KR20010031197A - 양이온성 직접 염료 및 사차 암모늄염을 함유하는 케라틴섬유 염색용 조성물 - Google Patents

양이온성 직접 염료 및 사차 암모늄염을 함유하는 케라틴섬유 염색용 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 적합한 염색용 매질내에 특정 화학식의 양이온성 직접 염료 하나 이상을 함유하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유 염색용 조성물에 관한 것으로, 이것은 하나 이상의 사차 암모늄염을 함유하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 또한 이를 사용한 방법 및 장치에 관한 것이다.

Description

양이온성 직접 염료 및 사차 암모늄염을 함유하는 케라틴 섬유 염색용 조성물{DYEING COMPOSITION FOR KERATINOUS FIBRES WITH DIRECT CATIONIC COLOURING AGENT AND A QUATERNARY AMMONIUM SALT}
본 발명은 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유를 염색하기 위한 조성물로서, 적합한 염색용 매질내에 하기 화학식의 양이온성 직접 염료 하나 이상, 및 사차 암모늄염 하나 이상을 함유하는 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 또한 상기 조성물을 사용한 염색 방법 및 염색 장치에 관한 것이다.
염색은 모발 보호 부문에서 2 종류로 분류될 수 있다.
첫번째는 반영구적 또는 일시적인 염색, 또는 직접 염색이며, 이는 수 회의 샴푸에도 견딜 수 있는 다소 뚜렷한 색상 변화, 자연스러운 착색을 모발에 제공할 수 있는 염료를 사용한다. 상기 염료는 또한 직접 염료로서 공지되어 있으며, 이는 산화제와 함께, 또는 산화제 없이 사용할 수 있다. 산화제 존재시, 탈색화 염색(lightening dyeing)을 수득하는 것이 목적이다. 탈색화 염색은 사용시 제조된 직접 염료와 산화제의 혼합물을 모발에 적용함으로써 수행되며, 특히 모발의 멜라닌을 탈색함으로써 회색 모발의 경우 균일한 색상과 같은 유리한 효과를 수득하거나, 또는 전형적으로 착색된 모발의 경우 색상을 유도해낼 수 있다.
두번째는 영구적 염색 또는 산화 염색이다. 이는 산화 염료 전구체 및 발색제를 함유하는 소위 "산화" 염료를 사용하여 수행된다. 통상 "산화 염기" 로 공지된 산화 염료 전구체는 초기에는 무색이거나 약간 착색된 화합물이며, 사용시 첨가된 산화제의 존재시 모발에 염색력을 발색시켜서 착색된 화합물 및 염료를 형성한다. 상기 착색된 화합물 및 염료의 형성은, "산화 염기" 그 자체의 산화적 축합, 또는 산화 염색에 사용된 염료 조성물에 일반적으로 존재하며 통상 "발색제"로서 공지된 착색 개질 화합물과 산화 염기의 산화적 축합으로 인한 것이다.
상기 산화 염료로 수득된 음영을 다양하게 하거나, 또는 음영의 반짝임을 더욱 풍부하게 하기 위해서, 직접 염료를 산화 염료에 첨가하는 것은 공지된 관행이다.
케라틴 섬유, 특히 인간의 케라틴 섬유 염색 부문에서 시판되는 양이온성 직접 염료 중에서, 그 구조식이 하기에 나타난 화합물이 이미 공지되어 있으나; 이 염료는 여전히 강도, 착색이 지나치게 선택적이라고 할 수 있는 섬유를 따라 분포된 색상의 균질성, 및 모발에 작용할 수 있는 각종 요인 (빛, 악천후, 샴푸) 에 대한 내성 면에서의 유지력 관점에서 여전히 불만족스러운 특징으로 갖는 착색을 제공한다.
상기 문제에 대한 상당한 연구 후, 출원인은 하기 정의된 개별 화학식을 갖고, 하나 이상의 특정 음이온성 계면활성제를 선행 기술에 공지된 양이온성 직접 염료 하나 이상과 조합함으로써, 모발에 작용할 수 있는 다양한 요인에 대한 우수한 내성을 나타내는 더욱 강하면서도 약간의 선택적 색채를 제공할 수 있는 케라틴 섬유 염색용 신규 조성물을 수득할 수 있음을 발견하였다.
이러한 발견이 본 발명의 기초를 형성한다.
본 발명의 제 1 요지는, 적합한 염색용 매질내에, (i) 구조가 하기 화학식 I 내지 IV 에 해당하는 양이온성 직접 염료 하나 이상을 함유하는 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색용 조성물로, 또한 (ii) 하나 이상의 사차 암모늄염을 함유하는 것을 특징으로 한다.
