であることが望ましく、この場合さらに、前記高さのばらつき3σ値が10nm以下であることが望ましい。
【0011】
ここで、凸部の上面高さは、凹部底面の平均線から凸部上面の平均線までの高さとして定義する。高さ測定は、マスター担体表面を原子間力顕微鏡(AFM)にて走査して行うことができ、ここでいう平均線とは、凸部、凹部各々で得られる走査プロファイルでの中心線平均線を意味する。隣り合った凹部と凸部の各々平均線の差分から当該凸部の上面高さが求まる。複数の凸部上面高さのデータから、高さ平均値ならびにばらつき3σ値が求まる。マスター担体全面、全凸部に対してデータを求めるのは現実的ではなく、実際には、例えば10μm角領域をマスター担体上で10ヶ所程度選定し、このAFM測定値から高さ平均値、高さばらつきを求めることになる。
【0012】
磁気転写用マスター担体としては、表面に凹凸パターンを有する磁性基板のみからなるもの、表面に凹凸パターンを有する基板と該基板の凹凸パターンの少なくとも凸部上面に形成された磁性層とからなるもの、平板基板と該基板上に凹凸パターン状に形成された磁性層とからなるものなど種々の形態がある。
【0013】
マスター担体が基板と該基板上にスパッタ法により形成された磁性層を備えてなるものである場合、前記高さのばらつきは、磁性層形成時における、スパッタパラメターのうち、スパッタ圧、スパッタレートおよびターゲット/基板間距離等の制御により調整することができる。スパッタ圧、スパッタレートは共に低いほどばらつきを抑制することができる傾向にあり、また、ターゲット/基板間距離は長くなるほどばらつきを抑制することができる傾向にある。
【0014】
なお、前記凸部上面が、前記信号領域以外の非信号領域の面よりも高くなるように形成されていることが望ましく、特に、前記信号領域以外の非信号領域の面からの高さが50nm以上、800nm以下であることが望ましい。
【0015】
【発明の効果】
表面に凹凸パターンを有する磁気転写用マスター担体としては、スレーブ媒体に対して図2(a)に模式的に矢印で示す磁化パターンを達成するための凹凸パターンとして、図2(b)および(c)の断面形状を有するものが考えられる。図2(b)は、凹凸パターンが、信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されているものであり、同図(c)は逆に凸部の上面の総面積が、凹部における凸部の上面の延長面の総面積よりも大きくなるように形成されたものである。本発明者の研究により、最短ビット長が300nm以下である場合、図2(b)に示すものが図2(c)のものと比較して格段に良好な転写結果を達成できることが明らかになった。
【0016】
すなわち、本発明の磁気転写用マスター担体は、図2(b)のように、凹凸パターンが、信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されているものであり、最短ビット長が300nm以下である微細なパターンについて良好な転写を行うことができる。また、凸部の上面の総面積が凹部における凸部の上面の延長面の総面積より小さく形成しているので、実際の転写時に、スレーブ媒体とマスター担体とを密着させるために印加する圧力の集中が効率的になされるので、図2(c)のパターンと比較して小さい密着圧力で所望の転写性能を得ることができる。密着圧力が小さいほど、例えば微小粉塵がマスター担体とスレーブ媒体間に介在した場合などにおいても、両者の表面に生じる傷の発生を抑制することができる。
【0017】
また、凹凸パターンの凹部の底面から前記凸部の上面までの高さの平均値を50nm以上とすれば、3000Oe(≒238kA/m)以上の高い保磁力を有する磁気記録層を備えた媒体に対しても十分な転写反転磁界を発生させることができるので、高い保磁力を有する磁気記録層を備えた媒体に対しても良好な転写を行うことができる。
【0018】
さらに、前記凸部の高さのばらつき3σ値を10nm以下とすれば、従来の磁気ヘッドによる磁気パターン形成時と同等以上に再生信号変動を抑制することができる。
【0019】
なお、凸部上面の、信号領域以外の非信号領域の面からの高さを50nm以上、800nm以下とすれば、異物の付着による信号脱落を防止するととともに、密着部の変形による転写異常を防止して良好な転写を行うことができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
【0021】
図1は、本発明の実施の形態に係る磁気転写用マスター10の平面図である。磁気転写用マスター担体10は中心孔15を有する円盤状の剛体から形成されている。マスター担体10の表面は、規則的に配置されている信号領域11とそれ以外の非信号領域12とから構成されており、信号領域11にはサーボ信号に応じた凹凸パターンが形成されている。
【0022】
このマスター担体10を用いて信号が転写される磁気記録媒体においては、点線で示している最内周16と最外周18とで囲まれるドーナツ状の領域に対応する領域が信号記録領域となり、該信号記録領域内において、マスター担体10の信号領域11に対応する領域がサーボ領域、非信号領域12に対応する領域がデータ領域となる。
【0023】
なお、本実施形態のマスター担体はサーボ信号の転写を想定して記述しているが、本発明のマスター担体としては、転写信号をサーボ信号に限るものではなく、種々のデータを含むパターンを転写するものとすることもできる。
【0024】
図2(a)は、図1の領域a内の1トラック分の転写で磁気記録媒体上に設けられる磁化パターンの模式拡大平面図であり、同図(b)は、図2(a)のb−b断面に対応する凹凸パターンを示すものであり、同図(c)は、凹凸パターン形状比較のために示すb−b断面図に対応する断面図である。
【0025】
図2(a)は幅Wのトラックの一部を示すものであり、磁化パターンが矢印で模式的に示されている。この矢印が示されている各領域がそれぞれスレーブ媒体上におけるビットに対応するものであり、この各領域のトラック方向幅がビット長である。種々の長さのビット長のうち最短のものが最短ビット長Lminであり、該最短ビット長が300nm以下となっている。
【0026】
本実施形態のマスター担体10は、図2(b)に示す同図(a)のb−b断面図に対応する凹凸パターンを備えている。
【0027】
凹凸パターンの各凸部上面11aのトラック方向幅、凹部における凸部上面の延長面11bのトラック方向幅がそれぞれビット長に対応する。なお、図2(b)においては、凸部断面を模式的に矩形で示しているが、現実の凸部断面は台形とすることもできる。凸部断面が台形の場合、凹部の底面の幅と凹部における凸部上面の延長面11bと凸部底面11cのトラック方向幅が異なるため、ここでは、仮想的な延長面11bにより凹部の面積および凹部対応のビット長を定義している。
【0028】
なお、図2(a)に模式的に示されている磁化パターンを形成するための凹凸パターンとしては、同図(b)のみならず、同図(c)のような凹凸パターンが考えられる。図2(a)の信号領域11において右矢印が付された斜線で示す領域11aの総面積は、左矢印が付された白抜きの領域11bの総面積よりも小さく、図2(b)は領域11aに対応する部分が凸部となるように形成されたパターン、同図(c)は、領域11bに対応する部分が凸部となるように形成されたパターンである。いずれの凹凸パターンであっても、後述のスレーブ媒体の初期磁化方向、転写磁界の印加方向等を選択することにより図2(a)に示す磁化パターンを形成することが可能である。しかしながら、本発明者の研究により、最短ビット長が300nm以下である場合、図2(b)に示すものが図2(c)のものと比較して格段に良好な転写結果を達成できることが明らかになった。
