JPS6029950A - 光記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、特にヒートモードの光記録媒体とその製造方
法に関する。

先行技術とその問題点 ヒートモードの光記録媒体として、色素等の光吸収体か
らなるか、色素や顔料等の光吸収体と樹脂とからなる記
録層を基体上に設け、この記録層に書き込みレーザー光
を照射して、記録層表面にピットと称される微小小穴の
列をトラック状に形成し、ピットの有無を読み出しレー
ザー光で検出して、情報の記録書き込みを行うものが知
られている。

このような媒体の書き込みおよび読み出しにおいては、
トラッキングの制御が必要である。

従来、トラッキングの制御を行うには、基体の記録層形
成面にトラッキング用の溝を設け。

この溝の凹部または凸部上の記ａ層をトラック部とし、
溝の段差による干渉効果や記録層の膜厚の相違にもとす
く光学特性の差、ないしは反射、吸収率等の光学特性の
差等を利用して、トラックをはずれているかを検出する
ことによっている。

しかし、いわゆる塗布型の光記録媒体として、記録層を
塗布によって形成するときには、溝の四部上にも凸部上
にも均一な厚さで記録層が塗設されるので、トラッキン
グ信号が小さいという欠点がある。

また、この溝は入／８ｎ（入は光の波長、ｎは基体の屈
折率）程度の深さとされるため、製造がむずかしく、厳
密な加工精度を要し、量産性が低いという欠点がある。

　この場合、特に基体がうすいときには、実質上製造が
不可能に近く、また、ロールに巻きとって製造すること
もできず、量産性も低い。

さらには、記録層をスピンナーコートすることも難しく
、媒体の製造上の種々の欠点があＩＩ　発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、塗布型の光記録媒体とその製造方
法を改良することによって、得られるトラッキング信号
を増大し、しかも媒体の量産性を向上し、製造上の種々
の欠点を解消することにある。

このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち第１の発明は。

基体上にトラック層を有し、トラック層にパターン状に
トラッキング用の溝を有し、溝の底部とトラック層表面
とのヌレ性が互いに異なっており、溝の内部またはトラ
ック層表面のいずれかに、記録層が選択的に塗設されて
いることを特徴とする光記録媒体である。

また第２の発明は、 基体上に、トラック層を有し、トラック層にパターン状
にトラッキング用の溝を有し、溝のｖｃ麓シトラー、／
Ｆ層裏面ンのヌＩ／性が瓦いに某なっており、溝の内部
またはトラック層表面のいずれかに、記録層が選択的に
塗設されており、トラック層表面上に蓋体を設けてなる
ことを特徴とする光記録媒体である。

そして第３の発明は、 基体上にレジストからなるトラック層を設層し、次いで
レジストを、厚さ方向の一部または全域に亘って、パタ
ーン状に選択的に除去し、トラッキング用の溝を形成し
、溝の底部と残存するトラック層表面とのヌレ性を互い
に異ならしめ、しかるのち記録層塗布液を塗布して、溝
の内部またはトラック層表面のいずれかに記録層をパタ
ーン状に設層することを特徴とする光記録媒体の製造方
法である。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の光記録媒体は、第１図、第２図に示されるよう
に、基体２上に記録層５を有する。

この場合、記録層５は、基体２上に設層されたドラック
層４に形成されたトラッキング用の溝の内部（四部）ま
たは凸部（トラック層表面）のいずれか一方に選択的に
形成され、書き込み、読み出し時のトラッキングの制御
を容易にするものである。

記録Ｎ５を選択的に形成するには、溝の底部とトラック
層４表面とのヌレ性を、互いに異ならしめる。　ヌレ性
を異ならしめるには、一般に、溝の底部とトラック層表
面とのうちの一方を、記録層の塗布溶媒に対し親液性、
他方を撥液性とする。　このとき、記録層５は２、撥液
性部分には形成されず、親液性の部分にのみ塗設される
ので、連続状ないし散点状の溝の内部（このときには溝
底部が親液性）、あるいは連続状ないし散点状に凸部と
して形成されたトラック層４の表面（このときにはトラ
ック層表面が親液性）に、連続細条状ないし散点状に記
録層５が形成されることになる。

なお、撥液性であるとは、用いる溶媒（塗布溶媒）との
接触角が６０”以上、特に９０＠以上であり、親液性で
あるとは、用いる溶媒との接触角が６０°未満、特に５
０°以下であるものである。

このような条件を満たすかぎりにおいて、基体およびト
ラック層の材質については制限はない、　ただ、トラフ
、り層は、パターン状のトラ・ンキング用の溝を有する
ものである。　溝を形成するには種々の方法が可能であ
るが、生産性の点で、溝の形成をフォトエツチング−プ
ロセスによって行うことが好ましいので、トラック層は
、レジストから形成することが好ましい。

なお、レジストの他、場合によっては感光性樹脂を用い
ることもできる。

本発明においては、トラック層４しこ形成されたパター
ン状のトラッキング用の溝の底部と、トラック層の表面
とのヌレ性が異なるものであるが、溝の底面は、後述の
ように、トラック層４を形成するレジストのエツチング
を途中までで終了することにより、トラック層底面番ご
達していなくてもよい。

このような場合１例えば、後述のフッ素のレジストから
トラック層を形成したようなときなどには、表層のみが
撥液性（このときｌｉ撥油性）を示し、トラック層の厚
さ方向にヌレ性の違いが生じることがあるので、溝底部
とトラック層表面とのヌレ性を変えること力ζできる。

ただ、このような場合よりは、製造上のル制御が容易と
なる点で、溝はトラック層の厚さ全域に亘って形成し、
溝の底面として基体表面を露出させるのが有利である。

こめようなときには、基体の少なくとも表面と、トラッ
ク層４の表面とのヌレ性を異ならしめ、これらのうちの
一方を親液性、他方を撥液性とする。

このような場合において、塗布溶媒としては、水または
水の混合溶媒を用いることもでき、このときには、親液
性を親水性とし、撥液性を撥水性とする。

この場合、基体表面を撥水性とするた′めには、基体と
して、ポリメタクリル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リエーテルサルフォン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂等
の撥水性の樹脂から形成したり、その他、これらの撥そ
して、親水性のトラック層としては、重クロム酸塩、ジ
アゾニウム化合物またはアジド化合物等の、感光性化合
物を混ぜた水溶性高分子［高分子としては、卵白アルブ
ミン、カゼイン、グルー、ゼラチン、アラビアゴム、セ
ラック、ＰＶＡ　（ポ’）　ヒ：−Ａｙ７セター７１／
）　、ＰＶＡ＋酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、ポ
リアクリルアミド、セルロース誘導体など１等のレジス
トを用いるのが、トラック層をパターン状に形成する点
で好ましい。

一方、これとは逆に、トラック層を撥水性として、溝の
内部に記録層を形成すると、消去特性、線消去特性、特
に消去劣化、消去パワー、消去光学系、消去幅、クロス
トーク、トラッキング特性等の点でより一層好ましい結
果をうる。

この場合には、基体として、酢酸ビニル−クロトン酸共
重合体、　アクリル酸−スチレン共重合体、　メタクリ
ル酸−メタクリル酩エステル共重合体、　メタクリル酸
−アクリル酸エステル共重合体、　エチレン−メタクリ
ル酸共重合体、　エチレン−マレイン酸共重合体、イソ
ブチレン−マレイン酸共重合体等の親水性の樹脂を用い
たり、あるいはこれらの親水性の樹脂や、アルミニウム
、クロム、金、ニッケル等の各種金属、各種酸化物、各
種セラミクスなどの親水性の下地層３を基体表面に設け
る。

そして、撥水性のトラック層と゛しては、ポリケイ皮酸
ビニル系、 環化ゴム−ビスアジド系、 フェノール−ノボラック樹脂−キノンアジドまたはスル
ホニルクロリド系、 これらに、没食子酸アルキル、ピロガロール、　２，３
．４−）リヒドロキシベンゾフェノンを含む系、 ポリメチルイソプロペニルケトン。

ＭＭＡ−ＧＭＡ　（グリシジルメタアクリレート）共重
合体、 ＭＭＡ−アシロキシイミノメタアクリレート共重合体。

ポリフェニルイソプロペニルケトン などのレジストを用いればよい。

他方、記録層塗布設層用の溶媒としては、例えば、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルビ
上−ルアセテート、ブチルカルピトールアセテート等の
エステル系、 メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系、 ないしトルエン、キシレン等の芳香族系。

ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル系。

アルコール系などを単独または混合して用いることが好
ましい。

このとき、作業性が向上し、記録層の塗膜性も良好とな
る。

このような有機溶媒を用いるときには、親液性は親油性
とし、撥液性は撥油性とする。

このような場合の第１の態様は、基体の少なくとも表面
を撥油性とする。

すなわち、各種含フツ素高分子等の撥油性樹脂からなる
基体を用いるか。

シリコーンまたはフッ素含有フォトボリマ−、シリコー
ンまたはフッ素含有フォトレジスト、フッ素系樹脂等の
撥油性の樹脂や、シリコーン、フッ素、シリコーンゴム
系レジスト等の撥油性の下地層２を基体表面に形成した
ものを用いる。

そして、天然の、あるいはｃｉｓ−１，４−ポリイソプ
レンを主成分とする環化ゴム−ビスアジド系、 ポリケイ皮酸ビニル系、 フェノールボラック樹脂−キノンアジドもしくはスルホ
ニルクロリド系、 これらに没食子酸アルキル、ピロガロール、２．３．４
−　トリヒドロキシベンゾフェノンを含む系、 ポリメチルインプロペニルケトン、 ＭＭＡ−ＧＭＡ　（グリシジルメタアクリレート）共重
合体、 ＭＭＡ−アシロキシイミノメタアクリレート共重合体。

ポリフェニルインプロペニルケトン、 ＰＭＭＡ　（ポリメチルメタクリレート）ポリメチルイ
ソプロペニルケトンの増感タイプ、 ビスアジド−フェノールスチレンまたはフェノール樹脂
等の親油性のレジストを用い、トラック層をパターン状
に形成する。

これに対し、これとは逆にトラック層を撥油性とし、溝
の内部に記録層を形成するときには、前記同様、消去特
性（消去劣化、消去幅、消去パワー）が良好となり、ト
ラッキング信号が大きく、しかもトラッキング信号のＳ
／Ｎ比が良好となる等の点で有利である。

このようなもっとも好ましい態様においては、下記のよ
うな基体とトラック層を用いるのが好適である。

ｌ）　基体 ａ）ポリメタクリル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
エーテルサルフォン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂等の
親油性樹脂製基体。

ｂ）各種セラミクス、各種金属、各種ガラス等の親油性
基体。

Ｃ）上記ａ）、ｂ）の基体や、これ以外の樹脂製等の各
種基体２上に、親油性の下地層３を設けたもの。

下地層３としては、特に下記のものが好適である。

ｉ）アルミニム、チタン、クロム、金、銀、ニッケル、
銅、白金等の単一金属ないし合金ｉｉ　）各種無機化合
物（ 例えば、各種酸化物　（Ａ文２０３，５ｔ０２　、Ｍｇ
Ｏ、Ｚｎｏなど）や　′ 各種フッ化物（Ｍｇ　Ｆ２　、　Ｃｕ　Ｆ２など）等 １ｉｉ）各種セラミクスや、各種グレーズｌマ）有機ク
ロルシラン、ヘキサメチルジシラザンなど ｖ）Ｔｉ、Ｚｒ、Ａ１等のア、ルコキシド、キレート化
物等の架橋剤の加水分解物層 マｉ）各種シランカップリング剤 マｉｉ）感光性樹脂の光架橋物からなる親油性下地層 これら各下地層を設けるときには、ヌレ性の点で良好と
なり、また基体材質を樹脂製としたとき、記録層塗設に
際して、塗布溶媒によって基体がおかされ反射率等の光
学特性が劣化することがなく、より好ましい結果をうる
。

２）トラック層 ｉ　）フッ素系のレジスト層 特に、フルオロアルキル基をもつポリマーからなるレジ
スト 例えば、フルオロアルキル基をもつメタクリレート樹脂
、 フルオロエチレンポリマー、 パーフルオロポリマー、 テトラフルオロエチレン。

フルオロアルキルビニルエーテルのコポリマーあるいは
これをアリルアルコールで半エステル化したボ、リマー
、 テトラフルオロエチレンとアルキルビニルエーテルまた
はハロゲン化アルキルビニルエーテルのコポリマー、 フルオロアルキル基をもつハロゲン化ビニルポリマー、 フッ素化シリコーン、 フルオロアルキルメタクリレートとアジド含有メタクリ
レートのコポリマーなど。

１１）シリコーン樹脂レジスト層 例えば、ポリメチルシクロシロキサン、ポリビニルシロ
キサンなど。

１ｉｉ）　シリコーン、フッ素およびフッ素シリコーン
のうちの１種ないし２種以上を添加したレジスト層 それぞれ、シリコーン、フッ素およびフッ素シリコーン
のうちの１種ないし２種以上を添加した、例えば、 天然、あるいはｃｉｓ−１，４−ポリイソプレンを主成
分とする環化ゴム−上２アジド系、ポリケイ皮酸ビニル
系、 フェノールボラック樹脂−キノンアジドもしくはスルホ
ニルクロリド系、 これらに没食子酸アルキル、ピロガロール、２，３．４
−トリヒドロキシベンゾフェノンを含む系、 ポリメチルイソプロペニルケトン、 ＭＭＡ−ＧＭＡ　（グリシジルメタアクリレート）共重
合体、 ＭＭＡ−アシロキシイミノメタアクリレート共重合体、 ポリフェニルイソプロペニルケトン。

ＰＭＭＡ　（ポリメチルメタクリレート）、ポリメチル
イソプロペニルケトンの増感タイプ、 ビスアジド−フェノールスチレンまたはフェノール樹脂
などのレジスト層 これら各種レジストの他、トラック層は、ｉマ）各種感
光性樹脂から形成してもよい。

なお、トラフ゛り層の厚さは、Ｏ’、　００１〜２００
０μｍ、特に０．００５〜ｉｏ００ｇｍ　、より好まし
くは０．０１〜２００ル鵬が好適である。

そして、溝の深さは、０．００１〜１０００ｇｍ、特に
０．０１〜２００ｇｍとされる。

また、溝部の巾は、０．１〜５終鵬程度、トラック層凸
部の巾もこれと同程度とされる。

さらに、上記各下地層の厚さは、０．０．Ｏ１〜１００
０ｐ＋ｓ、特に０．００３〜ｌＯＯ＃Ｌｍが好適である
。

なお、トラック層のパターン形状を形成するには、常法
に従い、フォトエツチングを行えζｆよい。

また、基体２の形状としては、ディスク状、テープ状、
カード状等いずれであってもよく、その厚さは、一般に
０．１〜５ｍ−程度とされる。

このようなトラック層４を有し、必要に応じ下地層３を
有する基体２上には、上記のとおり、トラック層４の凸
部表面、または溝凹部内に記録層が塗設される。

記録層５は、光吸収体単独からなるか、光吸収体の組成
物から形成される。

用いる光吸収体は、通常、色素である。

用いる色素には特に制限はなく、シアニン系、フタロシ
アニン系、アゾ系、アントラキノン系、コリン、コロー
ル系、スクワリリウム系、ピラゾリン系等公知の種々の
色素あるいは色素のポリマー等のいずれも好適に用いる
ことができる。

このような色素のうち、感度が高く、読み出しのＳ／Ｎ
比の高いものはシアニン色素である。

シアニン色素のなかでは、下記式（Ｉ）で示されるもの
が好ましい。

式ＣＩ） Φ−Ｌ＝ψ　（Ｘ）ｍ 上記式ＣＩ）において、！およびΦは、芳香族環、例え
ｊｆベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環等が
縮合してもよいインドール環、チアゾール環、オキサゾ
ール環、セレナゾール環、イミダゾール環、ピリジン環
等をあられす。

これらΦおよび！は、同一でも異なっていてもよいが、
通常は同一のものであり、これらの環には、種々の置換
基が結合していてもよい。

なお、Φは、環中の窒素原子が十電荷をもち。

！は、環中の窒素原子が中性のものである。

これらのΦおよび！の骨格環としては、下記式〔Φ工〕
〜〔Φ双〕で示されるものであることが好ましい。

なお、下記においては、構＠　ｔ４Φの形で示される。

１ （Ｒ４）ｑ 〔Φｍ〕 １ 〔Φ■〕 Ｒ】 〔Φ■〕 ■ １ １ Ｒ。

〔Φ■〕

Ｒ１ 〔Φ窟〕 〔Φ双〕Ｒ１′ １ このような各種卵において、環中の窒素原子（イミダゾ
ール環では２個の窒素原子）に結合する基Ｒ１（Ｒｔ　
、Ｒｔ　′）は、置換または非置換のアルキル基または
アリール基である。

