KR20010071865A - 조성물 - Google Patents

조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20010071865A
KR20010071865A KR1020017000501A KR20017000501A KR20010071865A KR 20010071865 A KR20010071865 A KR 20010071865A KR 1020017000501 A KR1020017000501 A KR 1020017000501A KR 20017000501 A KR20017000501 A KR 20017000501A KR 20010071865 A KR20010071865 A KR 20010071865A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
independently
formula
coo
integer
Prior art date
Application number
KR1020017000501A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100676759B1 (ko
Inventor
헤르카오우이조우바이르
베넥케카르스텐
Original Assignee
보러 롤란드
롤리크 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 보러 롤란드, 롤리크 아게 filed Critical 보러 롤란드
Publication of KR20010071865A publication Critical patent/KR20010071865A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100676759B1 publication Critical patent/KR100676759B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
    • C09K19/56—Aligning agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/40—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit containing elements other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen or sulfur, e.g. silicon, metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/40—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit containing elements other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen or sulfur, e.g. silicon, metals
    • C09K19/406—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit containing elements other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen or sulfur, e.g. silicon, metals containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/40—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit containing elements other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen or sulfur, e.g. silicon, metals
    • C09K19/406—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit containing elements other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen or sulfur, e.g. silicon, metals containing silicon
    • C09K19/408—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)

Abstract

당해 화합물은 중합 가능한 액정 혼합물, 액정 중합체 및, 이러한 혼합물과 중합체로부터 제조된 광학 장치의 제조시 사용하기 위해 제공된다. 당해 성분은 오가노실록산 부분과, 메소게닉 분자 구조와 혼화성인 구조를 갖는 부분을 포함하는 신규한 화합물을 포함한다.