【0029】
また、図2(b)に示すような凸部上面11aの総面積が、凹部における凸部上面の延長面11bの総面積が小さい凹凸パターンであれば、磁気転写時に、スレーブ媒体とマスター担体を密着させるために印加する圧力(以下、密着圧力という)を効率的に凸部に集中させることができるため、結果として密着圧力を低くすることができる。密着圧力の低減により、マスター担体とスレーブ媒体との間に塵埃等が介在した場合に両者の表面への傷の発生を抑制することができ、マスター担体の寿命を長くすると共に、歩留まり良く転写済み媒体の生産を行うことができる。
【0030】
また、図2(b)で示す、凹凸パターンの凹部の底面10cから凸部の上面10bまでの高さhを50nm以上とすることにより、3000Oe(≒238kA/m)以上の高い保磁力の磁気記録層を有するスレーブ媒体に対しても良好な磁気転写を行うことができることが本発明者の研究により明らかになり、さらに、高さhのばらつき3σ値を10nm以下とすることにより、再生信号の変動を、従来サーボライターを用い磁気ヘッドでサーボ信号を記録していた場合と同等以上に抑制できることが明らかになった。
【0031】
したがって、高さhの平均値が50nm以上であり、かつ各凸部毎の高さhのばらつき3σ値が10nm以下であることが望ましい。なお、図2(b)において、凹部底面11cを模式的に平面で表しているが、実際には微細な突起等が存在し完全な平面ではない。そこで、凹部の底面からの高さはAFMで測定して得られる、底面の平均線からの高さで定義する。
【0032】
図3は、磁気転写用マスター担体10の層構成を示すための一部断面図である。磁気転写用マスター担体10は、表面に凹凸パターンを有する基板3aと、該基板3a上に凹凸パターンに沿って積層された磁性層3bとを備えたものである。磁性層3bは基板の凹凸パターンの凸部高さと同程度の厚みとすることが好適である。
【0033】
なお、マスター担体10の基板3aとしては、ニッケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、セラミックス、合成樹脂等が用いられる。また、磁性層3bの磁性材料としては、Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)を用いることができ、特に好ましいのはFeCo、FeCoNiである。磁性層3bの磁性材料としては、軟磁性、半硬質磁性、硬質磁性のいずれであってもよいが、軟磁性もしくは半硬質磁性のように、保磁力が比較的小さいものの方がより良好な転写を実現することができるため好ましい。
【0034】
磁気転写用マスター担体の凹凸パターンの形成は、スタンパー法、フォトリソグラフィー法等を用いて行うことができる。磁気転写用マスター担体の製造方法の一例を説明する。
【0035】
まず、表面が平滑なガラス板(または石英板)の上にスピンコート等でレジストを形成し、このガラス板を回転させながらサーボ信号に対応して変調したレーザー光(または電子ビーム)を照射し、レジスト全面に所定のパターン、例えば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光し、その後、レジストを現像処理し、露光部分を除去しレジストによる凹凸形状を有する原盤を得る。次に、原盤の表面の凹凸パターンをもとに、所定の導電処理の後この表面にメッキ(電鋳)を施し、該原盤から剥離することにより、ポジ状凹凸パターンを有するNi基板を作製する。
【0036】
一方、前記ガラス板にレジストによるパターンを形成した後、エッチングによりガラス板に穴を形成し、レジストを除去した原盤を得て、以下前記と同様に基板を形成するようにしてもよい。
【0037】
金属製基板材料としては、前述の通り、NiもしくはNi合金等を使用することができ、この基板を作製する前記メッキとしては、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法が適用できる。この凹凸パターンがサンプルサーボ信号である場合は、円周方向よりも半径方向に長い矩形状の凸部が形成される。具体的には、半径方向の長さは0.05〜20μm、円周方向は0.05〜5μmが好ましく、この範囲で半径方向の方が長い形状となる値を選ぶことがサーボ信号の情報を担持するパターンとして好ましい。
【0038】
基板の凹凸パターン上への磁性層の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などを用いて行う。磁性層の厚みは、50〜500nmの範囲が好ましく、さらに好ましくは80〜300nmである。
【0039】
なお、この凸部表面の磁性層の上に5〜30nmのダイヤモンドライクカーボン(DLC)等の保護膜を設けることが好ましく、さらに潤滑剤層を設けても良い。また、磁性層と保護膜の間に、Si等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤層を設けることにより、スレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化が改善される。
【0040】
凸部上面の凹部底面からの高さhのばらつきは、主として上述の凹凸パターンマスタリング工程および磁性層成膜工程において発生する。マスタリング工程では、レジストムラ、露光条件のムラなどが複合的にばらつき発生要因となる。磁性層成膜工程において発生するばらつきは、例えばスパッタで成膜する場合スパッタパラメターにより制御することができる。具体的には、低スパッタ圧、低スパッタレートとすること、および、ターゲットと基板間の距離を長くすることによりばらつきを小さくすることができる。
【0041】
次に、本発明の磁気転写用マスター担体10を用いてスレーブ媒体2へ情報を転写する磁気転写方法の実施形態について説明する。
【0042】
図4は、支持体2aの片面に磁気記録層2bを有するスレーブ媒体2へ情報を磁気転写する基本工程を説明するための図であり、図4(a)は磁界を一方向に印加してスレーブ媒体を初期直流磁化する工程、(b)はマスター担体とスレーブ媒体とを密着させて初期直流磁界とは略反対方向に磁界を印加する工程、(c)は磁気転写後のスレーブ媒体の磁気記録層の状態をそれぞれ示す図である。
【0043】
図4(a)に示すように、予めスレーブ媒体2にトラック方向の一方向の初期直流磁界Hinを印加して磁気記録層2bの磁化を初期直流磁化させておく。その後、図4(b)に示すように、このスレーブ媒体2の記録層2b側の面とマスター担体10の凸部表面の磁性層3b側の面とを密着させ、スレーブ媒体2のトラック方向に前記初期直流磁界Hinとは逆方向の転写用磁界Hduを印加して磁気転写を行う。その結果、図4(c)に示すように、スレーブ媒体2の磁気記録層2bにはマスター担体3の凹凸パターンに応じた情報(例えばサーボ信号)が磁気的に転写記録される。ここでは、スレーブ媒体2が片面にのみ磁気記録層を備えたものとして説明したが、支持体の両面にそれぞれ磁気記録層を備えたものであってもよい。両面に磁気記録層を備えている場合、両面同時に磁気転写を行ってもよいし、片面ずつ順次なされてもよい。
【0044】
なお、初期直流磁界および転写用磁界は、スレーブ媒体の保磁力、マスター担体およびスレーブ媒体の比透磁率等を勘案して定められた値を採用する必要がある。
