KR20010041990A - 엠보싱된 다수의 발광 기록층을 가지는 광기록매체의제조방법. - Google Patents

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레비치 유진
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Abstract

본원 발명은 에칭된 얇은 금속층(22)이 두꺼운 금속층으로 전기도금되고, 형광 기록층(25)이 인접하는 금속지역 사이에서 그 위에 부어져서 피트를 형성한, 도 3의 엠보싱 마스터(30)을 사용하여 다중층 광학 기록 매체를 제조하는 방법에 관련한다. 상기 발광층은 다음으로 UV광(26)에 의해서 경화될 수 있다.

Description

엠보싱된 다수의 발광 기록층을 가지는 광기록매체의 제조방법. {Production Of Optical Recording Media Having Plural Luminescent Recording Layers by Embossing The Recording Layer}
다중층 형광 광디스크는 정보를 기록할 때 높은 용적 밀도(bulk density)에 도달할 수 있는 가능성 및 높은 접촉성과 신호 대 잡음비(signal-to-noise)를 가지고 정보를 검색할 수 있는 가능성 때문에 폭넓은 용도로 사용될 수 있다.
이러한 목적을 위해서 형광 정보 매체을 CD-ROM의 피트 또는 CD-WORM 또는 CD-WER의 전기록 그루브(pre-recording grooves)에만 위치시키는 것이 바람직하다. 본원발명에서 이러한 문제를 포토리소그래피(photolithography) 기술 또는 특정한 타입의 원형 마스터 디스크를 사용하여 해결된다.
폴리카보네이트계 CD를 위한 기준에서 정해진 대로 상기 해결책에 있어서 요소를 기록하기 위한 접촉 포토리소그래피(contact photolithography)의 이용은 포토마스크와 디스크 표면 사이에 0.2μ보다 작은 공간을 두어야 하기 때문에 다소 어렵다. 상기 디스크 표면은 몇 마이크론 정도의 거칠기를 가지며, 더구나 디스크의 두께는 마이크론 단위로 점차적으로 세분화된다. 그 결과로서 디스크를 모든 표면에 대해서 균일하게 포토마스크로 프레싱 하는 것은 불가능하다.
적응제어 광 프로젝터(adaptive-optics projectors)를 사용하는 현대 인쇄 장치에 의해서, 요구되는 기록 요소(recording element)를 만드는 것이 가능하나, 매우 큰 디스크 표면에만 가능하다. 더구나 광 프로젝터(projector optics)는 각 지역을 기록할 때마다 개별적으로 고정되어야 하므로 많은 시간이 소요되고 그 지역의 가장자리에서의 기록에 있어서는 문제가 발생한다. 그 이외에도 이러한 장치는 매우 고가이다.
본원발명은 CD-ROM-, WORM-, WER-류 다중층 광디스크의 제조 기술에 관한 것이다. 보다 상세하게는 접촉 리소그래피(contact lithography)에 유사한 기술에 의해 제조된 양각 마스터 디스크(relief-carrying master-discs)를 사용한 다중층 광디스크의 복제방법, 표면과 마이크로-캐비티(micro-cavities)(피트와 그루브(pits and grooves))에서 다양한 함침특성을 가지는 양각 마스터 디스크 및 상기 방법의 실현을 위한, 정보 형광 매체(informative luminescencing media)의 액체 광감성 조성물(light-sensitive composition)에 관련된다.
본원 발명의 방법은 폴리크롬 디스크(polychrome disc)의 제조를 가능하게 하여 디스크의 정보 용량을 몇 배(대체로 폴리크롬 디스크에 사용되는 색채 요소(chromatic component)의 숫자와 동일한 숫자 정도로)로 가능하게 하는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예(포토마스크의 평편한 표면을 덮고 있는 정보 형광 매체(information luminescing medium, 이하 ILM이라 함)층이 노광 이후 제거된(씻겨진) 경우)에 의한 다중층 형광 광디스크의 부분 단면도,
도 2는 도 1에서 ILM층이 제거되지 않고, ILM층은 광화학적으로 불활성인 발광체(photo-chemically inactive luminophor)를 포함하지 않는 경우의 부분 단면도,
도 3은 단층 광디스크의 복제에 사용되는 마스터 디스크의 개략도, 및
도 4는 본원 발명의 제2실시예에 의한 마스터 디스크의 개략도이다.
