JPS629549A - 凹凸形状の複製方法 - Google Patents
凹凸形状の複製方法Info
- Publication number
- JPS629549A JPS629549A JP14828185A JP14828185A JPS629549A JP S629549 A JPS629549 A JP S629549A JP 14828185 A JP14828185 A JP 14828185A JP 14828185 A JP14828185 A JP 14828185A JP S629549 A JPS629549 A JP S629549A
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- stamper
- rugged shape
- thickness
- cured
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は電子線硬化可能なモノマーまたはプレポリマー
を用いる凹凸形状の複製方法に関する。
を用いる凹凸形状の複製方法に関する。
従来、光ディスク、ビデオディスク、デジタルオーディ
オディスクなどの製造に用いる基板を作製する方法のひ
とつとして２Ｐ法（フォトポリマー法）が知られており
、この方法はスタンパ上に光重合可能な樹脂の塗膜を形
成させ、この樹脂塗膜に紫外線を照射して硬化させた後
スタンパから剥離するというものである。しかしながら
、この従来の２Ｐ法は硬化に要する時間が長（生産性が
悪い、モノマー、プレポリマー以外に開始剤などの化学
的に活性な分子を含有するため記録媒体の記録層および
スタン／ぐを劣化させるなどの欠点を有していた。
オディスクなどの製造に用いる基板を作製する方法のひ
とつとして２Ｐ法（フォトポリマー法）が知られており
、この方法はスタンパ上に光重合可能な樹脂の塗膜を形
成させ、この樹脂塗膜に紫外線を照射して硬化させた後
スタンパから剥離するというものである。しかしながら
、この従来の２Ｐ法は硬化に要する時間が長（生産性が
悪い、モノマー、プレポリマー以外に開始剤などの化学
的に活性な分子を含有するため記録媒体の記録層および
スタン／ぐを劣化させるなどの欠点を有していた。
本発明は上記したような欠点のない、例えば光ディスク
、光フロツピーディスクなどの基板をきわめて生産性よ
く製造する方法を提供することを目的とする。
、光フロツピーディスクなどの基板をきわめて生産性よ
く製造する方法を提供することを目的とする。
本発明においてはプレピット、プレグループなどの凹凸
形状を有するスタンパ上上に電子線硬化可能なモノマー
またはプレポリマーを塗布し、これに電子線を照射して
重合硬化させ、この硬化した樹脂膜をスタンパ上から剥
離することによりスタンパ上の凹凸形状を転写すること
により上記目的が達成された。本発明で電子線を用いて
硬化させるモノマーやプレポリマーとしては基本的には
紫外線硬化可能なモノマーやプレポリマーすなわち光重
合性モノマーや光重合性プレポリマーがそのまま使用で
きる。ただし、紫外線で硬化させる場合にはアクリル系
をもっばら使用するのに対して、電子線を用いる場合に
は重合速度の遅いメタクリル系も使用できるという利点
がある。具体的に本発明で使用されるモノマーとしては
メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチル
へキシルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステ
ル、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イ
ンプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート
、インブチルメタクリレート、ｎ−へキシルメタクリレ
ート、ラウリルメタクリレートなどのメタクリル酸アル
キルエステル、アクリル酸、メタクリル酸などの一塩基
酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレートなどのアク
リル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステ
ル、マレイン酸、イタコン酸等の二塩基酸、アクリルア
ミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアク
リルアミドなどのアミド、グリシジルメタクリレート、
スチレン、ビニルトルエン、酢酸ヒニ久アクリロニトリ
ル、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、ネオはンチルグリコール
ジアクリレート、１．６−ヘキサンジオールジアクリレ
ート、ヒドロキシピパリン酸エステルネオぼンチルグリ
コ″−ルジアクリレート、ポリエチレングリコール４０
０ジアクリレートなどのジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリ
レートなどの１リアクリレート、ジメチルアミノエチル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリールメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど
のメタクリル酸エステルが挙げられる。またプレポリマ
ーとしては不飽和ポリエステル樹脂、不飽和アクリル樹
脂、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ア
クリル樹脂などが使用される。
形状を有するスタンパ上上に電子線硬化可能なモノマー
またはプレポリマーを塗布し、これに電子線を照射して
重合硬化させ、この硬化した樹脂膜をスタンパ上から剥
離することによりスタンパ上の凹凸形状を転写すること
により上記目的が達成された。本発明で電子線を用いて
硬化させるモノマーやプレポリマーとしては基本的には
紫外線硬化可能なモノマーやプレポリマーすなわち光重
合性モノマーや光重合性プレポリマーがそのまま使用で
きる。ただし、紫外線で硬化させる場合にはアクリル系
をもっばら使用するのに対して、電子線を用いる場合に
は重合速度の遅いメタクリル系も使用できるという利点
がある。具体的に本発明で使用されるモノマーとしては
メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチル
へキシルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステ
ル、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イ
ンプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート
、インブチルメタクリレート、ｎ−へキシルメタクリレ
ート、ラウリルメタクリレートなどのメタクリル酸アル
キルエステル、アクリル酸、メタクリル酸などの一塩基
酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレートなどのアク
リル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステ
ル、マレイン酸、イタコン酸等の二塩基酸、アクリルア
ミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアク
リルアミドなどのアミド、グリシジルメタクリレート、
スチレン、ビニルトルエン、酢酸ヒニ久アクリロニトリ
ル、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、ネオはンチルグリコール
ジアクリレート、１．６−ヘキサンジオールジアクリレ
ート、ヒドロキシピパリン酸エステルネオぼンチルグリ
