KR20000069631A

KR20000069631A - 케라틴 섬유용 염료 조성물 및 이를 사용한 염색 방법

Info

Publication number: KR20000069631A
Application number: KR1019997005639A
Authority: KR
Inventors: 랑제라르; 오두쎄마리-빠스깔
Original assignee: 조지안느 플로; 로레알
Priority date: 1997-10-22
Filing date: 1998-10-07
Publication date: 2000-11-25
Also published as: WO1999020234A1; AU9447398A; RU2168978C2; KR100336678B1; CN1248160A; CA2275364A1; AU730008B2; US6503283B1; CN1202802C; DE69822450T3; ATE261717T1; BR9806825A; EP0971682B1; JP2000516265A; EP0971682B2; ES2218854T3; DE69822450T2; AR017365A1; DE69822450D1; PL334230A1

Abstract

본 발명은 적합한 염색 매질 내에 하나 이상의 양이온성 직접 염료 및 하나 이상의 자동 산화성 염료를 함유하는 것을 특징으로 하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유를 염색하기 위한 바로 사용 가능한 조성물 및 이를 이용한 염색 방법에 관한 것이다.

Description

케라틴 섬유용 염료 조성물 및 이를 사용한 염색 방법 {DYEING COMPOSITION FOR KERATIN FIBRES AND DYEING METHOD USING SAME}

본 발명은 염색에 적합한 매질 내에 하나 이상의 양이온성 직접 염료 및 하나 이상의 자동 산화성 염료(auto-oxidizable dye)를 함유한, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유를 염색하기 위한 조성물 및 이를 이용한 염색 방법에 관한 것이다.

세 개 이상의 히드록시 및/또는 아미노기를 함유한 벤젠 유도체 및 인돌 유도체, 예컨대 5,6-디히드록시인돌과 같은 자동 산화성 염료를 함유하는 염료 조성물로 특히 인간의 모발과 같은 케라틴 섬유를 염색하는 방법이 공지되어 있다. 상기 자동 산화성 염료는 대기의 산소가 아닌 임의의 산화제 없이 산화하여 착색되거나 염색 분자를 제공하는 독특한 특징을 갖는다. 그러나, 상기 염료를 사용하여 얻은 색상은 특히 색상의 강도 및 색도에 있어서 만족스럽지 않다.

또한, 케라틴 섬유를 직접 염료, 특히 양이온성 직접 염료로 염색하는 것이 공지되어 있다. 직접 염료는, 염료 조성물에 혼입되었을 때, 특히 샴푸에 대해 불충분한 지속력을 갖는 착색으로 이어지는 단점이 있다.

본 출원인들은, 하나 이상의 양이온성 직접 염료 및 하나 이상의 자동 산화성 염료를 배합하여, 모발에 가해질 다양한 손상 인자에 대해 우수한 저항성을 가지며, 강하고 비선택적인 착색을 제공할 수 있는, 케라틴 섬유를 염색하기 위한 신규한 조성물을 수득할 수 있다는 것을 발견하였다.

본 발명은 상기의 발견을 기초로 이루어진다.

본 발명의 첫 번째 주제는 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유를 염색하기 위한 바로 사용 가능한(ready-to-use) 조성물이며, 염색에 적합한 매질 내에 하기를 포함함을 특징으로 한다 :

- 하나 이상의 양이온성 직접 염료,

- 하나 이상의 자동 산화성 염료.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물은, 빛과 악천후와 같은 대기 인자 및 땀 및 모발에 가해질 다양한 처리(세정, 퍼머)에 대해 탁월한 내성 및 낮은 선택성을 나타내는, 강한 염색성 착색을 제공한다.

또한 본 발명의 주제는 상기 바로 사용 가능한 염료 조성물을 사용한 케라틴 섬유의 염색 방법이다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물에 사용될 수 있는 양이온성 직접 염료는, 양이온성 아미노안트라퀴논 염료, 양이온성 모노아조 또는 디아조 염료 및 양이온성 나프토퀴논 염료로부터 선택되는 것이 바람직하다.

예를 들어, 특히 [8-[(p-아미노페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로리드(색상표에서 Basic Brown 16 또는 Arianor Mahogany 306002로도 알려져 있음), 3-[(4-아미노-6-브로모-5,8-디히드로-1-히드록시-8-이미노-5-옥소-2-나프탈레닐)아미노]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로리드(색상표에서 Basic Blue 99 또는 Arianor Steel Blue 306004로도 알려져 있음), 7-히드록시-8-[(2-메톡시페닐)아조]-N,N,N-트리메틸-2-나프탈렌아미늄 클로리드(색상표에서 Basic Red 76 또는 Arianor Madder Red로도 알려져 있음), [8-[(4-아미노-2-니트로페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]-트리메틸암모늄 클로리드(색상표에서 Basic Brown 17 또는 Arianor Sienna Brown 306001로도 알려져 있음), 및 3-[(4,5-디히드로-3-메틸-5-옥소-1-페닐-1H-피라졸-4-일)아조]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로리드(색상표에서 Basic Yellow 57 또는 Arianor Straw Yellow 306005로도 알려져 있음)를 언급할 수 있다.