Description

조성물{Compositions}
본 발명은 배향된 액정 중합체의 제조시 중합 가능한 액정 혼합물의 성분의 용도, 중합 가능한 액정 혼합물에 성분으로서 사용되는 화합물, 이들 성분을 포함하는 액정 혼합물, 이러한 성분으로부터 제조된 액정 중합체 및 이들 화합물을 포함하는 액정 장치에 관한 것이다.
액정 중합체(LCP)는 도파관, 광학 회절격자, 필터, 리타더(retarder), 압전 전지 및 비선형 광학 전지 등의 광학 부품 및 필름의 제조시 사용된다. 상술한 광학 부품 중에 사용하기 위한 LCP는 광학 이방성, 굴절율, 투명도 및 분산성 등의 관련 광학 특성에 따라 선택된다. 예를 들어, 광학 필터는 이방성(△n)이 크고 분산도(n=f(λ))가 낮은 LCP를 함유한다.
일부 적용품에 있어, 성분 분자가 기판면에 대해 특정한 경사각을 채택하는 LCP를 제조할 필요가 있다. 이들 LCP 재료는 보상층과 리타더 등의 광학 부품으로서 사용될 수 있다. 이러한 광학 부품은, 예를 들어, 시야각이 개선된 액정 장치(LCD)의 제조시 사용될 수 있다.
LCP는 중합 가능한 액정 단일 화합물 또는 혼합물의 층을 배향된 기판 위에서 배향시키고 메소게닉 층을 가교 결합시켜 액정 중합체(LCP) 망상 구조물을 형성함으로써 제조된다. LCP 제조시 사용되는 중합 가능한 LC 화합물은 화학적 및 열적으로 안정하고, 전자기 조사에 안정하며, 표준 용매에 안정하고, 다른 LC 성분과 혼화성이며, 25 내지 150℃, 바람직하게는 25 내지 80℃에 걸쳐서 액정 특성을 나타낼 필요가 있다. 중합 가능한 LC 단일 화합물 또는 혼합물 위에 배향층에 의해 부여된 배위는 가교 결합시 형성된 LCP 망상으로 고정되거나 응결된다. 수득된 LCP 필름은 점도가 높고 기계적 응력, 온도 및 광 노출에 안정하다.
가교 결합 이전에 중합 가능한 LC 단일 화합물 또는 혼합물에 의해 채택된 경사각은 당해 단일 화합물 또는 혼합물을 포함하는 LC 성분의 특성에 부분적으로 좌우된다. 가교 결합 이전에 소정의 LC 단일 화합물 또는 혼합물에서 경사각을 형성하는 데 사용된 종래의 방법은, 예를 들어, 지방족 알킬 단쇄 등의 하나 이상의 측면 치환체의 메소겐으로의 유입에 의존하였다. 그러나, 이러한 치환은 LC 재료의 기계적 특성이 감소됨으로써 달성되거나, 메소겐의 분자 구조에 따라 작거나 소멸되는 경사각과 관련된다. 각각의 경우, 초기 경사의 재현능은, 혼합물이 가교 결합되어 열적 효과와 기계적 효과로 인해 LCP 망상 구조물을 제공하기 전에 신속하게 소실된다.
따라서, 기판에 대한 LC 단일 화합물 또는 혼합물의 배향이 LCP 망상 구조물을 제조하는 데 요구되는 시간 동안 안정하게 남아있는 방식으로 가교 결합 이전에 기판 위에서 배향될 수 있는 액정 단일 화합물 또는 혼합물이 필요하다. 또한, LCP 필름의 제조 이전이나 그 동안에 소정의 경사각의 형성을 촉진하고 광범위한 소정의 경사각을 유지할 수 있는 성능을 갖는 LC 성분이 필요하다. 본 발명은 이러한 필요성을 나타낸다.
본 발명의 제1 양상은 LC 혼합물을 포함하는 LCP 망상 구조물을 제조하기 위한 LC 혼합물의 성분의 용도에 있어서, 당해 성분이 LCP 망상 구조물에서 안정한 경사각을 유도함을 특징으로 하는 용도를 제공한다. 안정하다란, LCP 망상 구조물을 제조하는 데 필요한 시간 동안 경사각의 수치 변화가 거의 없음을 의미하는 것으로 이해할 수 있다. 중합 가능한 LC 혼합물을 가교 결합시킴으로써 수득된 LCP 망상 구조물은 네마틱, 스멕틱 A 또는 디스코틱 필름일 수 있으나, 바람직하게는 네마틱 필름이다. 이들 필름은 기판에 대한 필름 성분의 양호한 배향을 특징으로 한다.
안정한 경사각을 유도하는 데 사용되는 성분은 바람직하게는 사실상 메소게닉이거나 메소게닉 분자 구조와 혼화성이고, 중합 가능하거나 중합 가능하지 않은 치환체를 함유할 수 있다. 이는 바람직하게는 액정 혼합물의 또 다른 성분과 혼화성이다. 본 발명의 범주를 제한하지 않기를 바라면서, 당해 성분은 기판 또는 배향층과의 강한 결합을 형성할 수 있는 성능을 갖는 장애적 벌크성 그룹을 함유해야 하는 것으로 여겨진다. 또한, 당해 성분은 메소게닉 분자 구조와 혼화성이고 LC 단일 화합물 또는 혼합물의 벌크로 전체적으로 확장되는 장애적으로 덜한 벌크성 그룹을 함유해야 한다. 당해 메소게닉 혼화성 그룹은 기판면에 대해 경사진 각을 추정할 수 있는 것으로 여겨진다. 종전 기술의 LCP 혼합물과는 달리, 이들 성분을 함유하는 LCP는 열적 효과에 덜 민감하고, 본 발명의 성분을 포함하거나 함유하는 중합 가능한 LC 단일 화합물 또는 혼합물은 LCP 망상 구조물을 제조하는 데 필요한 시간 동안 초기 배향을 유지할 수 있다. 기판 결합 그룹과 메소게닉 확장 그룹을신중하게 선택함으로써 위의 각은 다양해진다. 따라서, 본 발명의 성분은 기판면에 대해 배향 또는 경사각이 안정한 중합 가능한 LC 단일 화합물 또는 혼합물의 제조시 사용될 수 있는 것으로 간주될 수 있다.
장애적 벌크성이란, 기판 결합 그룹의 측면 치수가 벌크성이 덜한 그룹의 측면 치수보다 0.5배 이상 큰, 바람직하게는 벌크성이 덜한 그룹의 치수의 2배 이상인 것으로 이해될 수 있다.
기판 결합 그룹 또는 벌크성이 강한 그룹은 바람직하게는 오가노실록산 그룹을 포함하고, 메소게닉 확장 그룹 또는 벌크성이 덜한 그룹은 바람직하게는 방향족 또는 비방향족 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템을 함유한다. 본 발명의 제1 양상에 사용된 성분을 함유하는 오가노실록산은 그 자체로 신규한 화합물을 포함하고 본 발명의 제2 양상은 화학식 I의 오가노실록산 화합물을 제공하는 것으로 여겨진다.
위의 화학식 I에서,
B1내지 B4는 각각 독립적으로 임의로 치환된 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄상 C2-80알킬 그룹을 포함하는 그룹으로부터 선택된 스페이서(spacer) 그룹이며, 하나 이상의 인접하지 않은 알킬 CH2그룹은 임의로 하나 이상의 헤테로원자에 의해 치환되고,
B5는 수소원자 또는 위에서 정의한 스페이서 그룹이고,
A1과 A2는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 위에서 정의한 스페이서 그룹이고,
MG1내지 MG3은 각각 독립적으로 하나 이상의 임의로 치환된 방향족 또는 비방향족 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템을 포함하는 메소게닉 그룹이고,
n1과 n2는 각각 독립적으로 0 또는 양의 정수이며,
단, 첫째, n2가 0인 경우, B1과 B2는 둘 다 중합 가능한 그룹을 포함하고 A1, B1및 B2중의 적어도 하나는 오가노실록산, 오가노게르마늄, 오가노틴 및 오가노-퍼플루오로 잔기로부터 선택된 그룹을 포함하며,
둘째, n2＞0인 경우, B1, B2, B3및 B4중의 적어도 하나는 중합 가능한 그룹을 포함하고 A1, A2, B1, B2, B3및 B4중의 적어도 하나는 오가노실록산 그룹을 포함한다.
용어 "헤테로원자"란, 질소, 산소 및 황을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 치환 질소원자는 알킬, 아릴 및 사이클로알킬 등의 그룹을 사용하여 추가로치환될 수 있다. 이들 화합물은, 분자가 배향층에 대해 경사진 액정 중합체 망상 구조물(LCP)의 제조시 특히 유용한 것으로 밝혀졌다. 이들 LCP는 상이한 광학 및 전자 적용물 범위에 사용될 수 있다. 네마틱, 스멕틱 A 및, 놀랍게도 디스코틱 특성을 갖는 LCP 망상 구조물이 제조될 수 있다. 네마틱 메소상이 바람직하다.
종전 기술 분야에 기재되어 있는 디스코틱 액정 화합물의 대부분은, 단단하고 고도로 공액되어 있는 방향족 중심 코어를 특징으로 하는 디스크형 분자(예: 트리페닐렌)를 기재로 한다. 이들 디스코틱 화합물은 고점도, 고융점, 근가시광선 흡수 등의 특성과 제조시 문제점으로 인해 사용이 제한되며, 또한 제조 가능한 화합물의 화학적 다양성을 방해한다.
따라서, 칼라미틱 액정을 사용하여 수득한 것들과 비교하여 융점과 점도가 저하된 신규한 디스코틱 액정 물질이 필요하다.
본 발명자들은 놀랍게도 디스코틱 메소상이 막대형 분자로부터 수득될 수 있으며, 이는 보다 용이하게 제조되고 분자 구조가 다양한 물질을 제조할 수 있는 가능성을 제공함을 발견하였다. 이들 디스코틱 메소상은 또 다른 분자 구성원과 비혼화성인(액정 상태에서) 하나 이상의 벌크성 그룹을 주변 알킬 쇄 각각으로 유입시킴으로써 칼라미틱 구조를 갖는 분자로부터 수득될 수 있다. 위의 비혼화성이란, 이들 벌크성 그룹이 미세 층을 분리하는 메소상에서 결합하고자 함을 의미한다.