(i) 본 발명에 따라 사용될 수 있는 양이온성 직접 염료는 하기 화학식 I, II, III, IIIa 및 IV 로부터 선택된 화합물이다:
a) 하기 화학식 I 의 화합물:
[식중,
D 는 질소원자 또는 -CH 기를 나타내고,
R1및 R2는, 동일 또는 상이하고, 수소원자; -CN, -OH 또는 -NH2라디칼로 치환될 수 있거나, 벤젠환의 탄소원자와 함께, 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는 임의 산소함유 또는 질소함유 헤테로고리를 형성할 수 있는 C1-C4알킬 라디칼; 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내며,
R3및 R'3는, 동일 또는 상이하고, 수소원자; 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐원자; 시아노 라디칼; 또는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 또는 아세틸옥시 라디칼을 나타내고,
X-는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트로부터 바람직하게 선택된 음이온을 나타내며,
A 는 하기 구조식 A1 내지 A19 로부터 선택된 기를 나타내고:
(식중, R4는 히드록실 라디칼로 치환될 수 있는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R5는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타낸다),
단 D 가 -CH 를 나타내고, A 가 A4또는 A13을 나타내며, R3이 알콕시 라디칼이 아닌 경우, R1및 R2는 동시에 수소원자를 나타내지 않는다];
b) 하기 화학식 II 의 화합물:
[식중,
R6은 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고,
R7은 수소원자, -CN 라디칼 또는 아미노기로 치환될 수 있는 알킬 라디칼, 혹은 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내거나, R6과 함께, C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는 임의 산소함유 및/또는 질소함유 헤테로고리를 형성하고,
R8및 R9는, 동일 또는 상이하고, 수소원자; 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐원자; C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼; 또는 -CN 라디칼을 나타내고,
X-는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트로부터 바람직하게 선택되는 음이온을 나타내며,
B 는 하기 구조식 B1 내지 B6 으로부터 선택되는 기를 나타낸다:
(식중, R10은 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R11및 R12는, 동일 또는 상이하고, 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)];
c) 하기 화학식 III 및 III' 의 화합물:
[식중,
R13은 수소원자; C1-C4알콕시 라디칼; 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐원자; 또는 아미노 라디칼을 나타내고,
R14는 수소원자 또는, C1-C4알킬 라디칼을 나타내거나, 벤젠환의 탄소원자와 함께, 임의로 산소를 함유하고/거나 하나 이상의 C1-C4알킬기로 치환되는 헤테로고리를 형성하며,
R15는 수소원자를 나타내거나, 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐원자를 나타내고,
R16및 R17은, 동일 또는 상이하고, 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내며,
D1및 D2는, 동일 또는 상이하고, 질소원자 또는 -CH 기를 나타내고,
m = 0 또는 1 이고,
이때, R13이 비치환 아미노기를 나타내는 경우, D1및 D2는 동시에 -CH 기를 나타내고 m = 0 이며,
X-는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트로부터 바람직하게 선택되는 음이온을 나타내고,
E 는 하기 구조식 E1 내지 E8 로부터 선택된 기를 나타내고:
(식중, R' 는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)를 나타내고,
이때, m = 0 이고 D1이 질소원자인 경우, E 는 또한 하기 구조식 E9 의 기를 나타낼 수 있다:
(식중, R' 는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)];
d) 하기 화학식 IV 의 화합물:
G-N=N-J
[식중, 기호 G 는 하기 구조식 G1내지 G3로부터 선택된 기를 나타내고:
(식중,
R18은 C1-C4알킬 라디칼, C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원소를 나타내고;
R19는 C1-C4알킬 라디칼, 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
R20및 R21은, 동일 또는 상이하고, C1-C4알킬 라디칼, 또는 페닐 라디칼을 나타내거나, G1내에서 하나 이상의 C1-C4알킬기, C1-C4알콕시기 또는 NO2라디칼로 치환된 벤젠환을 함께 형성하거나, G2내에서 하나 이상의 C1-C4알킬기, C1-C4알콕시기 또는 NO2라디칼로 임의 치환된 벤젠환을 함께 형성하고;
또한, R20은 수소원자를 나타낼 수 있고;
Z는 산소 또는 황 원자, 또는 -NR19기를 나타내고;
M은 -CH, -CR (R은 C1-C4알킬기를 나타낸다), 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고;