또한 양이온성 직접 염료는 하기로부터 선택될 수 있다 :

a) 하기 화학식 (I)의 화합물 :

[상기 식중,

D는 질소 원자 또는 -CH 기를 나타내며,

R₁및 R₂는 동일하거나 상이하며, 수소 원자; -CN, -OH 또는 -NH₂라디칼로 치환될 수 있는 C_1-4알킬 라디칼; 또는 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께, 하나 이상의 C_1-4알킬 라디칼로 치환될 수 있는, 임의로는 산소 또는 질소를 함유한 헤테로사이클을 형성하고; 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내고,

R₃및 R'₃은 동일하거나 상이하며, 염소, 브롬, 요오드 및 불소 원자로부터 선택된 할로겐 원자, 또는 수소, 또는 시아노기, C_1-4알콕시 또는 아세틸옥시 라디칼을 나타내고,

X^-는 바람직하게는 클로리드, 메틸설페이트 및 아세테이트로부터 선택된 음이온을 나타내고,

A는 하기 구조 A1 내지 A19로부터 선택된 기를 나타낸다 :

및

[상기 식중,

R₄는 히드록시 라디칼로 치환될 수 있는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고, R₅는 C_1-4알콕시 라디칼을 나타내고, D가 -CH 인 조건하에, A가 A₄또는 A₁₃인 경우 및 R₃이 알콕시 라디칼이 아닌 경우, R₁및 R₂는 동시에 수소 원자를 나타내지 않는다]];

b) 하기 화학식 (II)의 화합물 :

[상기 식중,

R₆는 수소 원자 또는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고, R₇는 수소 원자, -CN 라디칼 또는 아미노기로 치환될 수 있는 알킬 라디칼, 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내거나, R₆와 함께 C_1-4알킬 라디칼로 치환될 수 있는, 임의로는 산소 및/또는 질소를 함유한 헤테로 사이클을 형성하고,

R₈및 R₉는 동일하거나 상이하며, 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐 원자, 수소 원자, C_1-4알킬 또는 C_1-4알콕시 라디칼 또는 -CN 라디칼을 나타내고,

X^-은 바람직하게는 클로리드, 메틸설페이트 및 아세테이트로부터 선택된 음이온을 나타내며,

B는 하기 B1 내지 B6의 구조로부터 선택된 기이다 :

[상기 식중, R₁₀은 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C_1-4알킬 라디칼을 나타낸다]];

c) 하기 화학식 (III) 및 화학식 (III')의 화합물 :

[상기 식중,

R₁₃은 수소 원자, C_1-4알콕시 라디칼, 브롬, 염소 요오드 또는 불소와 같은 할로겐 원자 또는 아미노 라디칼을 나타내고,

R₁₄는 수소 원자, C_1-4알킬 라디칼을 나타내거나, 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께 임의로 산소와 화합되고/또는 하나 이상의 C_1-4알킬기로 치환될 수 있는 헤테로 사이클을 형성하고,

R₁₅는 브롬, 염소, 요오드 또는 불소 원자와 같은 할로겐 원자, 또는 수소 원자를 나타내고,

R₁₆및 R₁₇은 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고,

D₁및 D₂는 동일하거나 상이하며, 질소 원자 또는 -CH 기를 나타내고,

m은 0 또는 1이며,

R₁₃이 비치환 아미노기를 나타내는 경우, D₁및 D₂는 동시에 -CH 기를 나타내고 m은 0을 나타내는 것으로 이해되며,

E는 하기 E1 내지 E8의 구조로부터 선택된 기이다 :

[상기 식중,

R'는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고;

m이 0이고 D₁이 질소 원자인 경우, E는 하기 구조 E9의 기를 나타낸다 :

[상기 식중,

R'는 C_1-4알킬 라디칼을 나타낸다]]].

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물에 사용될 수 있는 화학식 (I), (II), (III) 및 (III')의 양이온성 직접 염료는 공지된 화합물이며 예컨대 특허 WO 95/01772호, WO 95/15144호 및 EP-A-0,714,954호에 기술되어 있다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물에 사용할 수 있는 화학식 (I)의 양이온성 직접 염료 가운데, 특히 하기 구조 (I1) 내지 (I52)에 상응하는 화합물을 언급할 수 있다 :

(I1) ;

(I2) ;

(I3) ;

(I4) ;

(I5) ;

(I6) ;

(I7) ;

(I8) ;

(I9) ;

(I10) ;

(I11) ;

(I12) ;

(I13) ;

(I14) ;

(I15) ;

(I16) ;

(I17) ;

(I18) ;

(I19) ;