コ″−ルジアクリレート、ポリエチレングリコール４０
０ジアクリレートなどのジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリ
レートなどの１リアクリレート、ジメチルアミノエチル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリールメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど
のメタクリル酸エステルが挙げられる。またプレポリマ
ーとしては不飽和ポリエステル樹脂、不飽和アクリル樹
脂、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ア
クリル樹脂などが使用される。
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図に示すように、凹凸形状（プレピットまたはプレ
グルーブ）が形成されているガラスまたは金属（例えば
ニッケル）などのスタン・々１の上に電子線硬化可能な
モノマーまたはプレポリマーからなる塗布層２を設け、
これに電子線ビーム（ＥＢ ）を照射して硬化させる。
グルーブ）が形成されているガラスまたは金属（例えば
ニッケル）などのスタン・々１の上に電子線硬化可能な
モノマーまたはプレポリマーからなる塗布層２を設け、
これに電子線ビーム（ＥＢ ）を照射して硬化させる。
硬化後の塗布層２をスタンパ１から剥離すると第２図に
示すように凹凸形状の転写複製された硬化樹脂フィルム
４が得られる。フィルム４の厚さは電子線ビームの加速
電圧により選択される。たとえば、１５［）ＫＶのとき
の厚さは１００１１ｔｎ 、 ２５０ＫＶのときの厚さ
は２００μｍ程度である。
示すように凹凸形状の転写複製された硬化樹脂フィルム
４が得られる。フィルム４の厚さは電子線ビームの加速
電圧により選択される。たとえば、１５［）ＫＶのとき
の厚さは１００１１ｔｎ 、 ２５０ＫＶのときの厚さ
は２００μｍ程度である。
第３図は本発明の変形的な製法の一例を示すものである
。スタンパ１上の塗布層２の上にさらに保護用の透明樹
脂フィルムまたは板５を重ねて形成し、この上から電子
線ビームを照射することにより塗布層２を硬化させる。
。スタンパ１上の塗布層２の上にさらに保護用の透明樹
脂フィルムまたは板５を重ねて形成し、この上から電子
線ビームを照射することにより塗布層２を硬化させる。
加圧電圧の高さは塗布層２とフィルムまたは板５との総
合的な厚さによって制限を受ける。厚さが大きくなる程
必要な電圧は高くなる。
合的な厚さによって制限を受ける。厚さが大きくなる程
必要な電圧は高くなる。
また、第４図は本発明の変形的な製法の他側を示すもの
である。
である。
まず、第１図に示す方法によってスタンパ１の上に薄い
硬化樹脂フィルム４を形成させ、これに接着層６を介し
てＣＬ５〜２■の厚さの基板７を接着させた後、硬化樹
脂フィルム４、接着層６および基板７を一体としてスタ
ンパ１から剥離する。この方法によれば、光ディスク、
光ビデオディスク、デジタルオーディオディスクのよう
な１．２■程度の厚さの透明基板を作製することができ
る。
硬化樹脂フィルム４を形成させ、これに接着層６を介し
てＣＬ５〜２■の厚さの基板７を接着させた後、硬化樹
脂フィルム４、接着層６および基板７を一体としてスタ
ンパ１から剥離する。この方法によれば、光ディスク、
光ビデオディスク、デジタルオーディオディスクのよう
な１．２■程度の厚さの透明基板を作製することができ
る。
〔効 果〕
本発明によれば、従来の２Ｐ法に比べて以下のような効
果を奏することができる。
果を奏することができる。
１）１秒以内で硬化を完了させることができるので生産
性が高い。
性が高い。
２）モノマー、プレポリマー以外には、化学的に活性な
分子たとえば開始剤などを用いる必要がないので、これ
ら活性な分子に基く記録層やスタンパξの劣化を避ける
ことができる。
分子たとえば開始剤などを用いる必要がないので、これ
ら活性な分子に基く記録層やスタンパξの劣化を避ける
ことができる。
３）無溶剤なので排気設備が不要となり、設備費が安価
であると共に必要な工場の面積が小さくて済む。
であると共に必要な工場の面積が小さくて済む。
４）硬化が架橋反応に基いて行われるために、硬化膜の
耐溶剤性がすぐれている。
耐溶剤性がすぐれている。
５）複屈折が小さい。
第１図ないし第４図は本発明による光情報記録媒体の製
造方法を示す模式図である。 １・・・スタンパ、２・・・塗布層または硬化膜、３・
・・凹凸形状、４・・・硬化樹脂フィルム、５・・・透
明樹脂フィルムまたは板、６・・・接着層、７・・・基
板。 特許出願人 株式会社 リ コ −ル 外２名 第１図 第２図 第３図
造方法を示す模式図である。 １・・・スタンパ、２・・・塗布層または硬化膜、３・
・・凹凸形状、４・・・硬化樹脂フィルム、５・・・透
明樹脂フィルムまたは板、６・・・接着層、７・・・基
板。 特許出願人 株式会社 リ コ −ル 外２名 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 凹凸形状を有するスタンパ上に電子線硬化可能なモノマ
ーまたはプレポリマーを塗布し、これに電子線を照射し
て重合硬化させ、この硬化した電子線硬化樹脂膜をスタ
ンパから剥離することによりスタンパ上の凹凸形状を転
写することを特徴とする、凹凸形状の複製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14828185A JPS629549A (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 凹凸形状の複製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14828185A JPS629549A (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 凹凸形状の複製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS629549A true JPS629549A (ja) | 1987-01-17 |
Family
ID=15449254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14828185A Pending JPS629549A (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 凹凸形状の複製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS629549A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003102942A1 (fr) * | 2002-06-04 | 2003-12-11 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Disque optique et son procede de fabrication |
-
1985
- 1985-07-08 JP JP14828185A patent/JPS629549A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003102942A1 (fr) * | 2002-06-04 | 2003-12-11 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Disque optique et son procede de fabrication |
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