K는 -CH, -CR (R은 C1-C4알킬기를 나타낸다), 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고;
P는 -CH, -CR (R은 C1-C4알킬기를 나타낸다), 또는 -NR22(X-)r기(r 은 0 또는 1 이다)를 나타내고;
R22는 O-원자, C1-C4알콕시 라디칼, 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고;
R23및 R24는, 동일 또는 상이하고, 수소원자 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4알콕시 라디칼, 또는 -NO2라디칼을 나타내고;
X-는 클로라이드, 이오다이드, 메틸술페이트, 에틸술페이트, 아세테이트 및 퍼클로레이트로부터 바람직하게 선택되는 음이온을 나타내고;
단,
R22가 O-를 나타내면, r은 0을 나타내고;
K 또는 P 또는 M이 -N-(C1-C4알킬)X-를 나타내면, R23또는 R24는 수소원자가 아니고;
K가 -NR22(X-)r을 나타내면,M = P = -CH, -CR이고;
M이 -NR22(X-)r을 나타내면,M = P = -CH, -CR이고;
P가 -NR22(X-)r을 나타내면,K = M이고 -CH 또는 -CR을 나타내고;
Z가 황을 나타내고, R21이 C1-C4알킬기를 나타내면, R20이 수소원자가 아니고;
Z가 -NR22를 나타내고, R19가 C1-C4알킬기를 나타내면, G2의 R18, R20또는 R21라디칼 중 하나 이상은 C1-C4알킬 라디칼이 아니다);
기호 J 는 하기 (a) 또는 (b)를 나타낸다:
-(a) 하기 구조식 J1을 갖는 기:
(식 중,
R25는 수소원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4알콕시 라디칼, -OH, -NO2, -NHR28, -NR29R30, -NHCO(C1-C4알킬) 라디칼을 나타내거나, R26과 함께, 질소, 산소 또는 황으로부터 선택되는 헤테로원자를 하나 이상 포함하거나 포함하지 않는 5원 또는 6원 고리를 형성하고;
R26은 수소원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원소, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타내거나, R27또는 R28과 함께, 질소, 산소 또는 황으로부터 선택되는 헤테로원자를 하나 이상 포함하거나 포함하지 않는 5원 또는 6원 고리를 형성하고;
R27은 수소원자, -OH 라디칼, -NHR28라디칼, 또는 -NR29R30라디칼을 나타내고;
R28은 수소원자, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼, 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
R29및 R30은 동일 또는 상이하고, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼을 나타낸다);
-(b) 기타 헤테로 원자 및/또는 카르보닐함유 기를 포함하는 기를 포함할 수 있고, 하나 이상의 C1-C4알킬, 아미노 또는 페닐 라디칼로 치환될 수 있는, 5원 또는 6원 질소 함유 헤테로고리기, 특히 하기 구조식 J2를 갖는 기:
(식 중,
R31및 R32은 동일 또는 상이하고, 수소원자, C1-C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내고;
Y는 -CO- 라디칼 또는 라디칼을 나타내고;
n = 0 또는 1이고, n이 1을 나타내면 U는 -CO- 라디칼을 나타낸다)].
상기 정의된 화학식 I 내지 IV 에서, C1-C4알킬 또는 알콕시기는 바람직하게는 메틸, 에틸, 부틸, 메톡시 또는 에톡시기를 나타낸다.
본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 I, II, III 및 III' 의 양이온성 직접 염료는 공지된 화합물이고, 예를 들어 특허 출원 WO 95/01772, WO 95/15144 및 EP-A-0,714,954 에 기재되어 있다. 본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 IV 의 것은 공지된 화합물이고, 예를 들어 특허 출원 FR-2,189,006, FR-2,285,851 및 FR-2,140,205 및 이의 첨부 증명서에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 I 의 양이온성 직접 염료중에서, 하기 구조식 (I1) 내지 (I54) 의 화합물을 특히 언급할 수 있다:
상기 기재된 구조식 (I1) 내지 (I54) 의 화합물중에서, 가장 특히 바람직한 화합물은 구조식 (I1), (I2), (I14) 및 (I31) 에 해당하는 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 II 의 양이온성 직접 염료중에서, 더욱 특히 하기 구조식 (II1) 내지 (II9) 의 화합물을 언급할 수 있다:
본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 III 의 양이온성 직접 염료중에서, 특히 하기 구조식 (III1) 내지 (III18) 의 화합물을 언급할 수 있다:
상기 구조식 (III1) 내지 (III18) 의 특정 화합물중에서, 가장 특히 바람직한 화합물은 구조식 (III4), (III5) 및 (III13) 에 해당하는 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물에 사용될 수 있는 화학식 III' 의 직접 염료 중에서, 특히 하기 화학식 (III'1) 내지 (III'3) 의 화합물을 언급할 수 있다:
본 발명의 염료 조성물에 사용될 수 있는 화학식 IV 의 양이온성 직접 염료 중에서, 특히 하기 구조식 (IV)1내지 (IV)77을 갖는 화합물을 들 수 있다:
본 발명에 따라 사용된 양이온성 직접 염료는 조성물 총 중량에 대해 바람직하게는 약 0.001 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 5 중량% 이다.
