KR20010081570A - 방사선 검사시스템 및 검사방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 검사대상의 검사를 위한 방사선을 발생시키는 스캐닝 방사선 전자관과, 상기 스캐닝 방사선 전자관으로부터 검사대상에 투사하여 획득한 복수개의 방사선 투시상을 각각 가시상으로 변환하여 가시영상면에 투영하는 영상증배관을 갖는 방사선 검사시스템 및 검사방법에 관한 것이다. 본 검사시스템은, 상기 가시영상면에 대향되는 편광판을 가지며, 상기 각 가시상의 형성과 동기적으로 상기 편광판의 상기 각 가시상에 대향되는 영역의 순차적인 가시상 통과를 허용하는 전자셔터와; 상기 전자셔터에 의해 상기 편광판을 통과한 상기 각 가시상을 순차적으로 촬상하기 위한 촬상장치를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 전자셔터를 사용함으로써, 정확하고 신속한 검사결과를 얻을 수 있으며, 동시에 원가를 절감할 수 있다.
Description
본 발명은 방사선 검사시스템 및 검사방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 전자셔터를 이용하여 계조 가시상을 선택적으로 투과시킬 수 있도록 함으로써,장비를 간소화할 수 있도록 한 방사선 검사시스템 및 검사방법에 관한 것이다.
방사선중 엑스선은 파장이 10∼nm 정도인 전자파로, 보통의 빛과 마찬가지로 반사, 굴절, 회절 및 편차와 같은 광학적인 특성을 가지고 있으며, 회절격자를 사용하여 파장을 정확하게 측정할 수 있다.
엑스선과 같은 방사선은 물체를 투과하는 능력이 있으며, 이 투과율은 물질의 종류, 밀도, 두께에 따라 다르기 때문에 엑스선 탐상법에서는 이 성질을 이용하여 엑스선 촬영한 필름의 감광 농도차에서 결함부의 두께와 위치를 탐색한다. 한편, 엑스선을 물체에 입사했을 때 회절현상이 나타나기 때문에, 엑스선 응력 측정법에서는 일정 파장의 특정 엑스선을 물체에 입사하고 탄성적 응력이 가해지고 있을 때의 특정한 결정 격자면의 면간 거리의 변화를 회절선을 통해 측정하여 이로써 응력을 구하기도 한다.
일반적으로 엑스선 검사 시스템은 이러한 엑스선 검사법을 응용하여 시스템화한 대표적인 비파괴 검사 시스템의 일종으로, 불투명한 검사 대상을 구성하는 물질의 종류, 밀도, 두께에 따라 서로 다른 엑스선 투과 특성을 반영하는 엑스선 투시상을 가시상인 계조 가시상으로 변환한 후, 이렇게 획득한 검사 대상의 계조 가시상을 바탕으로 외부에서 시각적으로 관측되지 않은 관심 부위에 대한 비파괴 검사를 수행할 수 있도록 한 검사시스템이다.
엑스선 검사시스템은, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 비파괴 검사대상인 검사대상을 투과하는 엑스선을 발생하는 스캐닝 엑스선 전자관(51)과, 검사대상을 투과한 엑스선을 눈에 보이는 가시상으로 변화시키기 위한 영상증배관(55)과, 가시상들 중 원하는 가시상을 선택하기 위한 영상선택장치(60)와, 선택된 가시상들을 촬상하여 이미지센서상에 촬상하거나 출력하는 촬상장치인 CCD 카메라(65)를 구비하고 있다.
여기서, 스캐닝 엑스선 전자관(51)과 영상증배관(55) 사이에는 검사대상(53)이 배치되며, 검사대상(53)은 XY방향으로 이동가능한 위한 X-Y 테이블(57)에 고정되어 엑스선이 검사대상(53)의 선택된 검사영역을 경유하여 투과되도록 한다. 그리고, 스캐닝 엑스선 전자관(51)은, 원주상을 일정 속도로 회전하면서 검사대상(53)의 검사영역에 대향하는 방향에서 검사대상(53)을 향하여 엑스선을 주사한다.
이렇게 스캐닝 엑스선 전자관(51)에서 원주상을 따라 회전하면서 엑스선이 출력되므로, 엑스선이 검사대상(53)을 통과하며 형성된 투시상은 영상증배관(55)의 상단면에 원주를 따라 형성된다. 이 투시상은 눈에 보이지 아니하며, 영상증배관(55) 내부로 입사되어 가시상으로 변환되어 영상증배관(55)의 하단에 위치한 가시영상면(56)에 결상된다.