(I20) ;

(I21) ;

(I22) ;

(I23) ;

(I24) ;

(I25) ;

(I26) ;

(I27) ;

(I28) ;

(I29) ;

(I30) ;

(I31) ;

(I32) ;

(I33) ;

(I34) ;

(I35) ;

(I36) ;

(I37) ;

(I38) ;

(I39) ;

(I40) ;

(I41) ;

(I42) ;

(I43) ;

(I44) ;

(I45) ;

(I46) ;

(I47) ;

(I48) ;

(I49) ;

(I50) ;

(I51) ; 및

(I52)

상기 구조 (I1) 내지 (I52)의 화합물 가운데 가장 바람직한 화합물은 구조 (I1), (I2), (I14) 및 (I31)의 화합물이다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물에 사용할 수 있는 화학식 (II)의 양이온성 직접 염료 가운데, 특히 하기 구조 (II1) 내지 (II12)의 화합물을 언급할 수 있다 :

(II1) ;

(II2) ;

(II3) ;

(II4) ;

(II5) ;

(II6) ;

(II7) ;

(II8) ;

(II9) ;

(II10) ;

(II11) ; 및

(II12)

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물에 사용할 수 있는 화학식 (III)의 양이온성 직접 염료 가운데, 특히 하기 구조 (III1) 내지 (III18)의 화합물을 언급할 수 있다 :

(III1) ;

(III2) ;

(III3) ;

(III4) ;

(III5) ;

(III6) ;

(III7) ;

(III8) ;

(III9) ;

(III10) ;

(III11) ;

(III12) ;

(III13) ;

(III14) ;

(III15) ;

(III16) ;

(III17) ; 및

(III18)

상기 구조 (III1) 내지 (III18)의 화합물 가운데 가장 바람직한 화합물은 구조 (III4), (III5), 및 (III13)의 화합물이다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물에 사용할 수 있는 화학식 (III')의 양이온성 직접 염료 가운데, 특히 하기 구조 (III'1) 내지 (III'3)의 화합물을 언급할 수 있다 :

(III'1) ;

(III'2) ; 및

(III'3)

본 발명에 따라 사용되는 양이온성 직접 염료는, 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 바람직하게는 약 0.001 내지 10 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.05 내지 5 중량 % 이다.

본 발명의 바로 사용 가능한 염료 조성물에 사용되는 자동 산화성 염료의 특성은 절대적이지 않으며, 특히 벤젠, 인돌 또는 인돌린 자동 산화성 염료로부터 선택될 수 있다.

본 발명에 따른 염료 조성물에 사용할 수 있는 벤젠 자동 산화성 염료 가운데, 특히 하기 화학식 (IV)의 화합물 및 이의 산과의 부가염을 언급할 수 있다 :

[상기 식중,

- R₁₈은 수소 원자, C_1-4알킬 라디칼 또는 아미노 라디칼을 나타내고,

- R₁₉는 C_1-4알킬, 히드록시, 아미노, 모노(C_1-4)알킬아미노 또는 디(C_1-4)알킬아미노 라디칼을 나타내며,

- R₂₀은 수소 원자, 또는 히드록시 또는 아미노 라디칼을 나타내고,

- R₂₁은 수소 원자 또는 아미노 라디칼을 나타내고;

R₁₉내지 R₂₁의 라디칼의 두 개 이상이 독립적으로 히드록시, 아미노, 모노(C_1-4)알킬아미노 또는 디(C_1-4)알킬아미노 라디칼을 나타내는 것으로 이해된다].

상기 화학식 (IV)의 벤젠 자동 산화성 염료 가운데, 특히 1,2,4-트리히드록시벤젠, 1-메틸-2,4,5-트리히드록시벤젠, 2,4-디아미노-6-메틸페놀, 2-아미노-4-메틸아미노페놀, 2,5-디아미노-4-메틸페놀, 2,6-디아미노-4-디에틸아미노페놀 및 2,6-디아미노-1,4-디히드록시벤젠, 및 이들의 산과의 부가염을 언급할 수 있다.

본 발명에 따른 염료 조성물에 사용할 수 있는 인돌 및 인돌린 자동 산화성 염료 가운데 특히 하기 화학식 (V) 및 (VI)의 화합물을 언급할 수 있다 :

[상기 식중,

- R₂₂, R₂₄, R₂₅및 R₂₆은 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C_1-4알킬 또는 C_1-4아실 라디칼을 나타내고,

- R₂₃은 수소 원자, C_1-4알킬 라디칼 또는 카르복실 라디칼을 나타낸다].

상기 화학식 (V)의 자동 산화성 염료 가운데 특히 5,6-디히드록시인돌, 2-메틸-5,6-디히드록시인돌, 3-메틸-5,6-디히드록시인돌, 1-메틸-5,6-디히드록시인돌, 2,3-디메틸-5,6-디히드록시인돌, 5-메톡시-6-히드록시인돌, 5-아세톡시-6-히드록시인돌, 5,6-디아세톡시인돌 및 5,6-디히드록시-2-인돌카르복시산, 및 이들의 산과의 부가염을 언급할 수 있다.