このような環中の窒素原子に結合する基Ｒ，＋Ｒ１’の
炭素原子数には、特に制限はない。　また、この基がさ
らに置換基を有するものである場合、置換基としては、
スルホン酸基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキル
アミド基、アルキルスルホンアミド基、アルコキシオキ
シ基、アルキルアミノ基、アルキルカル八モイル基、ア
ルキルスルファモイル基、水酸基、ハロゲン原子等いず
れであってもよい。

なお、後述のｍが０である場合、Φ中の窒素原子に結合
する・基Ｒ１は、置換アルキルまたはアリール基であり
、かつ−電荷をもつ。

さらに、Φおよびψの環が、縮合ないし非縮合のインド
ール環（式〔ΦＩ〕〜〔ΦＩＶ））である場合、その３
位には、２２の置換基Ｒ２＋Ｒ３が結合することが好ま
しい、　この場合、３位に結合する２つの置換基Ｒ２，
Ｒ３としては、アルキル基またはアリール基であること
が好ましい。　そして、これらのうちでは、炭素原子数
１または２、特にｌの非置換アルキル基であることが好
ましい。

一方、Φおよびψで表わされる環中の所定の位置には、
さらに他の置換基Ｒ４が結合していてもよい。　このよ
うな置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環
残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、
アルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキ
シ基、カルボン酸基等種々の置換基であってよい。

そして、これらの置換基の数（ｐ、ｑ、ｒ。

ｓ、ｔ）は、通常、Ｏまたは１〜４程度とされる。　な
お、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔが２以上であるとき、複数のＲ
４は互いに異なるものであってよい。

なお、これらのうちでは、式〔ΦＩ〕〜〔Φ■〕の縮合
ないし非縮合のインドール環を有するものが好ましい。

　これらは、塗膜性、安定性にすぐれ、きわめて高い反
射率を示し、読み出しのＣ／Ｎ比がきわめて高くなるか
らである。

他方、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニ
ン色素を形成するための連結基を表わすが、特に式（Ｌ
Ｉ）〜〔Ｌ■〕のいずれかであることが好ましい。

式（ＬＩ） ＣＨ＝　（Ｈ−ＣＨ＝　ＣＨ−Ｃ＝　ＣＨ−ＣＨ＝　Ｃ
Ｈ−ＣＨ式（Ｌｌｌ）　ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−１）１
＝ＣＨ−ＣＨ式（Ｌｍ） 式（ＬＶ） 式（ＬＶＩ）　ｃＨ−ｃ＝＝ｃＨ−ｃＨここに、Ｙは、
水素原子または１価の基を表わす、　この場合、１価の
基としては、メチル基等の低級アルキル基、メトキシ基
等の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジフェニル
アミ７基、メチルフェニルアミノ基、モルホリノ基、イ
ミダゾリジン基、エトキシカルボニルピペラジン基など
のジ置換アミノ基、アセトキシ基等のフルキルカルボニ
ルオキシ基、メチルチオ基等のフルキルチオ基、シアノ
基、ニトロ基、Ｂｒ、Ｃ１等のハロゲン原子などである
ことが好ましい。

また、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ水素原子またはメチ
ル基等の低級アルキル基を表わす。