【0045】
なお、スレーブ媒体2としては、例えばハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体が使用され、その磁気記録層として塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層が形成されているものを用いる。
【0046】
なお、金属薄膜型磁気記録層を備えた磁気記録媒体の場合、磁性材料として、Co、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi、Co/Pd等)、Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)を用いることができる。磁性層としては、磁束密度が大きいこと、面内記録なら面内方向、垂直記録なら垂直方向の磁気異方性を有することが、明瞭な転写を行えるため好ましい。好ましい磁性層厚は10nm以上、500nm以下であり、さらに好ましくは20nm以上、200nm以下である。
【0047】
また、磁性層の下(基板側)には、該磁性層に必要な磁気異方性を持たせるために非磁性の下地層を設けることができる。下地層としては、Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru、Pd等を用いることができるが、結晶構造および格子定数が、その上に設けられる磁性層の結晶構造および格子定数と一致するものを選択する必要がある。好ましい非磁性層の厚みは、10nm以上、150nm以下であり、さらに好ましくは20nm以上、80nm以下である。
【0048】
なお、上記実施形態においては、面内記録媒体をスレーブ媒体とした場合の磁気転写について説明したが、本発明のマスター担体は、面内記録媒体への磁気転写用に限るものではなく、垂直磁気記録媒体をスレーブ媒体とした場合についても使用することができ、同様に効果を奏する。
【0049】
本発明の磁気転写用マスター担体は、凹凸パターンが形成されている信号領域において、凸部上面の総面積が凹部における凸部上面の延長面の総面積より小さい凹凸パターンであれば、上記実施形態の層構成および凹凸パターン構成に限るものではなく、表面に凹凸パターンを有する磁性体からなる基板のみからなるもの、表面に凹凸パターンを有する基板と該基板の凹凸パターンの少なくとも凸部上面に形成された磁性層とからなるもの、平板基板と該基板上に凹凸パターン状に形成された磁性層とからなるものなど種々の形態がある。図5にその例を示す。図5は、それぞれ磁気転写用マスター担体の一部断面図を示すものである。
【0050】
図5(a)に示す磁気転写用マスター担体は、Ni等の強磁性を有する材料からなる基板3aのみで構成されたものである。基板3aがNi等の強磁性材料からなり、その表面に凹凸パターンが形成されてなるものである。なおこの場合、マスター担体の凹凸パターンの凹部の底面から凸部の上面までの高さ(以下、単に「凸部の高さ」という)とは、基板の凹部底面から基板の凸部上面までの高さh1である。
【0051】
図5(b)は、凹凸パターンを有する基板3aと凸部上面にのみ形成された磁性層3bとからなる磁気転写用マスター担体を示すものである。なおこの場合、凸部の高さは、基板の凹部底面から磁性層の凸部上面までの高さh2である。
【0052】
図5(c)は、平板基板3a上に凸部パターン状の磁性層3bが形成されてなる磁気転写用マスター担体を示すものである。なおこの場合、凸部の高さは、基板の凹部底面から磁性層の凸部上面までの高さh3である。
【0053】
図5(d)は、平板基板3a上に表面に凹凸パターンを有する磁性層3bが形成されてなる磁気転写用マスター担体を示すものである。なおこの場合、凸部の高さは、磁性層の凹部底面から磁性層の凸部上面までの高さh4である。
【0054】
いずれの磁気転写用マスター担体においても、上述の実施形態のマスター担体と同様の効果を得ることができる。
【0055】
さらに、図1における信号領域11以外の非信号領域12の面から凸部の上面までの高さが50nm以上、800nm以下であることが望ましい。図6は、より好ましい実施形態の磁気転写用マスター担体の一部断面図であり、図2(b)に示した断面図と対応するものである。図6(a)のように、非信号領域12の面12aから信号領域11の凸部上面11aまでの高さHを50nm以上、800nm以下とすることが望ましい。凸部上面11aを非信号領域12の面12aよりも高くすることにより、密着圧力を凸部上面により効率的に集中させることができ、密着圧力を小さくすることができる。密着圧力を小さくすることにより、マスター担体とスレーブ媒体間に介在する塵埃等による両者の表面への傷の発生を抑制することができる。なお、高さHが50nm未満であると、マスター担体とスレーブ媒体間への異物の付着によって信号領域の密着不良が生じ信号の脱落等が生じる可能性が高く、高さHを800nmより大きくすると、信号領域と非信号領域の間の高低差が大きくなりすぎ、両者の高低差によるマスター担体の変形量が大きくなって転写異常を生じる虞がある。したがって、高さHを上述の50nm以上、800nm以下とすることが特に好ましい。
【0056】
なお、図6(b)に示すように、凹凸パターンの凹部底面11cが非信号領域12の面12aより低くなっていても、凹凸パターンの凸部上面11aが非信号領域12より高くその差Hが上記範囲であればよい。
【0057】
以下、具体例について行った3つの評価実験方法および評価結果について説明する。いずれの評価実験においても、それぞれ異なる条件のマスター担体を作製し、各マスター担体を用いてスレーブ媒体に磁気転写を行い、該磁気転写されたスレーブ媒体からの再生信号を用いて転写特性の評価を行った。
【0058】
まず、各マスター担体の作製および評価実験方法について共通する条件を説明する。
【0059】
各マスター担体基板はNi基板でありスタンパ法を用いて作製した。Ni基板は図7(a)もしくは同図(b)に断面図を示すような凹凸パターンを有するものとする。図7は、基板のトラック方向断面図を示すものである。図7に示す凹凸パターンにおいて、最短ビット長L、凸部高さhであり、同図(a)のパターンにおいては信号領域の凹部底面と非信号領域との高低差が400nm、同図(b)のパターンにおいては信号領域の凸部上面から非信号領域の高低差が400nmである。図7(a)は、凹凸パターンが、信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における前記凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されたものであり、一方、同図(b)は、信号領域において凹部の上面の総面積が、凸部における凹部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されたものである。以下、図7(a)に示す凹凸パターンをパターンa、同図(b)に示す凹凸パターンをパターンbと称する。
【0060】
1セクタ当たりのビット数は80とし、トラック幅は5μmとした。最短ビット長100nmおよび200nmのパターン描画にはEB描画装置を用い、最短ビット長500nmおよび1μmのパターン描画にはレーザ光描画装置を用いた。
【0061】
Ni基板上にFe70Co30組成の磁性層を、以下に示す所定のスパッタ条件により所定厚さ設けて各マスター担体とした。
【0062】