주변 알킬 쇄 각각에서의 벌크성 그룹의 존재는 중심 경질 막대형 코어가 디스코틱 메소상을 형성할 수 있는 디스크형 원소로 유도되는 분자간 가교된 배위를채택하도록 한다.
화학식 I의 화합물은 사실상 단량체성, 올리고머성 또는 중합체성일 수 있다. 정수 n1과 정수 n2의 값은 화학식 I의 화합물의 특성에 의해 측정될 수 있는 것으로 간주될 수 있다. 화학식 I의 화합물이 사실상 단량체성 또는 올리고머성인 경우, n1과 n2는 0 내지 10, 바람직하게는 1 내지 5의 값으로 추정될 수 있다. 그러나, 화학식 I의 화합물이 사실상 중합체성인 경우, n1과 n2의 값의 범위는 6 내지 3,000, 바람직하게는 11 내지 2,000일 수 있다.
그룹 MG1내지 그룹 MG3에 존재하는 방향족 또는 비방향족 환 시스템의 수는 화학식 I의 화합물이 사용되는 적용물에 좌우될 수 있다. MG1내지 MG3은 바람직하게는 1 내지 4개의 방향족 또는 비방향족 환 시스템을 함유한다.
탄화수소 스페이서 그룹 B1내지 B4는 C1-C20-알킬, C1-C20-알콕시, C1-C20-알콕시카보닐, C1-C20-알킬카보닐 및 C1-C20-알킬카보닐옥시 그룹, 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, i-프로폭시, 부톡시, 펜틸옥시, 헥실옥시, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 운데실옥시, 도데실옥시, 메톡시카보닐, 에톡시카보닐, 프로폭시카보닐, 부톡시카보닐, 펜틸옥시카보닐, 헥실옥시카보닐, 옥틸옥시카보닐, 노닐옥시카보닐, 데실옥시카보닐, 운데실옥시카보닐, 도데실옥시카보닐, 메틸카보닐, 에틸카보닐, 프로필카보닐, 부틸카보닐, 펜틸카보닐, 헥실카보닐, 옥틸카보닐,노닐카보닐, 데실카보닐, 운데실카보닐, 도데실카보닐, 메틸카보닐옥시, 에틸카보닐옥시, 프로필카보닐옥시, 부틸카보닐옥시, 펜틸카보닐옥시, 헥실카보닐옥시, 옥틸카보닐옥시, 노닐카보닐옥시, 데실카보닐옥시, 운데실카보닐옥시, 도데실카보닐옥시 등을 포함할 수 있다.
임의로 치환된 C2-80알킬 그룹은 알킬, 아릴 및 사이클로알킬 뿐만 아니라, 아미노, 시아노, 에폭시, 할로겐, 하이드록시, 니트로, 옥소 등으로 치환될 수 있다. 탄소원자를 치환할 수 있는 가능한 헤테로원자는 질소, 산소 및 황을 포함한다. 질소의 경우, 알킬, 아릴 및 사이클로알킬 등의 그룹을 사용하여 추가로 치환할 수 있다. 임의로 치환된 방향족 또는 비방향족 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템은 유사하게 치환될 수 있다.
그룹 B1, B2, B3및 B4중의 임의의 하나는 오가노실록산 그룹과 중합 가능한 그룹을 함유할 수 있다. 또한, 그룹 B1, B2, B3, B4, A1및 A2중의 하나 이상은 중합 가능한 그룹을 함유하는 또 다른 그룹 B1, B2, B3및 B4중의 하나 이상과 함께 오가노실록산 그룹을 함유할 수 있다. 바람직하게는, 그룹 B1내지 B4중의 하나 이상은 중합 가능한 그룹과 오가노실록산 그룹을 둘 다 포함하고, 본 발명의 제2 양상의 제1 바람직한 양태에서 그룹 B1내지 B4각각 또는 그 중의 어느 것은 화학식 II의 탄화수소 잔기일 수 있다.
P-(Sp1)k1-[(Si(R1)2O)m1-Si(R2)2]m2-(Sp2)k2-(X1)t1-
위의 화학식 II에서,
P는 CH2=CW-, CH2=W-O-, CH2=CW-COO-, CH2=C(Ph)-COO-, CH2=CH-COO-Ph-, CH2=CW-CO-NH, CH2=C(Ph)-CONH-, CH2=C(COOR')-CH2-COO-, CH2=CH-O-, CH2=CH-OOC-, Ph-CH=CH-, CH3-C=N-(CH2)m3-, HO-, HS-, HO-(CH2)m3-, HS-(CH2)m3-, HO(CH2)m3COO-, HS(CH2)m3COO-, HWN-, HOC(O)-, CH2=CH-Ph-(0)m4,,및를 포함하는 그룹(여기서, W는 H, F, Cl, Br 또는 I이거나 C1-5알킬 그룹이고, m3은 1 내지 9의 정수이고, m4는 0 또는 1의 정수이고, R'는 C1-5알킬 그룹이고, R"는 C1-5알킬 그룹, 메톡시, 시아노, F, Cl, Br 또는 I이다)으로부터 선택된 중합 가능한 그룹이고,
Sp1과 Sp2는 각각 독립적으로 C1-20알킬 그룹이고,
k1과 k2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄상 C1-20알킬 그룹이고,
m1은 0 내지 10의 정수이고,
m2는 1 내지 10의 정수이고,
X1은 -O-, -S-, -NH-, -N(CH3)-, -CH(OH)-, -CO-, -CH2(CO)-, -SO-, -CH2(SO)-, -SO2-, -CH2(SO2)-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -SOO-, -OSO-, -SOS-, -CH2-CH2-, -OCH2-, -CH2-O-, -CH=CH-, -C≡C- 또는 단일 결합이고,
t1은 0 또는 1의 정수이다.
화학식 II의 탄화수소 잔기와 관련하여, 용어 -Ph-는 1,4-페닐렌, 1,2-페닐렌 뿐만 아니라 1,3-페닐렌을 나타내는 것으로 이해될 수 있다. 1,4-페닐렌 그룹이 바람직하다. 용어 Ph- 또는 (Ph)는 페닐 그룹을 나타내는 것으로 이해되어야 한다.
Sp1과 Sp2에서의 C1-20알킬 그룹은 측쇄 또는 직쇄상 알킬 그룹을 포함할 수 있고, 치환되지 않거나 F, Cl, Br, I 또는 CN에 의해 일치환 또는 다치환될 수 있다. 또는, 탄화수소 쇄에 존재하는 하나 이상의 CH2그룹은 독립적으로 -O-, -S-, -NH-, N(CH3)-, -CH(OH)-, -CO-, -CH2(CO)-, -SO-, -CH2(SO)-, -SO2-, -CH2(SO2)-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -SOO-, -OSO-, -SOS-, -C≡C-, -(CF2)r-, -(CD2)s- 또는 C(W1)=C(W2)-로부터 선택된 하나 이상의 그룹에 의해 치환될 수 있으며, 단 두 개의 산소원자는 서로 직접 결합되지 않는다. W1과 W2는 각각 독립적으로 H, H-(CH2)q1-, F, Cl, Br 또는 I이다. 정수 r, s 및 q1은 각각 독립적으로 1 내지 15의 수이다.
C1-20알킬 그룹에서의 하나 이상의 CH2그룹에서, R1과 R2는 각각 독립적으로 -Si(CH3)2- 및/또는 -Si(CH3)2OSi(CH3)2-에 의해 치환될 수 있다.
A1및/또는 A2가 오가노실록산 그룹을 포함하는 화학식 I의 화합물이 바람직하고, 본 발명의 제2 양상의 제2 바람직한 양태에서 그룹 A1및/또는 A2는 화학식 III의 그룹을 포함한다.
-(X2)t2-(Sp3)k3-[(Si(R3)2O)m5-Si(R4)2]m6-(Sp4)k4-(X3)t3-
위의 화학식 III에서,
Sp3과 Sp4는 각각 독립적으로 Sp1과 Sp2에 대해 위에서 정의한 바와 같고,
X2와 X3은 각각 독립적으로 X1에 대해 위에서 정의한 바와 같고,
R3과 R4는 각각 독립적으로 R1과 R2에 대해 위에서 정의한 바와 같고,
k3과 k4는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,
t2와 t3은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,
m5는 0 내지 10의 정수이고,
m6은 1 내지 10의 정수이다.
그룹 MG1내지 MG3은 동일하거나 상이할 수 있고 세 개 이하의 브릿지 그룹을 포함할 수 있다. 본 발명의 제2 양상의 제3 양태는, MG1이 화학식 IV의 그룹을 포함하는 화학식 I의 화합물을 제공한다.
C1-(Z1-C2)a1-(Z2-C3)a2-(Z3-C4)a3
위의 화학식 IV에서,
C1내지 C4는 각각 독립적으로 비방향족, 방향족, 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹이고,
Z1내지 Z3은 각각 독립적으로 -COO-, -OCO-, -CH2-CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합이고,
a1, a2 및 a3은 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수이며, 단 a1+a2+a3≤3이다.
특히 바람직하게는, 그룹 C1내지 C4는 구조식,,,,,,,,,,,및로부터 선택된다.
본 발명의 제2 양상의 제4 양태에서, 그룹 MG2와 그룹 MG3은 화학식 IVa의 그룹을 포함한다.