(ⅱ) 본 발명에서 사용될 수 있는 사차 암모늄염은 하기로 구성되는 군으로부터 선택된다:
(ii)1- 하기 화학식 V 의 것:
[식중, 라디칼 R1및 R4는, 동일 또는 상이하고, 탄소수 1 내지 약 30 의 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형 지방족 탄화수소원자 라디칼, 또는 탄소수 약 12 내지 약 30 의 알콕시, 알콕시카르보닐알킬, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 알킬아미도알킬, 히드록시알킬, 방향족, 아릴 또는 알킬아릴 라디칼을 나타내고, R1, R2, R3및 R4중 하나 이상의 라디칼은 탄소수 8 내지 30 의 라디칼을 나타내며;
X-는 할라이드, 포스페이트, 아세테이트, 락테이트 및 알킬 술페이트를 포함하는 군으로부터 선택된 음이온이다].
이들중, 예를 들어, 하기 (a), (b) 및 (c) 를 언급할 수 있다:
(a) 알킬 라디칼이 탄소수 약 12 내지 약 22 인 디알킬디메틸암모늄 또는 알킬트리메틸암모늄염, 예컨대 디스테아릴디메틸암모늄, 세틸트리메틸암모늄 또는 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드, (b) 디(C1- C2알킬)(C12- C22알킬)히드록시(C1- C2알킬)암모늄염 예컨대 올레오세틸히드록시에틸암모늄 클로라이드, 또는 대신 (c) VAN DYK 에 의해 상품명 CERAPHYL 70 으로 시판되는, 하기 화학식의 스테아르아미도프로필디메틸 (미리스틸 아세테이트) 암모늄 클로라이드:
(ii)2- 하기 화학식 VI 의 이미다졸늄염:
[식중, R5는 탄소수 13 내지 31 의 알케닐 및/또는 알킬 라디칼로부터 선택되고 수지(獸脂) 지방산, 예컨대 REWO 사에 의해 상품명 "REWOQUAT W 7500" 으로 시판되는 제품으로부터 유도된다];
(iii)3- 하기 화학식 VII 의 사차 디암모늄염:
[식중, R6은 탄소수 약 16 내지 30 의 지방족 라디칼을 나타내고, R7, R8, R9, R10및 R11은 수소원자, 또는 탄소수 1 내지 4 의 알킬 라디칼로부터 선택되고, X-는 할라이드, 아세테이트, 포스페이트 및 술페이트로부터 선택된 음이온이다]. 상기 사차 디암모늄 염은 특히 프로판탈로우디암모늄 디클로라이드를 포함한다.
본 발명에 있어서, 화학식 V 의 사차 암모늄염은 바람직하게는 R1내지 R4가 동일 또는 상이하고, 탄소수 약 12 내지 약 22 의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼, 및 특히 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드, 세틸트리메틸암모늄 클로라이드 및 올레오세틸디메틸히드록시에틸암모늄 클로라이드를 나타내는 것이다.
본 발명에 따라 사용되는 사차 암모늄염(들)(ii)은 바람직하게는 염색 조성물의 총중량의 약 0.01 내지 10 중량% 및 더욱 바람직하게는 상기 중량의 약 0.05 내지 5 중량% 를 나타낸다.
적합한 염색 매질(또는 담체)은 일반적으로 물, 또는 충분히 수용성이지 않은 화합물을 용해시키기 위한 하나 이상의 유기 용매와 물의 혼합물로 이루어진다. 유기 용매로서, 에탄올 및 이소프로판올과 같은 C1-C4저급 알칸올; 벤질 알콜과 같은 방향족 알콜, 및 그의 유사물 및 이들의 혼합물을 예로 들 수 있다.
용매는 염료 조성물의 총 중량에 대해 바람직하게는 약 1 내지 40 중량%, 더더욱 바람직하게는 약 5 내지 30 중량% 의 비율로 존재할 수 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물의 pH 는 일반적으로 약 2 내지 11, 바람직하게는 약 5 내지 10 이다. 이것은 케라틴 섬유의 염색에 통상적으로 사용되는 산화제 또는 염기화제를 사용하여 목적하는 값으로 조정될 수 있다.
산화제로서 염산, 오르토인산, 황산, 카르복실산 예컨대 아세트산, 타르타르산, 시트르산 및 락트산, 및 술폰산과 같은 무기 또는 유기 산을 예로 들 수 있다.
염기화제로서 수성 암모니아, 알칼리금속 탄산염, 알칸올아민, 예컨대 모노-, 디- 및 트리에탄올아민 및 그의 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 하기 화학식 VIII 의 화합물을 예로 들 수 있다:
[식 중, W 는 히드록실기 또는 C1-C6알킬 라디칼로 임의 치환된 프로필렌 잔기이며; R12, R13, R14및 R15은, 동일 또는 상이하고, 수소원자 원자, 또는 C1-C6알킬 또는 C1-C6히드록시알킬 라디칼을 나타낸다].