이러한 가시영상면(56)에 결상된 가시상은 영상선택장치(60)에 의해 선택되어 CCD 카메라(65)에 촬상되며, CCD 카메라(65)에 촬상된 영상은 컴퓨터를 통해 합성되어 분석된다.
영상선택장치(60)는, 영상증배관(55)의 가시영상면(56)의 하부에 배치되며, 가시영상면(56)에 평행한 회전축을 구비한 제1회전체(61)와, 가시영상면(56)에 대해 수직방향으로 형성된 제2회전체(62)를 구비하고 있다. 제1회전체(61)의 선단에는 제1회전체(61)의 회전축과 평행한 방향으로 고정되어 가시영상면(56)의 종단방향에 대해 선택적으로 반사각을 형성하기 위한 제1거울(63)이 장착되어 있으며, 제2회전체(62)의 선단에는 제2회전체(62)의 회전축과 평행한 방향으로 고정되어 제1거울(63)의 대향면을 선택적으로 반사함에 따라 가시영상면(56)에 투영된 가시상을 횡단 방향에 대해 선택적으로 반사하는 제2거울(64)이 장착되어 있다. 그리고, 영상선택장치(60)는 제1거울(63)과 제2거울(64)에 의해 형성된 광학적인 반사경로를 통해 가시영상면(56)의 임의의 위치에 투영된 가시상을 선택적으로 CCD 카메라(65)에 제공할 수 있도록 제1회전체(61)와 제2회전체(62)의 회전각을 제어하는 회전체제어부(67)를 더 포함한다.
여기서, 제1 및 제2회전체(61,62)는 갈바노미터로 형성되며, 갈바노미터는 관성이 매우 작아 고속의 정밀한 서보 제어가 가능하다. 따라서, 제1 및 제2회전체(61,62)에 의해 제1 및 제2거울(63,64)이 회전되어 어떤 위치에 대해서도 반사가 가능하여 CCD 카메라(65)로 영상을 전달할 수 있다.
그런데, 이러한 종래의 엑스선 검사장치에서는 영상선택장치(60)의 제1 및 제2회전체(61,62)를 갈바노미터를 사용함으로써, 원가가 상승된다. 그리고, CCD 카메라(65)로 가시상을 전달할 때 사용되는 한 쌍의 거울에 의해 가시상의 왜곡현상이 발생하므로, 검사결과의 신뢰성과 정밀도가 저하된다는 문제점이 있다.
한편, 별도의 영상선택장치(60)를 사용하지 아니하고, 엑스선 전자관(51)에 의해 형성되는 투시상의 수만큼 영상증배관(55)과 CCD 카메라(65)를 마련함으로써, 각 투시상을 가시상으로 변환하여 바로 CCD 카메라(65)로 촬상하도록 하는 방법도제시되어 있다. 그러나, 이 방법을 사용할 경우에는 신속하고 정확하게 가시상을 촬상하여 분석할 수 있다는 장점이 있으나, 갈바노미터를 사용하는 것보다 훨씬 큰 비용이 든다는 문제점이 있다.
따라서 본 발명의 목적은, 신속하고 정확하게 가시상을 촬상할 수 있으며, 원가를 절감할 수 있는 방사선 검사시스템 및 검사방법을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 방사선 검사장치의 사시도,
도 2는 도 1의 전자셔터의 편광판을 나타낸 평면도,
도 3은 도 1의 카메라에 촬상된 이미지를 나타낸 평면도,
도 4는 종래의 방사선 검사장치의 사시도,
도 5는 도 4의 영상증배관을 하부에서 본 사시도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1 : 스캐닝 엑스선 전자관 3 : 검사대상
5 : 영상증배관 7 : X-Y테이블
10 : 전자셔터 11 : 편광판
13 : 투과영역 15 : CCD 카메라
상기 목적은, 본 발명에 따라, 검사대상의 검사를 위한 방사선을 발생시키는 스캐닝 방사선 전자관과, 상기 스캐닝 방사선 전자관으로부터 검사대상에 투사하여 획득한 복수개의 방사선 투시상을 각각 가시상으로 변환하여 가시 영상면에 투영하는 영상증배관을 갖는 방사선 검사시스템에 있어서, 상기 가시 영상면에 대향되는 편광판을 가지며, 상기 각 가시상의 형성과 동기적으로 상기 편광판의 상기 각 가시상에 대향되는 영역의 순차적인 가시상 통과를 허용하는 전자셔터와; 상기 전자셔터에 의해 상기 편광판을 통과한 상기 각 가시상을 순차적으로 촬상하기 위한 촬상장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 방사선 검사시스템에 의해 달성된다.
