KR20010107710A - 제어된 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져를안전하게 하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 다수의 가이드 롤러를 사용해 상류측 챔버로부터 하류측 챔버로 이동하는 금속 스트립을 급냉하기 위한 챔버를 포함하며 가스 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져를 안전하게 하기 위한 방법이며, 스트립이 적어도 하나의 압력 평형 덕트와, 다양한 챔버 사이에 위치된 다수의 가스 로크를 사용하여 급냉 인클로져 내에 한정되며, 챔버 사이의 가스 분위기의 압력이 상기 가스 로크를 통해 흐르는 가스의 유동율을 제어하고 덕트를 사용하여 평형화된다.

Description

제어된 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져를 안전하게 하는 방법{Method of making safe a heat treatment enclosure operating under a controlled atmosphere}

본 발명은 제어된 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져(heat treatment enclosure)를 안전하게 하는 방법에 대한 것이며, 보다 상세하게는 높은 수소 함량을 갖는 분위기 하에서 작동하는 안전한 처리 인클로져를 제조하는 방법에 대한 것이다.

본 발명의 다른 양태에 따르면, 열처리 플랜트, 특히 연속적인 열처리용 노(continuous heat treatment furnace) 또는 금속 스트립(strip) 코팅용 수직 노(vertical furnace) 분야에서 볼 수 있는 인클로져 등에 대한 것이다.

예를 들어 풀림(annealing) 또는 코팅용 노와 같은 연속적인 열처리용 노는, 예열, 가열, 소킹(soaking), 서냉 및 급냉 중의 하나 이상의 영역으로 구성된다.

각각의 이들 영역은 처리될 재료에 따른 금속학적인 처리 사이클에 의해 정해지는 정확한 시간동안 정밀한 가열 및 냉각율로 스트립을 가열하고 그 온도를 유지하거나 또는 냉각할 수 있게 한다.

최근에 개발된 새로운 등급(grade)의 강철은 새로운 가열 및 냉각율로 정해지는 새로운 처리 사이클을 요구한다.

이들 새로운 사이클에 의해 지정되는 높은 냉각율은 스트립 상으로 송풍되는 냉각용 가스의 압력을 증가시키거나 또는 가능한 한 최고의 가스/스트립 열전달 계수(exchange coefficient)를 얻도록 송풍 배치(blowing geometry)를 최적화하여 얻어진다. 낮은 수소 함량을 갖는 현재 사용되는 장비는 냉각시 얻을 수 있는 최대 비율이 0.8mm 두께의 스트립에 대해 약 60℃/sec이고, 이를 넘는 비율에서는 플랜트의 비용, 팬(fan)에 의해 흡수되는 동력, 장치 치수가 너무 커지거나 또는 과다한 가스 송풍 속도가 스트립의 위치를 불안정하게 한다. 이러한 냉각율을 얻기 위해, 라인 속도를 제한할 수도 있지만, 이는 따라서 그 제조량을 제한하게 되고 이러한 기술이 수지에 맞지 않게 된다.

냉각영역에서의 성능을 증가시키는 것은 0.8mm 두께 스트립에 대해 약 80 내지 200℃/sec 이상의 냉각율을 낼 수 있는 열전달 계수에서의 큰 증가를 얻기 위해, 100%까지의 높은 수소 함량을 갖는 분위기를 사용할 것을 요구한다. 이는 공칭 라인 속도에서 얻어지는 처리 사이클에 적용할 수 있다.

수소 퍼센트 농도(percentage concentration)를 이러한 값으로 증가시키는 제어 방법은 이러한 가스의 성질(특히 이러한 가스의 폭발 특성) 때문에 중대한 문제점을 일으킨다. 특히, 스트립 출입 영역에서 공기와 접촉하여 플랜트의 작동 안전에 큰 위험을 일으킬 수 있는 라인에서는 이러한 분위기를 사용할 수 없다. 그러므로, 높은 수소 함량을 갖는 영역을 급랭 영역으로 한정하고, 그 처리 공정에서수소 함량이 감소되어도 좋은 라인의 인접 영역으로부터 이러한 영역을 격리하여, 라인의 작동 안전을 보장할 필요가 있다.

이러한 작동 안전성은 라인의 정상 또는 안정된 작업 중에, 그리고 예를 들어 라인 중단 또는 스트립 파단과 같은 사고가 일어나거나, 스트립 형태(format) 또는 라인 속도에 변화가 일어날 때, 반드시 보장되어야 한다.