상기 정의한 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 외에, 본 발명에 따른 염료 조성물은 예를 들면, 니트로벤젠 염료, 안트라퀴논 염료, 나프토퀴논 염료, 트리아릴메탄 염료, 잔텐 염료 및 비양이온성 아조 염료로부터 선택될 수 있는 하나 이상의 부가적인 직접 염료를 함유할 수 있다.
산화 염색을 목적으로 하는 경우, 본 발명에 따른 염료 조성물은 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 외에, 산화 염색에 통상적으로 사용된 산화 염기로부터 선택된 하나 이상의 산화 염기를 함유하며, 이 중에서 특히 파라-페닐렌디아민, 비스-페닐알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 헤테로고리성 염기를 예로 들 수 있다.
사용시, 산화 염기는 염료 조성물 총 중량에 대해 바람직하게는 약 0.0005 내지 12 중량%, 및 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 6 중량% 이다.
산화 염색을 목적으로 하는 경우, 본 발명에 따른 염료 조성물은 산화 염기, 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 및 사차 암모늄염 (ⅱ) 외에, 하나 이상의 커플러를 함유할 수 있어서, 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 및 산화 염기를 사용하여 수득한 색조를 개질시키거나 반짝임을 더욱 풍부하게 할 수 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물에 사용될 수 있는 커플러는, 산화 염색에 통상적으로 사용되는 커플러로부터 선택될 수 있으며, 이 중에서 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 헤테로고리성 커플러를 예로 들 수 있다.
커플러는, 존재시, 대략 조성물 총 중량에 대해 바람직하게는 약 0.0001 내지 10 중량%, 및 더더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 5 중량% 이다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 또한, 모발 염색용 조성물에 통상 사용되는 각종 보조제, 예컨대 산화방지제, 침투제, 격리제, 방향제, 완충제, 분산제, 필름형성제, 세라미드, 방부제, 차단제, 및 유백제를 함유할 수 있다.
물론, 당 분야의 기술자들은 본 발명에 따른 염료 조성물과 본질적으로 결부된 유리한 특성이, 의도하는 첨가에 의해 좋지 않은 영향을 받지 않도록, 또는 실질적으로 받지 않도록 임의의 보충 화합물을 선택하는데 주의해야 할 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 액체, 샴푸, 크림 또는 겔, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 염색하는데 적합한 기타 형태와 같은 여러 형태일 수 있다. 이것은 임의로 미세분말일 수 있는 양이온성 직접 염료(들)을 함유하는 조성물과 사차 암모늄염 함유하는 조성물을 새롭게 혼합함으로써 수득할 수 있다.
본 발명에 따른 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 및 사차 암모늄염 (ⅱ) 의 조합이 산화 염색을 목적으로 하는 조성물에 사용되거나 (임의로 하나 이상의 커플러의 존재 하에 하나 이상의 산화 염기가 사용되는 경우), 또는 탈색화 직접 염색에 사용되는 경우, 본 발명에 따른 염료 조성물은 예컨대, 과산화수소원자, 과산화요소, 알칼리 금속 브로메이트, 퍼보레이트 및 퍼술페이트와 같은 과염, 및 퍼록시다제, 락타제 및 2-전자 산화환원효소와 같은 효소로부터 선택된 하나 이상의 산화제를 또한 포함한다. 특히 과산화수소원자 또는 효소를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 또다른 요지는 상기 정의한 염료 조성물을 사용한 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색 방법이다.
본 발명에 따른 염색 방법의 첫번째 변형에 따르면, 상기 정의한 염료 조성물 하나 이상을 목적하는 착색이 발색하기에 충분한 기간 동안 섬유에 적용한 후, 섬유를 헹구고, 샴푸로 임의 세척한 후, 다시 헹구고 건조시킨다.
케라틴 섬유 상에 착색을 발색하기에 요구되는 시간은 일반적으로 3 내지 60 분이며, 더욱 구체적으로 5 내지 40 분이다.
본 발명에 따른 염색 방법의 두번째 변형에 따르면, 상기 정의한 염료 조성물 하나 이상을, 최종 헹굼 없이, 목적하는 착색이 발색하기에 충분한 기간 동안 섬유에 적용한다.
본 염색 방법의 구체예에 따르면, 본 발명에 따른 염료 조성물이 하나 이상의 산화 염기 및 하나 이상의 산화제를 함유하는 경우, 염색 방법은, 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 상기 정의된 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 하나 이상 및 산화 염기 하나 이상을 함유하는 조성물 (A1) 을, 다른 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물 (B1) 을 별도로 저장한 다음, 사용시 이들을 함께 혼합한 후, 이 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하는 것으로 이루어진 예비 단계를 포함하며, 조성물 (A1) 또는 조성물 (B1) 은 상기 정의된 사차 암모늄염 (ⅱ) 를 함유한다.
