KR20010107624A - 기판처리장치 및 기판처리방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- 피처리기판에 자외선을 조사하여 소정의 처리를 행하는 기판처리장치로서,상기 피처리기판을 지지하는 지지수단과,전력 공급을 받아 자외선을 발하는 램프를 복수개 구비하여, 상기 램프로부터 나온 자외선을 상기 피처리기판을 향하여 조사하는 자외선조사수단과,상기 복수개의 램프 각각의 발광상태를 개별적으로 감시하는 램프감시수단과,상기 램프감시수단으로부터의 감시정보에 따라서 상기 자외선조사처리의 소정의 파라미터를 제어하는 제어수단을 가지는 기판처리장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 자외선조사수단으로부터의 자외선이 상기 지지수단에 지지되어 있는 상기 피처리기판의 피처리면을 주사하도록 상기 지지수단 및 상기 램프중 어느 한쪽 또는 양쪽을 소정방향으로 이동시키는 구동수단을 가지는 기판처리장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 제어수단은, 상기 램프감시수단으로부터의 감시정보에 따라서, 상기 주사 속도를 가변제어하는 주사속도제한기능을 가지는 기판처리장치.
- 제 3 항에 있어서, 상기 제어수단은, 어느 하나의 상기 램프의 발광상태가 이상이라는 감시정보가 상기 램프감시수단으로부터 나올 때에, 해당 이상램프의 점등을 중지하도록 상기 자외선조사수단을 제어함과 동시에, 그 상기 주사속도제한기능에 의해 상기 주사속도를 소정의 기준치보다도 소정의 비율만큼 느린 값이 되도록 설정하는 기판처리장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제어수단은, 상기 램프감시수단으로부터의 감시정보에 따라서 상기 자외선의 조사시간을 가변제어하는 자외선조사시간제어기능을 가지는 기판처리장치.
- 제 5 항에 있어서, 상기 제어수단은, 어느 하나의 상기 램프의 발광상태가 이상이라는 감시정보가 상기 램프감시수단으로부터 나올 때에, 해당 이상램프의 점등을 중지하도록 상기 자외선조사수단을 제어함과 동시에, 그 상기 자외선조사시간제어기능에 의해 상기 자외선조사시간을 소정의 기준치보다도 소정의 비율만큼 긴 값이 되도록 설정하는 기판처리장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제어수단은, 상기 램프감시수단으로부터의 감시정보에 따라서 상기 램프의 휘도를 개별적으로 제어하는 램프휘도제어기능을 가지는 기판처리장치.
- 제 7 항에 있어서, 상기 제어수단은, 어느 하나의 상기 램프의 발광상태가 이상이라는 감시정보가 상기 램프감시수단에 의해 나올 때에, 해당 이상램프의 점등을 중지하도록 상기 자외선조사수단을 제어함과 동시에, 그 상기 램프휘도제어기능에 의해 정상상태에 있는 상기 램프의 휘도를 소정의 기준치보다도 소정의 비율만큼 높은 값이 되도록 설정하는 기판처리장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제어수단은, 상기 램프감시수단으로부터의 감시정보에 따라서 상기 램프로의 투입전력을 개별적으로 제어하는 투입전력제어기능을 가지는 기판처리장치.
- 제 9 항에 있어서, 상기 제어수단은, 어느 하나의 상기 램프의 발광상태가 이상이라는 감시정보가 상기 램프감시수단으로부터 나올 때에, 해당 이상램프의 점등을 중지하도록 상기 자외선조사수단을 제어함과 동시에, 그 상기 투입전력제어기능에 의해 정상상태에 있는 상기 램프로의 투입전력을 소정의 기준치보다도 소정의 비율만큼 높은 값이 되도록 설정하는 기판처리장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 자외선조사수단의 상기 복수개의 램프중의 일부를 예비램프로서 비점등사용상태로 유지하고, 다른 어느 하나의 상기 램프의 발광상태가 이상이라는 감시정보가 상기 램프감시수단에 의해 나올 때에, 상기 제어수단이 그 이상램프대신에 상기 예비램프를 점등사용하도록 상기자외선조사수단을 제어하는 기판처리장치.
- 피처리기판에 자외선을 조사하여 소정의 처리를 하는 기판처리장치으로서,상기 피처리기판을 지지하는 지지수단과,전력 공급을 받아 자외선을 발하는 램프를 구비하여, 상기 램프로부터 나온 자외선을 상기 피처리기판을 향하여 조사하는 자외선조사수단과,상기 램프의 발광상태를 개별적으로 감시하는 램프감시수단과,상기 램프감시수단으로부터의 감시정보에 따라서 상기 자외선조사처리의 소정의 파라미터를 제어하는 제어수단을 가지는 기판처리장치.
- 복수의 램프로부터 피처리기판에 자외선을 조사하여 소정의 처리를 하는 기판처리방법으로서,상기 복수의 램프 발광상태를 개별적으로 감시하는 공정과,상기 감시하는 공정의 감시정보에 따라서 자외선조사처리의 소정의 파라미터를 제어하는 공정을 구비하는 기판처리방법.
- 복수의 램프로부터 피처리기판에 자외선을 조사하여 소정의 처리를 하는 기판처리방법으로서,상기 복수의 램프 발광상태를 개별적으로 감시하는 공정과,상기 감시하는 공정에서, 어느 하나의 상기 램프의 발광상태가 이상인 것으로 확인될 때에, 그 이상램프의 점등사용을 멈추고, 나머지의 램프에 의해 정상적인 조사가 행해지도록 자외선조사처리의 소정의 파라미터를 제어하는 공정을 구비하는 기판처리방법.
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