이러한 다양한 라인 작동 조건은 챔버 내에 압력 편차가 있게 하며, 이러한 편차는 많은 양의 수소를 함유하는 분위기를 상당히 팽창 또는 수축하여 증가되어, 한 챔버로부터 다른 챔버로 분위기가 유동하게 한다. 이는 분위기의 조성이 변하게 하고 높은 수소 함량을 갖는 영역이 제어되지 않으면 상당히 위험할 수 있다.

이러한 냉각 또는 가열율 구배(cooling or heating rate gradients)를 얻게 하는 작동 방법은 본 출원인의 프랑스 특허출원 제 2 746 112호의 과제를 이룬다.

본 발명의 과제를 이루는 방법에 의해 제안되는 방법 및 이러한 방법이 실시되게 하는 플랜트는 분위기 변환 제어(atmosphere exchange control)에 관한 요구 사항을 만족하면서, 상기 안전 문제에 대한 대안을 제시한다. 이들 요구 사항은 상기 라인의 정상 작동 중에, 또는 처리될 스트립의 형태나 또는 그 속도가 변하거나 또는 라인 고장 또는 스트립 파단과 같은 제조시에 사고가 있더라도, 제어되는 분위기(특히, 수소)의 소비량을 줄이고 열처리 플랜트의 작동을 최적화할 수 있게 한다.

이를 위해, 다수의 가이드 롤러를 사용해서 상류측 챔버로부터 하류측 챔버로 나아가는 금속 스트립을 급냉하기 위한 챔버를 포함하는, 가스 분위기 하에서작동하는 안전한 열처리 인클로져를 제조하는 본 방법은, 상기 스트립이 적어도 하나의 압력 평형 덕트(pressure-balancing duct)와, 다양한 챔버 사이에 위치된 다수의 가스 로크(gas lock)를 사용하여 급냉 챔버 내에 한정되고, 상기 챔버 사이의 가스 분위기의 압력은 상기 가스 로크를 통해 유동하는 가스의 유동율을 제어하고 덕트를 사용하여 압력평형된다.

본 발명의 다른 특징 및 장점은 본 발명의 예시적인 실시예를 도시하는 첨부된 도면을 참조하여 하기에 기술되는 상세한 설명으로부터 명확해진다.

도 1은 본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 1 실시예의 측입단면도(sectional view of side elevation).

도 2는 본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 2 실시예의 측입단면도.

도 3은 본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 3 실시예의 측입단면도.

도 4는 본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 4 실시예의 측입단면도.

도 5는 본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 5 실시예의 측입단면도.

도 6은 본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 6 실시예의 측입단면도.

도 7은 본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 7 실시예의 측입단면도.

도 8은 도 7과 유사한 본 발명의 변형 실시예를 도시하는 측입단면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

1: 금속 스트립 2: 상류측 챔버

3: 가이드 롤러 4a, 4b: 가스 로크

본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 1 실시예에 따르면, 이 플랜트는 가이드 롤러(3) 상에서 상류측 챔버(2)로부터 하류측 챔버(7)로 나아가는 연속 처리용 수직 노를 포함한다.

급냉 챔버(5)는 스트립 상에 가스를 송풍하기 위한 최신식 냉각 장치(도시되지 않음)를 구비한다.

급냉 챔버(5)는 가스 로크, 플랩(flap)을 구비한 가스 로크, 롤러를 구비한 가스 로크, 가스 커튼 또는 공지된 기술에 따른 다른 장치와 같은 밀봉 장치인 가스 로크(4a, 4b)에 의해 상류측 챔버(2)와 하류측 챔버(7)로부터 격리된다.

본 발명의 한가지 장점은 덕트(6)에서 특히 급냉과 같은, 열처리를 수행하기 위해 스트립의 일부분을 한정하는 것을 포함한다. 이 덕트(6)는 급냉 챔버(5) 내에 위치되고, 높은 수소 함량을 갖는 제어된 분위기로 채워진다.

본 발명의 다른 장점에 따르면, 급냉 챔버(5)는 챔버(2, 7) 사이의 압력 평형을 위해 상기 챔버(2, 7) 사이에서 유체 교통된다.

높은 함량, 특히 높은 수소 함량의 챔버(5)의 압력은 가스 로크(4a, 4b)를 통한 상기 분위기의 누출율을 제어하여 유지될 수 있다.