磁気転写は実施形態に記述した手法により行った。各々マスター担体に対する密着圧力は、信号が転写されたスレーブ媒体において一定以上の再生出力が実現し、それ以上の密着圧力を印加しても信号転写後のスレーブ媒体から得られる再生信号振幅に差がなくなる最小圧力を選定した。
【0063】
スレーブ媒体として用いた磁気記録媒体は2.5インチサイズのガラス基板上にCoCrPt/CrTiの磁性層/下地層を設けた保磁力Hcが3200Oe(≒255kA/m)のハードディスク媒体である。
【0064】
各マスター担体を用いて磁気転写を行ったスレーブ媒体について、協同電子製スピンスタンドSS−60改造型および、ヘッド(再生側)としてReadトラック幅0.4μm、シールド間ギャップ長0.12μmのGMRヘッドを用いて、再生信号ビット列をデジタルオシロスコープに取り込み、ポジティブ側セクタ内平均振幅Pos.とネガティブ側セクタ内平均振幅Neg.を求めた。
【0065】
以下各評価実験について説明する。
【0066】
<評価実験1>
図7における凸部高さhを100nmとし、Fe70Co30組成磁性層をスパッタ圧1.4×10−1Pa、スパッタ投入電力2.8W/cm2の条件で100nm厚設けた。
【0067】
具体的には、パターンaを有するマスター担体、パターンbを有するマスター担体であって、最短ビット長Lが100nm、200nm、500nm、1μmのマスター担体をそれぞれ作製し、各マスター担体についての{Pos./(Pos.+Neg.)}×100(%)を求め、この値が、40%以上60%以下であれば良好(○)、30%以上40%未満および60%より大きく70%未満であれば可(△)、30%未満、70%より大であれば不良(×)と評価した。表1にその結果を示す。
【0068】
【表1】
表に示すように、パターンa、bのいずれのマスター担体についても、最短ビット長が500nm、1μmの場合は良好との結果が得られたが、最短ビット長が200nm、100nmと短くなるにつれ、パターンbのマスター担体では可もしくは不良という結果となった。一方、パターンaのマスター担体は、最短ビット長が200nm、100nmいずれにおいても良好な結果が得られた。また、いずれの最短ビット長を有するものにおいてもパターンaを有するマスター担体と比較してパターンbを有するマスター担体では2〜3倍の密着圧力が必要であった。
【0069】
<評価実験2>
最短ビット長100nm、200nm、500nmのパターンaを有するそれぞれのマスター担体において、凸部高さhを40nm、75nm、100nmとし、磁性層の厚みをそれぞれ凸部高さと同じ厚みとしたマスター担体をそれぞれ作製し、各マスター担体について、(Pos.+Neg.)/2を求めて比較評価した。なお、再生ヘッドギャップ損失のため、ビット長が異なると再生信号レベルが異なるため、各値は、最短ビット長毎に、高さ平均値100nmのものを0dBとして比較した。また、最短長100nmの場合の測定精度は、他2者に比べてやや劣る。実験結果を表2に示す
【表2】
表2に示すように、いずれの最短ビット長を有するマスター担体についても、高さ平均値が75nmでは−1dB程度であるが、高さ平均値が40nmでは、−6〜−7dBとなった。すなわち高さ平均値が高いものの方がより良好な再生信号を得ることができる傾向にあることが明らかになった。
【0070】
<評価実験3>
最短ビット長100nm、200nm、500nmのパターンaを有するそれぞれのマスター担体であって、凸部高さhを40nm、75nm、100nmとし、磁性層はそれぞれ凸部高さと同じ厚みとしたマスター担体をそれぞれ作製した。高さばらつきは磁性層形成時のスパッタ条件(スパッタ圧、スパッタ投入電力およびターゲット・基板間距離)を変えることにより制御した。スパッタ条件は表3に示す通りである。
【0071】
【表3】
各最短ビット長および3σ値を有する各マスター担体について、Positive側各ビットビットの、パルス高さ変動(Pos.(max値)−Pos.(min値))/Pos.)×100(%)を求め、この値が、10%未満であれば良好(○)、10%以上30%以下であれば可(△)、30%より大きければ不良(×)と評価した。その結果を表4に示す。
【0072】
【表4】
表4に示すように、いすれの最短ビット長を有するマスター担体においても、3σ値が9nm以下のものでは全て良好な結果が得られたが、3σ値が20nmのものでは、可もしくは不良という結果であった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の平面図
【図2】(a)図1の領域a内の1トラック分の転写で磁気記録媒体上に設けられる磁化パターンの模式拡大平面図、(b)(a)のb−b断面に対応する凹凸パターンを示す断面図、および(c)凹凸パターン形状比較のために示すb−b断面図に対応する断面図
【図3】磁気転写用マスター担体の層構成を示す断面図
【図4】スレーブ媒体への磁気転写方法の基本工程を示す図
【図5】他の形態の磁気転写用マスター担体の層構成および凹凸パターン構成を説明するための断面図
【図6】より好ましい形態の磁気転写用マスター担体の断面図
【図7】評価実験に用いたマスター担体の断面図
【符号の説明】
10 磁気転写用マスター担体
11 信号領域
11a 凸部上面
11b 凹部開口部の凸部上面延長面
12 非信号領域
15 中心孔
20 スレーブ媒体
21 スレーブ媒体の支持体
22 磁性層
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体等のスレーブ媒体に情報を転写するための凹凸パターンを表面に備えた磁気転写用マスター担体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、微細凹凸パターンにより転写情報を担持したマスター担体と転写を受ける磁気記録媒体によるスレーブ媒体とを密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報(例えばサーボ信号)に対応する磁化パターンをスレーブ媒体の記録面に転写記録する磁気転写が知られている(例えば、特許文献1〜3参照)。
【0003】
磁気転写は、転写すべき情報を担持するマスター担体を磁気ディスク媒体等の磁気記録媒体(スレーブ媒体)と密着させた状態で、転写用磁界を印加することにより、マスター担体の有する情報パターンに対応する磁気パターンをスレーブ媒体に磁気的に転写するもので、マスター担体とスレーブ媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確なプリフォーマット記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。
【0004】
【特許文献1】
特開平10−40544号公報
【0005】
【特許文献2】
特開2001−14667号公報
【0006】
【特許文献3】
特開2002−74655号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上述の従来の磁気転写方法は、最短ビット長が500nm〜1μm程度で技術が積み重ねられてきた。しかしながら、近年の磁気記録媒体、特にハードディスク媒体の記録密度向上は著しく、現在100nmオーダー以下の最短ビット長を実現している。サーボ信号における最短ビット長は、通常データ領域の最短ビット長の2、3倍となるが、それでも300nm程度以下のビット長を含むパターンでの転写適性を議論する必要が生じてきた。
