JP4249063B2 - 磁気転写用マスター担体および磁気転写装置並びに磁気転写方法 - Google Patents
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Description
前記マスター基板は、同一半径における1周での歪み量が70μm以下、同一半径における1周での歪み量における1次成分と2次成分の合計に対する3次成分の比率が20%以下、反り量が150μm以下であることを特徴とするものである。
なお、前記原盤13の作製において、レジスト膜11を露光・現像処理した後、エッチング処理を行って、ウエハー原板10の表面にエッチングによる凹凸パターンを形成してからレジスト膜11を除去してもよい。この凹凸パターン上にNi導電膜を施してから、図3(c)と同様に、電鋳処理を施して凹凸パターンを有する原盤13を作製してもよい。
振幅(θ)=A+B1×sin(θ+C1)+B2×sin(2θ+C2)+B3×sin(3θ+C3)
+B4×sin(4θ+C4)
但し、θ:角度(deg.)、A,B1〜B4,C1〜C4:任意の係数(実数)
を用いてフィッティングした。このフィッティングにより求めた、実施例1の各周期成分の振幅は、B1=11.7,B2=1.7,B3=2.3,B4=2.0であった。そして、2次を越える3次成分の比率(1次成分と2次成分の合計に対する3次成分比率)を求めるため、{B3/(B1+B2)}×100(%)を計算し、表1に示した。
2 マスター基板
3 磁性層
4 スレーブ媒体
5 金属盤
10 原板
11 レジスト膜
13 原盤
Claims (4)
- 表面に転写する情報に応じた凹凸パターンを有する金属製のマスター基板と、凹凸パターン上に成膜された磁性層とを備えた磁気転写用マスター担体において、
前記マスター基板は、同一半径における1周での歪み量が70μm以下、同一半径における1周での歪み量における1次成分と2次成分の合計に対する3次成分の比率が20%以下、反り量が150μm以下であることを特徴とする磁気転写用マスター担体。 - 前記マスター基板は、Ni電鋳層で形成されてなることを特徴とする請求項1に記載の磁気転写用マスター担体。
- 請求項1または2記載の磁気転写用マスター担体を用いて、該マスター担体の表面とスレーブ媒体である磁気記録媒体と密着させた状態で、転写用磁界を印加して前記情報を前記磁気記録媒体に転写することを特徴とする磁気転写装置。
- 請求項1または2記載の磁気転写用マスター担体と請求項3に記載の磁気転写装置を用いて、スレーブ媒体である磁気記録媒体と前記マスター担体とを密着させた状態で、転写用磁界を印加して前記情報を前記磁気記録媒体に転写することを特徴とする磁気転写方法。
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