높은 수소 함량의 누출은 챔버(2, 7)의 분위기에서 희석되며 이들 챔버에 대해 수소를 보충(top-up)하는 역할을 한다.

그러므로, 상기 노의 부분에서 영역(5)을 보충하기 위해 분위기 주입하는 것이 제한되며, 영역(2, 7)은 가스 로크(4a, 4b)의 제어된 누출 유동율로 보충된다.

챔버(2, 5, 6, 7)의 수소 압력 및 함량은 센서 및 조정 장치(regulating device)에 의해 감시되며, 상기 조정 장치는 다양한 챔버 내의 다양한 분위기의 조성 및 압력을 요구되는 값으로 유지하도록 분위기 보충량을 조정한다.

본 발명의 과제를 이루는 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 2 실시예에 따르면, 이 플랜트는 제어된 가스 분위기에 노출된 급냉 챔버(5)가 금속 스트립의 상향 및 하향 주행로(ascending run and descending run) 모두를 포함한다는 점에서 도 1에 도시된 플랜트와 다르다.

이러한 설정은 가스 로크의 상류측 및 하류측 가스 압력이 동일하도록(동일한 가스 컬럼 양(same mass of gas column)) 가스 로크(4a, 4b)가 동일한 높이에 위치되어야 함을 의미한다.

냉각 장치는 한쪽 또는 양쪽 주행로(run)에 걸쳐 분포되거나, 상이하거나 보조적인 가열-냉각 장치가 스트립의 제 2 주행로를 따라 구비된다.

가스 로크(4a, 4b)에서 닫혀진 급냉 챔버(5) 내에 퍼져 있는 가스 압력을 평형화시키기 위해, 평형 덕트(8; balancing duct)가 플랜트에 부가되어 있다.

열처리 플랜트의 제 1 실시예와 유사한 방식으로, 덕트(6)는 닫혀진 급냉 챔버(5)를 둘러싸며, 이 챔버 둘레에 외피(envelope)를 형성하며, 챔버(2, 7) 모두에 연결된다. 그러므로, 이 덕트(6)는 이들 챔버 내에 퍼져 있는 분위기를 서로 교통하게 하고 압력을 평형화시키는 것을 돕는다.

도 2에서, 높은 수소 함량을 갖는 영역은 막힌 단부(dead end)이고 가스 로크(4a, 4b)의 양 측면은 평형 덕트(8)로 인해 동일한 압력을 가진다. 이러한 배치는 플랜트의 상기 영역(5)과 인접한 영역(2, 7) 사이의 가스 유동을 제한한다. 이는 이들 영역 사이의 가스 유동원을 제한하므로 이러한 평형을 유지하기 위해 필요한 보충 가스, 특히 수소의 유동율을 제한한다.

챔버(5)와 인접한 챔버(2, 7) 사이의 분위기의 격리 정도를 개선하면 챔버(5)에서 높은 수소 함량을 사용할 수 있으므로, 종래 기술에서 얻어지는 열전달 계수 및 냉각율보다 훨씬 큰 열전달 계수 및 냉각율을 얻는다.

대략 플랜트의 중심 및 덕트(8)의 상부에 위치되는 부분(9)이 스트립 상에 가스를 송풍하기 위한 장치(배관, 제어 밸브 등)를 설치하기 위해 확보된다. 이러한 구성으로 되면, 상기 부분은 생략될 수 있고, 챔버(5)는 도 3에 도시된 바와 같이 제조될 수 있다.

본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 3 실시예에 따르면(도 4 참조), 이 플랜트는 가이드 롤러(3) 상에서 상류측 챔버(2)로부터 하류측 챔버(7)로 나아가는 금속 스트립(1)을 연속적으로 처리하기 위한 수직 노를 포함한다.

급냉 챔버(5)는 스트립 상으로 가스를 송풍하기 위한 최신식 냉각 장치(도시되지 않음)를 구비한다.

급냉 챔버(5)는 가스 로크, 플랩을 구비한 가스 로크, 롤러를 구비한 가스 로크, 가스 커튼 또는 공지된 기술에 따른 다른 장치와 같은 밀봉 장치인 가스 로크(4a, 4b)에 의해 상류측 챔버(2)와 하류측 챔버(7)로부터 격리된다.

도 4에 도시된 바와 같이, 밀봉용 가스 로크(4a, 4b)는 급냉 챔버(5)의 상류측 및 하류측 각각에 수평으로 위치되고, 인접한 챔버(2, 7)를 교통하게 하고 결과적으로 앞서의 실시예에서와 같이 이들 챔버 내에 퍼져있는 가스 압력을 평형화시키는 것을 돕는 덕트(6)를 대략 수평방향에서 한정할 수 있다.