[주요한 부분의 설명]
10: 다중층 형광 광디스크
11: 보호층
12: 접착층
13: 접착층 내의 형광 피트
14: 분리층
15: 기판
Ⅰ, Ⅱ, Ⅲ, ... N: 분리된 다중층 구조의 수
20: 다중층 형광 광디스크
21: 보호층
22: 접착층
23: ILM층 내의 형광 피트
24: 분리층
25: 기판
26: ILM층의 비형광부
Ⅰ, Ⅱ, Ⅲ, ... N: 분리된 다중층 구조의 수
30: 마스터 디스크
31: 마스터 디스크의 투명 기판
32: 얇은 금속층
33: (전기도금에 의한) 두꺼운 금속층
34: 정보 피트
35: ILM층
36: UV광
40: 마스터 디스크
41: 마스터 디스크의 투명 기판
42: 얇은 금속층
43: 마스터 디스크 표면으로의 ILM의 함침성을 증가시키는 층
44: 전기도금법에 의해 축적된 두꺼운 금속층
45: 마스터 디스크 표면으로의 ILM의 함침성을 감소시키는 층
본 발명의 일실시예에서, 마스터 디스크는 피트 또는 전기록 그루브를 가지는 일편의 고체 금속 디스크의 형태로 만들어지지 않고, 투명기판 위에 형성된 금속 코팅된 포토마스크로서 피트와 전기록 그루브를 형성하는 포토리소그래피 방법을 사용하여 만들어 진다.
Ⅰ. 얇은 정보 층의 제조 방법
상기 방법의 본질은 정보층을 곧바로 포토마스크로 적용한 다음, 금속을 통한 노광 이후(1) 또는 노광 없이(2) 그것을 제거하는 것에 있다. 이것은 산란에 관계된 요소 이미지의 퍼짐과 본래부터 접촉 포토리소그래피에서 발생하며, 표면의 거칠기 또는 프레스 시의 불균일성에 기인하는 포토마스크와 포토레지스트 사이의 간격에 의해 발생하는 표면에 대한 이미지의 불균일성을 제거가능하게 한다. 정보층의 적용은 스핀코팅을 포함한 다양한 방법으로 실행가능하다.
정보층으로서 하기 시스템이 사용될 수 있다.
1. 광감성 조성물(포토-폴리머, -올리고머, -모노머)속의 형광 다이. UV광에 노광되었을 때, 중합은 피트(그루브)에서만 발생하며, 중합되지 않은 지역은 적절한 용매에 의해서 씻겨져 제거된다.
2. 광활성 다이(photo-active dye)와 낮은 분자의 폴리머의 혼합물. 광활성 다이로서 하기의 물질이 사용될 수 있다.
a) 로다민(rhodamines)의 락탐(lactams)[2]과 락톤(lactons) 및 다른 유기 다이[3]. λ1파장의 광에 노광되었을 때, 상기물질은 λ2파장의 광을 흡수하고, λ3파장의 형광을 방출하는 유색 구조로 변화한다.
b) 케스케이드 블루(cascade blue) 또는 루시퍼 옐로우(lucifer yellow) AB 등[4]과 같은 다이 아지드(dye azides)를 예로서 들수 있는, 상업적으로 생산되고 UV광에 의해 폴리머 분자에 부착되는 광 결합 형광 라벨(photo-affined fluorescent labels). 젤라틴의 아민기 또는 이러한 작용기를 포함하는 다른 폴리머에 고정가능하며, 미부착된 다이 분자는 씻겨져 제거된다.
따라서 포토마스크에 직접적으로 정보층을 적용하는 것은 기록요소의 크기의 최소화와 디스크 정보 용량의 증가를 가능하게 하며, 더불어 간단한 노광공정은 제조된 디스크의 가격을 낮춘다.
1. 포토마스크 법에 의한 정보층의 제조
포토마스크로부터 정보층으로 정보 요소의 이미지를 옮길 때, 그들의 크기와 위치를 변화시키지 않는 것이 매우 중요하다. 우리는 "딥" 포토마스크(deep photomask)를 사용하여 포토마스크 관통공에서의 빛의 산란에 관계되는 뒤틀림을 피하는 방법을 제공한다. 포토마스크의 두께는 환경의 수에 의해 결정된다.