【0008】
本発明は上記事情に鑑み、300nm以下の最短ビット長からなる転写パターンを良好にスレーブ媒体に転写することができる磁気転写用マスター担体を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気転写用マスター担体は、転写すべき信号パターンに応じた凹凸パターンが形成された信号領域を表面に有する磁気転写用マスター担体であって、
前記凹凸パターンの最短ビット長が300nm以下であり、
前記凹凸パターンが、前記信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における前記凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されていることを特徴とするものである。
【0010】
前記基板の凹凸パターンの凹部の底面から凸部の上面までの高さの平均値が50nm以上であることが望ましく、この場合さらに、前記高さのばらつき3σ値が10nm以下であることが望ましい。
【0011】
ここで、凸部の上面高さは、凹部底面の平均線から凸部上面の平均線までの高さとして定義する。高さ測定は、マスター担体表面を原子間力顕微鏡(AFM)にて走査して行うことができ、ここでいう平均線とは、凸部、凹部各々で得られる走査プロファイルでの中心線平均線を意味する。隣り合った凹部と凸部の各々平均線の差分から当該凸部の上面高さが求まる。複数の凸部上面高さのデータから、高さ平均値ならびにばらつき3σ値が求まる。マスター担体全面、全凸部に対してデータを求めるのは現実的ではなく、実際には、例えば10μm角領域をマスター担体上で10ヶ所程度選定し、このAFM測定値から高さ平均値、高さばらつきを求めることになる。
【0012】
磁気転写用マスター担体としては、表面に凹凸パターンを有する磁性基板のみからなるもの、表面に凹凸パターンを有する基板と該基板の凹凸パターンの少なくとも凸部上面に形成された磁性層とからなるもの、平板基板と該基板上に凹凸パターン状に形成された磁性層とからなるものなど種々の形態がある。
【0013】
マスター担体が基板と該基板上にスパッタ法により形成された磁性層を備えてなるものである場合、前記高さのばらつきは、磁性層形成時における、スパッタパラメターのうち、スパッタ圧、スパッタレートおよびターゲット/基板間距離等の制御により調整することができる。スパッタ圧、スパッタレートは共に低いほどばらつきを抑制することができる傾向にあり、また、ターゲット/基板間距離は長くなるほどばらつきを抑制することができる傾向にある。
【0014】
なお、前記凸部上面が、前記信号領域以外の非信号領域の面よりも高くなるように形成されていることが望ましく、特に、前記信号領域以外の非信号領域の面からの高さが50nm以上、800nm以下であることが望ましい。
【0015】
【発明の効果】
表面に凹凸パターンを有する磁気転写用マスター担体としては、スレーブ媒体に対して図2(a)に模式的に矢印で示す磁化パターンを達成するための凹凸パターンとして、図2(b)および(c)の断面形状を有するものが考えられる。図2(b)は、凹凸パターンが、信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されているものであり、同図(c)は逆に凸部の上面の総面積が、凹部における凸部の上面の延長面の総面積よりも大きくなるように形成されたものである。本発明者の研究により、最短ビット長が300nm以下である場合、図2(b)に示すものが図2(c)のものと比較して格段に良好な転写結果を達成できることが明らかになった。
【0016】
すなわち、本発明の磁気転写用マスター担体は、図2(b)のように、凹凸パターンが、信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されているものであり、最短ビット長が300nm以下である微細なパターンについて良好な転写を行うことができる。また、凸部の上面の総面積が凹部における凸部の上面の延長面の総面積より小さく形成しているので、実際の転写時に、スレーブ媒体とマスター担体とを密着させるために印加する圧力の集中が効率的になされるので、図2(c)のパターンと比較して小さい密着圧力で所望の転写性能を得ることができる。密着圧力が小さいほど、例えば微小粉塵がマスター担体とスレーブ媒体間に介在した場合などにおいても、両者の表面に生じる傷の発生を抑制することができる。
【0017】
また、凹凸パターンの凹部の底面から前記凸部の上面までの高さの平均値を50nm以上とすれば、3000Oe(≒238kA/m)以上の高い保磁力を有する磁気記録層を備えた媒体に対しても十分な転写反転磁界を発生させることができるので、高い保磁力を有する磁気記録層を備えた媒体に対しても良好な転写を行うことができる。
【0018】
さらに、前記凸部の高さのばらつき3σ値を10nm以下とすれば、従来の磁気ヘッドによる磁気パターン形成時と同等以上に再生信号変動を抑制することができる。
【0019】
なお、凸部上面の、信号領域以外の非信号領域の面からの高さを50nm以上、800nm以下とすれば、異物の付着による信号脱落を防止するととともに、密着部の変形による転写異常を防止して良好な転写を行うことができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
【0021】
図1は、本発明の実施の形態に係る磁気転写用マスター10の平面図である。磁気転写用マスター担体10は中心孔15を有する円盤状の剛体から形成されている。マスター担体10の表面は、規則的に配置されている信号領域11とそれ以外の非信号領域12とから構成されており、信号領域11にはサーボ信号に応じた凹凸パターンが形成されている。
【0022】
このマスター担体10を用いて信号が転写される磁気記録媒体においては、点線で示している最内周16と最外周18とで囲まれるドーナツ状の領域に対応する領域が信号記録領域となり、該信号記録領域内において、マスター担体10の信号領域11に対応する領域がサーボ領域、非信号領域12に対応する領域がデータ領域となる。
【0023】
なお、本実施形態のマスター担体はサーボ信号の転写を想定して記述しているが、本発明のマスター担体としては、転写信号をサーボ信号に限るものではなく、種々のデータを含むパターンを転写するものとすることもできる。
【0024】
図2(a)は、図1の領域a内の1トラック分の転写で磁気記録媒体上に設けられる磁化パターンの模式拡大平面図であり、同図(b)は、図2(a)のb−b断面に対応する凹凸パターンを示すものであり、同図(c)は、凹凸パターン形状比較のために示すb−b断面図に対応する断面図である。
【0025】
図2(a)は幅Wのトラックの一部を示すものであり、磁化パターンが矢印で模式的に示されている。この矢印が示されている各領域がそれぞれスレーブ媒体上におけるビットに対応するものであり、この各領域のトラック方向幅がビット長である。種々の長さのビット長のうち最短のものが最短ビット長Lminであり、該最短ビット長が300nm以下となっている。
【0026】
本実施形態のマスター担体10は、図2(b)に示す同図(a)のb−b断面図に対応する凹凸パターンを備えている。
【0027】