본 염색 방법의 또다른 구체예에 따르면, 본 발명에 따른 염료 조성물이 하나 이상의 산화제를 함유하는 경우, 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 상기 정의된 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 하나 이상을 함유하는 조성물 (A2) 를, 다른 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물 (B2) 를 별도로 저장한 다음, 사용시 이들을 함께 혼합한 후, 이 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하는 것으로 이루어진 예비 단계를 포함하며, 조성물 (A2) 또는 조성물 (B2) 는 상기 정의한 사차 암모늄염을 함유한다.
본 발명의 또다른 요지는, 제 1 분획이 상기 정의된 조성물 (A1) 또는 (A2) 를 함유하며, 제 2 분획이 상기 정의된 조성물 (B1) 또는 (B2) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 다중 분획 염색 장치 또는 염색 "키트(kit)" 또는 기타 다중 분획 포장 시스템이다. 이 장치는 본 출원인에 의한 특허 FR 2,586,913 에 기재된 장치와 같이, 모발 상에 목적하는 혼합물을 투여하는 수단을 갖출 수 있다.
하기 실시예는 본 발명을 예시하고자 함이나, 그 범주를 제한하는 것은 아니다.
실시예 1 내지 3
하기 표에 조합된 3 개의 직접 염색 조성물을 제조하였다:
(모든 함량은 g 으로 표현되었다)
실시예 번호 1 2 3
구조식 (I1) 의 양이온성 직접 염료 0.20
구조식 (I14) 의 양이온성 직접 염료 0.20
구조식 (IV)27의 양이온성 직접 염료 0.10
올레오세틸디메틸히드록시에틸)-염화암모늄 2.0 AS*
베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드 2.0 AS*
세틸트리메틸암모늄 클로라이드 2.0 AS*
에탄올 10 10 10
2-아미노-2-메틸-1-프로판올 적당량 pH 9 pH 9
탈이온수 적당량 100 100 100
AS* 는 활성 물질을 의미한다.
상기 조성물을 각각 백발이 90 % 인 자연 회색 머릿단에 30 분 동안 적용하였다. 그 다음 모발 머릿단을 헹구고, 표준 샴푸로 세척한 다음 건조시켰다.
머릿단을 하기 색조로 염색시켰다:
실시예 수득된 색조
1 어두운 적색
2 어두운 오랜지색
3 어두운 자주색

Claims (31)

  1. 적당한 염색 매질내에, 하기 화학식 I, II, III, III' 및 IV 로부터 선택된 하나 이상의 화합물 (ⅰ) 을 함유하는 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유 염색용 조성물에 있어서, 하기 (ⅱ)1, (ⅱ)2및 (ⅱ)3으로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 사차 암모늄염 (ⅱ) 를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물:
    a) 하기 화학식 I 의 화합물:
    [화학식 I]
    [식 중,
    D 는 질소 또는 -CH 기를 나타내고,
    R1및 R2는, 동일 또는 상이하고, 수소원자; -CN, -OH 또는 -NH2라디칼로 치환될 수 있거나, 벤젠환의 탄소원자와 함께, 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는 산소 또는 질소를 임의 함유한 헤테로고리를 형성하는 C1-C4알킬 라디칼; 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내고,
    R3및 R'3은, 동일 또는 상이하고, 수소원자; 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자; 시아노 라디칼; 또는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 아세틸옥시 라디칼을 나타내고,
    X-는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트로부터 선택되는 음이온을 나타내고,
    A 는 하기 구조식 A1내지 A19로부터 선택된 기를 나타내고:
    (식 중, R4는 히드록실 라디칼로 치환될 수 있는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R5는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타낸다),
    단 D 가 -CH 를 나타내고, A 가 A4또는 A13을 나타내며, R3이 알콕시 라디칼이 아닌 경우, R1및 R2는 동시에 수소원자를 나타내지 않는다];
    b) 하기 화학식 II 의 화합물:
    [화학식 II]
    [식 중,
    R6은 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고,
    R7은 수소원자, -CN 라디칼 또는 아미노기로 치환될 수 있는 알킬 라디칼, 혹은 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내거나, R6과 함께, C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는 산소 및/또는 질소를 임의 함유하는 헤테로고리를 형성하고,
    R8및 R9는, 동일 또는 상이하고, 수소원자; 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐 원자; C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼; 또는 -CN 라디칼을 나타내고,
    X-는 클로라이드, 메틸술페이트 및 아세테이트로부터 선택되는 음이온을 나타내고,
    B 는 하기 구조식 B1 내지 B6 으로부터 선택되는 기를 나타낸다:
    (식 중, R10은 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R11및 R12는, 동일 또는 상이하고, 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)];
    c) 하기 화학식 III 및 III' 의 화합물:
    [화학식 III]
    [화학식 III']
    [식 중,
    R13은 수소원자; C1-C4알콕시 라디칼; 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐 원소; 또는 아미노 라디칼을 나타내고,
    R14는 수소원자 또는, C1-C4알킬 라디칼을 나타내거나, 벤젠환의 탄소와 함께, 산소를 임의 함유하고/거나 하나 이상의 C1-C4알킬기로 치환되는 헤테로고리를 형성하며,
    R15는 수소원자를 나타내거나, 브롬, 염소, 요오드 또는 불소와 같은 할로겐 원소를 나타내고,
    R16및 R17은, 동일 또는 상이하고, 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내며,
    D1및 D2는, 동일 또는 상이하고, 질소원자 또는 -CH 기를 나타내고,
    m = 0 또는 1 이고,
    이때, R13이 비치환 아미노기를 나타내는 경우, D1및 D2는 동시에 -CH 기를 나타내고 m = 0 이며,
    X-는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트로부터 선택되는 음이온을 나타내고,
    E 는 하기 구조식 E1 내지 E8 로부터 선택된 기를 나타내고:
    (식 중, R' 는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다);
    이때, m = 0 이고 D1이 질소인 경우, E 는 추가로 하기 구조식 E9 의 기를 나타낼 수 있다:
    (식 중, R1은 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)];
    d) 하기 화학식 IV 의 화합물:
    [화학식 IV]
    G-N=N-J
    [식 중, 기호 G는 하기 구조식 G1내지 G3으로부터 선택된 기를 나타낸다:
    (식 중,
    R18은 C1-C4알킬 라디칼, C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원소를 나타내고;
    R19는 C1-C4알킬 라디칼, 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
    R20및 R21은, 동일 또는 상이하고, C1-C4알킬 라디칼, 또는 페닐 라디칼을 나타내거나, G1내에서 하나 이상의 C1-C4알킬기, C1-C4알콕시기 또는 NO2라디칼로 치환된 벤젠환을 함께 형성하거나, G2내에서 하나 이상의 C1-C4알킬기, C1-C4알콕시기 또는 NO2라디칼로 임의 치환된 벤젠환을 함께 형성하고;
    또한, R20은 수소원자를 나타낼 수 있고;
    Z는 산소 또는 황 원자 또는 -NR19기를 나타내고;
    M은 -CH, -CR (R은 C1-C4알킬기를 나타낸다), 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고;
    K는 -CH, -CR (R은 C1-C4알킬기를 나타낸다), 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고;
    P는 -CH, -CR (R은 C1-C4알킬기를 나타낸다), 또는 -NR22(X-)r기(r 은 0 또는 1 을 나타낸다)를 나타내고;
    R22는 O-원자, C1-C4알콕시 라디칼, 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고;
    R23및 R24는, 동일 또는 상이하고, 수소원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4알콕시 라디칼, 또는 -NO2라디칼을 나타내고;
    X-는 클로라이드, 이오다이드, 메틸술페이트, 에틸술페이트, 아세테이트 및 퍼클로레이트로부터 바람직하게 선택되는 음이온을 나타내고;
    단, R22가 O-를 나타내면, r은 0을 나타내고;
    K 또는 P 또는 M이 -N-(C1-C4알킬)X-를 나타내면, R23또는 R24는 수소원자가 아니고;
    K가 -NR22(X-)r을 나타내면,M = P = -CH, -CR이고;
    M이 -NR22(X-)r을 나타내면,M = P = -CH, -CR이고;
    P가 -NR22(X-)r을 나타내면,K = M이고 -CH 또는 -CR을 나타내고;
    Z가 황 원자를 나타내고, R21이 C1-C4알킬기를 나타내면, R20이 수소원자가 아니고;
    Z가 -NR22를 나타내고, R19가 C1-C4알킬기를 나타내면, G2의 R18, R20또는 R21라디칼 중 하나 이상은 C1-C4알킬 라디칼이 아니다);
    기호 J는 하기 (a) 또는 (b)를 나타낸다:
    -(a) 하기 구조식 J1을 갖는 기:
    (식 중,
    R25는 수소원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택되는 할로겐 원자, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4알콕시 라디칼, -OH, -NO2, -NHR28, -NR29R30, -NHCO(C1-C4알킬) 라디칼을 나타내거나, R26과 함께, 질소, 산소 또는 황으로부터 선택되는 헤테로원자를 하나 이상 포함하거나 포함하지 않는 5원 또는 6원 고리를 형성하고;
    R26은 수소원자, 또는 염소, 브롬, 요오드 및 불소로부터 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타내거나, R27또는 R28과 함께, 질소, 산소 또는 황으로부터 선택되는 헤테로원자를 하나 이상 포함하거나 포함하지 않는 5원 또는 6원 고리를 형성하고;
    R27은 수소원자, -OH 라디칼, -NHR28라디칼, -NR29R30라디칼을 나타내고;
    R28은 수소원자, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내고;
    R29및 R30은 동일 또는 상이하고, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼을 나타낸다);
    -(b) 기타 헤테로 원자 및/또는 카르보닐함유 기를 포함하는 기를 포함할 수 있고, 하나 이상의 C1-C4알킬, 아미노 또는 페닐 라디칼로 치환될 수 있는, 5원 또는 6원 질소 함유 헤테로고리기, 특히 하기 구조식 J2를 갖는 기:
    (식 중,
    R31및 R32은 동일 또는 상이하고, 수소원자, C1-C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내고;