C5-(Z4-C6)a4-(Z5-C7)a5-(Z6-C8)a6
위의 화학식 IVa에서,
C5, C6, C7및 C8은 각각 독립적으로 비방향족, 방향족, 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹이고,
Z4내지 Z6은 각각 독립적으로 -COO-, -OCO-, -CH2-CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합이고,
a4, a5 및 a6은 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수이며,
단, 첫째, a4+a5+a6≤3이고,
둘째, C5내지 C8중의 적어도 하나는 독립적으로 3가 그룹을 포함한다.
바람직하게는, C7은 3가 그룹이다. 특히 바람직하게는, C7은 구조식,,,,,,,,,및(여기서, 화학식 IV와 화학식 IVa의 그룹 MG1내지 MG3각각에 대해, L은 -CH3-, -COCH3-, -NO2, CN 또는 할로겐이고, u1은 0 내지 4의 정수이고, u2는 0 내지 3의 정수이고, u3은 0 내지 2의 정수이다)로부터 선택된다.
본 발명의 제2 양상의 특히 바람직한 제5 양태에서, n1과 n2가 독립적으로 0 또는 1이고, B5가 수소이고, B1내지 B4가 각각 독립적으로 화학식 V의 그룹이고, A1과 A2가 각각 독립적으로 화학식 VI의 그룹이고, MG1이 화학식 IV의 그룹(여기서, C1, C2, C3및 C4는 동일하고 페닐렌 또는 비페닐렌으로부터 선택되고, Z1내지 Z3은 각각 독립적으로 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이다)이고, MG2와 MG3이 각각 독립적으로 화학식 IVa의 그룹(여기서, C5, C6및 C8은 동일하고 페닐렌 또는 비페닐렌으로부터 선택되고, C7은 페닐렌 또는 비페닐렌이고, Z4내지 Z6은 각각 독립적으로 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이다)인 화학식 I의 화합물이 제공된다.
P2-Sp5-[(Si(CH3)2O)m7-Si(CH3)2]m8-Sp6-X4-
-X5-Sp7-[(Si(CH3)2O)m9-Si(CH3)2]m10-Sp8-X6-
위의 화학식 V 및 화학식 VI에서,
X4내지 X6은 각각 독립적으로 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -C≡C- 또는 단일 결합, 특히 -O-, -COO-, -OCO- 또는 단일 결합이고,
Sp5내지 Sp8은 각각 독립적으로 C1-20직쇄 알킬 그룹, 특히 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌, 옥틸렌, 노닐렌, 데실렌, 운데실렌 또는 도데실렌이고,
P2는 CH2=CW5- 또는 CH2=CW5-(CO)v2O-(여기서, W5는 H, CH3, F, Cl, Br 또는 I이고, v2는 0 또는 1이다)이고,
m7과 m9는 각각 독립적으로 1 또는 2의 정수이고,
m8과 m10은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이며, 단 m8+m10＞0이다.
본 발명의 화합물의 놀라운 디스코틱 메소상 형성능은 위에 거론되어 있다. 디스코틱 메소상을 제조하는 데 특히 적합한 것으로 밝혀진 본 발명의 화합물은 주변 알킬 쇄 B1과 B2각각에 벌크성 그룹을 갖는 것들이다. 앞서 언급된 바와 같이, 벌크성 그룹의 존재는 본 발명의 막대형 분자가 디스크형 원소를 형성함으로써 결합하게 하여 디스코틱 메소상을 안정화시키는 것으로 여겨진다.
안정한 벌크성 그룹은 불소화 알킬 잔기 뿐만 아니라, 게르마늄, 실리콘 및 주석 등의 벌크성 원자를 갖는 유기 잔기를 포함한다.
바람직하게는, 벌크성 그룹은 게르마늄, 실리콘 및 주석 등의 4가 벌크성 원자를 갖는 유기 잔기를 포함한다. 특히 바람직하게는, 벌크성 그룹은 하나 이상의 실록산 그룹을 포함한다. 보다 특히 바람직하게는, 그룹 B1과 그룹 B2는 각각 하나 이상의 실록산 그룹을 포함한다.
바람직하게는, 디스코틱 메소상 형성능을 갖는 분자의 중심 코어는 하나 이상의 임의로 치환된 방향족 또는 비방향족 카보사이클릭 환 시스템을 포함한다. 보다 바람직하게는, 중심 코어는 칼라미틱 메소상을 유도할 수 있는 것들로부터 선택된다.
벌크성 그룹은 바람직하게는 각각 독립적으로 상술한 바와 같은 C1-20알킬 스페이서 그룹을 통해 분자의 중심 코어에 부착된다.
본 발명의 제2 양상의 바람직한 제6 양태는, n1과 n2가 둘 다 0이고, B1과 B2가 각각 독립적으로 화학식 VII의 그룹이고, MG2가 화학식 IVa의 그룹(여기서, C5, C6및 C8은 동일하고 페닐렌 또는 비페닐렌으로부터 선택되고, C7은 페닐렌 또는 비페닐렌이고, Z4내지 Z6은 각각 독립적으로 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이다)인 화학식 I의 화합물을 제공한다.
P3-Sp5-[Si(CH3)2O)m7-Si(CH3)2]m8-Sp6-X4-
위의 화학식 VII에서,
X4는 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -C≡C- 또는 단일 결합, 특히 -O-, -COO-, -OCO- 또는 단일 결합이고,
Sp5와 Sp6은 각각 독립적으로 C1-20직쇄 알킬 그룹, 특히 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌, 옥틸렌, 노닐렌, 데실렌, 운데실렌 또는 도데실렌이고,
P3은 수소이거나, CH2=CW5- 또는 CH2=CW5-(CO)v2O-(여기서, W5는 H, CH3, F, Cl, Br 또는 I이고, v2는 0 또는 1이다)이고,
m7은 1 또는 2이고,
m8은 1이다.
이들 화합물은 디스코틱 메소상을 갖는 물질을 제조하는 데 특히 적합하다.
본 발명의 제2 양상에 따르는 화합물은 당해 기술 분야의 숙련인에게 익히 공지된 방법, 예를 들어, 문헌[참조: Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie, Thieme-Verlag, Stuttgart]에 기재되어 있는 방법을 사용하여 용이하게 제조될 수 있다. 특히, 당해 화합물은 다음의 반응식 1 내지 반응식 5 중의 어느 하나에 따르는 이반응성 오가노실록산 화합물로부터 용이하게 제조될 수 있다. 본 발명의 제3 양상은 하나 이상의 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템을 포함하는 메소게닉 화합물과 이반응성 실록산을 반응시킴을 포함하는, 본 발명의 제2 양상에 따르는 화합물의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 제2 양상에 따르는 오가노실록산 화합물은 단독으로 사용되거나 액정 혼합물의 성분으로서 사용될 수 있다. 화학식 I의 화합물을 포함하는 액정 물질이 LCP의 제조시 사용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 제4 양상은 화학식 I의 화합물을 포함하는 액정 물질을 포함한다. 바람직하게는, 액정 물질은 두 개 이상의 성분을 포함한다. 추가의 성분은 화학식 I의 화합물과 혼화성이어야 하고, 공지된 메소게닉 물질, 예를 들어, 문헌[참조: Adv. Mater. 5, 107 (1993), Mol. Liq. Crsyt. 307, 111 (1997), J. Mat. Chem. 5, 2047 (1995)]이나 특허원[참조: US-A-5,593,617, US-A-5,567,349, GB-A-2 297 556, GB-A-2 299 333, DE-A-195 04 224, EP-A-0 606 940, EP-A-0 643 121 및 EP-A-0 606 939]에 기록되어 있거나 임의로 문헌[참조: EP-A-0 606 940, EP-A-0 643 121 및 EP-A-0 606 939]으로부터 선택된 물질로부터 선택될 수 있다.
액정 물질의 형태는, 사용될 수 있고 액정 혼합물, (공)중합체, 탄성중합체, 중합체 겔 또는 중합체 망상 구조물로서 존재할 수 있는 적용물에 좌우될 수 있다. 당해 중합체 망상 구조물이 특히 사용 중이고, 본 발명의 제4 양상의 제1 바람직한 양태에서 화학식 I의 화합물을 가교 결합된 형태로 포함하는 중합체 망상 구조물이 제공되는 것으로 밝혀졌다. 바람직하게는, 중합체 망상 구조물은 두 개 이상의 성분을 포함하며, 그 중 하나 이상은 화학식 I의 오가노실록산 화합물이다.
당해 중합체 망상 구조물은
i) 하나 이상의 키랄성 및/또는 어키랄성 메소게닉 중합 가능한 화합물,