凹凸パターンの各凸部上面11aのトラック方向幅、凹部における凸部上面の延長面11bのトラック方向幅がそれぞれビット長に対応する。なお、図2(b)においては、凸部断面を模式的に矩形で示しているが、現実の凸部断面は台形とすることもできる。凸部断面が台形の場合、凹部の底面の幅と凹部における凸部上面の延長面11bと凸部底面11cのトラック方向幅が異なるため、ここでは、仮想的な延長面11bにより凹部の面積および凹部対応のビット長を定義している。
【0028】
なお、図2(a)に模式的に示されている磁化パターンを形成するための凹凸パターンとしては、同図(b)のみならず、同図(c)のような凹凸パターンが考えられる。図2(a)の信号領域11において右矢印が付された斜線で示す領域11aの総面積は、左矢印が付された白抜きの領域11bの総面積よりも小さく、図2(b)は領域11aに対応する部分が凸部となるように形成されたパターン、同図(c)は、領域11bに対応する部分が凸部となるように形成されたパターンである。いずれの凹凸パターンであっても、後述のスレーブ媒体の初期磁化方向、転写磁界の印加方向等を選択することにより図2(a)に示す磁化パターンを形成することが可能である。しかしながら、本発明者の研究により、最短ビット長が300nm以下である場合、図2(b)に示すものが図2(c)のものと比較して格段に良好な転写結果を達成できることが明らかになった。
【0029】
また、図2(b)に示すような凸部上面11aの総面積が、凹部における凸部上面の延長面11bの総面積が小さい凹凸パターンであれば、磁気転写時に、スレーブ媒体とマスター担体を密着させるために印加する圧力(以下、密着圧力という)を効率的に凸部に集中させることができるため、結果として密着圧力を低くすることができる。密着圧力の低減により、マスター担体とスレーブ媒体との間に塵埃等が介在した場合に両者の表面への傷の発生を抑制することができ、マスター担体の寿命を長くすると共に、歩留まり良く転写済み媒体の生産を行うことができる。
【0030】
また、図2(b)で示す、凹凸パターンの凹部の底面10cから凸部の上面10bまでの高さhを50nm以上とすることにより、3000Oe(≒238kA/m)以上の高い保磁力の磁気記録層を有するスレーブ媒体に対しても良好な磁気転写を行うことができることが本発明者の研究により明らかになり、さらに、高さhのばらつき3σ値を10nm以下とすることにより、再生信号の変動を、従来サーボライターを用い磁気ヘッドでサーボ信号を記録していた場合と同等以上に抑制できることが明らかになった。
【0031】
したがって、高さhの平均値が50nm以上であり、かつ各凸部毎の高さhのばらつき3σ値が10nm以下であることが望ましい。なお、図2(b)において、凹部底面11cを模式的に平面で表しているが、実際には微細な突起等が存在し完全な平面ではない。そこで、凹部の底面からの高さはAFMで測定して得られる、底面の平均線からの高さで定義する。
【0032】
図3は、磁気転写用マスター担体10の層構成を示すための一部断面図である。磁気転写用マスター担体10は、表面に凹凸パターンを有する基板3aと、該基板3a上に凹凸パターンに沿って積層された磁性層3bとを備えたものである。磁性層3bは基板の凹凸パターンの凸部高さと同程度の厚みとすることが好適である。
【0033】
なお、マスター担体10の基板3aとしては、ニッケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、セラミックス、合成樹脂等が用いられる。また、磁性層3bの磁性材料としては、Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)を用いることができ、特に好ましいのはFeCo、FeCoNiである。磁性層3bの磁性材料としては、軟磁性、半硬質磁性、硬質磁性のいずれであってもよいが、軟磁性もしくは半硬質磁性のように、保磁力が比較的小さいものの方がより良好な転写を実現することができるため好ましい。
【0034】
磁気転写用マスター担体の凹凸パターンの形成は、スタンパー法、フォトリソグラフィー法等を用いて行うことができる。磁気転写用マスター担体の製造方法の一例を説明する。
【0035】
まず、表面が平滑なガラス板(または石英板)の上にスピンコート等でレジストを形成し、このガラス板を回転させながらサーボ信号に対応して変調したレーザー光(または電子ビーム)を照射し、レジスト全面に所定のパターン、例えば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光し、その後、レジストを現像処理し、露光部分を除去しレジストによる凹凸形状を有する原盤を得る。次に、原盤の表面の凹凸パターンをもとに、所定の導電処理の後この表面にメッキ(電鋳)を施し、該原盤から剥離することにより、ポジ状凹凸パターンを有するNi基板を作製する。
【0036】
一方、前記ガラス板にレジストによるパターンを形成した後、エッチングによりガラス板に穴を形成し、レジストを除去した原盤を得て、以下前記と同様に基板を形成するようにしてもよい。
【0037】
金属製基板材料としては、前述の通り、NiもしくはNi合金等を使用することができ、この基板を作製する前記メッキとしては、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法が適用できる。この凹凸パターンがサンプルサーボ信号である場合は、円周方向よりも半径方向に長い矩形状の凸部が形成される。具体的には、半径方向の長さは0.05〜20μm、円周方向は0.05〜5μmが好ましく、この範囲で半径方向の方が長い形状となる値を選ぶことがサーボ信号の情報を担持するパターンとして好ましい。
【0038】
基板の凹凸パターン上への磁性層の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などを用いて行う。磁性層の厚みは、50〜500nmの範囲が好ましく、さらに好ましくは80〜300nmである。
【0039】
なお、この凸部表面の磁性層の上に5〜30nmのダイヤモンドライクカーボン(DLC)等の保護膜を設けることが好ましく、さらに潤滑剤層を設けても良い。また、磁性層と保護膜の間に、Si等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤層を設けることにより、スレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化が改善される。
【0040】
凸部上面の凹部底面からの高さhのばらつきは、主として上述の凹凸パターンマスタリング工程および磁性層成膜工程において発生する。マスタリング工程では、レジストムラ、露光条件のムラなどが複合的にばらつき発生要因となる。磁性層成膜工程において発生するばらつきは、例えばスパッタで成膜する場合スパッタパラメターにより制御することができる。具体的には、低スパッタ圧、低スパッタレートとすること、および、ターゲットと基板間の距離を長くすることによりばらつきを小さくすることができる。
【0041】
次に、本発明の磁気転写用マスター担体10を用いてスレーブ媒体2へ情報を転写する磁気転写方法の実施形態について説明する。
【0042】
図4は、支持体2aの片面に磁気記録層2bを有するスレーブ媒体2へ情報を磁気転写する基本工程を説明するための図であり、図4(a)は磁界を一方向に印加してスレーブ媒体を初期直流磁化する工程、(b)はマスター担体とスレーブ媒体とを密着させて初期直流磁界とは略反対方向に磁界を印加する工程、(c)は磁気転写後のスレーブ媒体の磁気記録層の状態をそれぞれ示す図である。
【0043】