そして、文は、Ｏまたはｌである。

なお、これら式（Ｌ　Ｉ）〜〔Ｌ■〕の中では、トリカ
ルボシアニン連結基、特に式（ＬＩＩ　）、（ＬＩＩＩ
）が好ましい。

さらに、Ｘ−は陰イオンであり、その好ましい例として
は、Ｉ−、Ｂ　ｒ−、Ｃ’ｊＬＯ４−、ＢＦ４−。

を挙げることができる。

なお、ｍは０またはｌであるが、ｍがＯであるときには
、通常、ΦのＲ１が一電荷をもち、分子内塩となる。

次に、本発明の光吸収色素の具体例を挙げるが、本発明
はこれらのみに限定されるものではない。

色朱μ　乞’Ｐｊｕｌ−均一　シー」ユＤＩ　（ΦＩ）
　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ２　（ΦＩ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ３　（ΦＩ）、　ｃ２Ｈａ　Ｏ）（ＣＨ３Ｄ４　（（
）Ｉ）　（（：Ｈ日ｌ潮：Ｎａ。ＣＨ３Ｄ５　（ΦＩＩ
　）　ＣＨ３ＣＩ（３ Ｄ６　（Φｍ）　（ＣＨ２）３　ＳＯ３二　Ｃ）１３’
　（ＣＨ２）３　ＳＯ３Ｎａ” Ｄ７　（ΦＩＩＩ）　ＣＨ２ＣＨ２０ＨＣＨ３Ｄ８　（
Φｍ）　（ＣＨ２）２０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ９　（ΦＩ
ＩＩ）　（ＣＨ２）２０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ１０　〔Φ
ｍ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄｌｌ　（Φｍ）　ＣＨ３Ｃ１（３ Ｄ１２　〔ΦＩ）Ｃ１８Ｈ３７ＣＨ３ Ｄ１３　〔ΦＩ）　Ｃ４Ｈｇ　ＣＨ３ Ｄ１４　〔ΦＩ）　ＣＨ０ＣＯＣＨ５ＣＨ３１Ｂ ＲＪ−”　”　−”− −（ＬＩＩＪ　ＨＩ −（ＬＴＩ）　Ｈ０文０４ −　（ＬＩＩ［）　ＨＢｒ −（ＬＩＩ）　Ｈ− −（Ｌｌｌ）　ＨＣ交０４ −　（ＬＩＴ）　Ｈ− −（ＬＩＩ）　、、ＨＣ立０４ −　（ＬＩＴ）　ＨＢｒ −（Ｌｍ）　−Ｎ（ＣａＨｓ）２　Ｃ立０４−　（ＬＨ
）　Ｈ０文０４ −　（ＬＩＩＩ）　−Ｎ　（Ｃ８Ｈ５）２　０文０４−
（Ｌｌｌ）　ＨＩ −（Ｌｌｌ）　Ｈ０文０４ −　（ＬＩＩＩ）　−Ｎ　（Ｃａ　Ｈｓ　）　２　Ｃｆ
ＬＯ４Ｄ１５　（ΦＩｌｌ　Ｃ７Ｈ１，ＣＨ２０ＨＣ）
（３Ｄ１６　〔ΦＩＩ〕Ｃ３Ｈ１７ＣＨ３ ＤＩ？　（Φｍ）　Ｃ８Ｈ１７Ｃ）１３Ｄ１９〔Φｍ）
Ｃ７Ｈ１４Ｃ００Ｃ２Ｈ５ＣＨ３Ｄ２０　〔Φｍ）Ｃ４
Ｈ９ＣＨ３ Ｄ２１〔Φｍ）Ｃ１８Ｈ３７ＣＨ３ Ｄ２２　〔Φｎｌ）　Ｃ４Ｈ９ＣＩ（３Ｄ２３〔ΦＩ）
　Ｃ，７Ｈ３，Ｃ００ＣＨ３ＣＨ３Ｄ２４　〔ΦＩ〕　
Ｃ３Ｈ１６０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ２５　〔ΦＩ）′　Ｃ
８Ｈ１７Ｃ２Ｈ３Ｄ２８　（ΦＩ　）　Ｃ７１（ｔ５Ｃ
２）１５Ｄ２７〔ΦＩＩ）Ｃ１７Ｈ３４Ｃ００ＣＨ３Ｃ
Ｈ３Ｄ２８　〔Φ■Ｉ）　Ｃ３Ｈ１８ＣＨ２０ＣＯＣＨ
３ＣＨ３Ｄ２８　〔ΦＩＩ　）　Ｃ１□Ｈ３５ＣＨ３−
（ＬＩＴ）　ＨＩ （Ｌｌｌ）　ＨＣ１Ｏａ −（Ｌｌｌ）　Ｈ− −（ＬＩＩ）　ＨＢＦ４ −　（Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃｓ　Ｈ５）　２　ＣＪｌｏａ
−（ＬＩＩ）　Ｈ０文０４ −　（ＬＩＩ）　Ｈ０文０４ −（ＬＩＩ）　Ｈ’　” （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃ６Ｈ５）２　Ｉ −（ＬＴｉ）　ＨＩ −（Ｌｌｌ）　Ｈニ ー　（ＬＩＴ）　ＨＣ文Ｏ４ Ｄ３０　〔ΦＩＩ）　Ｃ７Ｈ１４ＣＯＯＣＨ３ｃ２Ｈ５
Ｄ３１　（Ｏｍ）　Ｃ７）１．Ｃ）１２０ＨＣＨ３Ｄ３
２　〔Φ■〕　Ｃ７Ｈ１４ｃ′Ｈ２ｏｃｏｃ２Ｈ５ｃＨ
３Ｄ３３　〔Φｍ〕　Ｃ１７Ｈ３４ｃｏｏｃ２Ｈ５ｃＨ
３Ｄ３４　〔Φ■〕　Ｃ１７Ｈ３５ｃＨ３Ｄ３５　〔Φ
”）　Ｃ７Ｈ１５Ｃ２１（５Ｄ３８　（ΦｒＶ）　ＣＨ
３ＣＨ３ Ｄ３７　（ＯＩＶ）　Ｃ）（３ＣＨ３ Ｄ３８　（ＯＴＶ）　Ｃ４Ｈｇ　（Ｈ３Ｄ３９　（’！
’ｒＩｒ）　ＣＣＨ２）２０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ４０　
（ΦＶ）　Ｃ２Ｈｓ　４−Ｃ）（３Ｄ４１　〔ΦＶ）　
ＣＨ３４−ＣＴ（３Ｄ４２　〔ΦＶ［）　Ｃ２Ｈ５− Ｄ４３　（（！ＩＶＩ）　Ｃ２Ｈ５５−ＣＩＤ４４　（
ＯＶｒ）　Ｃ２Ｈ５５−ＱＣ）１３Ｄ４５　’（ＯＶＩ
）　Ｃ２Ｈｓ　（５−ＯＣＨ３−０ＣＨ３ （Ｌｌｌ）　ＨＣＪＩＯ４ （Ｌｌｌ）　ＨＣｌ０ａ −（Ｌｎ）　ＨＩ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃ１ｌ　Ｈ５）　２　Ｉ−（ＬＩＶ
）　ＨＩ −（ＬＩＩ）　ＨＩ −（Ｌｌｌ）　ＨＩ （ＬＩＩ）　Ｈ（１１０４ −（ＬＩＩ）　ＨＣｌ０ａ −（ＬＩり　Ｈｒ −（ＬＩＴ）　ＨＩ −ＣＩ、Ｈ）　Ｈ１ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２　Ｂｒ −〔Ｌ■〕ＨｃＨ３ｃ６Ｈ５ｓｏ３ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ Ｄ４Ｂ　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ４７　〔ΦＶＴ）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ４８　〔ΦＶｌ　）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ４９　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５０　〔ΦＶｌ）　Ｃ２）Ｉ５−　−Ｄ５１　（Φ■
〕　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ５２　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ５３　〔Φ■〕　（ＣＨ２）３０ＣＯＣＨ３Ｄ５４　
（ΦＶＴ）　Ｃ１（、、ＣＨ２０ｍ（５−ＣＩ　−Ｄ５
５　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ５６　〔ΦＩＸ）　Ｃ２１（５−−−Ｄ５７　〔ΦＩ
Ｘ）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ５８　〔ΦＩＸ）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ５９　（Φｘ）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ６０　〔ΦＸ［）　ＣＨ２Ｃｌ、、ＯＨ−−Ｄ８１　
’（Φ■〕　Ｃ２Ｈ５ 〔Ｌ■〕　Ｂｒ （、Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＩ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　ＣＨ３Ｂｒ （ＬＶ）　ＨＢ　ｒ （ＬＶ）　ＨＢ　ｒ （Ｌｍ）　Ｂ　ｒ （Ｌｍ）’　−Ｎ、（Ｃ６Ｈ５）２　ＣＨ３Ｃ６Ｈ５５
ｏ３〔ＬＴＩ）ＨＣＨ３ＣＢＨ５Ｓ０３ （ＬＩＩ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｍ）　ＯＣＨ３Ｉ （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＩ （ＬＴＩ）　ＨＢｒ （１，［［）　ＨＩ Ｄ８２　〔Φ岨　（ＣＨ２）３０ＣＯＣＨ３−−一一一
■陽 Ｄ８３　（Φ鴎〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄｌ（４（ＯＸｌｌｌ）　ＣＨ２Ｃ１（２ＣＨ２Ｓｏ３
Ｈ−Ｄ６５　〔Φ店〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ６６　〔Φ店〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ６７　〔Φ双）　Ｃ２Ｈ５ Ｄ６８〔Φ■〕Ｃ３Ｈ１゜　４−Ｃ）１３　−Ｄ８８　
〔Φ■〕　Ｃｌ８Ｈ３７ Ｄ７０　〔Φ■〕　Ｃ３Ｈ１□ Ｄｌ１（ΦＶＩ）　Ｃ３）１．７５−Ｃ１−Ｄｌ２〔Φ
Ｖｌ）　Ｃ１１１Ｈ３□　５−０文　−５−ＯＣＨ３− Ｄｌ３　（ＯＶｌ）　ＣＢＨ１？　（・６−０゜４３Ｄ
７４〔ΦＶｌ）　Ｃ３Ｈ１７５−ＯＣＩ（３−０７５（
Φ■〕Ｃ８Ｈ１７５−Ｃ交　−Ｄ７Ｂ〔ΦＶＥ　）　Ｃ
ｔｓ　Ｈ３？　５　０文　−Ｄ？？　゛（ΦＶｌ）　Ｃ
８Ｈ１７− （Ｌ　ＩＩ　）　）（Ｉ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃ６Ｈ５）　２　（：文０４（Ｌｍ
）　−Ｎ　（Ｃ６１（５）　２　工（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌ　１１　）　ＨＩ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃｏ　Ｈｓ　）　２　Ｂｒ（Ｌ　Ｔ
Ｉ　）　Ｈ０文０４ （ＬＩＩＩ）−Ｎ（Ｃａ）ｉｂ）２Ｃ立０４（Ｌ　ＩＩ
　）　Ｈ工 （ＬＴＩ）　Ｈ■ （ＬＴＶ）　−” （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２　Ｂｒ （ＬＩＩＩ）　−Ｎ（Ｃ８Ｈ５）２　ＢｒＤ７８　〔Φ
■）　Ｃ８Ｈ１７−− Ｄｌ９　〔Φ■）　Ｃｌ８Ｈ３□　５−Ｃｌ　−Ｄ８０
　〔Φ■〕　Ｃｌ８Ｈ３７５−Ｃ１−Ｄ８１　〔ΦＶｌ
）　Ｃ３Ｈ１□　−−Ｄ８２　〔Φ■〕　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ８３　〔Φ■）　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ８４　〔Φ■〕　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ８５　〔Φ■）　Ｃｌ８Ｈ３□　− Ｄ８８　〔Φ■）　Ｃ１３Ｈ２？　’ Ｄ８７　〔Φ■）　Ｃ１３Ｈ２７− Ｄ８８　〔Φ■〕　Ｃ８Ｈ１７−− Ｄ８９　（Φ■）　Ｃ８Ｈ１７−− Ｄ８０　〔Φ■）　Ｃｌ８Ｈ３？　−−０９１（Φ■）
　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ９２　〔Φ■）　０１８Ｈ３□　− Ｄ９３　（ΦＸ’）　ＣＲＨ１７− 〔ＬＨ）　ＨＩ （Ｌ　ＩＩ　）　０Ｈ３（：６’Ｈ５ＳＱ３（Ｌ’　１
１　）　０文Ｃ３Ｈ３Ｓ０３（ＬＶ）　ＨＩ （ＬＶＩ）　ＨＢｒ 〔Ｌ■〕　■ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃａ　Ｈｓ　）　２　Ｂｒ（Ｌ　Ｉ
Ｉ　）・　ＨＣＨ３Ｃ６Ｈ５５０３（ＬＨ）　ＨＢｒ （ＬＩＴ）　ＨＢｒ （Ｌｍ） （Ｌｍ）　０ＣＩ（３Ｉ （ＬＩＩ　）　、　Ｈ’　Ｃ）１３Ｃ８）１５ＳＯ３（
Ｌ　ＩＩ　）　”　ＨＣ）Ｉ２Ｏ３）＋５Ｓｏ３（Ｌｍ
）　−Ｎ　（Ｃｏ　Ｈ５”）　２　ｃｎ３ｃ６ｕ５ｓｏ
３（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ Ｄ９４　〔Φ刈〕　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ９５　〔Φ刈〕　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ９８　〔Φ刈）　Ｃ１３Ｈ２７５−ＣＩＤ９７　〔Φ
■〕　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ８８　〔Φ■〕　０１８Ｈ３？ Ｄ９９　〔Φ店〕　Ｃ８Ｈ１７− Ｄｌｏｏ　ＣΦ双〕　Ｃ３Ｈ１□　− ＤＩＯＩ　（ΦＶ）　Ｃ８１（，７− ＤＩ０２　（Φ■〕　Ｃ３Ｈ１７ Ｄ１０３　（Φ店〕　Ｃ３Ｈ１７ Ｄ１０４　（ΦＩ）　ＣＨＣ１（０ＣＯＣＲＣＨ３２ Ｄ１０５　（ΦＩ）　ＣＨ，、Ｃ）（、、ＯＨ、ＣＨ３
Ｄ１０６　（Φｍ　）　ＣＨ３ＣＨ３ −（Ｌｌｌ）　ＨＩ −（ＬｒＩ）　ＨＩ −（Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２　Ｂｒ−（ＬＩＩ［）
　−Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２　Ｂｒ−（ＬＩＴ）　ＨＢｒ −（ＬＩＩ）　ＨＢｒ −（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ −（ＬＩＩ）　ＨＢｒ −（ＬＩＩ）　ＨＢｒ −（Ｌｌｌ）　ＨＣ文０４ −　（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ −（ＬＶＩ）　Ｂｒ　Ｃ文Ｏ４ このような色素は、大有機化学（朝食書店）含窒素複素
環化合物■４３２ページ等の載置に記載された方法に準
じて容易に合成することができる。