상기 화학식 (VI)의 자동 산화성 염료 가운데 특히 5,6-디히드록시인돌린, 1-메틸-5,6-디히드록시인돌린 및 1-에틸-5,6-디히드록시인돌린, 및 이들의 산과의 부가염을 언급할 수 있다.

자동 산화성 염료는 본 발명에 따른 염료 조성물의 총 중량에 대해 바람직하게는 약 0.0005 내지 12 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 8 중량 %이다.

자동 산화성 염료의 산화를 용이하게 하기 위하여, 본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물은 하나 이상의 산화제를 함유할 수 있다. 이러한 산화제는 특히 과산화수소, 과산화요소, 알칼리 금속 브로메이트, 과산염, 예컨대 퍼보레이트 및 퍼설페이트, 및 효소, 예컨대 퍼옥시다제 및 2-전자 산화환원 효소로부터 선택될 수 있다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물에 산화제로서 사용할 수 있는 2-전자 산화환원 효소 가운데, 특히 피라노즈 옥시다제, 글루코스 옥시다제, 글리세롤 옥시다제, 락테이트 옥시다제, 피루베이트 옥시다제 및 유리카제를 언급할 수 있다.

본 발명에 따르면, 동물, 미생물 또는 생물공학 기원의 유리카제가 특히 바람직하다.

특히, 예를 들어, 수퇘지 간으로부터 추출한 유리카제, 아드로박터 글로비포르미스로부터 추출한 유리카제 및 아스페르길루스 플라부스로부터 추출한 유리카제를 언급할 수 있다.

2-전자 산화환원 효소는 순수 결정형 또는 상기 2-전자 산화환원 효소에대해 비활성인 희석제에 희석한 형태로 사용될 수 있다.

이들이 사용되는 경우, 본 발명에 따른 2-전자 산화환원 효소는 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 약 0.01 내지 20 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 5 중량 %이다.

2-전자 산화환원 효소 종류의 효소가 본 발명에 따라 사용되는 경우, 바로 사용 가능한 염료 조성물은 하나 이상의 공여체를 함유할 수 있다.

본 발명에 따르면, "공여체" 라는 용어는 상기 2-전자 산화환원 효소의 작용에 관계한 다양한 기질을 지칭한다.

사용된 공여체(또는 기질)의 특성은 사용된 2-전자 산화환원 효소의 특성에따라 변한다. 예컨대, 피라노즈 옥시다제의 공여체로서 D-글루코스, L-소르보스 및 D-크실로스를 언급할 수 있으며; 글루코스 옥시다제의 공여체로서 D-글루코스를 언급할 수 있고; 글리세롤 옥시다제의 공여체로서 글리세롤 및 디히드록시아세톤을 언급할 수 있으며; 락테이트 옥시다제의 공여체로서 락트산 및 그의 염을 언급할 수 있고, 피루베이트 옥시다제의 공여체로서 피루브산 및 그의 염을 언급할 수 있으며; 유리카제의 공여체로서 요산 및 그의 염을 언급할 수 있다.

이들이 사용되는 경우, 본 발명에 따라 사용되는 공여체(또는 기질)는 본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 약 0.01 내지 20 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 5 중량 % 이다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물이 산화제를 함유하는 경우에, 하나 이상의 산화 염기 및/또는 하나 이상의 커플러를 함유할 수 있다. 상기 산화 염기는 특히 파라-페닐렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-페닐렌디아민 및 헤테로시클릭 염기, 예컨대 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체, 피라졸 유도체 및 피라졸로피리미딘 유도체로부터 선택될 수 있다. 커플러는 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀, 헤테로시클릭 커플러, 예컨대 인돌 유도체, 인돌린 유도체, 벤즈이미다졸 유도체, 벤조모르폴린 유도체, 세사몰 유도체, 피리딘, 피리미딘 및 피라졸 유도체 및 이들의 산과의 부가염으로부터 선택될 수 있다.

이들이 존재하는 경우, 산화 염기는 본 발명에 따른 염료 조성물의 총 중량에 대해 바람직하게는 약 0.0005 내지 12 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 8 중량 %이다.

이들이 존재하는 경우, 커플러는 본 발명에 따른 염료 조성물의 총 중량에 대해 바람직하게는 0.0001 내지 10 중량 %, 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 8 중량 %이다.