図4(a)に示すように、予めスレーブ媒体2にトラック方向の一方向の初期直流磁界Hinを印加して磁気記録層2bの磁化を初期直流磁化させておく。その後、図4(b)に示すように、このスレーブ媒体2の記録層2b側の面とマスター担体10の凸部表面の磁性層3b側の面とを密着させ、スレーブ媒体2のトラック方向に前記初期直流磁界Hinとは逆方向の転写用磁界Hduを印加して磁気転写を行う。その結果、図4(c)に示すように、スレーブ媒体2の磁気記録層2bにはマスター担体3の凹凸パターンに応じた情報(例えばサーボ信号)が磁気的に転写記録される。ここでは、スレーブ媒体2が片面にのみ磁気記録層を備えたものとして説明したが、支持体の両面にそれぞれ磁気記録層を備えたものであってもよい。両面に磁気記録層を備えている場合、両面同時に磁気転写を行ってもよいし、片面ずつ順次なされてもよい。
【0044】
なお、初期直流磁界および転写用磁界は、スレーブ媒体の保磁力、マスター担体およびスレーブ媒体の比透磁率等を勘案して定められた値を採用する必要がある。
【0045】
なお、スレーブ媒体2としては、例えばハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体が使用され、その磁気記録層として塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層が形成されているものを用いる。
【0046】
なお、金属薄膜型磁気記録層を備えた磁気記録媒体の場合、磁性材料として、Co、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi、Co/Pd等)、Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)を用いることができる。磁性層としては、磁束密度が大きいこと、面内記録なら面内方向、垂直記録なら垂直方向の磁気異方性を有することが、明瞭な転写を行えるため好ましい。好ましい磁性層厚は10nm以上、500nm以下であり、さらに好ましくは20nm以上、200nm以下である。
【0047】
また、磁性層の下(基板側)には、該磁性層に必要な磁気異方性を持たせるために非磁性の下地層を設けることができる。下地層としては、Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru、Pd等を用いることができるが、結晶構造および格子定数が、その上に設けられる磁性層の結晶構造および格子定数と一致するものを選択する必要がある。好ましい非磁性層の厚みは、10nm以上、150nm以下であり、さらに好ましくは20nm以上、80nm以下である。
【0048】
なお、上記実施形態においては、面内記録媒体をスレーブ媒体とした場合の磁気転写について説明したが、本発明のマスター担体は、面内記録媒体への磁気転写用に限るものではなく、垂直磁気記録媒体をスレーブ媒体とした場合についても使用することができ、同様に効果を奏する。
【0049】
本発明の磁気転写用マスター担体は、凹凸パターンが形成されている信号領域において、凸部上面の総面積が凹部における凸部上面の延長面の総面積より小さい凹凸パターンであれば、上記実施形態の層構成および凹凸パターン構成に限るものではなく、表面に凹凸パターンを有する磁性体からなる基板のみからなるもの、表面に凹凸パターンを有する基板と該基板の凹凸パターンの少なくとも凸部上面に形成された磁性層とからなるもの、平板基板と該基板上に凹凸パターン状に形成された磁性層とからなるものなど種々の形態がある。図5にその例を示す。図5は、それぞれ磁気転写用マスター担体の一部断面図を示すものである。
【0050】
図5(a)に示す磁気転写用マスター担体は、Ni等の強磁性を有する材料からなる基板3aのみで構成されたものである。基板3aがNi等の強磁性材料からなり、その表面に凹凸パターンが形成されてなるものである。なおこの場合、マスター担体の凹凸パターンの凹部の底面から凸部の上面までの高さ(以下、単に「凸部の高さ」という)とは、基板の凹部底面から基板の凸部上面までの高さh1である。
【0051】
図5(b)は、凹凸パターンを有する基板3aと凸部上面にのみ形成された磁性層3bとからなる磁気転写用マスター担体を示すものである。なおこの場合、凸部の高さは、基板の凹部底面から磁性層の凸部上面までの高さh2である。
【0052】
図5(c)は、平板基板3a上に凸部パターン状の磁性層3bが形成されてなる磁気転写用マスター担体を示すものである。なおこの場合、凸部の高さは、基板の凹部底面から磁性層の凸部上面までの高さh3である。
【0053】
図5(d)は、平板基板3a上に表面に凹凸パターンを有する磁性層3bが形成されてなる磁気転写用マスター担体を示すものである。なおこの場合、凸部の高さは、磁性層の凹部底面から磁性層の凸部上面までの高さh4である。
【0054】
いずれの磁気転写用マスター担体においても、上述の実施形態のマスター担体と同様の効果を得ることができる。
【0055】
さらに、図1における信号領域11以外の非信号領域12の面から凸部の上面までの高さが50nm以上、800nm以下であることが望ましい。図6は、より好ましい実施形態の磁気転写用マスター担体の一部断面図であり、図2(b)に示した断面図と対応するものである。図6(a)のように、非信号領域12の面12aから信号領域11の凸部上面11aまでの高さHを50nm以上、800nm以下とすることが望ましい。凸部上面11aを非信号領域12の面12aよりも高くすることにより、密着圧力を凸部上面により効率的に集中させることができ、密着圧力を小さくすることができる。密着圧力を小さくすることにより、マスター担体とスレーブ媒体間に介在する塵埃等による両者の表面への傷の発生を抑制することができる。なお、高さHが50nm未満であると、マスター担体とスレーブ媒体間への異物の付着によって信号領域の密着不良が生じ信号の脱落等が生じる可能性が高く、高さHを800nmより大きくすると、信号領域と非信号領域の間の高低差が大きくなりすぎ、両者の高低差によるマスター担体の変形量が大きくなって転写異常を生じる虞がある。したがって、高さHを上述の50nm以上、800nm以下とすることが特に好ましい。
【0056】
なお、図6(b)に示すように、凹凸パターンの凹部底面11cが非信号領域12の面12aより低くなっていても、凹凸パターンの凸部上面11aが非信号領域12より高くその差Hが上記範囲であればよい。
【0057】
以下、具体例について行った3つの評価実験方法および評価結果について説明する。いずれの評価実験においても、それぞれ異なる条件のマスター担体を作製し、各マスター担体を用いてスレーブ媒体に磁気転写を行い、該磁気転写されたスレーブ媒体からの再生信号を用いて転写特性の評価を行った。
【0058】
まず、各マスター担体の作製および評価実験方法について共通する条件を説明する。
【0059】
各マスター担体基板はNi基板でありスタンパ法を用いて作製した。Ni基板は図7(a)もしくは同図(b)に断面図を示すような凹凸パターンを有するものとする。図7は、基板のトラック方向断面図を示すものである。図7に示す凹凸パターンにおいて、最短ビット長L、凸部高さhであり、同図(a)のパターンにおいては信号領域の凹部底面と非信号領域との高低差が400nm、同図(b)のパターンにおいては信号領域の凸部上面から非信号領域の高低差が400nmである。図7(a)は、凹凸パターンが、信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における前記凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されたものであり、一方、同図(b)は、信号領域において凹部の上面の総面積が、凸部における凹部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されたものである。以下、図7(a)に示す凹凸パターンをパターンa、同図(b)に示す凹凸パターンをパターンbと称する。