すなわち、まず対応するΦ′−ＣＨ３（Φ′は前記Φに
対応する環を表わす。）を、過剰のＲ，Ｉ　（Ｒ，はア
ルキル基またはアリール基）とともに加熱して、Ｒ１を
Φ′中の窒素原子に導入してΦ−ＣＨ５Ｉ−を得る。　
次いで、これを不飽和ジアルデヒドまたは不飽和ヒドロ
キシアルデヒドとアルカリ触媒を用いて脱水縮合すれば
よい。

さらに、このような色素は、通常、単量体の形で記録層
中に含有させられるが、必要に応じ重合体の形で含有さ
せられてもよい。

この場合、重合体は、色素の２分子以上を有するもので
あって、これら色素の縮合物であってもよい。

例えば、−ＯＨ、−ＣＯＯ！（、−３０３Ｈ等の官能基
の１種以上を、１個または２個以上有する上記色素の単
独ないし共縮合物、 あるいはこれらと、ジアルコール、ジカルボン酸ないし
その塩化物、ジアミン、ジないしトリインシアナート、
ジェポキシ化合物、酸無水物、ジヒドラジド、ジイミノ
カルボナート等の共縮合成分や他の色素との共縮合物が
ある。

あるいは、上記の官能基を有する色素を、単独で、ある
いはスペーサー成分や他の色素とともに、金属系架橋剤
で架橋したものであってもよい。

この場合、金属系架橋剤としては、 チタン、ジルコン、アルミニウム等のアルコキシド、 チタン、ジルコン、アルミニウム等のキレート（例えば
、β−ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸
ないしそのエステル、ケトアルコール、アミノアルコー
ル、エノール性活性水素化合物等を配位子とするもの）
、チタン、ジルコン、アルミニウム等のアシレートなど
がある。

さらには、−０）！基、−０ＣＯＲ基　オヨヒーＣＯＯ
Ｒ基（ここに、Ｒは、置換ないし非置換のアルキル基な
いしアリール基である）のうちの少なくとも１つを有す
る色素の１種または２種以上、あるいはこれと他のスペ
ーサー成分ないし他の色素とをエステル交換反応によっ
て、−ＣＯＯ−基によって結合したものも使用可能であ
る。

この場合、エステル交換反応は、チタン、ジルコン、ア
ルミニウム等のアルコキシドを触媒とすることが好まし
い。

加えて、上記の色素は、樹脂と結合したものであっても
よい。

このような場合には、所定の基を有する樹脂を用い、上
記の重合体の場合に準じ、樹脂の側鎖に、縮合反応やエ
ステル交換反応によったり、架橋によったりして、必要
に応じスペーサー成分等を介し、色素を連結する。

光吸収体として色素を用い、るとき、記録層は、色素の
塗膜から形成してもよく、樹脂と色素の相溶した塗膜と
してもよい。

なお、光吸収体としては、特に後述のように記録層を光
吸収体と樹脂とから形成する場合、カーボンブラックな
どの各種顔料や、金属超微粉、あるいは各種酸化物等を
用い、これらを樹脂中に分散してもよい。

用いる樹脂は、通常、ニトロセルロース、メチルスチレ
ン等の自己酸化性の樹脂、あるいは熱可塑性の樹脂であ
る。

これらのうち、特に好適に用いることができる樹脂には
、以下のようなものがある。

ｉ）ポリオレフィン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチルペンテ
ン−１など。

ｉｉ）ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重
合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテ
ン−１共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、
エチレンプロピレンターポリマー（ＥＰＴ）など。

この場合、コモノブ−の重合比は任意のものとすること
ができる。

１ｉｉ）塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体０、アクリルニトリ
ル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルニーチル共重合体
、エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重
合したものなど。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｉｉ）塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリ
デン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。

この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
。

マ）ポリスチレン マｉ）スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体（Ａｓ樹
脂）、スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共重合
体（ＡＢＳ樹脂）、スチレン−無水マレイン酸共重合体
（ＳＭＡ樹脂）、スチレン−アクリル酸エステルーアク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体（
ＳＢＲ）、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチレ
ン−メチルメタアクリレート共重合体など。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

マｉｉ）スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２
，５−ジクロルスチレン、α。

β−ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセナフ
テン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの共重
合体、　例えば、α−メチルスチレンとメタクリル酸エ
ステルとの共重合体。

マ１ｉｉ）クマロン−インｙ”　ンＩｔ　脂クマロンー
インデンースチレンの単独または共重合体。

ｉｘ）テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから、得られるリモネンの重合体で
あるテルペン樹脂や、β−ピネンＸ）アクリル樹脂 特に、下記式で示される原子団を含むものが好ましい。

式 ％式％ 上記式において、Ｒ１０は、水素原子またはアルキル基
を表わし、Ｒ２０は、置換または非置換のアルキル基を
表わす、　この場合、上記式において、ＲＩｎは、水素
原子または炭素原子数１〜８の低級アルキル基、特に水
素原子またはメチル基であることが好ましい。

また、Ｒ２Ｏは、置換、非置換いずれのアルキル基であ
ってもよいが、アルキル基の炭素原子数は１〜４である
ことが好ましく、また。

Ｒ２０が置換アルキル基であるときには、アルキル基を
置換する置換基は、水酸基、ハロゲン原子またはアミン
基（特に、ジアルキルアミ／基）であることが好ましい
。

このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子団
の１種または２種以上をくりかえし単位とする単独重合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。

ｘｉ）ポリアクリロニトリル ｘｉｉ）アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリロニトリル、−メタクリル酸メチル共重合体
、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、アクリロニ
トリル−アクリル酸ブチル共重合体など。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｚｉｉｉ）ダイア七トンアクリルアミドポリマーアクリ
ロニトリルにアセトンを作用させたダイア七トンアクリ
ルアミドポリマー。

ｘｉｉ）ポリ酢酸ビニル ！り酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。

共重合比は任意のものであってよい。

！マ１）ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。

ｘｖｉｉ）ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン６、ナイロン
６−６、ナイロン６−１０、ナイｏン６−１２．ナイロ
ン９．ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン１３等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン６／６−６／６−１
０、ナイロン６／６−６／１２、ナイロン６／６−６／
１１等の重合体や、場合によっては変性ナイロンであっ
てもよい。

Ｘマ旨ｉ）ポリエステル 例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、アジピン酩
、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフタ
ル酸、テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種二
塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリコ
ール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類との
縮合物や、共縮合物が好適である。

そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリ
コール類との縮合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸
との共縮合物は、特に好適である。

さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリンとの縮合物
であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然樹脂等でエステ
ル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される
。

Ｘ：Ｘ）ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコールを、アセタール化して得られるポ
リビニルホルマール、ポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。

この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。

！りポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。

特に、グリコール類とジインシアナート類との縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレン
グリコールとアルキレンジイソシアナートとの縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂が好適である。

ｘｘｉ）ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。

ｘｘｉｉ）セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メ
チルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロースな
ど、セルロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。

ｘｘｉｉｉ）ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ポリジオキシジフェニルプロバンカーポネート等の各種
ポリカーボネー！冨ｉマ）アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などの　Ｎａ。

Ｌｉ、Ｚｎ、Ｍｇ塩など。

！Ｘマ）ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフェノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。