적용시, 폴리머는 금속이 없는 포토마스크 표면의 위치를 채울 것이며, 얇은 층으로서 위로부터 넘쳐서, 모든 디스크 표면을 채울 것이다. 아래로부터 노광되었을 때, 피트 안쪽에 위치한 폴리머 만이 유색 형태로 변할 것이다. 정확하게 선택된 조성물을 가지고 포토마스크를 사용하는 경우, λ1파장의 빛에 노광시 정보층(3)(도 2)의 물질에서 흡수된 광의 깊이는 금속 두께와 대략 동일하게 만들어 질 수 있다. 그 결과로서 산란 효과를 피하고 따라서 피트 크기를 감소시키는 것이 가능하다.
증가된 깊이(기준과 비교되어졌을 때)는 정보전달층의 두께를 가능한 최대의 정도까지 증가시키기 위해서 필요하다. 그것은 동일한 양의 빛흡수와 피트에서 다이 분자의 수를 유지하는 조건하에서 (a) 큰 체적에서는 광활성 분자의 농도가 낮기 때문에 판독 과정중 레이져 복사에 의한 가열을 줄이고, (b) 이러한 분자들의 응집가능성을 줄인다.
통상의 흡광 계수(ε)에 대해서 입사광의 10%(선형범위에서)를 흡수하기 위해 필요한 다이 농도는 식 C=-(1/εd)IgT(T는 투과도를 나타낸다)에 의해 계산된다. 판독광의 파장에서 흡광계수에 대한, d=0.1μ와 d=0.5μ의 깊이를 가지는 피트에서 판독광(reading radiation)의 10%를 흡수하기 위해 요구되는 다이농도의 의존성은 표 1에 나타나 있다.
ε(1/mole cm)/ d 104 2×104 5×104 105
d=0.1μ 0.458 0.228 0.0915 0.046
d=0.5μ 0.0915 0.0456 0.0183 0.0092
500에 달하는 분자량의 다이에 있어서, 상기 다이는 피트 내에서 22.9∼ 2.29 퍼센트(부피)를 차지해야 한다.
포토마스크가 초기에 얇은 금속 층으로 만들어지고, 다음으로 그것의 두께가 전기도금에 의해 두꺼워 진다면, 용해에 의한 손실이 없는 금속의 요구되는 두께(포토마스크 깊이)가 제공될 수 있다.
2. 마스킹에 의한 정보층의 제조
피트 바닥은 정보층의 폴리머에 의해서 적절하게 함침되고, 디스크의 표면은 함침되지 않는 마스터 디스크를 사용하는 것이 제안된다. 더불어, 함침성을 증가시키기 위해 폴리머에 대해 좋은 함침성을 가지는 별도의 보조층이 피트의 바닥에 적용될 수 있다. 이 경우, 정보층을 위한 물질로서 형광 다이 첨가제를 함유하는 폴리머가 사용된다. 이렇게 함으로서 이 폴리머의 용해액은 오직 구멍(피트)만을 채운다. 피트를 더 쉽게 채우고, 피트 사이의 공간이 다이를 포함하는 폴리머에 의해 덮여지지 않도록 하기 위해서, 마스터 디스크의 기본재질은 다이 함유 폴리머 용해액에 대해서는 좋은 함침성을 나타내도록 하고, 상부 박막은 함침성을 나타내지 않도록 제조될 수 있다(도 4). 도 4에서 나타난 바와 같이, 이 박막은 피트에 요구되는 깊이와 동일한 두께를 가질수 있다. 예를 들어, 마스터 디스크의 제조시, 상기 박막만이 에칭될 것이며, 마스터 디스크의 기판은 에칭되지 않을 것이다. 그러나 상기 박막은 또한 이미 마스터 디스크 기판 물질이 요구되는 깊이까지 에칭되어 요구되는 피트의 깊이보다 기본적으로 더 얇을 수도 있다. 어떤 경우에도, 피트를 제조시, 상기 박막에서 관통공이 에칭된다. 이 박막은 마스터 디스크의 기본 재질과 좋은 접착성을 나타내는 물질로 만들어지지만, 폴리머 용해액에 의해서 함침되지 않는다. 폴리머 용해액과 다이가 적용되는 디스크 표면의 쉐이킹(shaking off), 블로잉(blowing off) 또는 블로팅(blotting) 후, 적하된 용해액는 마스터 디스크의 구멍(피트)에만 남아있을 것이며, 나머지 표면은 다이를 포함하는 폴리머 용해액을 포함하지 않을 것이다.