ii) 화학식 I의 하나 이상의 오가노실록산 화합물 및
iii) 개시제를 포함하는 메소게닉 혼합물의 공중합에 의해 제조될 수 있다.
키랄성 또는 어키랄성 메소게닉 중합 가능한 화합물은 화학식 I의 오가노실록산 화합물일 수 있다. 또는, 중합 가능한 화합물은 위에서 언급된 공지된 메소게닉 물질로부터 선택될 수 있다. 바람직하게는, 키랄성 또는 어키랄성 중합 가능한 화합물은 네마틱 상을 열호변성 시퀀스로 포함한다.
중합체 망상 구조물은 추가의 성분을 임의로 포함할 수 있다. 이들은 중합 가능한 화합물, 안정화제 및 염료를 추가로 포함한다. 추가의 중합 가능한 화합물은 바람직하게는 하나 이상의 중합 가능한 작용기를 갖는 비메소게닉 화합물, 특히 디아크릴레이트 화합물을 포함한다.
예를 들어, 혼합물의 저장 동안에 예기치 않은 자발적 중합반응을 방지하는 임의의 적합한 안정화제가 본 발명에 따르는 액정 혼합물에 사용될 수 있다. 광범위한 이들 화합물은 시판 중이다. 전형적인 예는 4-에톡시페놀 또는 2,6-디-(t-부틸)-4-하이드록시톨루엔(BHT)을 포함한다.
칼라 필터가 필요한 경우, 염료가 혼합물에 첨가될 수 있다. 본 발명의 바람직한 양태에서, LC 혼합물은 염료를 함유하지 않는다.
키랄성 또는 어키랄성 중합 가능한 메소게닉 화합물은 액정 중합체 망상 구조물 혼합물의 0.01 내지 99중량%, 바람직하게는 50 내지 95중량%를 포함하는 양으로 존재할 수 있다.
화학식 I의 오가노실록산 화합물은 액정 망상 구조물의 0.1 내지 100중량%, 바람직하게는 1 내지 50중량%의 양으로 존재할 수 있다.
개시제는 바람직하게는 광개시제이고, 중합체 혼합물의 0.1 내지 5중량%, 바람직하게는 0.2 내지 2중량%를 포함하는 양으로 존재하는 라디칼 또는 양이온성 개시제일 수 있다.
혼합물이 안정화제를 추가로 포함하는 경우, 이는 일반적으로 액정 혼합물의0 내지 5중량%, 바람직하게는 0.1 내지 1중량%를 포함하는 양으로 존재한다.
이들 중합 가능한 액정 혼합물은 액정 중합체(LCP) 필름으로 형성될 수 있고, 본 발명의 제5 양상은 화학식 I의 화합물을 포함하는 LCP 필름을 제공한다. LCP 필름은 본 발명의 제4 양상에 따르는 LC 혼합물의 UV 중합반응에 의해 용이하게 제조될 수 있고, LC 혼합물을 포함하는 필름은 기판 위에 형성될 수 있고 UV 광선을 사용하여 중합되어 가교 결합된 액정 중합체(LCP) 필름을 제공한다. 당해 필름은 빛과 온도 둘 다에 안정하고 도파관, 광학 회절격자, 필터, 리타더, 압전 전지 또는 비선형 광학 특성을 나타내는 박막 등의 장치를 제조하는 데 사용될 수 있다.
목적하는 LCP 망상 구조물을 형성하기 위해, 위에 기재되어 있는 바와 같이 제조된 중합 가능한 액정 혼합물로부터 출발하는 상이한 방법이 사용될 수 있다. 피복된 ITP(인듐 산화주석), 유리 또는 플라스틱 기판 등의 투명 기판이 사용될 수 있다. 바람직한 기판은 유리 또는 플라스틱, 특히 마찰된 폴리이미드 또는 폴리아미드의 층이나 광배향된 광중합체(LPP)의 층을 포함하는 것들을 포함한다. 이들 층은 액정 혼합물의 균일한 배향을 촉진시키기 위해 사용된다.
LCP 필름의 제조시, 결점 또는 비균질물의 형성을 방지하는 것이 특히 중요하다. 이는 중합 가능한 액정 혼합물을 박막으로 형성하고, 당해 혼합물을 상술한 기판 사이에 놓은 다음, 평편한 오더가 수득될 때까지 짧은 거리에 걸쳐 펼치거나, 예를 들어, UV 광선을 사용하여 바람직하게는 이르가큐어(IrgacureR) 등의 광개시제의 존재하에 경화시키기 전에 위의 기판 중의 두 개 사이에 중합 가능한 액정 혼합물을 모세관 충전시킴으로써 수득될 수 있다.
본 발명은 이제 다음의 실시예와 관련하여 기재될 것이다. 본 발명의 범주에 속하는 변형은 당해 기술 분야의 숙련인에게 명백할 것이다.
다음의 실시예에서, 열호변성 상은 다음과 같이 약칭된다.
K 결정성
D 디스코틱
S 스메틱
N 네마틱
N*키랄성 네마틱(콜레스테릭)
I 등방성
실시예 1
1,3-비스-{4-[4-옥소-4'-(6-아크릴로일옥시헥실옥시)비페닐]부트-1-일}-1,1,3,3-테트라메틸디실록산
(a) 아크릴산 6-요오도헥실 에스테르
0℃에서 냉각되어 아르곤 대기하에 유지된, 디클로로메탄 100㎖ 중의 6-클로로-1-헥산올(27.3g, 0.2mol) 및 트리에틸아민(56㎖, 400㎖)의 교반된 용액에 아크로일 클로라이드(19.5㎖, 0.24mol)를 적가한다. 첨가를 완결(30분)한 후, 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반하고, 디클로로메탄 300㎖로 희석시킨 다음, 물(100㎖)과 포화 NaCl 용액(3×150㎖)으로 세척한다. 유기 상을 황산마그네슘으로 건조시키고, 여과한 다음, 증발, 건조시킨다. 이로써 조악한 생성물로서 갈색 오일을 43g 수득한다. 조악한 생성물을 실리카 겔 칼럼(헥산/에테르:19/1)에서 여과하여 순수한 아크릴산 6-클로로헥실 에스테르를 21.45g 수득한다. 6-클로로헥실 에스테르를 요오드화나트륨(84.3g, 0.56mol)을 함유하는 아세톤 500㎖에 용해시키고, 환류하에 22시간 동안 가열한다. 침전된 염화나트륨을 여과 제거하고, 용매를 제거하여 황색 잔사를 수득한 다음, 이를 에테르 300㎖에 용해시키고, 물(100㎖)과 포화 NaCl 용액(3×150㎖)으로 세척한 다음, 황산마그네슘으로 건조시킨다. 황산마그네슘을 여과하여 제거한다. 에테르 용매를 제거하여 아크릴산 6-요오도-헥실 에스테르를 황색 오일상 화합물로서 수득한다. 수율: 31.74g.
(b) 아크릴산 6-(4'-하이드록시비페닐-4-옥시)헥실 에스테르
DMF(50㎖) 중의 4,4'-디하이드록시비페닐(3.72g, 20mmol), 아크릴산 6-요오도헥실 에스테르(4.21g, 15mmol) 및 탄산칼륨(2.07g, 15mmol)의 용액을 실온에서 아르곤 대기하에 밤새 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 3N HCl(100㎖)에 부어넣고, 에테르(3×200㎖)로 추출한다. 합한 유기 추출물을 포화 NaCl 용액(200㎖)으로 세척하고, 황산마그네슘으로 건조시킨 다음, 여과하고, 증발, 건조시킨다. 수득한 결정성 잔사를 실리카 겔 칼럼(CH2Cl2, CH2Cl2/Et2O:19/1)에서 정제한다. 이로써 아크릴산 6-(4'-하이드록시비펜-4-일옥시)헥실 에스테르를 백색의 결정성 물질로서 수득한다. 수율: 2.5g.
(c) 1,3-비스-[4-(4-옥소-4'-(6-아크릴로일옥시헥실옥시)비페닐]부트-1-일]-1,1,3,3-테트라메틸디실록산
0℃에서 냉각되어 아르곤 대기하에 유지된, 무수 THF(30㎖) 중의 아크릴산 6-(4'-하이드록시비펜-4-일옥시)헥실 에스테르(1.77g, 5.2mmol), 트리페닐포스핀(TPP)(1.36g, 5.2mmol) 및 1,3-비스(4-하이드록시부틸)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산(0.70g, 2.5mmol)의 용액에 디에틸 아조디카복실레이트(0.91g, 5.2mmol)를 30분에 걸쳐 적가한다. 첨가를 완결한 후, 반응 혼합물을 실온에서 6시간 동안 교반하고, 증발, 건조시켜 잔사를 수득한 다음, 이를 실리카 겔 칼럼(CH2Cl2)에서 크로마토그래피로 정제하여 1,3-비스[4-(4-옥소-4'-(아크릴로일옥시헥실옥시)비페닐)부트-1-일]-1,1,3,3-테트라메틸디실록산을 백색의 결정성 물질로서 수득한다. 수율: 2.1g.
당해 화합물의 열호변성 시퀀스는 K 99℃ I이다.
다음 화합물들을 반응식 1에 따라 유사한 방법으로 제조할 수도 있다.
실시예 2
[1,1';4',1'']터페닐-4,4''-디카복실산 비스-{1,1-[3-(4-아크릴로일옥시부틸)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산일]운데실}에스테르
a) [1,1';4',1'']터페닐-4,4''-디카복실산 디운데크-10-엔일 에스테르
티오닐 클로라이드 100㎖ 중의 [1,1';4',1'']터페닐-4,4''-디카복실산(6.37g, 20mmol)의 현탁액을 환류하에 12시간 동안 가열한 다음, 티오닐 클로라이드를 공비 증류시켜 증발시킨다. 이로부터 수득한 조악한 황색 잔사를 디클로로메탄(300㎖) 중의 10-운데센-1-올(7.49g, 44mmol)과 함께 혼합하고, 트리에틸아민(8.9g, 88mmol)을 생성된 혼합물에 적가한다. 반응 혼합물을 실온에서 6시간 동안 교반하고, 물(300㎖)에 부어넣은 다음, 디클로로메탄(2×400㎖)으로 추출한다. 합한 유기 추출물을 포화 NaCl 용액(500㎖)으로 세척하고, 황산마그네슘으로 건조시킨 다음, 여과하고, 증발, 건조시켜 갈색 잔사를 수득하고, 이를 아세톤/디클로로메탄:9/1로부터 재결정화하여 순수한 [1,1';4',1'']터페닐-4,4''-디카복실산 디운데크-10-엔일 에스테르를 백색의 결정성 물질로서 수득한다. 수율: 8.97g.