여기서, 상기 전자셔터의 편광판은, 전원공급시 빛의 통과를 허용하는 LCD로 형성됨으로써, 전원공급시 가시상을 투과시킬 수 있다.
상기 편광판에 투영되는 각 가시상들은 원주방향을 따라 순차적으로 복수개가 형성되며, 상기 전자셔터의 편광판에는 원주방향을 따라 상기 각 가시상에 대응되는 복수의 투과영역이 형성됨으로써, 각각의 가시상을 투과시킬 수 있다.
상기 각 투과영역은 상기 각 투과영역에 대응되는 각 가시상의 형성과 동기적으로 전원이 공급되어 빛의 통과가 허용됨으로써, 가시상 형성과 동시에 투과영역으로 가시상이 투과될 수 있다.
한편, 상기 목적은, 본 발명의 다른 분야에 따르면, 검사대상의 검사를 위한 방사선을 발생시키는 스캐닝 방사선 전자관과, 상기 스캐닝 방사선 전자관으로부터 검사대상에 투사하여 획득한 복수개의 방사선 투시상을 각각 가시상으로 변환하여 가시영상면에 투영하는 영상증배관을 갖는 방사선 검사방법에 있어서, 상기 각 가시상에 대응되는 복수의 투과영역을 갖는 전자셔터를 마련하는 단계와; 상기 각 투과영역을 통해 상기 각 가시상을 순차적으로 통과시키는 단계와; 상기 전자셔터를 통과한 상기 각 가시상을 촬상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방사선 검사방법에 의해서도 달성될 수 있다.
여기서, 상기 전자셔터를 마련하는 단계는, 전원공급시 빛을 투과시키는 LCD에 각각 별도의 전원을 공급받는 복수의 투과영역을 형성하는 단계로서, 전원공급시 각 가시상을 통과시킬 수 있다.
상기 각 가시상을 통과시키는 단계는, 상기 각 투과영역에 상기 각 가시상의 형성과 동기적으로 전원을 공급하는 단계로서, 각 가시상의 형성시 각 가시상에 대응하는 투과영역으로 가시상이 투과가능하도록 한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
본 엑스선 검사장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 비파괴 검사대상(3)인 검사대상을 투과하는 엑스선을 발생하는 스캐닝 엑스선 전자관(1)과, 검사대상을 투과한 엑스선을 눈에 보이는 가시상으로 변화시키기 위한 영상증배관(5)과, 가시상들 중 원하는 가시상을 선택하기 위한 영상선택장치(10)와, 선택된 가시상들을 촬상하여 이미지센서상에 촬상하거나 출력하는 촬상장치인 CCD 카메라(15)를 구비하고 있다.
여기서, 스캐닝 엑스선 전자관(1)과 영상증배관(5) 사이에는 검사대상(3)이 배치되며, 검사대상(3)은 XY방향으로 이동가능한 위한 X-Y 테이블(7)에 고정되어 있다. 스캐닝 엑스선 전자관(1)은, 원주상을 일정 속도로 회전하면서 검사대상(3)의 한 검사영역에 대하여 복수회 엑스선을 주사한다.
이렇게 스캐닝 엑스선 전자관(1)에서 원주상을 따라 회전하면서 엑스선이 출력되므로, 엑스선이 검사대상(3)을 통과하며 형성된 복수의 투시상은 영상증배관(5)의 상단면에 원주를 따라 형성된다. 이 투시상은 눈에 보이지 아니하며, 영상증배관(5) 내부로 입사되어 가시상으로 변환되어 영상증배관(5)의 하단에 위치한 가시영상면(6)에 결상된다.