유사하게, 가스 로크(4a, 4b)와 챔버(5)의 하부 사이의 교통이 평형 덕트(8)를 사용하여 이루어진다.

제 2 실시예의 경우와 같이, 그리고 스트립 상에 가스를 송풍하기 위한 요소의 구조가 허용한다면, 스트립의 상향 및 하향 주행로가 도 3에 도시된 바와 같이 단일 챔버에 조합될 수 있다.

본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 4 실시예에 따르면(도 5 참조), 이 플랜트는 냉각 챔버 내의 높은 수소 함량의 분위기를 안전하게 하는 수단을 포함한다. 이를 위해, 이러한 플랜트는 처리 라인의 챔버들의 다양한 지점 사이의 압력을 평형화하기 위한 세 개의 덕트를 포함한다.

높은 수소 함량의 챔버(5)는 격리용 가스 로크(4a, 4b)에서의 동일한 압력을 유지하기 위한 제 1 평형 덕트(8)를 구비한다. 제 2 평형 덕트(10)가 가스 로크의압력을 동일한 레벨로 유지하는 데 사용된다.

최종적으로, 제 3 평형 덕트(6)가 상류측 및 하류측 챔버(2, 7)의 압력을 동일한 레벨로 유지시키고, 높은 수소 함량의 챔버(5)와 가스 로크의 압력 체제(pressure regime)를 교란시키지 않고 가스가 자유 순환유동하게 한다.

특히 수소의, 다양한 챔버 내의 함량 및 압력이 연속적으로 측정되고, 수소 압력 및 함량을 그 안에서 일정하게 유지하기 위해 이들 다양한 챔버들 내에 적절한 량의 분위기 보충이 이루어진다. 분위기를 빼내기 위한 지점(point)이 상기 영역 각각에서 또는 압력-평형 덕트 내에서 이루어져, 그 안의 분위기를 교란할 수 있는 두 영역 사이의 기생류(parasitic flow)를 방출할 수 있다.

높은 수소 함량의 챔버로부터 뽑아내진 분위기는 낮은 수소 함량의 분위기로 재생산하기 위해 질소를 주입한 후, 라인 외측에서 처리되거나 또는 상기 라인에서 직접 사용될 수 있다. 이러한 과정은 라인의 전체 수소 소비량을 상당히 감소시킨다.

본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 5 실시예에 따르면(도 6 참조), 이러한 플랜트는 도 5에 도시한 것과 그 디자인이 유사하지만(3개의 압력-평형 덕트를 가짐), 높은 수소 함량의 챔버로부터 뽑아내진 분위기를 재순환시키는 수단(recycling means)을 포함한다는 점이 다르다.

제 1 파이프(11a, 11b)는 양호하게는 가스 로크(4a, 4b) 근처에 위치되는 높은 수소 함량의 분위기를 뽑아내는 지점에 연결되어 있다. 예를 들어 팬(12a, 12b)과 같은 추출 장치(extraction device)는 상기 분위기를 운반하고 제 2파이프(16a, 16b)를 경유해 플랜트 외측으로 방출하기 위해 영역(13a, 13b)으로 보내거나, 또는 가스 보충용 혼합기(특히 질소)로 이 분위기를 희석하기 위해 영역(14a, 14b)으로 보내져, 희석된 가스의 주입 지점이 도면부호(15a, 15b)에 있게 되는 영역인 상류측 영역(2)과 하류측 영역(7)의 수소 함량에 상응하는 값으로 그 수소 함량이 낮춰진 분위기를 얻는다.

이러한 가스 재순환 수단은 챔버(5) 또는 가스 로크(4a, 4b)의 다양한 지점에서의 높은 수소 함량을 갖는 분위기의 유동을 채집(collecting)하도록 적용되어, 챔버(5)와 인접한 챔버(2, 7) 사이의 분위기의 교환을 제한하기 위한 것이다.

이러한 재순환 수단은 높은 수소 함량의 분위기의 흐름을 끌어내어 상류측 및 하류측 영역의 분위기에 상응하는 값만큼 낮게 희석시킬 수 있다.