b) [1,1';4',1'']터페닐-4,4''-디카복실산 비스-{1,1-[3-(4-아크릴로일옥시부틸)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산일]운데실}에스테르
실온에서 아르곤 대기하에 교반된, 벤젠(20㎖) 중의 [1,1';4',1'']터페닐-4,4''-디카복실산 디운데크-10-엔일 에스테르(5g, 8.03mmol)와 1,1,3,3-테트라메틸디실록산(8.63g, 64.24mmol)과의 혼합물에 백금-디비닐테트라메틸디실록산 촉매[PT:DVTMS](크실렌 중의 착체, 백금 2.1 내지 2.4%) 20㎕를 첨가한다. 하이드로실릴화 반응이 즉시 개시된다. 실온에서 1시간 동안 교반한 후, 백금 촉매 5㎕를 반응 혼합물에 추가로 첨가한 다음, 이를 70℃에서 밤새 가열한다. 백금 촉매 5㎕를 추가로 첨가하고, 온도를 80℃로 상승시킨다. 반응 혼합물을 당해 온도에서 1시간 동안 추가로 교반한다. 벤젠과 과량의 디실록산을 감압하에 증류시켜 반응 혼합물로부터 제거하여 페이스트상의 황색 잔사를 수득하고, 이를 뜨거운 헥산(100㎖)과 혼합한다. 헥산 혼합물을 고온 여과하고, 증발, 건조시킨다. 페이스트상 잔사를 무수 벤젠(40㎖)에 용해시키고, 3-부텐-1-올(2.31g, 32mmol)과 혼합한다. 생성된 용액을 실온에서 15분 동안 교반한다. 이어서, 백금 촉매 10㎕를 당해 용액에 첨가하고 반응 혼합물을 80℃에서 추가로 1시간 동안 교반한다. 생성된 암반응 혼합물을 증발, 건조시켜, 암 페이스트상 잔사를 수득하고, 이를 무수 THF(120㎖)에 용해시킨다. 당해 혼합물에 Et3N(10㎖)을 첨가하고, 이어서 무수 THF(30㎖) 중의 아크로일 클로라이드(2.9g, 32mmol)의 용액을 (N2하에 -10 내지 0℃에서) 적가한다. 첨가를 완결(20분)한 후, 반응 혼합물을 실온에서 추가로 6시간 동안 교반한다. THF와 과량의 Et3N을 감압하에 제거하여 암황색 잔사를 수득하고, 이를 최소량의 CH2Cl2(80㎖)에 용해시킨 다음, Et3N에 300㎖ 부어넣는다. 침전된 트리에틸암모늄 염을 여과하여 제거하고, 여액을 증발, 건조시켜 갈색 잔사(14.2g)를 수득한 다음, 용리액으로서 Et2O/헥산:1/4을 사용하여 SiO2칼럼에서 크로마토그래피로 정제하여 [1,1';4',1'']터페닐-4,4''-디카복실산 비스-{1,1-[3-(4-아크릴로일옥시부틸)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산일]운데실}에스테르를 백색의 페이스트상 생성물로서 수득한다. 수율: 5.58g.
당해 화합물의 열호변성 시퀀스는 D 40℃ I이다.
반응식 2에 따라 유사한 방법으로 다음 화합물을 또한 제조할 수 있다.
실시예 3
1,3-비스{4-[2,5-디-(4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시)페닐카보닐옥시]-부트-1-일}-1,1,3,3-테트라메틸디실록산
a) 2,5-디-[4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시]벤즈알데히드
무수 THF 10㎖ 중의 메실클로라이드(4.23g, 36.94mmol) 용액을 아르곤하에 15분에 걸쳐 무수 THF 80㎖ 중의 4-(6-아크릴로일옥시헥실옥시)벤조산과 트리에틸아민(20㎖)의 냉각(-25℃)된 용액에 적가한다. 이어서, 반응 혼합물을 -25℃에서 60분 동안 교반하고, DMAP 195㎎을 함유하는 무수 THF 60㎖ 중의 2,5-디하이드록시벤즈알데히드(2.3g, 16.65mmol) 용액으로 처리한 다음, -25℃에서 2시간 동안 추가로 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 실온으로 가온하고 밤새 계속하여 교반한다.이어서, 반응 혼합물을 포화 NaHCO3120㎖에 부어넣고 에테르 200㎖로 2회 추출한다. 합한 유기 추출물을 3N HCl(200㎖)와 반포화 NaCl 용액(2×100㎖)으로 세척하고, MgSO4로 건조시킨 다음, 여과, 건조시켜 담황색 페이스트상 물질을 수득한다. 이를 실리카 단칼럼(CH2Cl2/Et2O:19.5/0.5)에서 섬광 크로마토그래피로 정제하여 백색 잔사(9.25g)를 수득하고, 이를 CH2Cl2(25㎖)에 용해시킨 다음, 에탄올(250㎖)로부터 재결정화하여 순수한 2,5-디-[4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시]벤즈알데히드를 백색의 결정성 물질로서 수득한다. 수율: 8.5g
b) 2,5-디-[4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시]벤조산
존스(Jones) 산화제(CrO3/H2SO4/H2O)(48㎖)를 아세톤(300㎖) 중의 2,5-디-[4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시]벤즈알데히드(8.24g, 12mmol)의 빙냉 용액에 30분에 걸쳐 적가한다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반한다. 생성된 황록색 혼합물을 여과 제거하여 녹색 침전물을 잔류시키고, 이를 에테르 600㎖로 세척한다. 합한 유기 용액을 황색이 없어질 때까지 물(6×250㎖)로 세척한다. 수득한 무색 유기 용액을 포화 NaCl 용액(2×300㎖)으로 세척하고, MgSO4로 건조시킨 다음,여과한다. 용매를 제거하여 순수한 2,5-디-[4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시]벤조산을 백색의 결정성 물질로서 수득한다. 수율: 8.5g
c) 1,3-비스-{4-[2,5-디-(4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시)페닐카보닐옥시]-부트-1-일}-1,1,3,3-테트라메틸디실록산
0℃에서 디클로로메탄(25㎖) 중의 2,5-디-[4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시]벤조산(0.77g, 1.10mmol), 4-디메틸아미노피리딘(13㎎, 0.11mmol) 및 1,3-비스(4-하이드록시부틸)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산(0.14g, 0.5mmol)의 교반된 용액에 디클로로메탄(5㎖) 중의 N,N'-디사이클로헥실카보디이미드(0.21g, 1.10mmol) 용액을 15분에 걸쳐 적가한다. 반응 혼합물을 실온으로 가온하고 밤새 교반한다. 용매를 제거하여 잔사를 수득하고, 이를 실리카 단칼럼(CH2Cl2, CH2Cl2/Et2O:19/1)에서 크로마토그래피로 정제하여 1,3-비스-{4-[2,5-디-(4-(6-아크릴로일헥실옥시)페닐카보닐옥시)페닐카보닐옥시]-부트-1-일}-1,1,3,3-테트라메틸디실록산을 백색의 결정성 물질로서 수득한다. 수율: 0.59g. 당해 화합물의 열호변성 시퀀스는 N 43.8℃ I이다.
반응식 3에 따라 유사한 방법으로 다음 화합물을 제조할 수도 있다.
실시예 4
네마틱 LCP 필름의 제조
아니솔 중에서 성분
및 1,4-부탄디올 디아크릴레이트[알드리히(Aldrich)] 6%의 혼합물을 제조한다.
2,6-디-(t-부틸)-4-하이드록시톨루엔(BHT) 억제제 500ppm을 당해 혼합물에 가하여 조기 중합을 방지한다. 이르가큐어 369[판매원: 시바 가이기(Ciba Geigy), 스위스 바젤 소재] 등의 개시제 500ppm을 사용하여 중합을 개시한다. 혼합물을 실온에서 교반한 다음, 배향층이 있는 유리판 위에서 스핀 피복시켜 두께가 약 800nm인 LCP 필름을 형성한다. 당해 필름을 60℃에서 1분 또는 2분 동안 건조시키고 실온에서 N2대기하에 수은 램프를 사용하여 약 5분 동안 UV 광으로 조사하여 광중합시킨다.
잘 배향된 필름은 실온에서 투명점이 85℃인 네마틱 메소상을 나타낸다. 또한, 당해 필름은 타원편광기로 측정하면 기판면에 대한 경사각이 약 30。이다.
실시예 5
네마틱 LCP필름의 제조
실시예 4의 방법에 따라, 아니솔 중의 성분
및 1,4-부탄디올 디아크릴레이트(알드리히) 6%의 혼합물을 제조한다.
잘 배향된 필름은 실온에서 투명점이 86.5℃인 네마틱 메소상을 나타낸다. 또한, 당해 필름을 타원편광기로 측정하면 기판면에 대한 경사각이 약 30。이다.