솔벤트의 자국을 완전하게 제거하지 않고 건조된 후, 피트를 채우는 다이 함유 폴리머 필름의 고화된 부분은 피트의 바닥에 대해서 여전히 충분한 접착성을 유지할 것이다.
Ⅱ. 하나의 얇은 다중층 정보 구조를 다른 구조에 연속적으로 붙이는 것에 의한 광디스크의 제조
상기에서 언급된 방법에 의해 제조된 정보층에, 순수 폴리머 또는 UV 광을 흡수할 수 있는 물질을 함유하는 폴리머로 만들어진 분리층이 5-100 ㎛ 두께로 적용된다. 상기 물질은 광-폴리머(photo-polymer) 접착제의 고화를 위해 사용될 수 있는 UV 광으로의 노출시 표백현상(bleaching)으로부터 다이를 보호하기 위해서 필요하다. 상기 접착제는, 예를 들어 원심분리기를 사용하여, 얇은 층으로서 분리층의 표면에 적용된다. 다음으로, 적용된 접착제에 의해, 제조된 다중층 구조가 미리 적용되어진 다중층 정보 구조 위의 기계적 기부(mechanical base)에 접착된다. 기계적 기부로서 폴리카보네이트 디스크가 사용될 수 있다.
다중층 형광 광디스크를 생산하는 광학적 방법(광활성 다이의 예에 의해)
1. UV와 가시 스펙트럼 영역에서 투과성을 나타내며, 굴절율 n2와 두께 d2를 가지고 건조공정 동안 포토마스크에 대한 접착특성을 잃는 중간 보조층(2)이 UV와 가시 스펙트럼 영역에서 투과성을 나타내는 물질로 만들어져 있고, 나선형 트랙(spiral tracks) 형태의 정보가 기록된 포토 마스크 위에 적용된다. 상기 층은 다양한 타입의 건조공정에 의해 포토 마스크에 직접적으로 적용되는 정보층의 접착 특성의 다양성이 충분하다면 불필요하게 될 수 있으며, 또한 상기 층은 최종 건조 단계 및 전 정보층과 분리층을 가진 폴리카보네이트 디스크로 접착하는 단계까지 포토마스크에서 상기층을 박피하지 않은 채 상기 층을 취급하는 것을 가능하게 할 수 있다.
2. 상기 층(2)위에, 광활성 폴리머층(3)이 굴절율 n3와 두께 d3를 가지는 원형형태로서 적용되며 상기 폴리머층(3)은 파장 λ1의 빛에 노광되었을때 비가역적으로 광변환될 수 있으며(예를 들어 로다민 락탐 또는 락톤) 그것의 유색형태는 파장 λ2의 빛을 흡수하고, 파장 λ3에서 형광을 방출한다.( λ1〈λ2〈 λ3)
3. 다음 상기층(3) 위에 굴절률 n4와 두께 d4를 가지며, 파장 λ〈 λ4에서 빛을 흡수하고, λ2및 λ3에서 투과성인( λ1〈 λ4〈 λ2〈 λ3) 폴리머 층(4)이 UV 광으로부터 배열된 층들을 연속적으로 보호하기 위해서 적용된다.
4. 상기 층(4)위에 굴절률 n5와 두께 d5를 가지며 λ2및 λ3에서 투과성인 층(5)이 적용된다.
5. 제조된 다중층 구조는 만일 그것이 첫벗째 것이라면, 폴리카보네이트 같은 기준 광디스크(6)(도 1)의 형태의 기계적 기부 위에 접착되거고, 만일 그 구조가 n번째 구조라면, n 번째 구조의 5번째 층이 n-1 번째 구조의 2번째 층으로 접착되는 n-1 다중층 구조를 가지는 광디스크의 미완성 제품위에 접착된다. 만약 2번째 층이 빠졌다면, 5번째 층은 직접적으로 3번째 층으로 접착된다.