菫ｘｖｉ）キシレン樹脂 例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。

ｘｘｖｉｉ）石油樹脂 Ｃ５系、Ｃ９系、Ｃ５−Ｃｃｌ共重合系、ジシクロペン
タジェン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性体
など。

ｘｘｖｉｉｉ）上記ｉ）〜ｘｘｖｉｉ）の２種以上のブ
レンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体
。

なお、樹脂の分子量等は種々のものであってよい。

このような樹脂と、前記の色素とは、通常、重量比で１
対０．１−１００の広範な量比にて設層される。

このような記録層中には、さらに、クエンチャ−が含有
されることが好ましい。

クエンチャ−の添加により、色素の安定性が向上し、保
存によって書き込み感度や読み出しのＳ／Ｎ比が劣化す
ることが少なくなる。

また、書き込み、読み出し、消去芒←由〒峯≠φ券揚の
それぞれの光に対しても安定性が向」ニする。

クエンチャ−としては１種々のものを用いることができ
るが、特に、再生劣化が減少すること、そして色素結合
樹脂との相溶性が良好であることなどから、遷移金属キ
レート化合物であることが好ましい。　この場合、中心
金属としては、Ｎｉ　、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ−、Ｐｄ、Ｐ
ｔ等が好ましく、特に下記の化合物が好適である。

ｌ）　アセチルアセトナートキレート系ＱＩ　Ｎｔ（Ｉ
Ｉ）アセチルアセトナートＱ２　Ｃｕ（ＩＩ）アセチル
アセトナートＱ３Ｍｎ（ｍ）アセチルアセトナート Ｑ４Ｃｏ（ＩＩ）アセチルアセトナート２）　ビスジチ
オ−α−ジケトン系 ここに、Ｒ（１′）−Ｒ（４）は、置換ないし非置換の
アルキル基またはアリール基を表わし、Ｍは、Ｎｉ　、
Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。

この場合、Ｍは一電荷をもち、４級アンモニウムイオン
等のカチオンと塩を形成してもよい。

Ｑ５Ｎｉ（ＩＩ）ジチオベンジル Ｑ６　Ｎ１（ＩＩ）ジチオビアセチル ７ Ｎ　”　（０４Ｈ，）４ ３）　ビスフェニルジチオール系 ここに、ＲおよびＲ（６）は、メチル基（５） などのアルキル基、あるいはＣ１などのハロゲン原子等
を表わし、Ｍは、Ｎｉ、Ｃｏ。

Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の遷移金属原子を表わす、　さらに
、ａおよびｂは、それぞれ、Ｏまたは４以下の整数であ
る。

また、上記構造のＭは一電荷をもって、カチオンと塩を
形成してもよく、さらにはＭの上下には、さらに他の配
位子が結合していてもよい。

このようなものとしては、下記のものがある。

ＱＩＯＰＡ−１００１（商品名　三井東圧ファイン株式
会社製） Ｑｌｌ　ＰＡ−１００２（同　上　Ｎｔ−ビス（トルエ
ンジチオール）テトラ（を −ブチル）アンモニウム〕 Ｑ１２　、ＦＡ−１００３（同　上） Ｑ１３　ＰＡ−１００５（同　上　Ｎｉ−ビス（ジクロ
ロベンゼン）テトラ（ｔ− ブチル）アンモニウム〕 Ｑ１４　ＦＡ−１００６（同　上　Ｎｉ−ビス（トリク
ロロベンゼンジチオール） テトラ（ｔ−ブチル）アンモニウム〕 Ｑ１５　Ｃｏ−ビス（ベンゼン−１，２−ジチオール）
テトラブチルアンモニウム Ｑ１６　Ｃｏ−ビス（０−キシＬ／ンー４．５−ジチオ
ール）テトラ（ｔ−ブチル） アンモニウム Ｑ１７Ｎ＋−ビス（ベンゼン−１，２−ジチオール）テ
トラブチルアンモニウム Ｑ１８Ｎｉ−ビス（０−キシレン−４，５−ジチオール
）テトラブチルアンモニ ウム Ｑ１９Ｎｉ−ビス（５−クロロベンゼン＝１．２−ジチ
オール）テトラブチルア ンモニウム Ｑ２ＯＮｉ−ビス（３，４，５，６−テトラメチルベン
ゼン−１，２ジチオー ル）テトラブチルアンモニウム Ｑ２１　Ｎｉ−ビス（３，４，５，６−テトラクロロベ
ンゼン−１，２ジチオー ル）テトラブチルアンモニウム ４）　ジチオカルバミン酸キレート系 （７） ここに、ＲおよびＲ（８）はアルキル基を表わす、　ま
た、ＭはＮｉ、Ｃｏ、Ｃｕ。

ｐｄ、ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。

Ｑ２２Ｎｉ−ビス（ジブチル　ジチオカルへミン酸）〔
アンチゲン　ＮＥＣ（住 人化学社製〕〕 ５）　ビスフェニルチオール系 Ｑ２３　Ｎｉ−ビス（オクチルフェニル）サルファイド ６）　チオカテコールキレート系 ここに、Ｍは、Ｎｉ　、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｄ。

ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。　また、Ｍは一電荷を
もち、カチオンと塩を形成していてもよく、ベンゼン環
は置換基を有していてもよい。

Ｑ２４　Ｎｉ−ビス（チオカテコール）テトラブチルア
ンモニウム塩 ７）　サリチルアルデヒドオキシム系 ここに、Ｒ（８）およびＲ（ｔｏ）は、アルキル基を表
わし、Ｍは、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ。

Ｐｄ　、Ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。

Ｑ２５　Ｎｉ　（ＩＩ）ｏ　−（Ｎ−イソプロピルホル
ムイミドイル）フェノール Ｑ２６　Ｎ′ｉ　（ＩＩ）ｏ　−（Ｎ−ドデシルホルム
イミドイル）フェノール Ｑ２７　Ｃ’ｏ　（ＩＩ）ｏ　−（Ｎ−ドデシルホルム
イミドイル）フェノール Ｑ２８　Ｃｕ　（ＩＩ）ｏ　−（Ｎ−ドデシルホルムイ
ミドイル）フェノール Ｑ２９　Ｎｉ　（ＩＩ）２．２′−（エチレンビスにト
リロメチリジン）〕−ジフェ ノール Ｑ３０　Ｃｏ（ＩＩ）２．２′−〔ｘチレンビスにトリ
ロメチリジン）〕−ジフェ ノール Ｑ３１　Ｎ１（ＩＩ）２．２　′　−（１，８−ナフチ
レンビスにトリロメチリジ ン）〕−ジフェノール Ｑ３２　Ｎｉ　（ＩＩ）−（Ｎ−フェニルホルムイミド
イル）フェノール Ｑ　３３　Ｃｏ　（ＩＩ　）　（Ｎ　７、−　ニルホＪ
ｌ／　ムイミドイル）フェノール Ｑ３４　Ｃｕ　（ＩＩ）　−（Ｎ−）、＝ルホルムイミ
ドイル）フェノール Ｑ３５　Ｎ１（ＩＩ）サリチルアルデヒドフェニルヒド
ラゾン Ｑ３６　Ｎ１（ＩＩ）サリチルアルデヒドオキシム （１１） ここに、Ｍは前記と同じであり、Ｒお よびＲ（１２）は、アルキル基を表わす、　またＭは一
電荷をもち、カチオンと塩とを形成していてもよい。

Ｑ３７　Ｎｉ　（■）ｎ−ブチルアミノ（２゜２′−チ
オビス（４−ｔｅｒｔ−オクチル）−フェルレート）　
（Ｇｙａｇｏｒｂ　−ＵＶ−１０８４（７メ！Ｊカフ　
シア ナミドＣｏ、、Ｌｔｄ、）） Ｑ３８　Ｃｏ（１１）ｎ−ブチルアミノ〔２゜２′−チ
オビス（４−ｔａｒｔ−オクチル）−フェノレート〕 Ｑ３９　Ｎｉ　（ＩＩ）−２、，２′−チオビス（４−
ｔｅｒｔ−オクチル）−フェルレート９）　亜ホスホン
酸キレート系 ここに、Ｍは前記と同じであり、Ｒ（１３）およびｕ　
（１４）は、アルキル基、水酸基等の置換基を表わす。

ようなものがある。

１０）　ベンゾエート系 Ｑ４１　既存化学物質３−３０４０　（チヌビ′ンー１
２０（チバガイギー社製）〕 １１）　ヒンダードアミン系 Ｑ４２　既存化学物質５−３７３２〔５ＡＮＯＬＬＳ−
７７０（三共製薬社製）〕 このようなりエンチャーは、公知の方法に従い合成され
る。

そして、クエンチャ−は、前記色素１モルあたり、一般
に０．０５〜１２％ル、　特に０．１〜１．２モル程度
含有される。

なお、クエンチャ−の極大吸収波長は用いる色素の極大
吸収波長以上であることが好ましい。

これにより、再生劣化はきわめて小さくなる。

この場合１両者の差はＯか、３５０ｎ＋ｓ以下であるこ
とが好ましい。

クエンチャ−の添加により１色素の安定性が向上し、保
存によって書き込み感度や読み出しのＳ／Ｎ比が劣化す
ることが少なくなる。

また、書き込み、読み出し、消去、トラッキング形成の
それぞれの光に対しても安定性が向上する。

この他、このような記録層中には、各種界面活性剤、可
塑剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、分散剤、レベリン
グ剤、撥水撥油剤、安定剤等が含有されていてもよい。

このような記録層は、通常、０．０ｌ−１００ＩＬ、Ｉ
Ｏｌ特に０．０２〜２０ｇｍ程度の厚さに基体の一面上
に、上記したような溶媒を用いて塗設される。

なお、記録層上には、各種の層ないし蓋体を形成するこ
ともできる。

特に、基体２を１つ用い、この片面または両面に記録層
５を形成するときには、第１図に示されるように、記録
層５を蓋体７で覆い、ホコリやチリに対する配慮を行う
ことが好ましい。

また、このとき、光学系の汚染も防止される。

このような場合には、記録層５は、トラック層４表面に
形成されていてもよいが、溝の内部に形成されることが
好ましい。

記録層５を溝の内部に形成する場合、記録層５の厚さは
、溝の深さく通常、トラック層の厚さ）と同一であって
も、それより大きくなってもよいが、特に、溝の深さよ
りも小さいことが好ましい。

このときには１図示のように、蓋体７と記録層５間に空
隙６が形成され、蓋体７を透明として、蓋体７側から書
き込みおよび読み出し、さらには光消去を行ったとき、
屈折率による口°スが生じず、感度、Ｓ／Ｎ比、消去効
率等の向上がはかられるからである。

なお、空隙６の厚さは、０．００１ｇｍ以上あれば十分
である。

また、第２図に示されるように、片面に記録層５．５′
をそれぞれ有する基体２．２′を２つ用い、これを、記
録層５．５′が対向するようにして一体化することもで
きる。

このとき、記録密度が向上する。　また、光学系の汚染
も少なくなる。

なお、２つの光記録部分の一体化を介在層６を介して行
えば、互いの記録層５，５′の影響もなくなるので、よ
り一層好ましい結果をうる。

なお、この場合も、記録＠５　、５　′は、トラック層
４，４′表面に設けられてもよいが。

通常は、記録層５．５′を図案のように一内部に形成す
るものであり、このとき、記録層５゜５′の厚さは、溝
°の深さと同一であっても、それより大であっても、小
であってもよい。

■　発明の具体的作用 本発明の媒体への書き込みに用いる書き込み光としては
、半導体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、アルゴンレー
ザー客種々のものが使用可能である。

この場合、書き込み光は、ｌ−１００ｅＶ程度の集光部
出力にて、０．０１　Ｎ１ｏｏ０７Ｌｓｅｃ幅のパルス
として照射され、このとき、媒体を１１０１Ｌ／秒〜１
００ｍ／秒程度の線速度で回転ないし走行させる。

このような書き込みにより、線状、散点状ないし散線状
の溝の内部ないし凸部にて、トラ。

り状に形成された記録層５には、ピットの列が形成され
る。

この場合、ピットの幅は、一般に０．０１〜３００終腸
、ピットの深さは０．０１〜１００μ腸程度とされる。

　ピットは、底が露出してもよいし、しなくてもよい。

このような場合、書き込みに際してトラッキングの制御
、を行うには、例えば、フォトディテクタを２つないし
複数個近接して配置し、記録層の存在の有無にもとづく
反射率や位相の差と、トラック層の段差にもとづく干渉
効果による位相差等とを利用して、２つないし複数個の
ディテクタの出力差等を検出することによればよい。　
このとき、いわゆるスリービーム法を用いてもよい。

このように形成されたピット列は、通常、書き込みレー
ザー光と同一ないし波長の異なるレーザー光の読み出し
光を照射して、その反射光ないし透過光（通常、反射光
）を検知して、ピットの有無を判別して読み出される。

　読み出し光は、基体の表側から照射しても、裏側から
照射してもよく、その強度は、書き込み光よりも小さい
ものとする。

なお、このように書き込み炙行った媒体は、一旦形成し
たビットの一部または全部を、消去て、記録層表面を平
滑化し、その後再書き込みを行うことができる。　この
ような消去および再書き込みは、安定に、くりかえし何
回も行うことができる。

消去は、熱や溶媒によってもよいが、特に、消去光（レ
ーザー光）を用いて線消去することが好ましい。

■　発明の具体的効果 本発明によれば、溝の四部または凸部のいずれか一方の
みに選択的に記録層が存在するので、トラッキングの制
御に際しての検出信号はきわめて大きく、トラッキング
の制御はきわめて容易かつ確実に行うことができる。

また、溝の四部または凸部のみに記録層が選択的に形成
されるので、線消去特性が向上する。

さらに、基体にトラッキング用の溝を形成するのがきわ
めて容易であり、製造が容易で量産性がきわめて高い。

すなわち、溝がきわめて容易に形成でき、さらに、きわ
めてうすい基体を用いることもでき、また、記録層を製
造するに際してロールに巻きとりながら連続的に製造し
たり、種々の塗布を行ったりできるからである。

そして、第２の発明によれば、書き込み、読み出し、消
去等に際しての、ホコリやキズの影響がなくなり、光学
系の汚染もなくなる。

さらに、第３の発明によれば、このような光記録媒体を
きわめて効率よく製造することができる。

本発明者らは、本発明の効果を確認するため種々実験を
行った。　以下にその１例を示す。

実験例１ 基体２として、１．２ｍｍ厚のエポキシ樹脂製の基体上
に、ｉ−プロパノ−ルー水混合溶媒にて、ジ−ミープロ
ポキシ−ビス（アセチルアセトン）チタネートを塗布し
、０．０５＃Ｌｍ厚のチタン架橋剤加水分解物からなる
親油性の下地層３を形成した。

次いで、この上に、シリコーンを含むキノンアジド−フ
ェノールノボラック系フォトレジストを０．９＃Ｌｍ厚
に塗布し、フォトエツチングにより、１．０ｐ層Ｉ１１
．０．ＱｌＬ脂深さのトラック溝を連続状に形成した。

これとは別に、色素として、銅フタロシアニン系オレオ
ゾール　ファーストフルーＥＬ（住人化学社製） 樹脂として、共重合ナイロン、 クエンチャ−として、ＦＡ−１００６（三井東圧ファイ
ン社製　ニッケルービスフェニルジチオール錯体）を用
い、 これを２：２：ｌの重量比にて、０．６川ｍ厚に、上記
の基体上に形成したトラッキング溝内に選択的に塗布し
た。

されるような光記録媒体ｌを作製した。　この場合、空
隙６の厚さは０．３μ腸である。

次いで、Ｈｅ−Ｎｅレーザーを１ルｍφに集光しく集光
部出力１０ｍＷ）　、　９００　ｎ５ｅｃのパルス列と
して、蓋体側および基体側からそれぞれ照射を行い、書
き込みを行った。　これにより、ｌ１ｌ１０．９１Ｌｍ
、深さ０．０９終朧のピットが凹部上に形成された。

次いで、Ｈｅ−Ｎｅレーザーをｌ終ｍφに集光しく集光
部出力１＋ｓＷ）、蓋体側および基体側から照射を行い
、その反射光を検出したところ、下記表１のＳ／Ｎ比を
えた。

表　１ Ｓ／Ｎ比（ｄＢ）　４７　４５ また、Ｈｅ−Ｎｅレーザー（１４ｍＷ）により線消去を
行ったところ、消去特性もきわめて良好であり、くりか
えし何回もの消去、再書き込みを安定に行うことができ
た。

なお、書き込みおよび読み出しに際しては、フォトダイ
オードを２個近接配置し、これらの反射光の出力差を検
知してトラッキングの制御を行ったところ、きわめて良
好なトラック信号かえられ、良好なトラッキング制御を
行うことができた。

実験例２ 実験例１において、記録層に用いた色素を・１．１′、
３，３．３′、３′−へキサメチル−４，４′、５．５
′−ジベンゾ−２，２′−インドトリカルボシアニン　
バークロレートにかえ、 また、樹脂なハロン８０（本州化学工業社製ケトン樹脂
）にかえ、 色素：樹脂：クエンチャ−を２ニア：１の重量比にかえ
、 さらに書き込みおよび読み出しならびに消去レーザー光
を半導体レーザー（８２０ｎｍ）にかえ、 書き込みパルス巾を、５００ｎｍに短縮した他は、実験
例１と同様の実験を行った。

このようにして得られた読み出しのＳ／Ｎ比を、下記表
２に示す。

表　２ Ｓ／Ｎ比（ｄＢ）　５５　５２ なお、トラッキング制御、消去特性ともきわめて良好で
あった。

【図面の簡単な説明】 第１図および第２図は、それぞれ、本発明の光記録媒体
の例を示す断面図である。。 １　・・・・・・　光記録媒体。 ２．２′　・・・・・・　基体。 ３．３′　・・・・・・　下地層。 ４．４′　・・・・・・　トラック層。 ５．５′　・・・・・・　記録層。 ６　・・・・・・　空隙。 ７　・・・・・・　蓋体。 ８　・・・・・・　介在層 出願人　ティーディーケイ株式会社 代理人　弁理士　石　井　陽　− 第１頁の続き ０発　明　者　臓　橋　−夫　東京都中央区日本橋式会
社内 ０発　明　者　南　波　憲　良　東京都中央区日本橋式
会社内 り丁目１旙１号　ティーディーケイ株 り丁目１旙１号　ティーディーケイ株 手続補正書印発） １１本件の表示 昭和５８年特許願第１３８３４７号 ２、発明の名称 光記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 任　所　東京都中央区日木橘−丁目１３番１号名　称　
（３０６）　ティーディーケイ株式会社代表者　大蔵　
寛 ４、代理人　〒１０１ 住　所　東京都千代田区岩本町３丁目２番２号千代田岩
木ビル４階 願書 ６、補正の内容 願書の右上部に「特許法第３８条ただし書の規定による
特許出願」を加入し、　「ｌ１発明の名称」の欄と「２
１発明者」の欄との間に、ｒｌ’　、特許請求の範囲に
記載された発明の数３」を加入する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　基体上にトラック層を有し、トラック層にパター
   ン状にトラッキング用の溝を有し、溝の底部とトラック
   層表面とのヌレ性が互いに異なっており、溝の内部また
   はトラック層表面のいずれかに、記録層が選択的に塗設
   されていることを特徴とする光記録媒体。 ２、　溝の底面が、トラック層底面に達していない特許
   請求の範囲第１項に記載の光記録媒体。 ３、　溝の底面として、基体表面が露出している特許請
   求の範囲第１項に記載の光記録媒体。 ４、　トラック層表面と溝の底部とのうちの一方が親液
   性、他方が撥液性である特許請求の範＋ｗ＋＋＋戯し−
   −−細管０Ｔ＾Ａ−１−ノふりふ１ず９コ４−一−Ｓ４
   シコ録媒体。 ５、　親液性が親油性であり、撥液性が撥油性である特
   許請求の範囲第４項に記載の光記録媒体。 ６、　溝の底部が親液性、トランク層表面が撥液性であ
   り、溝の内部に記録層が塗設されている特許請求の範囲
   第４項または第５項に記載の光記録媒体。 ７、　基体が、トラック層形成面に下地層を有する特許
   請求の範囲第１項ないし第６項のいずれかに記載の光記
   録媒体。 ８、　下地層が、親液性であり、かつ溝の底部に露出し
   ている特許請求の範囲第７項に記載の光記録媒体。 ９、　トラック層が、フォトレジストからなる特許請求
   の範囲第１項ないし第８項のいずれかに記載の光記録媒
   体。 １０、溝の深さが、０．００１〜１０００ル誼である特
   許請求の範囲第１項ないし第９項のいずれかに記載の光
   記録媒体。 １１、トラック層の厚さが、０．００１〜２０００ルｍ
   である特許請求の範囲第１項ないし第１０項のいずれか
   に記載の光記録媒体。 １２、記録層が、色素または色素の組成物からなる特許
   請求の範囲第１項ないし第１１項のいずれかに記載の光
   記録媒体。 １３、色素が、記録層中に、単量体の形で含まれるか、
   重合体の形で含まれ−るか、あるいは樹脂と結合した形
   で含まれている特許請求の範囲第１２項に記載の光記録
   媒体。 １４、記録層が、色素の組成物からなり、組成物が樹脂
   を含む特許請求の範囲第１２項または第１３項に記載の
   光記録媒体。 １５、記録層が、色素の組成物からなり、組成物がクエ
   ンチャ−を含む特許請求の範囲第１２項ないし第１４項
   のいずれかに記載の光記録媒体。 １８、色素が、シアニン色素である特許請求の範囲第１
   ２項ないし第１５項のいずれかに記載の光記録媒体。 １７、シアニン色素が、両端に芳香族環が縮合してもよ
   いインドール環を有する特許請求の範囲第１８項に記載
   の光記録媒体。 １８、基体上に、トラック層を有し、トラック層にパタ
   ーン状にトラッキング用の溝を有し、溝の底部とトラッ
   ク層表面とのヌレ性が互いに異なっており、溝の内部ま
   たはトラック層表面のいずれかに、記録層が選択的に塗
   設されており、トラック層表面上に蓋体を設けてなるこ
   とを特徴とする光記録媒体。 １８、トラック層表面と溝の底部とのうちの一方が親液
   性、他方が撥液性である特許請求の範囲第１８項に記載
   の光記録媒体。 ２０、溝の底部が親液性、トラック層表面が撥液性であ
   り、溝の内部に記録層が塗設されており、トラック層表
   面に接して蓋体を一体的に接続してなる特許請求の範囲
   第１８項または第１８項に記載の光記録媒体。 ２１、蓋体と記録層間に空隙がある特許請求の範囲第２
   ０項に記載の光記録媒体。 ２２、蓋体をとおして書き込みおよび／または読み出し
   を行う特許請求の範囲第２１項に記載の光記録媒体。 ２３、蓋体が、基体上にトラック層を有し、トランク層
   にパターン状にトラッキング用の溝を有し、溝の底部と
   トラック層表面とのヌレ性が互いに異なっており、溝の
   内部またはトラック層表面のいずれかに、記録層が選択
   的に塗設されている第２の光記録部分であり、両記録層
   が、対向するように一体化してなる特許請求の範囲第１
   ８項ないし第２０項のいずれかに記載の光記録媒体。 ２４、第２の光記録部分を、介在層を介して一体化して
   なる特許請求の範囲第２３°項に記載の光記録媒体。 ２５、親液性が親油性であり、撥液性が撥油性である特
   許請求の範囲第１８項ないし第２４項のｌ、％すれかに
   記載の光記録媒体。 ２６、基体が、トラック層形成面に下地層を有する特許
   請求の範囲第１８項ないし第２４項のいずれかに記載の
   光記録媒体。 ２７、下地層が、親液性であり、かつ溝の底部に露出し
   ている特許請求の範囲第２Ｂ項に記載の光記録媒体。 ２８、トラック層が、フォトレジストからなる特許請求
   の範囲第１８項ないし第２４項のし）ずれ力）に記載の
   光記録媒体。 ２９、基体上にレジストからなるトラック層を設層し、
   次いでレジストを、厚さ方向の一部または全域に亘って
   、パターン状に選択的に除去し、トラッキング用の溝を
   形成し、溝の底部と残存するトラック層表面とのヌレ性
   を互１．Ｘに異ならしめ、しかるのち記録層塗布液を塗
   布して、溝の内部またはトラック層表面のｌ／Ｘずれ力
   ）に記録層をパターン状に設層することを特徴とする光
   記録媒体の製造方法。 ３０、トララフ層表面と溝の底部とのうちの一方が親液
   性、他方が撥液性である特許請求の範囲第２８項に記載
   の光記録媒体の製造方法。 ３１、親液性が親油性であり、撥液性が撥油性である特
   許請求の範囲第３０項に記載の光記録媒体の製造方法。 ３２．　溝の底部が親液性、トラック層表面が撥液性で
   あり、溝の内部に記録層を塗設する特許請求の範囲第２
   ９項または第３０項に記載の光記録媒体の製造方法。 ３３、基体が、トラック層形成面に下地層を有する特許
   請求の範囲第２８項ないし第３２項のいずれかに記載の
   光記録媒体の製造方法。 ３４、下地層が、親液性であり、かつ溝の底部に露出し
   ている特許請求の範囲第３３項に記載の光記録媒体の製
   造方法。