Claims (27)

  1. LC 혼합물을 포함하는 LCP 망상 구조물을 제조하기 위한 LC 혼합물의 성분의 용도에 있어서, 당해 성분이 LCP 망상 구조물에서 안정한 경사각을 유도함을 특징으로 하는 용도.
  2. 제1항에 있어서, 기판 결합 그룹의 측면 치수가 메소게닉 확장 그룹의 측면 치수보다 0.5배 이상 큼을 특징으로 하는, 성분이 기판 결합 그룹과 메소게닉 확장 그룹을 포함하는 용도.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기판 결합 그룹이 오가노실록산 그룹을 포함하는 용도.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 메소게닉 확장 그룹이 방향족, 비방향족 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템을 포함하는 용도.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, LCP 망상 구조물이 네마틱, 스멕틱 A 또는 디스코틱 물질인 용도.
  6. 화학식 I의 화합물.
    화학식 I
    위의 화학식 I에서,
    B1내지 B4는 각각 독립적으로 임의로 치환된 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄상 C2-80알킬 그룹을 포함하는 그룹으로부터 선택된 스페이서(spacer) 그룹이며, 하나 이상의 알킬 CH2그룹은 임의로 하나 이상의 헤테로원자에 의해 치환되고,
    B5는 수소원자 또는 위에서 정의한 스페이서 그룹이고,
    A1과 A2는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 위에서 정의한 스페이서 그룹이고,
    MG1내지 MG3은 각각 독립적으로 하나 이상의 임의로 치환된 방향족 또는 비방향족 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템을 포함하는 메소게닉 그룹이고,
    n1과 n2는 각각 독립적으로 0 또는 양의 정수이며,
    단, 첫째, n2가 0인 경우, B1과 B2는 둘 다 중합 가능한 그룹을 포함하고 A1, B1및 B2중의 적어도 하나는 오가노실록산, 오가노게르마늄, 오가노틴 및 오가노-퍼플루오로 잔기로부터 선택된 그룹을 포함하며,
    둘째, n2＞0인 경우, B1, B2, B3및 B4중의 적어도 하나는 중합 가능한 그룹을 포함하고 A1, A2, B1, B2, B3및 B4중의 적어도 하나는 오가노실록산 그룹을 포함한다.
  7. 제6항에 있어서, A1, B1및 B2중의 적어도 하나가 오가노실록산 그룹을 포함하는 화합물.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 그룹 B1내지 그룹 B4중의 적어도 하나가 불소화 알킬 잔기와 게르마늄, 주석 및 실리콘으로부터 선택된 원자를 포함하는 유기 잔기로부터 선택된 벌크성 그룹을 포함하는 화합물.
  9. 제6항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, 그룹 B1내지 그룹 B4중의 적어도 하나가 하나 이상의 실록산 그룹을 포함하는 화합물.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 그룹 B1과 그룹 B2가 하나 이상의 실록산 그룹을 포함하는 화합물.
  11. 제6항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서, B1내지 B4가 화학식 II의 그룹을 포함하는 화합물.
    화학식 II
    P-(Sp1)k1-[(Si(R1)2O)m1-Si(R2)2]m2-(Sp2)k2-(X1)t1-
    위의 화학식 II에서,
    P는 CH2=CW-, CH2=CW-O-, CH2=CW-COO-, CH2=C(Ph)-COO-, CH2=CH-COO-Ph-, CH2=CW-CO-NH, CH2=C(Ph)-CONH-, CH2=C(COOR')-CH2-COO-, CH2=CH-O-, CH2=CH-OOC-, Ph-CH=CH-, CH3-C=N-(CH2)m3-, HO-, HS-, HO-(CH2)m3-, HS-(CH2)m3-, HO(CH2)m3COO-, HS(CH2)m3COO-, HWN-, HOC(O)-, CH2=CH-Ph-(0)m4,,및를 포함하는 그룹(여기서, W는 H, Cl 또는 C1-5알킬 그룹이고, m3은 1 내지 9의 정수이고, m4는 0 또는 1의 정수이고, R'는 C1-5알킬 그룹이고, R"는 C1-5알킬 그룹, 메톡시, 시아노, F, Cl, Br 또는 I이다)으로부터 선택된 중합 가능한 그룹이고,
    Sp1과 Sp2는 각각 독립적으로 C1-20알킬 그룹이고,
    k1과 k2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,
    R1과 R2는 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄상 C1-20알킬 그룹이고,
    m1은 0 내지 10의 정수이고,
    m2는 1 내지 10의 정수이고,
    X1은 -O-, -S-, -NH-, -N(CH3)-, -CH(OH)-, -CO-, -CH2(CO)-, -SO-, -CH2(SO)-, -SO2-, -CH2(SO2)-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -SOO-, -OSO-, -SOS-, -CH2-CH2-, -OCH2-, -CH2-O-, -CH=CH-, -C≡C- 또는 단일 결합이고,
    t1은 0 또는 1의 정수이다.
  12. 제6항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 있어서, A1및/또는 A2가 화학식 III의 그룹을 포함하는 화합물.
    화학식 III
    -(X2)t2-(Sp3)k3-[(Si(R3)2O)m5-Si(R4)2]m6-(Sp4)k4-(X3)t3-
    위의 화학식 III에서,
    Sp3과 Sp4는 각각 독립적으로 Sp1에 대해 위에서 정의한 바와 같고,
    X2와 X3은 각각 독립적으로 X1에 대해 위에서 정의한 바와 같고,
    R3과 R4는 각각 독립적으로 R1에 대해 위에서 정의한 바와 같고,
    k3과 k4는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,
    t2와 t3은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,
    m5는 0 내지 10의 정수이고,
    m6은 1 내지 10의 정수이다.
  13. 제6항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 있어서, MG1이 화학식 IV의 그룹을 포함하는 화합물.
    화학식 IV
    C1-(Z1-C2)a1-(Z2-C3)a2-(Z3-C4)a3
    위의 화학식 IV에서,
    C1내지 C4는 각각 독립적으로 비방향족, 방향족, 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹이고,
    Z1내지 Z3은 각각 독립적으로 -COO-, -OCO-, -CH2-CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합이고,
    a1, a2 및 a3은 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수이며, 단 a1+a2+a3≤3이다.
  14. 제6항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서, MG2와 MG3이 화학식 IVa의 그룹을 포함하는 화합물.
    화학식 IVa
    C5-(Z4-C6)a4-(Z5-C7)a5-(Z6-C8)a6
    위의 화학식 IVa에서,
    C5, C6, C7및 C8은 각각 독립적으로 비방향족, 방향족, 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹이고,
    Z4내지 Z6은 각각 독립적으로 -COO-, -OCO-, -CH2-CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합이고,
    a4, a5 및 a6은 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수이며,
    단, 첫째, a4+a5+a6≤3이고,
    둘째, C5, C6, C7및 C8중의 적어도 하나는 독립적으로 3가 그룹을 포함한다.
  15. 제6항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 있어서, 다음 화학식 I의 화합물.
    화학식 I
    위의 화학식 I에서,
    n1과 n2는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,
    B5는 수소이고,
    B1내지 B4는 각각 독립적으로 화학식 V의 그룹이고,
    A1과 A2는 각각 독립적으로 화학식 VI의 그룹이고,
    MG1은 화학식 IV의 그룹(여기서, C1, C2, C3및 C4는 동일하고 페닐렌 또는 비페닐렌으로부터 선택되고, Z1내지 Z3은 각각 독립적으로 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이다)이고,
    MG2와 MG3은 각각 독립적으로 화학식 IVa의 그룹(여기서, C5, C6및 C8은 동일하고 페닐렌 또는 비페닐렌으로부터 선택되고, C7은 페닐렌 또는 비페닐렌이고, Z4내지 Z6은 각각 독립적으로 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이다)이다.
    화학식 V
    P2-Sp5-[(Si(CH3)2O)m7-Si(CH3)2]m8-Sp6-X4-
    화학식 VI
    -X5-Sp7-[(Si(CH3)2O)m9-Si(CH3)2]m10-Sp8-X6-
    위의 화학식 V 및 화학식 VI에서,
    X4내지 X6은 각각 독립적으로 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -C≡C- 또는 단일 결합, 특히 -O-, -COO-, -OCO- 또는 단일 결합이고,
    Sp5내지 Sp8은 각각 독립적으로 C1-20직쇄 알킬 그룹, 특히 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌, 옥틸렌, 노닐렌, 데실렌, 운데실렌 또는 도데실렌이고,
    P2는 CH2=CW5- 또는 CH2=CW5-(CO)v2O-(여기서, W5는 H, CH3또는 Cl이고, v2는 0 또는 1의 정수이다)이고,
    m7과 m9는 각각 독립적으로 1 또는 2의 정수이고,
    m8과 m10은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이며, 단 m8+m10＞0이다.
  16. 제6항 내지 제15항 중의 어느 한 항에 있어서, n1과 n2가 둘 다 0이고, B1과 B2가 각각 독립적으로 화학식 VII의 그룹이고, MG2가 화학식 IVa의 그룹(여기서, C5, C6및 C8은 동일하고 페닐렌 또는 비페닐렌으로부터 선택되고, C7은 페닐렌 또는비페닐렌이고, Z4내지 Z6은 각각 독립적으로 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이다)인 화학식 I의 화합물.
    화학식 VII
    P3-Sp5-[Si(CH3)2O)m7-Si(CH3)2]m8-Sp6-X4-
    위의 화학식 VII에서,
    X4는 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -C≡C- 또는 단일 결합, 특히 -O-, -COO-, -OCO- 또는 단일 결합이고,
    Sp5와 Sp6은 각각 독립적으로 C1-20직쇄 알킬 그룹, 특히 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌, 옥틸렌, 노닐렌, 데실렌, 운데실렌 또는 도데실렌이고,
    P3은 수소이거나, CH2=CW5- 또는 CH2=CW5-(CO)v2O-(여기서, W5는 H, CH3, F, Cl, Br 또는 I이고, v2는 0 또는 1이다)이고,
    m7은 1 또는 2이고,
    m8은 1이다.
  17. 1,3-비스-{4-[4-옥소-4'-(6-아크릴로일옥시헥실옥시)비페닐]부트-1-일}-1,1,3,3-테트라메틸디실록산인 화학식 I의 화합물.
  18. [1,1';4',1"]터페닐-4,4"-디카복실산 비스-{1,1-[3-(4-아크릴로일옥시부틸)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산일]운데실}에스테르인 화학식 I의 화합물.
  19. 1,3-비스-{4-[2,5-디-(4-(6-아크릴로일옥시헥실옥시)페닐카보닐옥시)페닐카보닐옥시]부트-1-일}-1,1,3,3-테트라메틸디실록산인 화학식 I의 화합물.
  20. 메소게닉 화합물을 이반응성 실록산과 반응시킴을 포함하는, 제6항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 따르는 화합물의 제조방법.
  21. 두 개 이상의 성분을 포함하는 액정 혼합물로서, 하나 이상의 성분이 제6항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 따르는 화학식 I의 화합물인 액정 혼합물.
  22. 제6항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 따르는 화학식 I의 화합물 또는 제21항에 따르는 액정 혼합물을 포함하는 액정 물질.
  23. 제6항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 따르는 화학식 I의 화합물 또는 제21항에 따르는 혼합물을 포함하는 액정 중합체 필름.
  24. 제22항 또는 제23항에 있어서, 필름 또는 물질이 네마틱, 스멕틱 A 또는 디스코틱임을 특징으로 하는 물질 또는 필름.
  25. 제6항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 따르는 화학식 I의 화합물, 제22항에 따르는 액정 물질, 제21항에 따르는 액정 혼합물 또는 제23항에 따르는 액정 중합체를 포함하는 액정 장치.
  26. 액정 혼합물에서 안정한 경사각을 유도하기 위한, 액정 혼합물 속에서의 제6항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 따르는 화합물의 용도.
  27. 제6항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 따르는 화학식 I의 화합물을 하나 이상 포함하는 디스코틱 LC 물질.
KR1020017000501A 1998-07-14 1999-07-14 액정 혼합물에서 안정한 경사각을 유도하는 화합물, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 액정 혼합물, 액정 물질, 액정 중합체 필름 및 액정 장치 KR100676759B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9815269.7 1998-07-14
GBGB9815269.7A GB9815269D0 (en) 1998-07-14 1998-07-14 Compositions