가시영상면(6)에 결상된 가시상을 선택하기 위한 영상선택장치(10)는, 전기적으로 가시상을 투과 및 차단하는 전자셔터(10)로 형성된다. 전자셔터(10)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 빛이나 전기의 공급시 빛을 투과시키는 LCD로 형성된 편광판(11)과, 엑스선 검사시스템을 제어하는 제어부로부터의 신호에 따라 편광판(11)의 전원공급을 허용하는 디코더(12)를 갖는다. 편광판(11)은 가시영상면(6)에 결상되는 각 가시상에 대응되는 위치에 형성되도록 원주상을 따라 복수의 투과영역(13)을 가지며, 각 투과영역(13)은 각각 별도의 전원공급선에 연결되어 있다. 이에 따라, 각 투과영역(13)에 별도로 전원을 공급하면 각 투과영역(13)은 빛의 투과가 가능해지고 가시상이 투과되어 CCD 카메라(15)에 촬상되게 된다.
이러한 구성에 의하여, 본 엑스선 검사시스템에서는, 검사대상(3)의 비파괴검사를 하기 위해, 먼저 스캐닝 엑스선 전자관(1)에서 원주상을 따라 엑스선을 발생시켜 검사대상(3)을 향해 투사한다. 이 엑스선은 검사대상(3)을 투과하여 영상증배관(5)의 상단면에 형성된 다음, 영상증배관(5)을 통과하며 가시상으로 변환되어 영상증배관(5)의 하단면인 가시영상면(6)에 결상된다. 그러면, 제어부에서는 스캐닝 엑스선 전자관(1)의 엑스선 투사와 동기적으로 전자셔터(10)의 편광판(11)으로의 전원공급을 허용하는 디코더(12)에 신호를 제공함으로써, 가시영상면(6)에 결상된 가시상에 대응되는 투과영역(13)에 전원을 공급하도록 한다. 이에 따라, 도 3에 도시된 바와 같이, 투과영역(13)으로 가시영상면(6)에 결상된 가시상이 통과하여 CCD 카메라(15)에 촬상되게 된다.
통상적으로 스캐닝 엑스선 전자관(1)은 검사대상(3)의 한 영역에 대해 원주방향을 따라 8회 엑스선을 투과시키고, 이에 따라, 가시영상면(6)에도 8개의 가시상이 소정의 시간 간격을 두고 순차적으로 형성되게 된다. 이에 따라, 8개의 투과영역(13)이 형성되어 있으며, 각 투과영역(13)에는 해당되는 가시상이 형성되는 시기와 동기적으로 전원이 공급된다. 따라서, 각 가시상이 형성될 때 각 투과영역(13)에 순차적으로 전원이 공급되고, 각 가시상이 8회에 걸쳐 순차적으로 투과영역(13)을 통해 투과된다. 투과된 가시상은 CCD 카메라(15)에 8회에 걸쳐 촬상된다.
이와 같이, 본 발명에서는 영상선택장치(10)를 전원공급시 빛을 투과시키는 LCD로 형성된 편광판(11)을 갖는 전자셔터(10)를 사용함으로써, 가시영상면(6)에 결상된 가시상이 별도의 장치없이 곧바로 CCD 카메라(15)에 촬상된다. 따라서, 거울을 사용할 때 발생하는 가시상의 왜곡이나 시간의 지연이 발생되지 아니하여 정확하고 신속한 검사결과를 얻을 수 있다. 또한, 종래의 갈바노미터 대신 LCD를 사용함으로써, 원가를 절감할 수 있게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 전자셔터를 사용함으로써, 정확하고 신속한 검사결과를 얻을 수 있으며, 동시에 원가를 절감할 수 있다.
Claims (7)
- 검사대상의 검사를 위한 방사선을 발생시키는 스캐닝 방사선 전자관과, 상기 스캐닝 방사선 전자관으로부터 검사대상에 투사하여 획득한 복수개의 방사선 투시상을 각각 가시상으로 변환하여 가시영상면에 투영하는 영상증배관을 갖는 방사선 검사시스템에 있어서,상기 가시영상면에 대향되는 편광판을 가지며, 상기 각 가시상의 형성과 동기적으로 상기 편광판의 상기 각 가시상에 대향되는 영역의 순차적인 가시상 통과를 허용하는 전자셔터와;상기 전자셔터에 의해 상기 편광판을 통과한 상기 각 가시상을 순차적으로 촬상하기 위한 촬상장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 방사선 검사시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 전자셔터의 편광판은, 전원공급시 빛의 통과를 허용하는 LCD로 형성되는 것을 특징으로 하는 방사선 검사시스템.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 가시영상면에 투영되는 각 가시상들은 원주방향을 따라 순차적으로 복수개가 형성되며, 상기 전자셔터의 편광판에는 원주방향을 따라 상기 각 가시상에 대응되는 복수의 투과영역이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방사선 검사시스템.