일반적으로 본 발명의 염료 조성물(자동 산화성 염료, 산화 염기 및 커플러)에 사용할 수 있는 산과의 부가염은 특히 히드로클로리드, 히드로브로미드, 설페이트, 타르트레이트, 락테이트 및 아세테이트로부터 선택된다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물을 위한 염색(또는 지지)에 적합한 매질은 일반적으로 물 또는 충분히 수용성이 아닌 화합물을 용해시키기 위한 하나 이상의 유기 용매와 물과의 혼합물로 이루어진다. 유기 용매로서, 예컨대 C_1-4알칸올, 예컨대 에탄올 및 이소프로판올, 및 방향족 알콜, 예컨대 벤질 알콜 또는 페녹시에탄올, 이들의 유사 화합물 및 혼합물을 언급할 수 있다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 조성물의 pH는 일반적으로 약 5 내지 11, 바람직하게는 6.5 내지 10 이며, 케라틴 섬유의 염색에 통상적으로 사용되는 산성화제 또는 염기성화제로 원하는 값으로 조절할 수 있다.

산성화제 가운데, 예를 들어, 무기 또는 유기산, 예컨대 염산, 오르토인산, 황산, 카르복시산, 예컨대 아세트산, 타르타르산, 시트르산 및 락트산, 및 설폰산을 언급할 수 있다.

염기성화제 가운데, 예를 들어, 수성 암모니아, 알칼리성 카보네이트, 알칸올아민, 예컨대 모노-, 디- 및 트리에탄올아민, 2-메틸-2-아미노-1-프로판올 및 이들의 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 하기 화학식 (VII)의 화합물을 언급할 수 있다 :

[상기 식중, W는 히드록시기 또는 C_1-4알킬 라디칼로 임의 치환될 수 있는 프로필렌 잔기를 나타내고; R₂₇, R₂₈, R₂₉및 R₃₀은 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C_1-4알킬 또는 C_1-4히드록시알킬 라디칼을 나타낸다].

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물은 모발의 염색용 조성물에 통상적으로 사용되는 다양한 보조제, 예컨대 항산화제, 침투제, 격리제, 방향제, 완충제, 분산제, 보존제 및 불투명화제를 함유할 수 있다.

두말할 나위 없이 당업자는, 본질적으로 본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물과 관련한 유리한 특성이 첨가나 예정된 첨가에 의해 역효과를 일으키지 않거나, 실질적으로 역효과를 일으키지 않도록 상기 임의의 보조 화합물을 주의 깊게 선택할 것이다.

본 발명에 따른 바로 사용 가능한 염료 조성물은, 가압될 수 있는 액체, 크림 또는 겔의 형태, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 염색하기 위해 적합한 다른 임의의 형태와 같은 다양한 형태일 수 있으며, 자동 산화성 염료의 임의의 너무 이른 산화를 방지하기 위해 기체상 산소가 없어야한다.

본 발명의 주제는 또한, 상기 바로 사용 가능한 염료 조성물을 사용하여, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유를 염색하기 위한 방법이다.

이 방법에 따르면, 상기 바로 사용 가능한 염료 조성물의 하나 이상을, 원하는 착색이 일어나기에 충분한 기간 동안 섬유에 도포하고, 섬유를 세척하고, 임의로 샴푸로 세척하고, 다시 세정한 후 건조한다.

케라틴 섬유의 착색에 요구되는 시간은 일반적으로 3 내지 60 분이며, 보다 정확히는 5 내지 40 분이다.

본 발명의 한 특정 구현예에 따르면, 본 발명에 따른 바로 사용 가능한 조성물이 산화제를 함유하는 경우, 상기 방법은 한편으로 염색에 적합한 매질에 하나 이상의 양이온성 직접 염료 및 하나 이상의 자동 산화성 염료를 함유하는 조성물 (A)를, 다른 한편으로 염색에 적합한 매질에 하나 이상의 산화제를 함유한 조성물 (B)를 따로따로 저장하고, 이어서 사용시에 이들을 혼합하는(케라틴 섬유에 상기 혼합물을 도포하기 이전에) 예비 단계를 포함한다.

본 발명의 또다른 주제는, 첫 번째 분획이 상기 조성물 (A)를 함유하고, 두 번째 분획이 상기 조성물 (B)를 함유하는, 다분획 염색 장치 또는 '키트', 혹은 다른 임의의 다분획 용기 시스템이다. 상기 장치는, 본 출원인들의 특허 FR-2,586,913호에 기술된 바와 같이, 희망하는 혼합물을 모발에 도포하기 위한 도구를 부착할 수 있다.

하기 실시예는 제한함 없이 본 발명을 예시하도록 의도되었다.

염색 실시예 1 내지 3

하기의 바로 사용 가능한 염료 조성물을 제조하였다 (단위 : g) :

조성물	1	2	3
5,6-디히드록시인돌린 모노히드로브로미드(자동 산화성 염료)	0.7	-	-
5,6-디히드록시인돌(자동 산화성 염료)	-	0.5	-
1,2,4-트리히드록시벤젠(자동 산화성 염료)	-	-	1.2
양이온성 직접 염료 Basic Red 76(Arianor Madder Red)	0.1	-	-
(I4) 구조의 오렌지색 양이온성 직접 염료	-	0.07	-
(I1) 구조의 붉은 양이온성 직접 염료	-	-	0.05
통상의 염료 지지체 (^*)	(^*)	(^*)	(^*)
탈염수 q.s.	100 g	100 g	100 g

(^*) : 통상의 염료 지지체 :

- 에탄올 20.0 g

- Rhodia Chemie사에서 Igepal NR 9 OR의 상표명으로 시판중인 9 몰의 산화에틸렌으로 옥시에틸렌화된 노닐 페놀 8.0 g

- 2-아미노-2-메틸-1-프로판올 q.s. pH = 8.0

상기한 바로 사용 가능한 염료 조성물의 각각을 90 %의 흰 모발을 포함하는 천연의 회색 모발에 30 분간 도포하였다. 모발을 세정하고, 표준 샴푸로 세척한 후 건조하였다.

모발은 하기 표의 색조로 염색되었다 :

실시예	얻어진 색조
1	붉은 금발
2	구리색 금발
3	마호가니 금발

Claims

염색에 적합한 매질 내에 하기를 포함함을 특징으로 하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유를 염색하기 위한 바로 사용 가능한(ready-to-use) 조성물 :

- 하나 이상의 양이온성 직접 염료 및

- 하나 이상의 자동 산화성 염료.
제 1 항에 있어서, 양이온성 직접 염료가 양이온성 아미노안트라퀴논 염료, 양이온성 모노아조 또는 디아조 염료 및 양이온성 나프토퀴논 염료로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 2 항에 있어서, 양이온성 직접 염료가 [8-[(p-아미노페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]트리메틸암모늄 클로리드, 3-[(4-아미노-6-브로모-5,8-디히드로-1-히드록시-8-이미노-5-옥소-2-나프탈레닐)아미노]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로리드, 7-히드록시-8-[(2-메톡시페닐)아조]-N,N,N-트리메틸-2-나프탈렌아미늄 클로리드, [8-[(4-아미노-2-니트로페닐)아조]-7-히드록시-2-나프틸]-트리메틸암모늄 클로리드, 및 3-[(4,5-디히드로-3-메틸-5-옥소-1-페닐-1H-피라졸-4-일)아조]-N,N,N-트리메틸벤젠아미늄 클로리드로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항에 있어서, 양이온성 직접 염료가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

a) 하기 화학식 (I)의 화합물 :

[화학식 I]

[상기 식중,

D는 질소 원자 또는 -CH 기를 나타내며,

R₁및 R₂는 동일하거나 상이하며, 수소 원자; -CN, -OH 또는 -NH₂라디칼로 치환될 수 있는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고; 또는 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께, 하나 이상의 C_1-4알킬 라디칼로 치환될 수 있는, 산소 또는 질소를 함유할 수 있는 헤테로사이클을 형성하고; 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내고,

R₃및 R'₃은 동일하거나 상이하며, 염소, 브롬, 요오드 및 불소 원자로부터 선택된 할로겐 원자, 또는 수소, 또는 시아노기, C_1-4알콕시 또는 아세틸옥시 라디칼을 나타내고,

X^-는 바람직하게는 클로리드, 메틸설페이트 및 아세테이트로부터 선택된 음이온을 나타내고,

A는 하기 구조 A1 내지 A19로부터 선택된 기를 나타낸다 :

및

[상기 식중,

R₄는 히드록시 라디칼로 치환될 수 있는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고, R₅는 C_1-4알콕시 라디칼을 나타내고, D가 -CH 인 조건하에, A가 A₄또는 A₁₃인 경우, 및 R₃이 알콕시 라디칼이 아닌 경우, R₁및 R₂는 동시에 수소 원자를 나타내지 않는다]];

b) 하기 화학식 (II)의 화합물 :

[화학식 II]

[상기 식중,

R₆는 수소 원자 또는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고, R₇는 수소 원자, -CN 라디칼 또는 아미노기로 치환될 수 있는 알킬 라디칼, 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내거나, R₆와 함께 C_1-4알킬 라디칼로 치환될 수 있는, 산소 및/또는 질소를 함유할 수 있는 헤테로 사이클을 형성하고,

R₈및 R₉는 동일하거나 상이하며, 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐 원자, 수소 원자, C_1-4알킬 또는 C_1-4알콕시 라디칼 또는 -CN 라디칼을 나타내고,

X^-은 바람직하게는 클로리드, 메틸설페이트 및 아세테이트로부터 선택된 음이온을 나타내고,

B는 하기 B1 내지 B6의 구조로부터 선택된 기이다 :

[상기 식중, R₁₀은 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C_1-4알킬 라디칼을 나타낸다]];

c) 하기 화학식 (III) 및 화학식 (III')의 화합물 :

[화학식 III]

[화학식 III']

[상기 식중,

R₁₃은 수소 원자, C_1-4알콕시 라디칼, 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐 원자 또는 아미노 라디칼을 나타내고,

R₁₄는 수소 원자, C_1-4알킬 라디칼을 나타내거나, 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께, 산소와 화합될 수 있고/또는 하나 이상의 C_1-4알킬기로 치환될 수 있는 헤테로 사이클을 형성하고,

R₁₅는 브롬, 염소, 요오드 또는 불소 원자와 같은 할로겐 원자, 또는 수소 원자를 나타내고,

R₁₆및 R₁₇은 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고,

D₁및 D₂는 동일하거나 상이하며, 질소 원자 또는 -CH 기를 나타내고,

m은 0 또는 1이며,

R₁₃이 비치환 아미노기를 나타내는 경우, D₁및 D₂는 동시에 -CH 기를 나타내고 m은 0을 나타내는 것으로 이해되며,

X^-는 바람직하게는 클로리드, 메틸설페이트 및 아세테이트로부터 선택된 음이온을 나타내고,

E는 하기 E1 내지 E8의 구조로부터 선택된 기이다 :

[상기 식중,

R'는 C_1-4알킬 라디칼을 나타내고;

m이 0이고 D₁이 질소 원자인 경우, E는 또한 하기 구조 E9의 기를 나타낸다 :

[상기 식중,

R'는 C_1-4알킬 라디칼을 나타낸다]]].
제 4 항에 있어서, 화학식 (I)의 양이온성 직접 염료가 하기 구조 (I1) 내지 (I52)에 상응하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

(I1) ;

(I2) ;

(I3) ;

(I4) ;

(I5) ;

(I6) ;

(I7) ;

(I8) ;

(I9) ;

(I10) ;

(I11) ;

(I12) ;

(I13) ;

(I14) ;

(I15) ;

(I16) ;

(I17) ;

(I18) ;

(I19) ;

(I20) ;

(I21) ;

(I22) ;

(I23) ;

(I24) ;

(I25) ;

(I26) ;

(I27) ;

(I28) ;

(I29) ;

(I30) ;

(I31) ;

(I32) ;

(I33) ;

(I34) ;

(I35) ;

(I36) ;

(I37) ;

(I38) ;

(I39) ;

(I40) ;

(I41) ;

(I42) ;

(I43) ;

(I44) ;

(I45) ;

(I46) ;

(I47) ;

(I48) ;

(I49) ;

(I50) ;

(I51) ; 및

(I52)
제 4 항에 있어서, 화학식 (II)의 양이온성 직접 염료가 하기 구조 (II1) 내지 (II12)에 상응하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

(II1) ;

(II2) ;

(II3) ;

(II4) ;

(II5) ;

(II6) ;

(II7) ;

(II8) ;

(II9) ;

(II10) ;

(II11) ; 및

(II12)
제 4 항에 있어서, 화학식 (III)의 양이온성 직접 염료가 하기 구조 (III1) 내지 (III18)에 상응하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

(III1) ;

(III2) ;

(III3) ;

(III4) ;

(III5) ;

(III6) ;

(III7) ;

(III8) ;

(III9) ;

(III10) ;

(III11) ;

(III12) ;

(III13) ;

(III14) ;

(III15) ;

(III16) ;

(III17) ; 및

(III18)
제 4 항에 있어서, 화학식 (III')의 양이온성 직접 염료가 하기 구조 (III'1) 내지 (III'3)에 상응하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

(III'1) ;

(III'2) ; 및

(III'3)
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 양이온성 직접 염료가 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.001 내지 10 중량 %인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 9 항에 있어서, 양이온성 직접 염료가 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.05 내지 5 중량 %인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 자동 산화성 염료가 벤젠, 인돌 또는 인돌린 자동 산화성 염료로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 11 항에 있어서, 벤젠 자동 산화성 염료가 하기 화학식 (IV)의 화합물 및 이의 산과의 부가염으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

[화학식 IV]

[상기 식중,

- R₁₈은 수소 원자, C_1-4알킬 라디칼 또는 아미노 라디칼을 나타내고,

- R₁₉는 C_1-4알킬, 히드록시, 아미노, 모노(C_1-4)알킬아미노 또는 디(C_1-4)알킬아미노 라디칼을 나타내며,

- R₂₀은 수소 원자, 또는 히드록시 또는 아미노 라디칼을 나타내고,

- R₂₁은 수소 원자 또는 아미노 라디칼을 나타내고;

R₁₉내지 R₂₁의 라디칼의 두 개 이상이 독립적으로 히드록시, 아미노, 모노(C_1-4)알킬아미노 또는 디(C_1-4)알킬아미노 라디칼을 나타내는 것으로 이해된다].
제 12 항에 있어서, 화학식 (IV)의 벤젠 자동 산화성 염료가 1,2,4-트리히드록시벤젠, 1-메틸-2,4,5-트리히드록시벤젠, 2,4-디아미노-6-메틸페놀, 2-아미노-4-메틸아미노페놀, 2,5-디아미노-4-메틸페놀, 2,6-디아미노-4-디에틸아미노페놀 및 2,6-디아미노-1,4-디히드록시벤젠, 및 이들의 산과의 부가염으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 11 항에 있어서, 인돌 및 인돌린 자동 산화성 염료가 하기 화학식 (V) 및 (VI)의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

[화학식 V]

[화학식 VI]

[상기 식중,

- R₂₂, R₂₄, R₂₅및 R₂₆은 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C_1-4알킬 또는 C_1-4아실 라디칼을 나타내고,

- R₂₃은 수소 원자, C_1-4알킬 라디칼 또는 카르복실 라디칼을 나타낸다].
제 14 항에 있어서, 화학식 (V)의 자동 산화성 염료가 5,6-디히드록시인돌, 2-메틸-5,6-디히드록시인돌, 3-메틸-5,6-디히드록시인돌, 1-메틸-5,6-디히드록시인돌, 2,3-디메틸-5,6-디히드록시인돌, 5-메톡시-6-히드록시인돌, 5-아세톡시-6-히드록시인돌, 5,6-디아세톡시인돌 및 5,6-디히드록시-2-인돌카르복시산, 및 이들의 산과의 부가염으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 14 항에 있어서, 화학식 (VI)의 자동 산화성 염료가 5,6-디히드록시인돌린, 1-메틸-5,6-디히드록시인돌린 및 1-에틸-5,6-디히드록시인돌린, 및 이들의 산과의 부가염으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 자동 산화성 염료가 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.0005 내지 12 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 17 항에 있어서, 자동 산화성 염료가 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 8 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 과산화수소, 과산화요소, 알칼리 금속 브로메이트, 및 퍼보레이트 및 퍼설페이트와 같은 과산염, 및 효소로부터 선택되는 하나 이상의 산화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 19 항에 있어서, 효소가 퍼옥시다제 및 2-전자 산화환원 효소로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 20 항에 있어서, 2-전자 산화환원 효소가 피라노즈 옥시다제, 글루코스 옥시다제, 글리세롤 옥시다제, 락테이트 옥시다제, 피루베이트 옥시다제 및 유리카제로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 20 항 또는 제 21 항에 있어서, 2-전자 산화환원 효소가 동물, 미생물 또는 생물공학 기원의 유리카제로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 20 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서, 2-전자 산화환원 효소가 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.01 내지 20 중량 %인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 23 항에 있어서, 2-전자 산화환원 효소가 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 5 중량 %인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 22 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서, 요산 및 이의 염으로부터 선택된 상기 2-전자 산화환원 효소를 위한 공여체(또는 기질)를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 19 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 파라-페닐렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-페닐렌디아민 및 헤테로시클릭 염기로 부터 선택된 하나 이상의 산화 염기, 및/또는 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀, 및 인돌 유도체, 인돌린 유도체, 벤즈이미다졸 유도체, 벤조모르폴린 유도체, 세사몰 유도체, 피리딘, 피리미딘 및 피라졸 유도체와 같은 헤테로시클릭 커플러, 및 이들의 산과의 부가염으로부터 선택된 하나 이상의 커플러를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 26 항에 있어서, 산화 염기가 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.0005 내지 12 중량 % 이고, 커플러가 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.0001 내지 10 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 27 항에 있어서, 산화 염기가 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 8 중량 % 이고, 커플러가 바로 사용 가능한 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 8 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 12 항, 제 13 항, 제 15 항 내지 제 18 항 및 제 26 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서, 산과의 부가염이 히드로클로리드, 히드로브로미드, 설페이트, 타르트레이트, 락테이트 및 아세테이트로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서, 염색에 적합한 매질이 물 또는 하나 이상의 유기 용매와 물과의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서, pH가 5 내지 11 인 것을 특징으로 하는 조성물.
케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색 방법으로서, 제 1 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 기술된 바로 사용 가능한 염료 조성물의 하나 이상을, 원하는 착색이 일어나는 충분한 시간 동안 상기 섬유에 도포하는 것을 특징으로 하는 방법.
제 32 항에 있어서, 한편으로 염색에 적합한 매질에 하나 이상의 양이온성 직접 염료 및 하나 이상의 자동 산화성 염료를 함유하는 조성물 (A)를, 다른 한편으로 염색에 적합한 매질에 하나 이상의 산화제를 함유한 조성물 (B)를 따로따로 저장하고, 이어서 사용시에 이들을 혼합하는 (케라틴 섬유에 혼합물을 도포하기 이전의) 예비 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
제 33 항에 기술된 조성물 (A)를 함유하는 첫 번째 분획 및 제 33 항에 기술된 조성물 (B)를 함유하는 두 번째 분획을 포함하는 것을 특징으로 하는 다분획 염색 장비 또는 '키트'.