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010071865A true KR20010071865A (ko) 2001-07-31
KR100676759B1 KR100676759B1 (ko) 2007-02-05

Family

ID=10835498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020017000501A KR100676759B1 (ko) 1998-07-14 1999-07-14 액정 혼합물에서 안정한 경사각을 유도하는 화합물, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 액정 혼합물, 액정 물질, 액정 중합체 필름 및 액정 장치

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6749771B1 (ko)
EP (1) EP1100855B1 (ko)
JP (1) JP2002520472A (ko)
KR (1) KR100676759B1 (ko)
CN (1) CN1309687A (ko)
AT (1) ATE282078T1 (ko)
AU (1) AU4640499A (ko)
DE (1) DE69921824T2 (ko)
GB (1) GB9815269D0 (ko)
HK (1) HK1033951A1 (ko)
WO (1) WO2000004110A1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100819690B1 (ko) * 2005-11-23 2008-04-04 주식회사 엘지화학 비닐술폰 유도체, 이를 포함하는 액정 조성물 및 이 액정조성물을 사용한 액정 디스플레이용 보상 필름
US8685502B2 (en) 2008-08-07 2014-04-01 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
US9041879B2 (en) 2010-12-23 2015-05-26 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display devices and methods of manufacturing liquid crystal display devices

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9903670D0 (en) * 1999-02-17 1999-04-14 Rolic Ag Liquid crystal compounds
GB9906168D0 (en) * 1999-03-17 1999-05-12 Rolic Ag Liquid crystal compounds
GB9930557D0 (en) * 1999-12-23 2000-02-16 Rolic Ag Optically active materials
US6875483B2 (en) 2000-07-06 2005-04-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Liquid crystal composition comprising liquid crystal molecules and alignment promoter
JP2002167360A (ja) * 2000-11-29 2002-06-11 Asahi Glass Co Ltd メソゲン基を有する重合性単量体の製造方法
EP1295863A1 (en) * 2001-09-24 2003-03-26 Rolic AG Liquid crystalline "laterally polymerizable" compounds
US6919946B2 (en) 2002-04-16 2005-07-19 3M Innovative Properties Company Compensators for liquid crystal displays and the use and manufacture of the compensators
GB0227392D0 (en) * 2002-11-23 2002-12-31 Univ Hull Combined rod-disc systems with unusual nematic properties
ATE400627T1 (de) * 2003-12-04 2008-07-15 Rolic Ag Additivkomponenten für flüssigkristalline materialien
US7597945B2 (en) * 2004-11-09 2009-10-06 Chisso Corporation Polymerizable liquid crystal composition containing fluorine-substituted (meth) acrylate derivatives
WO2006060625A2 (en) * 2004-12-02 2006-06-08 Displaytech, Inc. Liquid crystal compositions comprising an organogermanium compound and methods for using the same
JP5462628B2 (ja) 2006-09-13 2014-04-02 ロリク アーゲー ボリューム光アラインされたリターダ
US8574454B2 (en) 2006-12-22 2013-11-05 Rolic Ag Patternable liquid crystal polymer comprising thio-ether units
EP2222815B1 (en) 2007-12-21 2019-05-29 ROLIC Technologies AG Photoalignment composition
EP2222740B1 (en) 2007-12-21 2017-10-11 Rolic AG Functionalized photoreactive compounds
TWI490316B (zh) 2009-07-09 2015-07-01 Rolic Ag 用於光學或光電元件之含酯基液晶
EP2272937A1 (en) 2009-07-09 2011-01-12 Rolic AG Ester group containing compounds for optical or electro optical devices
FR2950356B1 (fr) * 2009-09-23 2012-04-27 Polymage Materiau composite utilisant un elastomere mesomorphe et son procede de fabrication
CN104245885B (zh) 2012-04-20 2016-09-07 Lg化学株式会社 可聚合液晶化合物、可聚合液晶组合物以及光学各向异性体
CN113088101B (zh) 2014-05-21 2023-07-04 罗利克技术有限公司 可聚合的二色性染料
TWI663250B (zh) * 2014-05-23 2019-06-21 德商馬克專利公司 液晶介質及液晶顯示器
WO2017195396A1 (ja) * 2016-05-09 2017-11-16 公立大学法人兵庫県立大学 光反応性液晶組成物、表示素子、光学素子、表示素子の製造方法、光学素子の製造方法
US11181674B2 (en) 2016-07-29 2021-11-23 Rolic Technologies AG Method for generating alignment on top of a liquid crystal polymer material
JP7310601B2 (ja) * 2017-03-17 2023-07-19 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性液晶混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、および化合物
US20220163853A1 (en) 2019-07-24 2022-05-26 Rolic Technologies AG Photo-alignable positive c-plate retarder

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2019380C (en) * 1989-06-22 1995-01-10 Wolfgang Haas Silylated benzoic acid derivatives
GB9619094D0 (en) * 1996-09-12 1996-10-23 Toshiba Kk Liquid crystal material and liquid crystal display device using the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100819690B1 (ko) * 2005-11-23 2008-04-04 주식회사 엘지화학 비닐술폰 유도체, 이를 포함하는 액정 조성물 및 이 액정조성물을 사용한 액정 디스플레이용 보상 필름
US7910179B2 (en) 2005-11-23 2011-03-22 Lg Chem, Ltd. Vinylsulfone derivative, liquid crystal composition comprising the same and compensation film using the same liquid crystal composition
US8685502B2 (en) 2008-08-07 2014-04-01 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
US9041879B2 (en) 2010-12-23 2015-05-26 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display devices and methods of manufacturing liquid crystal display devices

Also Published As

Publication number Publication date
EP1100855B1 (en) 2004-11-10
JP2002520472A (ja) 2002-07-09
AU4640499A (en) 2000-02-07
CN1309687A (zh) 2001-08-22
US6749771B1 (en) 2004-06-15
DE69921824D1 (de) 2004-12-16
EP1100855A1 (en) 2001-05-23
KR100676759B1 (ko) 2007-02-05
WO2000004110A1 (en) 2000-01-27
ATE282078T1 (de) 2004-11-15
HK1033951A1 (en) 2001-10-05
GB9815269D0 (en) 1998-09-09
DE69921824T2 (de) 2005-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100676759B1 (ko) 액정 혼합물에서 안정한 경사각을 유도하는 화합물, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 액정 혼합물, 액정 물질, 액정 중합체 필름 및 액정 장치
JP5220969B2 (ja) 液晶化合物
KR100426296B1 (ko) 신규중합성액정화합물
US5788880A (en) Liquid-crystalline organosiloxanes containing chiral dianhydrohexitol derivatives
US6514578B1 (en) Polymerizable mesogenic tolanes
JP4828002B2 (ja) カイラルドーパント
JP4577990B2 (ja) 液晶化合物
KR101196237B1 (ko) 액정 재료용 부가 성분
KR20020062767A (ko) 광학 활성 물질
KR20030059268A (ko) 호메오트로픽 얼라인먼트 층
JPH07258638A (ja) 液晶状物質
JP2002521354A (ja) 架橋性液晶化合物
KR100384912B1 (ko) 광가교결합성액정염료
JP2005502730A (ja) 横方向重合性液晶化合物
EP1046631A1 (en) Liquid crystalline compounds
CA2292138C (en) Liquid-crystalline silicones having increased uv stability
Stohr et al. Synthesis and optical characterization of cholesteric polymer networks
US6569356B1 (en) Chiral compounds and their use as doping agents in liquid crystals

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee