JPS6070537A - 光情報担体の製造法 - Google Patents
光情報担体の製造法Info
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- JPS6070537A JPS6070537A JP58176998A JP17699883A JPS6070537A JP S6070537 A JPS6070537 A JP S6070537A JP 58176998 A JP58176998 A JP 58176998A JP 17699883 A JP17699883 A JP 17699883A JP S6070537 A JPS6070537 A JP S6070537A
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- resin layer
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は情報トラックを有する光硬化樹脂層を設けた光
情報相体に関する。
情報相体に関する。
従来技術
従来、情報トラックをプラスチック基板へ形成する方法
としては溝を有する型に紫外線１１史化併樹脂を塗布し
た後これをプラスチック基板に押しあて紫外線を照射す
ることにより情報トラックを形成することが知られてい
る。Ｉ７かしながら、紫外線硬化性樹脂は型との剥離性
が悪いという問題があった。
としては溝を有する型に紫外線１１史化併樹脂を塗布し
た後これをプラスチック基板に押しあて紫外線を照射す
ることにより情報トラックを形成することが知られてい
る。Ｉ７かしながら、紫外線硬化性樹脂は型との剥離性
が悪いという問題があった。
目 自り
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、その
目的はプラスチック基板との密着１４１：がよ（しかも
情報トラック形成用型との剥離性がよい熱または光硬化
樹脂ｆｉｌｌ （いわゆる下引層）を提供することであ
る。本発明の別の目的は上記下引層に光硬化樹脂情報ト
ラック層を設けた光情報相体を提供することである。ま
た、本発明の他の目的は情報トラック形成用型からの剥
離性を改岩した光情報相体の製造法を提供することであ
る。
目的はプラスチック基板との密着１４１：がよ（しかも
情報トラック形成用型との剥離性がよい熱または光硬化
樹脂ｆｉｌｌ （いわゆる下引層）を提供することであ
る。本発明の別の目的は上記下引層に光硬化樹脂情報ト
ラック層を設けた光情報相体を提供することである。ま
た、本発明の他の目的は情報トラック形成用型からの剥
離性を改岩した光情報相体の製造法を提供することであ
る。
構成
上記目的を達ｒ文するために、本発明はプラスチック基
板に熱または光硬化樹脂層の下引層を設けた後惰報トラ
ックを設けることにある。
板に熱または光硬化樹脂層の下引層を設けた後惰報トラ
ックを設けることにある。
すなわち１本発明の光情報担体はプラスチック基板の片
面または両面に熱硬化樹脂層または光硬化樹脂ｊりを設
け、さらにその上に情報トラックを有する光硬化イ１１
脂層を設けたものである。
面または両面に熱硬化樹脂層または光硬化樹脂ｊりを設
け、さらにその上に情報トラックを有する光硬化イ１１
脂層を設けたものである。
光情報相体に存在する情報トラックは本発明に用いる型
に存在するもとの情報トラックの正確な転みでろって、
通常高いレベルに位置する凸部と低いレベルに位置する
四部とが交互に存在する構造となっている。凹凸の高き
はシに調整しなければならない。本発明の光情報相体ト
ランクが存在する光硬化樹脂層に金属、有機色素などの
記録層を設ける必要がある。この記録層は塗布、蒸着な
どの手段により形成することができる。
に存在するもとの情報トラックの正確な転みでろって、
通常高いレベルに位置する凸部と低いレベルに位置する
四部とが交互に存在する構造となっている。凹凸の高き
はシに調整しなければならない。本発明の光情報相体ト
ランクが存在する光硬化樹脂層に金属、有機色素などの
記録層を設ける必要がある。この記録層は塗布、蒸着な
どの手段により形成することができる。
不発明におけるプラスチック基板の旧料ど１７ては、ポ
リアクリレート樹脂例えばアクリル酸メチル、アクリル
酢エチル、アクリル％ｎ−プロピル、アクリル９ｎ−ブ
チル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｎ −”Ｚブ
チル、アクリル酸イソペンチル、アクリルＫｉｔ ｎ−
ヘキシル、アクリル酸イソヘキシル、アクリルｆｍ ｎ
−ヘプチル、アクリル酸イソヘプチル、アクリル酸■）
〜オクチル、アクリル酸２−エチルヘギシルなど、ポ′
リスチレンイ剥脂、ポリカーボネート稙Ｉ脂、士ルロー
ス樹脂例エバセルローストリアセテート、セルロースア
セトブチラードあるいはこれらの組合せが用いられろ。
リアクリレート樹脂例えばアクリル酸メチル、アクリル
酢エチル、アクリル％ｎ−プロピル、アクリル９ｎ−ブ
チル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｎ −”Ｚブ
チル、アクリル酸イソペンチル、アクリルＫｉｔ ｎ−
ヘキシル、アクリル酸イソヘキシル、アクリルｆｍ ｎ
−ヘプチル、アクリル酸イソヘプチル、アクリル酸■）
〜オクチル、アクリル酸２−エチルヘギシルなど、ポ′
リスチレンイ剥脂、ポリカーボネート稙Ｉ脂、士ルロー
ス樹脂例エバセルローストリアセテート、セルロースア
セトブチラードあるいはこれらの組合せが用いられろ。
これらの中でポリアクリ１／−ト樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂を主成分としたものが好ましい。
ト樹脂を主成分としたものが好ましい。
また、本発明の光情報担体はプラスチック基板の片面ま
たは両面に熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂を塗布し次
にｉ！Ａ−！：たは光を適用して硬化樹脂層を形成させ
た後、光硬化性樹脂を含む情報トラック形成用型を上記
硬化樹脂層に重ね合わせ次に光を照射して該硬化樹脂層
の上に情報トラックを転与させた後型を除去することに
より製造できる。
たは両面に熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂を塗布し次
にｉ！Ａ−！：たは光を適用して硬化樹脂層を形成させ
た後、光硬化性樹脂を含む情報トラック形成用型を上記
硬化樹脂層に重ね合わせ次に光を照射して該硬化樹脂層
の上に情報トラックを転与させた後型を除去することに
より製造できる。
本発明に用いられる光硬化性樹脂′は主成分として（１
）アクリル酸のモノ、ジまたはトリエステルの単量体ま
たはオリゴマー、（２）ポリチオール化合物あるいは（
３）ポリエン化合物を含み、その他に所望のラジカル形
成および重合を開始する九沖−合開始剤または光１合促
進剤、保存安定性を冒めるための酸化防止剤々とを含む
ものである。また、本発明においては基板の下引層と情
報トラック形成用型に用いられる光硬化性樹脂の種類は
必ずしも同じである必要はない。しかしながら、下引層
との密着性をよくするには同じ種類であることが好まし
い。（１）アクリル酸のエステルとしては、例えばモノ
アクリレート、特にアルキルアクリレート、フェニルア
クリレート、アルコキシアルギルアクリレートおよびフ
ェノキシアルキルアクリレートをあげることかでき、特
に極めて適当な代表例は、エチルアクリレート、ｎ−ブ
チルアクリレート、１−ブチルアクリｌノート、ヘプチ
ルアクリレート、ヘプチルアクリレート、オクチルアク
リレート、２−エチルへキシルアクリレート、デシルア
クリレート、ドデシルアクリレート、オクタデシルアク
リレート、エトキシエチルアクリレートおよびフェノキ
シエチルアクリレート；ジアクリレート、竹にアルカン
ジオールジアクリレートおよびアルケングリコールジア
クリレートである。これらのうち特に１，６−プロパン
ジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジア
クリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
、１．１０−デカンジオールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレ
ートおよびトリプロピレングリコールジアクリレートを
あげることができる。トリアクリレートは例えばトリメ
チロールプロパントリアクリレートおよびペンタエリス
リトールトリアクリレートである。
）アクリル酸のモノ、ジまたはトリエステルの単量体ま
たはオリゴマー、（２）ポリチオール化合物あるいは（
３）ポリエン化合物を含み、その他に所望のラジカル形
成および重合を開始する九沖−合開始剤または光１合促
進剤、保存安定性を冒めるための酸化防止剤々とを含む
ものである。また、本発明においては基板の下引層と情
報トラック形成用型に用いられる光硬化性樹脂の種類は
必ずしも同じである必要はない。しかしながら、下引層
との密着性をよくするには同じ種類であることが好まし
い。（１）アクリル酸のエステルとしては、例えばモノ
アクリレート、特にアルキルアクリレート、フェニルア
クリレート、アルコキシアルギルアクリレートおよびフ
ェノキシアルキルアクリレートをあげることかでき、特
に極めて適当な代表例は、エチルアクリレート、ｎ−ブ
チルアクリレート、１−ブチルアクリｌノート、ヘプチ
ルアクリレート、ヘプチルアクリレート、オクチルアク
リレート、２−エチルへキシルアクリレート、デシルア
クリレート、ドデシルアクリレート、オクタデシルアク
リレート、エトキシエチルアクリレートおよびフェノキ
シエチルアクリレート；ジアクリレート、竹にアルカン
ジオールジアクリレートおよびアルケングリコールジア
クリレートである。これらのうち特に１，６−プロパン
ジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジア
クリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
、１．１０−デカンジオールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレ
ートおよびトリプロピレングリコールジアクリレートを
あげることができる。トリアクリレートは例えばトリメ
チロールプロパントリアクリレートおよびペンタエリス
リトールトリアクリレートである。
オリゴマーの興味あるアクリル酸エステルの例にはポリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレング
リコールジアクリレート、ポリエステルアクリレート、
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートおよびエ
トキシ化ビスフェノールＡ−ｕアクリレートがある。（
２）ポリチオール化合物の例としては、例えばチオグリ
コール酸、２−メルカプトプロピオン酸または６−メル
カプトプロピオン酸のエステル類およびポリヒドロキシ
化合物をあげることができる。特に適当なポリチオール
化合物としてはにンタエリトリットテトラチオグリコレ
ート、ペンタエリトリットテトラ（３−メルカプトプロ
ピオネート）、トリメチロールプロパントリ（３−メル
カプトゾロビオネート）、トリメチロールプロパントリ
チオグリコレート、エチレングリコールジメルカゾトプ
ロビオネート、エチレングリコールジメルカプトアセタ
ールおよびエチレングリコールジチオグリコレ−１・を
あげることができる。また、（３）ポリエン化合物の例
としては例えば１，３−ブタンジオールジアクリレート
お」：び１，３−ヘキサンジオールジアクリレート、テ
トラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ジアリルオキザレート、ジアリルジ
グリコールカーボネート、ジアリルマロネート、ジアリ
ルオキザレート、ジアリルマロネート、トリアリルトリ
メリテートおよびトリアリルイソシアヌレートをあげる
ことかできる。また、光重合開始剤の例としてはｐ−イ
ソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−
ヒドロキシーイソブチノしフコニノン、ベンゾイン・イ
ンブチルエーテル、ベンツイン・インプロピルエーテル
、ｐ −ｔｅｒｔ、 ｉナルトリクロロアセトフェノン
、ｐ −ｔ、ｅｒｔ ／チルジクロロアセトフェノン、
ｎ−ブチル−イソブチルベンゾインエーテル混合物、２
．２− ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、α
、α−ジクロルー４−フェノキシ′アセトフェノン、１
−フェニル−１，２−−１０パンジオン−２−（ｏ−エ
トキシカルボニル）オキシム、２−メチルチオキサント
ン、ジベンゾスベロン、ベンジル、ベンゾイン・アルキ
ルニーフル、Ｎ、Ｎ−テトラエチル−４，４−’；アミ
ノベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾイン−アルギル
エーテルおよびメチル・オルソ・ベンゾイルベンゾエー
トをあげることができる。ブ１を重合開始剤の添加１葎
は主成分に対して０，３〜５わ清楚が適当である。光重
合促進剤としてはアミン類例えばトリエタノールアミン
を用いることができる。まｆｃ。
エチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレング
リコールジアクリレート、ポリエステルアクリレート、
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートおよびエ
トキシ化ビスフェノールＡ−ｕアクリレートがある。（
２）ポリチオール化合物の例としては、例えばチオグリ
コール酸、２−メルカプトプロピオン酸または６−メル
カプトプロピオン酸のエステル類およびポリヒドロキシ
化合物をあげることができる。特に適当なポリチオール
化合物としてはにンタエリトリットテトラチオグリコレ
ート、ペンタエリトリットテトラ（３−メルカプトプロ
ピオネート）、トリメチロールプロパントリ（３−メル
カプトゾロビオネート）、トリメチロールプロパントリ
チオグリコレート、エチレングリコールジメルカゾトプ
ロビオネート、エチレングリコールジメルカプトアセタ
ールおよびエチレングリコールジチオグリコレ−１・を
あげることができる。また、（３）ポリエン化合物の例
としては例えば１，３−ブタンジオールジアクリレート
お」：び１，３−ヘキサンジオールジアクリレート、テ
トラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ジアリルオキザレート、ジアリルジ
グリコールカーボネート、ジアリルマロネート、ジアリ
ルオキザレート、ジアリルマロネート、トリアリルトリ
メリテートおよびトリアリルイソシアヌレートをあげる
ことかできる。また、光重合開始剤の例としてはｐ−イ
ソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−
ヒドロキシーイソブチノしフコニノン、ベンゾイン・イ
ンブチルエーテル、ベンツイン・インプロピルエーテル
、ｐ −ｔｅｒｔ、 ｉナルトリクロロアセトフェノン
、ｐ −ｔ、ｅｒｔ ／チルジクロロアセトフェノン、
ｎ−ブチル−イソブチルベンゾインエーテル混合物、２
．２− ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、α
、α−ジクロルー４−フェノキシ′アセトフェノン、１
−フェニル−１，２−−１０パンジオン−２−（ｏ−エ
トキシカルボニル）オキシム、２−メチルチオキサント
ン、ジベンゾスベロン、ベンジル、ベンゾイン・アルキ
ルニーフル、Ｎ、Ｎ−テトラエチル−４，４−’；アミ
ノベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾイン−アルギル
エーテルおよびメチル・オルソ・ベンゾイルベンゾエー
トをあげることができる。ブ１を重合開始剤の添加１葎
は主成分に対して０，３〜５わ清楚が適当である。光重
合促進剤としてはアミン類例えばトリエタノールアミン
を用いることができる。まｆｃ。
酸化防止剤としては例えばハイドロキノン、２，６−ジ
ｂｅｒｔブチル−４−メチルフェノールなどを用いるこ
とかできる。
ｂｅｒｔブチル−４−メチルフェノールなどを用いるこ
とかできる。
また、本発明に用いられる熱硬化性樹脂としては例えば
上述したアクリル酸エステル、ポリチオール、ボ１）エ
ン化合物などに熱重合開始剤と１−７て；に、ｊ １’
＋ｌ化ベンゾイル々どを添加したものをあげることかで
きる。
上述したアクリル酸エステル、ポリチオール、ボ１）エ
ン化合物などに熱重合開始剤と１−７て；に、ｊ １’
＋ｌ化ベンゾイル々どを添加したものをあげることかで
きる。
次に、図面を参照ｔ、て本発明の光情報相体の’Ｂｊ成
例あるいはその製造例を説明する。
例あるいはその製造例を説明する。
第１図に示すように、本発明の光情報担体はプラスチッ
ク、Ｊ１ζ＆１の片面に熱硬化または光硬化（可、１指
パラ２（下引層）を設け、さらにその上に凸部４および
四部５で構成される情報トラックを有する光σ化伺脂ｊ
（４３を設けたものである。
ク、Ｊ１ζ＆１の片面に熱硬化または光硬化（可、１指
パラ２（下引層）を設け、さらにその上に凸部４および
四部５で構成される情報トラックを有する光σ化伺脂ｊ
（４３を設けたものである。
また、熱硬化まゾこはブ０硬化樹脂層２は第１図に点線
で示すように基板１０両面に設けてプラスチック基板の
表面を保護することもできる。
で示すように基板１０両面に設けてプラスチック基板の
表面を保護することもできる。
第２１’２１ Ｋ示すように、本発明の光情報相体は例
えば次のようにして製造することができる。
えば次のようにして製造することができる。
ポリメチルメタクリレートのキャスティングにに、光硬
化性樹脂例えば紫外線硬化樹脂を有様溶媒に溶解した溶
液を塗布Ｌ／ ’ｊｌ−燥イ５紫外ｎ９照射して紫外線
硬化）￥２を形成させる。次に、ｔｉ￥報トシトラック
部４に対応するｌ’＋ｉ′Ｊ４および凹部５に７１応す
る山５を有する（Ｆ！ｒ報トランク形成用金型乙に光硬
化性樹Ｊ、ｌｆｔ例えば紫外県警硬化１１樹脂を有機溶
媒に溶ｆ＋＋’４．したｄ液を入れ、この金型６に第２
１′０に示すように前記紫外想硬化１ｔす２を事ね合わ
せた後紫外録を照射して悄：ｉｉｌン）ラックを有する
紫外線硬化樹脂層６を転写させ金型６を除去すると第１
図に示す４１１１造の光情報４ｉ’Ｈ体が得られる。こ
の除用いられろ有機溶媒としてはプラスチック基板を膨
潤を）るいは熱時溶解させろが基板ｒ（大きな影響を与
えない（、のが好ま［７い。
化性樹脂例えば紫外線硬化樹脂を有様溶媒に溶解した溶
液を塗布Ｌ／ ’ｊｌ−燥イ５紫外ｎ９照射して紫外線
硬化）￥２を形成させる。次に、ｔｉ￥報トシトラック
部４に対応するｌ’＋ｉ′Ｊ４および凹部５に７１応す
る山５を有する（Ｆ！ｒ報トランク形成用金型乙に光硬
化性樹Ｊ、ｌｆｔ例えば紫外県警硬化１１樹脂を有機溶
媒に溶ｆ＋＋’４．したｄ液を入れ、この金型６に第２
１′０に示すように前記紫外想硬化１ｔす２を事ね合わ
せた後紫外録を照射して悄：ｉｉｌン）ラックを有する
紫外線硬化樹脂層６を転写させ金型６を除去すると第１
図に示す４１１１造の光情報４ｉ’Ｈ体が得られる。こ
の除用いられろ有機溶媒としてはプラスチック基板を膨
潤を）るいは熱時溶解させろが基板ｒ（大きな影響を与
えない（、のが好ま［７い。
そのような有様溶媒の例としては、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、ブタノール、アリルアルコー
ル、四塩化炭素、四塩化エチレン、二硫化炭素、シクロ
へキサノール、シクロヘキセン、シクロヘキサノン、メ
チルエーテル、ジエチルエーテル、ソルベントナフサ、
ニトロヘンセン、石炭畷、クレゾール、モノクロルベン
セン、アニリン、アセトフェノン、ベンズアルデヒド、
ナフタリン、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト、ニコチン、ｎ−オクタン、芳香族分を有する石油な
ど、アセトン、ベンゼン、トルエン、ギシレン、ジクロ
ルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム、酢酸エチル
、酢酸ブチル、氷酢酸、ジアセトンアルコール々ど、メ
チルエチルケトン、メチルインブチルケトンおよびこれ
らの混合ｑ勿をあげることができる。また、本発明では
特殊な型を必要とせず普通の金線製またはプラスチック
製型を用いることができ、特にニッケル？！型が好まし
い。
ール、イソプロパツール、ブタノール、アリルアルコー
ル、四塩化炭素、四塩化エチレン、二硫化炭素、シクロ
へキサノール、シクロヘキセン、シクロヘキサノン、メ
チルエーテル、ジエチルエーテル、ソルベントナフサ、
ニトロヘンセン、石炭畷、クレゾール、モノクロルベン
セン、アニリン、アセトフェノン、ベンズアルデヒド、
ナフタリン、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト、ニコチン、ｎ−オクタン、芳香族分を有する石油な
ど、アセトン、ベンゼン、トルエン、ギシレン、ジクロ
ルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム、酢酸エチル
、酢酸ブチル、氷酢酸、ジアセトンアルコール々ど、メ
チルエチルケトン、メチルインブチルケトンおよびこれ
らの混合ｑ勿をあげることができる。また、本発明では
特殊な型を必要とせず普通の金線製またはプラスチック
製型を用いることができ、特にニッケル？！型が好まし
い。
実ｂｔｕ例
以下に比較例とともに実施例を掲げて本発明を例示する
がこれに限定されるものではない。
がこれに限定されるものではない。
例中、部は重量部によって示す。
実施例 １
テトラヒドロフルフリルアクリレート １０ 〃ベンゾ
インイソブチルエーテル ２〃 イソプロピルアルコール ５０〃 ト ル エ ン １０ 〃 上記成分を攪拌混合して塗布溶液を調製し、この溶液を
厚さ１．２ ＩＩＩｍのポリメチルメタクリレート基板
に浸２に？ノミ布し１５分間乾燥した後２ ＫＷの高圧
水銀灯を用いて２０ｏｒ＋の１１”（ｌ離から紫外線を
１５秒間照射して、Ｗ板上に紫外心硬化層（下引１％）
を形成した。一方、 ペンゾインイソブチルエーテ／Ｌ、 ３ｑの溶液をニッ
ケル製型に滴下して情報トラック形成用警音用意した。
インイソブチルエーテル ２〃 イソプロピルアルコール ５０〃 ト ル エ ン １０ 〃 上記成分を攪拌混合して塗布溶液を調製し、この溶液を
厚さ１．２ ＩＩＩｍのポリメチルメタクリレート基板
に浸２に？ノミ布し１５分間乾燥した後２ ＫＷの高圧
水銀灯を用いて２０ｏｒ＋の１１”（ｌ離から紫外線を
１５秒間照射して、Ｗ板上に紫外心硬化層（下引１％）
を形成した。一方、 ペンゾインイソブチルエーテ／Ｌ、 ３ｑの溶液をニッ
ケル製型に滴下して情報トラック形成用警音用意した。
次に、この型を上記の紫外線硬化／ｉ’；Ｉ Ｋ重ね合
せた後２謀の高圧水銀灯を用いて２０ｔｙｎの距離から
紫外線を３０秒間照射し型を除去すると型の情報トラッ
クが紫外線硬化１帖として基板上にきれいに転写された
。この際、情報トラック紫外瞭硬化層のニッケル製型へ
のｆ１２ ｌｊｔ力は約０．３ ｋｇ７ｃｍ２であった
が基板の下引層への接着力は１．７ ｋｙ／ｍ２であっ
た。
せた後２謀の高圧水銀灯を用いて２０ｔｙｎの距離から
紫外線を３０秒間照射し型を除去すると型の情報トラッ
クが紫外線硬化１帖として基板上にきれいに転写された
。この際、情報トラック紫外瞭硬化層のニッケル製型へ
のｆ１２ ｌｊｔ力は約０．３ ｋｇ７ｃｍ２であった
が基板の下引層への接着力は１．７ ｋｙ／ｍ２であっ
た。
比較例 １
実施例１において下引層を省略してニッケル製型ヲポリ
メチルメタクリレート基板に直接重ね合せて紫外線を照
射した後型を除去したところ、情報トラック紫外線硬化
層が型に残って情報トラックは基板−ヒに転写されなか
った。
メチルメタクリレート基板に直接重ね合せて紫外線を照
射した後型を除去したところ、情報トラック紫外線硬化
層が型に残って情報トラックは基板−ヒに転写されなか
った。
実施例 ２
実施例１に記載したようにして処理した表面硬化アクリ
ル基板に、 ベンゾインイソブチルエーテル ６＃ からなる溶液を用いて実施例１と同様にして転写を行な
ったところ情報トラックかぎれいに転みされた。
ル基板に、 ベンゾインイソブチルエーテル ６＃ からなる溶液を用いて実施例１と同様にして転写を行な
ったところ情報トラックかぎれいに転みされた。
効 果
本発明によれば、情報トラックを有する光硬化樹脂ｊＣ
フの型からの剥跡廿とプラスチック基板への接着性が改
暑でれる。
フの型からの剥跡廿とプラスチック基板への接着性が改
暑でれる。
第１図は本発明の光情報４Ｈ体の一つの構成を示す断面
図でありそして第２図は本発明の光情報相体の製造′ｆ
：説り」する図である。 １・・・プラスチック基板、２・・・熱硬化または光硬
化樹脂層、３・・・情報トラックを有する光硬化樹脂層
、４・・・情報トラックの凸部、５・・・情報トラック
の四部、６・・・情報トラック形成用型。 特許出願人 株式会社 リ コ −
図でありそして第２図は本発明の光情報相体の製造′ｆ
：説り」する図である。 １・・・プラスチック基板、２・・・熱硬化または光硬
化樹脂層、３・・・情報トラックを有する光硬化樹脂層
、４・・・情報トラックの凸部、５・・・情報トラック
の四部、６・・・情報トラック形成用型。 特許出願人 株式会社 リ コ −
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）プラスチック基板の片面または両面に熱硬化樹脂層
または光硬化樹脂層を設け、さらにその上に情報トラッ
クを有する光硬化樹脂層を設けることを特徴とする、光
情報担体。 ２）プラスチック基板の片面または両面に熱硬化性樹脂
または光硬化性樹脂を塗布し次に熱または光を適用Ｌ７
て硬化樹脂層を形成させた後、光イ使化性し・１脂を含
む情報トラック形成用型を上記硬化樹脂層に重ね合わせ
次に光を照射して該硬化（ｉｌ脂層の上に情報１ラツク
を転写させた後、型を除去することを特徴とする、元情
報相体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58176998A JPS6070537A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 光情報担体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58176998A JPS6070537A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 光情報担体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6070537A true JPS6070537A (ja) | 1985-04-22 |
| JPH0580058B2 JPH0580058B2 (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=16023385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58176998A Granted JPS6070537A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 光情報担体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6070537A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63273231A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスクおよびその製造方法 |
| JPH0256747A (ja) * | 1988-08-23 | 1990-02-26 | Toshiba Corp | 情報記録媒体 |
| JPH04232629A (ja) * | 1990-08-17 | 1992-08-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 溝付き基板の製法および多層構造体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58155538A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-16 | Hitachi Ltd | 光ディスク記録媒体用基板 |
| JPS6029950A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Tdk Corp | 光記録媒体およびその製造方法 |
-
1983
- 1983-09-27 JP JP58176998A patent/JPS6070537A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58155538A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-16 | Hitachi Ltd | 光ディスク記録媒体用基板 |
| JPS6029950A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Tdk Corp | 光記録媒体およびその製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63273231A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスクおよびその製造方法 |
| JPH0256747A (ja) * | 1988-08-23 | 1990-02-26 | Toshiba Corp | 情報記録媒体 |
| JPH04232629A (ja) * | 1990-08-17 | 1992-08-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 溝付き基板の製法および多層構造体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0580058B2 (ja) | 1993-11-05 |
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