이와 같이 회수된 흐름(recovered flow)은 다양한 지점에서 플랜트의 상류측 및 하류측 영역으로 주입되어 이들의 압력을 일정하게 유지하고 플랜트로 주입되는 보충 분위기의 유동을 제한하므로, 이러한 플랜트를 안전하게 만드는 것을 도우면서 라인 전체의 수소 소비량을 감소시킬 수 있다.

이러한 재순환 수단은 한편 높은 수소 함량의 챔버(5)의 분위기가 인접한 챔버의 분위기로부터 분리됨을 보장하고, 다른 한편으로 관련한 추출된 흐름을 보충한다.

그러므로, 급냉 챔버(5)를 라인의 작동시의 과도기 상태(transient phases)일 때를 포함하여, 일정한 압력으로 유지할 수 있다. 추출된 흐름을 다시 주입하면 한편으로는 라인 생산 제어 유닛에 의해 전달되는 보충용 흐름을 제한할 수 있고,다른 한편으로 상기 라인의 작동 중에 이러한 분위기를 생산하는 비용을 감소할 수 있다.

이들 재순환 수단은 분위기 혼합 제어 유니트를 급냉 영역(5)으로의 수소 주입기와 추출 수단(12a, 12b) 및 혼합 수단(14a, 14b)으로 교체하여 라인 상에 장착된 분위기 혼합 제어 유니트를 구비하지 않을 수도 있어, 상기 영역들의 다양한 지점으로부터 뽑아내진 흐름을 보충하고. 플랜트의 다른 영역으로 재주입하기 위해 낮은 수소 함량으로 낮추는 희석을 할 수 있다.

그러므로, 급냉 영역(5)의 분위기의 분리는 다양한 영역으로부터 추출된 흐름이 손실되지 않고 이루어진다. 이는 플랜트 운전 비용을 감소한다.

본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 6 실시예에 따르면(도 7 참조), 전체적으로 앞서의 실시예와 유사한 이러한 플랜트는 단일 압력-평형화 챔버(17)를 갖는다는 점에서 다르다.

가스 로크(4a, 4b)와 이들의 압력 평형 덕트(6)는 상기 평형화 챔버(17)를 구성하도록 충분히 연장되며, 한편 상기 평형화 챔버(17)는 가스 로크(19a, 19b)에 의해 높은 수소 함량의 챔버(5)로부터 격리되고, 다른 한편으로 가스 로크(18a)에 의해 상류측 챔버(2)로부터 격리 및 가스 로크(18b)에 의해 하류측 챔버(7)로부터 격리된다. 압력 평형 덕트(6)는 이러한 상류측 및 하류측 챔버를 함께 연결한다. 제 5 실시예에서 설명한 바와 같은, 분위기 추출, 희석 및 재주입 수단이 도면부호 12, 13, 14, 15, 16에서 개략적으로 도시되어 있다.

챔버(17)의 체적은 챔버(5)와 상류측 챔버(2) 및 하류측 챔버(7) 사이의 압력 편차를 감쇠할 수 있게 하며, 분위기 주입 또는 추출 수단을 사용하여 이러한 압력 편차를 보상할 수 있게 한다.

본 발명의 방법을 실시하는 열처리 플랜트의 제 7 실시예에 따르면(도 8 참조), 높은 수소 함량을 갖는 분위기 하의 챔버가 라인의 끝에 위치되고 하류측에 다른 어떤 챔버도 없으면, 이러한 플랜트는 하류측 챔버가 생략되고 스트립 출구(20)가 인클로져(2) 내에 위치되어 높은 수소 함량을 갖는 영역과 떨어져 있다는 점에서 다르다는 점을 제외하고는 제 6 실시예(도 7 참조)와 전체적으로 유사하다.

상술한 바와 같은 본 발명은 하기와 같은 많은 장점을 갖는다.

인접한 챔버로부터 높은 수소 함량의 챔버를 분리하면 압력 평형 덕트를 구비하여 이러한 다양한 챔버들 사이의 분위기 유동 또는 오염을 제한할 수 있다.

작동 상태의 라인의 변동 중 또는 제조중의 사고 중에 플랜트의 다양한 지점에서 추출된 흐름을 복구하면 이러한 흐름이 라인으로 재주입되어, 플랜트에 의한 다양한 타입의 분위기의 소비를 제한할 수 있다.

향상된 격리 제어로 인해 50%이상, 양호하게는 75%이상의 H₂농도를 사용하면 열전달 계수를 향상시킬 수 있고 지금까지 종래기술에서 공지된 플랜트에 의해 얻어진 것보다 개선된 냉각율을 얻을 수 있다.