【0060】
1セクタ当たりのビット数は80とし、トラック幅は5μmとした。最短ビット長100nmおよび200nmのパターン描画にはEB描画装置を用い、最短ビット長500nmおよび1μmのパターン描画にはレーザ光描画装置を用いた。
【0061】
Ni基板上にFe70Co30組成の磁性層を、以下に示す所定のスパッタ条件により所定厚さ設けて各マスター担体とした。
【0062】
磁気転写は実施形態に記述した手法により行った。各々マスター担体に対する密着圧力は、信号が転写されたスレーブ媒体において一定以上の再生出力が実現し、それ以上の密着圧力を印加しても信号転写後のスレーブ媒体から得られる再生信号振幅に差がなくなる最小圧力を選定した。
【0063】
スレーブ媒体として用いた磁気記録媒体は2.5インチサイズのガラス基板上にCoCrPt/CrTiの磁性層/下地層を設けた保磁力Hcが3200Oe(≒255kA/m)のハードディスク媒体である。
【0064】
各マスター担体を用いて磁気転写を行ったスレーブ媒体について、協同電子製スピンスタンドSS−60改造型および、ヘッド(再生側)としてReadトラック幅0.4μm、シールド間ギャップ長0.12μmのGMRヘッドを用いて、再生信号ビット列をデジタルオシロスコープに取り込み、ポジティブ側セクタ内平均振幅Pos.とネガティブ側セクタ内平均振幅Neg.を求めた。
【0065】
以下各評価実験について説明する。
【0066】
<評価実験1>
図7における凸部高さhを100nmとし、Fe70Co30組成磁性層をスパッタ圧1.4×10−1Pa、スパッタ投入電力2.8W/cm2の条件で100nm厚設けた。
【0067】
具体的には、パターンaを有するマスター担体、パターンbを有するマスター担体であって、最短ビット長Lが100nm、200nm、500nm、1μmのマスター担体をそれぞれ作製し、各マスター担体についての{Pos./(Pos.+Neg.)}×100(%)を求め、この値が、40%以上60%以下であれば良好(○)、30%以上40%未満および60%より大きく70%未満であれば可(△)、30%未満、70%より大であれば不良(×)と評価した。表1にその結果を示す。
【0068】
【表1】
表に示すように、パターンa、bのいずれのマスター担体についても、最短ビット長が500nm、1μmの場合は良好との結果が得られたが、最短ビット長が200nm、100nmと短くなるにつれ、パターンbのマスター担体では可もしくは不良という結果となった。一方、パターンaのマスター担体は、最短ビット長が200nm、100nmいずれにおいても良好な結果が得られた。また、いずれの最短ビット長を有するものにおいてもパターンaを有するマスター担体と比較してパターンbを有するマスター担体では2〜3倍の密着圧力が必要であった。
【0069】
<評価実験2>
最短ビット長100nm、200nm、500nmのパターンaを有するそれぞれのマスター担体において、凸部高さhを40nm、75nm、100nmとし、磁性層の厚みをそれぞれ凸部高さと同じ厚みとしたマスター担体をそれぞれ作製し、各マスター担体について、(Pos.+Neg.)/2を求めて比較評価した。なお、再生ヘッドギャップ損失のため、ビット長が異なると再生信号レベルが異なるため、各値は、最短ビット長毎に、高さ平均値100nmのものを0dBとして比較した。また、最短長100nmの場合の測定精度は、他2者に比べてやや劣る。実験結果を表2に示す
【表2】
表2に示すように、いずれの最短ビット長を有するマスター担体についても、高さ平均値が75nmでは−1dB程度であるが、高さ平均値が40nmでは、−6〜−7dBとなった。すなわち高さ平均値が高いものの方がより良好な再生信号を得ることができる傾向にあることが明らかになった。
【0070】
<評価実験3>
最短ビット長100nm、200nm、500nmのパターンaを有するそれぞれのマスター担体であって、凸部高さhを40nm、75nm、100nmとし、磁性層はそれぞれ凸部高さと同じ厚みとしたマスター担体をそれぞれ作製した。高さばらつきは磁性層形成時のスパッタ条件(スパッタ圧、スパッタ投入電力およびターゲット・基板間距離)を変えることにより制御した。スパッタ条件は表3に示す通りである。
【0071】
【表3】
各最短ビット長および3σ値を有する各マスター担体について、Positive側各ビットビットの、パルス高さ変動(Pos.(max値)−Pos.(min値))/Pos.)×100(%)を求め、この値が、10%未満であれば良好(○)、10%以上30%以下であれば可(△)、30%より大きければ不良(×)と評価した。その結果を表4に示す。
【0072】
【表4】
表4に示すように、いすれの最短ビット長を有するマスター担体においても、3σ値が9nm以下のものでは全て良好な結果が得られたが、3σ値が20nmのものでは、可もしくは不良という結果であった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の平面図
【図2】(a)図1の領域a内の1トラック分の転写で磁気記録媒体上に設けられる磁化パターンの模式拡大平面図、(b)(a)のb−b断面に対応する凹凸パターンを示す断面図、および(c)凹凸パターン形状比較のために示すb−b断面図に対応する断面図
【図3】磁気転写用マスター担体の層構成を示す断面図
【図4】スレーブ媒体への磁気転写方法の基本工程を示す図
【図5】他の形態の磁気転写用マスター担体の層構成および凹凸パターン構成を説明するための断面図
【図6】より好ましい形態の磁気転写用マスター担体の断面図
【図7】評価実験に用いたマスター担体の断面図
【符号の説明】
10 磁気転写用マスター担体
11 信号領域
11a 凸部上面
11b 凹部開口部の凸部上面延長面
12 非信号領域
15 中心孔
20 スレーブ媒体
21 スレーブ媒体の支持体
22 磁性層
Claims (4)
- 転写すべき信号パターンに応じた凹凸パターンが形成された信号領域を表面に有する磁気転写用マスター担体であって、
前記凹凸パターンの最短ビット長が300nm以下であり、
前記凹凸パターンが、前記信号領域において凸部の上面の総面積が、凹部における前記凸部の上面の延長面の総面積よりも小さくなるように形成されていることを特徴とする磁気転写用マスター担体。 - 前記基板の凹凸パターンの凹部の底面から凸部の上面までの高さの平均値が50nm以上であることを特徴とする請求項1記載の磁気転写用マスター担体
- 前記高さのばらつき3σ値が10nm以下であることを特徴とする請求項2記載の磁気転写用マスター担体。
- 前記信号領域以外の非信号領域の面から前記凸部の上面までの高さが50nm以上、800nm以下であることを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の磁気転写用マスター担体。
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