- 제 3 항에 있어서,상기 각 투과영역은 상기 각 투과영역에 대응되는 각 가시상의 형성과 동기적으로 전원이 공급되어 빛의 통과가 허용되는 것을 특징으로 하는 방사선 검사시스템.
- 검사대상의 검사를 위한 방사선을 발생시키는 스캐닝 방사선 전자관과, 상기 스캐닝 방사선 전자관으로부터 검사대상에 투사하여 획득한 복수개의 방사선 투시상을 각각 가시상으로 변환하여 가시영상면에 투영하는 영상증배관을 갖는 방사선 검사방법에 있어서,상기 각 가시상에 대응되는 복수의 투과영역을 갖는 전자셔터를 마련하는 단계와;상기 각 투과영역을 통해 상기 각 가시상을 순차적으로 통과시키는 단계와;상기 전자셔터를 통과한 상기 각 가시상을 촬상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방사선 검사방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 전자셔터를 마련하는 단계는, 전원공급시 빛을 투과시키는 LCD에 각각 별도의 전원을 공급받는 복수의 투과영역을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는방사선 검사방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 각 가시상을 통과시키는 단계는, 상기 각 투과영역에 상기 각 가시상의 형성과 동기적으로 전원을 공급하는 단계인 것을 특징으로 하는 방사선 검사방법.
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US09/688,807 US6426995B1 (en) | 2000-02-16 | 2000-10-17 | Radiation inspection system and method using the same |
CNB001301004A CN1199042C (zh) | 2000-02-16 | 2000-10-27 | 辐射检测系统及其用法 |
GB0026607A GB2359472B (en) | 2000-02-16 | 2000-10-31 | Radiation inspection system |
DE10056936A DE10056936B4 (de) | 2000-02-16 | 2000-11-17 | Strahlungsuntersuchungssystem und Verfahren unter Verwendung desselben |
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CN (1) | CN1199042C (ko) |
DE (1) | DE10056936B4 (ko) |
GB (1) | GB2359472B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100814389B1 (ko) * | 2006-07-06 | 2008-03-18 | 학교법인 포항공과대학교 | Ⅹ선 투과 / 회절 영상 결합 촬영 시스템 |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8649498B1 (en) * | 2005-03-25 | 2014-02-11 | Cisco Technology, Inc. | Network architecture for hosting voice services |
US8837465B2 (en) | 2008-04-02 | 2014-09-16 | Twilio, Inc. | System and method for processing telephony sessions |
AU2009231676B2 (en) | 2008-04-02 | 2013-10-03 | Twilio Inc. | System and method for processing telephony sessions |
US8060339B2 (en) * | 2008-04-23 | 2011-11-15 | Stalix Llc | Multistatic concealed object detection |
CN102227904A (zh) | 2008-10-01 | 2011-10-26 | 特维里奥公司 | 电话网络事件的系统和方法 |
EP2404412B1 (en) | 2009-03-02 | 2019-05-01 | Twilio Inc. | Method and system for a multitenancy telephone network |
US9210275B2 (en) | 2009-10-07 | 2015-12-08 | Twilio, Inc. | System and method for running a multi-module telephony application |
US9338064B2 (en) | 2010-06-23 | 2016-05-10 | Twilio, Inc. | System and method for managing a computing cluster |
US9459926B2 (en) | 2010-06-23 | 2016-10-04 | Twilio, Inc. | System and method for managing a computing cluster |
US20120208495A1 (en) | 2010-06-23 | 2012-08-16 | Twilio, Inc. | System and method for monitoring account usage on a platform |
US9459925B2 (en) | 2010-06-23 | 2016-10-04 | Twilio, Inc. | System and method for managing a computing cluster |
US8838707B2 (en) | 2010-06-25 | 2014-09-16 | Twilio, Inc. | System and method for enabling real-time eventing |
US8649268B2 (en) | 2011-02-04 | 2014-02-11 | Twilio, Inc. | Method for processing telephony sessions of a network |
US9648006B2 (en) | 2011-05-23 | 2017-05-09 | Twilio, Inc. | System and method for communicating with a client application |
US20140044123A1 (en) | 2011-05-23 | 2014-02-13 | Twilio, Inc. | System and method for real time communicating with a client application |
US9398622B2 (en) | 2011-05-23 | 2016-07-19 | Twilio, Inc. | System and method for connecting a communication to a client |
WO2013044138A1 (en) | 2011-09-21 | 2013-03-28 | Twilio, Inc. | System and method for authorizing and connecting application developers and users |
US10182147B2 (en) | 2011-09-21 | 2019-01-15 | Twilio Inc. | System and method for determining and communicating presence information |
US9495227B2 (en) | 2012-02-10 | 2016-11-15 | Twilio, Inc. | System and method for managing concurrent events |