라인의 수소 소비량을 감소하여 스트립 처리 비용이 감소된다.

제조 중의 사고 중의 챔버 내의 압력 편차를 보상하여 라인의 다양한 챔버내의 분위기의 오염을 감소하게 된다.

라인의 다양한 영역의 수소 농도가 유지되는 것을 막고 다양한 챔버에서 가스/스트립 열전달 계수를 유지하여 처리된 제품의 품질이 향상된다.

플랜트에 위치된 혼합 유니트로 중앙 분위기 혼합 제어 장치를 대체하면, 영역(5)의 밀봉 장치로부터 추출된 높은 수소 함량의 흐름이 재순환되고 플랜트의 다양한 영역으로 재주입되기 전에 희석된다.

물론 본 발명은 지금까지 설명하고 도시한 예시적인 실시예에 제한되지 않으며 청구범위에 포함되는 모든 변형을 포함한다.

Claims (8)

1. 다수의 가이드 롤러(3)를 사용해 상류측 챔버(2)로부터 하류측 챔버(7)로 이동하는 금속 스트립(1)을 급냉하기 위한 챔버(5)를 포함하며 가스 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져(heat treatment enclosure)를 안전하게 하는 방법에 있어서,

   상기 스트립(1)이 적어도 하나의 압력 평형 덕트(6, 8, 10)와 다양한 챔버 사이에 위치된 다수의 가스 로크(4a, 4b, 19a, 19b)를 사용하여 급냉 인클로져(5) 내에 한정되며, 챔버(2, 5, 7) 사이의 가스 분위기의 압력이 상기 가스 로크(4a, 4b, 16a, 16b)를 통해 흐르는 가스의 유동율을 제어하고 덕트(6, 8, 10)를 사용하여 평형화되는, 가스 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져를 안전하게 하는 방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   가스 로크(4a, 4b, 19a, 19b) 근처에 위치된 추출 지점(extraction points)에서 높은 수소 함량의 챔버(5)로부터 추출된 분위기가 재순환되고, 재순환 수단(12a, 12b)이 상기 분위기를 운반하고 파이프(11a, 11b, 16a, 16b)를 경유해 플랜트 외측으로 방출하기 위한 영역(13a, 13b)으로 보내는, 가스 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져를 안전하게 하는 방법.
3. 제 1 항에 있어서,

   가스 로크(4a, 4b, 18a, 18b, 19a, 19b) 근처에 위치된 추출 지점에서 높은 수소 함량의 챔버(5)로부터 추출된 분위기가 재순환되고, 재순환 수단(12a, 12b)이 가스 특히 수소 함량이 상류측 영역(2)과 하류측 영역(7)의 수소 함량에 상응하는 값으로 낮춰진 분위기를 얻기 위해, 상기 추출된 분위기를 운반하고 파이프(11a, 11b, 16a, 16b)를 경유해 가스 보충용 혼합기로 희석하기 위한 영역(14a, 14b)으로 보내는, 가스 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져를 안전하게 하는 방법.
4. 제 1 항 내지 제 3항 중의 어느 한 항에 있어서,

   회수된 흐름(recovered flows)이 플랜트의 상류측 영역(2) 또는 하류측 영역(7)의 다양한 지점에서 주입되어 이들 영역의 압력을 일정하게 유지하고 플랜트로 주입되는 분위기 보충 흐름을 제한하는, 가스 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져를 안전하게 하는 방법.
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,

   높은 수소 함량의 분위기의 유동이 챔버(5) 또는 가스 로크(4a, 4b, 18a, 18b, 19a, 19b)의 다양한 지점에서 채집되어 챔버(5)와 인접한 챔버(2, 7) 사이의 분위기가 서로 섞이는 것을 제한하는, 가스 분위기 하에서 작동하는 열처리 인클로져를 안전하게 하는 방법.
6. 급냉 챔버(5)의 입구 및 출구 사이에 압력 평형 덕트(6)를 포함하는, 제 1 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항의 방법을 수행하는 플랜트.
7. 급냉 챔버(5)의 입구에 위치된 가스 로크(4a)와 상기 챔버(5)의 출구에 위치된 가스 로크(4b) 사이에 압력 평형 덕트(6)를 포함하는, 제 1 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항의 방법을 수행하는 플랜트.
8. 가스 로크(4a, 4b) 사이에 밸랜싱 덕트(10)를 포함하는, 제 1 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항의 방법을 수행하는 플랜트.