6. 상기 층들의 중합 또는 건조와 각 다중층 구조의 3번째 층의 노광은 상기에서 설명된 기술적 공정의 가장 적절한 순간에 실행된다.
7. 포토마스크로부터 n번째 다중층 구조의 제거는 n-1번째 층으로의 접착후 언제라도, 예를 들어 그것에 n+1번째 다중 층 구조를 접착하기 전에 실행된다.
8. 마지막 포토마스크가 제거된 이후, 굴절률 n1와 두께 d1을 가지며 λ〈 λ4에서 비투과성인 보호층(1)이 디스크에 적용된다.
굴절율 n1 n2 n3 n4 n5
필요한 경우 제2층과 제4층은 적용되지 않는다.
9. 층의 두께 d1, d2, d3, d4, d5는 하기에서 선택될 수 있다.
d2는 지속성을 유지하는 조건 하에서의 최소두께이며 통상 0.05㎛이다.
d4는 λ〈 λ4인 입사광의 99%의 흡수하는 조건 하에서의 최소 두께이며 통상 1㎛이다.
d5는 Fgl〉〉Fad(Fgl은 층사이의 접착력이고, Fad는 상기 층(1)과 포토마스크 사이의 접착력이다) 조건 하에서의 최소 두께이며, 통상 20-30㎛이다.
d1〉d4
d3는 최소 정보 피트의 포지티브 등록(positive registration)을 제공하기 위해 필요로 하는 다이 분자의 갯수에 기초하여 계산된다.
광 결합 마커(photo-affined markers)를 가지는 다중층 형광 광디스크는 유사하게 생산된다. 주요한 차이는 그것이 비고정된 마커를 제거하기 위해 노광된 광감성 층의 함침처리라는 부가적인 공정을 실행할 필요가 있다는 것이다. 이 물질의 주요한 장점은 다이 속에 삽입된 광 결합 작용기를 가지는 수용성 다이를 넓은 범위에서 사용가능하다는 것이다.
생산성을 높이기 위해 마스터 디스크를 사용한 다중층 형광 디스크의 제조는 복사본의 적용에 기초할 있다. 이러한 복사본은 상기의 방법에서 사용된 폴리머 용해액의 작용에 민감하지 않은 물질위에 통상의 마스터 디스크로부터 스탬핑 카피(stamping copy)하는 방법에 의해 만들어 진다. 이 경우 복사본의 제조는 DVD 타입 일반 단층 디스크용 기재의 제조기술과 완전히 일치한다.
[참고 자료]
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Claims (26)

  1. 다중층 광디스크 속에 형성된 각 층들에 대해서 나선형으로 정렬되어 공간적으로 변형된 마이크로-캐비티(피트 또는 그루브)형태로 코드화 된 정보가 기록된 다수의 양각 형태 마스터 디스크(relief-forming master-discs)를 생산하는 단계,
    정보 형광 매체(ILM)을 위한 액체 용액을 준비하는 단계,
    상기 용액을 상기 마스터 디스크 위에 적용하는 단계,
    상기 마스터 디스크 위에서 상기 ILM 용액을 고화시키는 단계,
    상기 고화된 층에 형광을 방출할 수 있으며, 상기 마스터 디스크에서 ILM의 고화된 층의 비형광성 평면 표면에서 마이크로-캐비티(피트 또는 그루브)의 공간를 채울 수 있는 노둘스(nodules)의 형태로 정보 변형 패턴을 형성하는 단계,
    얇은 폴리머 필름상의 상기 ILM의 고화된 층을 형광 마이크로 노둘스(luminescent micro-nodules)로부터 제거하는 단계,
    형광 광디스크 층의 스택(stack)에 대한 다양한 마스터 디스크를 사용하여, 다양한 고화된 ILM의 연속적인 변환에 의해 다중층 디스크를 형성시키는 단계, 및
    제1층에 보호 코팅을 적용하고, ILM을 가지는 다중층구조를 마지막 정보층의 면으로부터 기판으로 적용하는 단계를 포함하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 마스터 디스크는 피트 또는 그루브를 가지는 석영 또는 유리 기판위에 금속 코팅된 포토마스크로서 제조되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    UV와 가시 스펙트럼 지역에서 투과성인 기판을 깨끗이 하는 단계,
    얇은 금속 층을 상기 기판에 적용하는 단계,
    포토 레지스트를 상기 기판위에 적용하는 단계,
    상기 포토 레지스트를 건조하는 단계,
    상기 포토 레지스트를 나선형으로 스캐닝 시, 포커스되고 변형된 레이져 또는 전자 빔에 노광시키는 단계,
    상기 포토 레지스트를 현상하는 단계,
    상기 금속층을 에칭하는 단계,
    상기 포토 레지스트를 제거하는 단계, 및
    전기도금에 의해 금속 층을 증착시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 증착된 금속층의 두께는 형성된 피트의 너비와 동일한 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  5. 제 3항에 있어서, 상기 증착된 금속층의 두께는 0.35-0.5㎛인 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  6. 제 1항 내지 5항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 ILM의 액체 용액은 감광성 물질인 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 고화된 ILM층이 활성 광의 파장에 대하여 상기 마스터 디스크 피트의 깊이에 동일한 층 깊이의 1%를 넘지않는 투과도를 제공하는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 활성 파장에서 강한 흡수력을 제공하기 위해서 높은 흡광요소를 가진 첨가제가 ILM의 감광성 조성물로 삽입되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  9. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 ILM의 감광성 조성물이 광 화학적으로 안정한 발광체 분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  10. 제 1항 내지 제 9항 중 어느 하나의 항에 있어서, ILM의 감광성 조성물에 음각 포토마스크(negative photomask)가 사용되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  11. 제 10항에 있어서, 포토 레지스트는 음각 포토마스크로서 사용되는 기질로서 폴리비닐-시아나메이트(polyvinyl-cyanamate) 유도체를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  12. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 하나의 항에 있어서, 광-고화되는 단량체 또는 올리고머가 ILM의 광감성 조성물의 성분으로 사용되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  13. 제 1항 내지 제 12항 중 어느 하나의 항에 있어서, 광 화학적으로 안정한 폴리머가 필름 형성 물질로서 사용되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  14. 제 1항 내지 제 13항 중 어느 하나의 항에 있어서, 형광성 광 산물(luminescent photo-products)을 형성할 수 있는 광감성 비형광 물질이 ILM의 감광성 조성물의 성분으로 삽입되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  15. 제 1항 내지 제 14항 중 어느 하나의 항에 있어서, 광 활성 다이가 감광성 물질로서 사용되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  16. 제 14항에 있어서, 락탐 로다민 또는 다른 유기 다이가 감광성 물질로서 사용되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  17. 제 14항에 있어서, 락톤 로다민 또는 다른 유기 다이가 감광성 물질로서 사용되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  18. 제 1항 내지 17항 중 어느 하나의 항에 있어서, UV광에 의해 폴리머 분자에 고정된 광 결합 형광 마커(photo-affined fluorescent markers)가 감광성 물질로 사용되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  19. 제 1항에 있어서, 케스케이드 블루 또는 루시퍼 옐로우 AB와 같은 아지드 화합물(azides)이 광 결합 형광 마커로 사용되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  20. 제 1항에 있어서, 공간 변형된 형광 마이크로 캐비티의 형태로 코드화된 정보 변형 패턴의 형성이 상기 마스터 디스크의 면으로부터 활성광선의 복사에 의해 ILM 층을 비추는 것에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  21. 제 1항 또는 제 8항에 있어서, 상기 마스터 디스크 표면에서 ILM의 노광되지 않은 층은 활성광선으로의 노광단계 후 용해액에 의해 제거되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  22. 제 1항 내지 제 21항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 기판이 비투명성인 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  23. 제 22항에 있어서, 상기 기판의 표면이 ILM의 액체용액에 대해 함침성을 나타내는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  24. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 전기전도에 의해 쌓인 층의 표면이 ILM의 액체 용액에 대해서 비함침성을 나타내는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  25. 제 1항, 제 22항 또는 제 23항에 있어서, 감광성 조성물이 ILM의 액체 용액으로 사용될 수 있는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
  26. 제 24항에 있어서, 기판의 표면에 대한 ILM의 함침성과 전기전도에 의해 축적된 마스터 디스크 층의 표면에 대한 비함칭성이 개선된 물질이 ILM의 액체용액의 성분으로 삽입되는 것을 특징으로 하는 다중층 형광 광디스크의 제조방법.
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