US9240941B2 (en) | 2012-05-09 | 2016-01-19 | Twilio, Inc. | System and method for managing media in a distributed communication network |
US20130304928A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Twilio, Inc. | System and method for managing latency in a distributed telephony network |
US9602586B2 (en) | 2012-05-09 | 2017-03-21 | Twilio, Inc. | System and method for managing media in a distributed communication network |
US9247062B2 (en) | 2012-06-19 | 2016-01-26 | Twilio, Inc. | System and method for queuing a communication session |
US8737962B2 (en) | 2012-07-24 | 2014-05-27 | Twilio, Inc. | Method and system for preventing illicit use of a telephony platform |
US8938053B2 (en) | 2012-10-15 | 2015-01-20 | Twilio, Inc. | System and method for triggering on platform usage |
US8948356B2 (en) | 2012-10-15 | 2015-02-03 | Twilio, Inc. | System and method for routing communications |
US9253254B2 (en) | 2013-01-14 | 2016-02-02 | Twilio, Inc. | System and method for offering a multi-partner delegated platform |
US9282124B2 (en) | 2013-03-14 | 2016-03-08 | Twilio, Inc. | System and method for integrating session initiation protocol communication in a telecommunications platform |
US9160696B2 (en) | 2013-06-19 | 2015-10-13 | Twilio, Inc. | System for transforming media resource into destination device compatible messaging format |
US9225840B2 (en) | 2013-06-19 | 2015-12-29 | Twilio, Inc. | System and method for providing a communication endpoint information service |
US9483328B2 (en) | 2013-07-19 | 2016-11-01 | Twilio, Inc. | System and method for delivering application content |
US9274858B2 (en) | 2013-09-17 | 2016-03-01 | Twilio, Inc. | System and method for tagging and tracking events of an application platform |
US9338018B2 (en) | 2013-09-17 | 2016-05-10 | Twilio, Inc. | System and method for pricing communication of a telecommunication platform |
US9137127B2 (en) | 2013-09-17 | 2015-09-15 | Twilio, Inc. | System and method for providing communication platform metadata |
US9553799B2 (en) | 2013-11-12 | 2017-01-24 | Twilio, Inc. | System and method for client communication in a distributed telephony network |
US9325624B2 (en) | 2013-11-12 | 2016-04-26 | Twilio, Inc. | System and method for enabling dynamic multi-modal communication |
US9344573B2 (en) | 2014-03-14 | 2016-05-17 | Twilio, Inc. | System and method for a work distribution service |
US9226217B2 (en) | 2014-04-17 | 2015-12-29 | Twilio, Inc. | System and method for enabling multi-modal communication |
US9251371B2 (en) | 2014-07-07 | 2016-02-02 | Twilio, Inc. | Method and system for applying data retention policies in a computing platform |
US9516101B2 (en) | 2014-07-07 | 2016-12-06 | Twilio, Inc. | System and method for collecting feedback in a multi-tenant communication platform |
US9774687B2 (en) | 2014-07-07 | 2017-09-26 | Twilio, Inc. | System and method for managing media and signaling in a communication platform |
US9246694B1 (en) | 2014-07-07 | 2016-01-26 | Twilio, Inc. | System and method for managing conferencing in a distributed communication network |
WO2016065080A1 (en) | 2014-10-21 | 2016-04-28 | Twilio, Inc. | System and method for providing a miro-services communication platform |
US9477975B2 (en) | 2015-02-03 | 2016-10-25 | Twilio, Inc. | System and method for a media intelligence platform |
US10419891B2 (en) | 2015-05-14 | 2019-09-17 | Twilio, Inc. | System and method for communicating through multiple endpoints |
US9948703B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-04-17 | Twilio, Inc. | System and method for signaling through data storage |
US10659349B2 (en) | 2016-02-04 | 2020-05-19 | Twilio Inc. | Systems and methods for providing secure network exchanged for a multitenant virtual private cloud |
US10063713B2 (en) | 2016-05-23 | 2018-08-28 | Twilio Inc. | System and method for programmatic device connectivity |
US10686902B2 (en) | 2016-05-23 | 2020-06-16 | Twilio Inc. | System and method for a multi-channel notification service |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3134076A1 (de) * | 1981-08-28 | 1983-03-10 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | "vorrichtung zur schichtweisen darstellung eines koerpers" |
US4534051A (en) * | 1982-12-27 | 1985-08-06 | John K. Grady | Masked scanning X-ray apparatus |
US4580053A (en) * | 1983-01-17 | 1986-04-01 | William B. Wilson Mfg. Co. | Backscatter detection inspection apparatus for tubular goods |
JPS59151937A (ja) * | 1983-02-01 | 1984-08-30 | 株式会社東芝 | 診断用x線テレビジヨン装置 |
US5020086A (en) * | 1983-07-05 | 1991-05-28 | Ridge, Inc. | Microfocus X-ray system |
AU585406B2 (en) * | 1985-12-30 | 1989-06-15 | General Electric Company | Automatic x-ray image brightness control |
IL79733A (en) * | 1986-08-15 | 1990-04-29 | Elscint Ltd | Bone mineral density mapping |
JPS6417631A (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-20 | Toshiba Corp | X-ray diagnostic apparatus |
US4918534A (en) * | 1988-04-22 | 1990-04-17 | The University Of Chicago | Optical image processing method and system to perform unsharp masking on images detected by an I.I./TV system |
US5259012A (en) * | 1990-08-30 | 1993-11-02 | Four Pi Systems Corporation | Laminography system and method with electromagnetically directed multipath radiation source |
US5199054A (en) * | 1990-08-30 | 1993-03-30 | Four Pi Systems Corporation | Method and apparatus for high resolution inspection of electronic items |
JPH05192317A (ja) * | 1992-01-22 | 1993-08-03 | Hitachi Medical Corp | X線透視装置 |
JPH0678216A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-18 | Hitachi Medical Corp | 放射線画像撮影装置および方法 |
CA2113752C (en) * | 1994-01-19 | 1999-03-02 | Stephen Michael Rooks | Inspection system for cross-sectional imaging |
JPH07212639A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-11 | Sony Corp | テレビジョン・カメラ用電子シャッター装置 |
US5500886A (en) * | 1994-04-06 | 1996-03-19 | Thermospectra | X-ray position measuring and calibration device |
US5594770A (en) * | 1994-11-18 | 1997-01-14 | Thermospectra Corporation | Method and apparatus for imaging obscured areas of a test object |
JP3662688B2 (ja) * | 1996-03-08 | 2005-06-22 | 株式会社日立メディコ | X線撮影装置 |
KR100213906B1 (ko) * | 1997-09-24 | 1999-08-02 | 윤종용 | 엑스선 검사 시스템의 영상 선택 장치 |
KR19990026393A (ko) * | 1997-09-24 | 1999-04-15 | 전주범 | 세탁기의 배수에러 감지방법 |
US6151380A (en) * | 1998-02-11 | 2000-11-21 | Glenbrook Technologies Inc. | Ball grid array re-work assembly with X-ray inspection system |
KR100344587B1 (ko) * | 1998-09-30 | 2003-03-26 | 삼성전자 주식회사 | 단층검사장치 |
-
2000
- 2000-02-16 KR KR10-2000-0007377A patent/KR100435108B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-10-17 JP JP2000317130A patent/JP3636651B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-17 US US09/688,807 patent/US6426995B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-27 CN CNB001301004A patent/CN1199042C/zh not_active Expired - Fee Related
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- 2000-11-17 DE DE10056936A patent/DE10056936B4/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100814389B1 (ko) * | 2006-07-06 | 2008-03-18 | 학교법인 포항공과대학교 | Ⅹ선 투과 / 회절 영상 결합 촬영 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2359472B (en) | 2002-05-01 |
KR100435108B1 (ko) | 2004-06-09 |
CN1309292A (zh) | 2001-08-22 |
GB2359472A (en) | 2001-08-22 |
CN1199042C (zh) | 2005-04-27 |
JP2001228102A (ja) | 2001-08-24 |
US6426995B1 (en) | 2002-07-30 |
JP3636651B2 (ja) | 2005-04-06 |
DE10056936B4 (de) | 2007-03-08 |
GB0026607D0 (en) | 2000-12-13 |
DE10056936A1 (de) | 2001-09-06 |
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