    Y는 -CO- 라디칼 또는라디칼을 나타내고;
    n = 0 또는 1이고, n이 1을 나타내면 U는 -CO- 라디칼을 나타낸다)];
    (ii)1- 하기 화학식 V 의 것:
    [화학식 V]
    [식중, 라디칼 R1및 R4는, 동일 또는 상이하고, 탄소수 1 내지 30 의 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼, 또는 탄소수 12 내지 약 30 의 알콕시, 알콕시카르보닐알킬, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 알킬아미도알킬, 히드록시알킬, 방향족, 아릴 또는 알킬아릴 라디칼을 나타내고, R1, R2, R3및 R4중 하나 이상의 라디칼은 탄소수 8 내지 30 의 라디칼을 나타내며;
    X-는 할라이드, 포스페이트, 아세테이트, 락테이트 및 알킬 술페이트로 이루어진 군으로부터 선택된 음이온이다],
    (ii)2- 하기 화학식 VI 의 이미다졸늄염:
    [화학식 VI]
    [식중, R5는 탄소수 13 내지 31 의 알케닐 및/또는 알킬 라디칼로부터 선택되고 수지(獸脂) 지방산으로부터 유도된다];
    (iii)3- 하기 화학식 VII 의 사차 디암모늄염:
    [화학식 VII]
    [식중, R6은 탄소수 약 16 내지 30 의 지방족 라디칼을 나타내고, R7, R8, R9, R10및 R11은 수소원자, 또는 탄소수 1 내지 4 의 알킬 라디칼로부터 선택되고, X-는 할라이드, 아세테이트, 포스페이트 및 술페이트로부터 선택된 음이온이다].
  2. 제 1 항에 있어서, 화학식 I 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (I1) 내지 (I54) 에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  3. 제 2 항에 있어서, 양이온성 직접 염료가 상기 구조식 (I1), (I2), (I14) 및 (I31) 에 해당하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 화학식 II 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (II1) 내지 (II9) 에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  5. 제 1 항에 있어서, 화학식 III 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (III1) 내지 (III18) 의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  6. 제 5 항에 있어서, 화학식 III 의 양이온성 직접 염료가 상기 구조식 (III4), (III5) 및 (III13) 에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서, 화학식 III' 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (III'1) 내지 (III'3) 에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  8. 제 1 항에 있어서, 화학식 IV 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (IV)1내지 (IV)77에 해당하는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 I, II, III, III' 또는 IV 의 양이온성 직접 염료(들)이 조성물 총 중량에 대해 0.001 내지 10 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 9 항에 있어서, 화학식 I, II, III, III' 또는 IV 의 양이온성 직접 염료 (들)이 조성물 총 중량에 대해 0.005 내지 5 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항중 어느 한 항에 있어서, 화학식 V 의 사차 암모늄염 (ii) 은 알킬기가 탄소수 12 내지 22 인 디알킬디메틸암모늄 또는 알킬트리메틸암모늄염인 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 11 항에 있어서, 디스테아릴디메틸암모늄 클로라이드, 세틸트리메틸암모늄 클로라이드 또는 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드인 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 있어서, 화학식 V 의 사차 암모늄염 (ii) 이 디(C1- C2알킬)(C12- C22알킬)히드록시(C1- C2알킬)암모늄염인 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 13 항에 있어서, 올레오세틸히드록시에틸암모늄 클로라이드인 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항중 어느 한 항에 있어서, 화학식 V 의 사차 암모늄염 (ii) 이 하기 화학식의 스테아르아미도프로필디메틸 (미리스틸 아세테이트) 암모늄 클로라이드인 것을 특징으로 하는 조성물:
  16. 제 1 항 내지 제 15 항중 어느 한 항에 있어서, 사차 암모늄염(들) (ii) 이 염색 조성물의 총 중량에 대해 0.01 내지 10 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 16 항에 있어서, 사차 암모늄염(들)이 염색 조성물의 총 중량에 대해 0.05 내지 5 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 적당한 염색 매질(또는 담체)가 물, 또는 하나 이상의 유기 용매와 물의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물의 pH 가 2 내지 11, 바람직하게는 5 내지 10 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서, 산화 염색을 목적으로 하고, 파라-페닐렌디아민, 비스-페닐알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 헤테로고리성 염기로부터 선택된 하나 이상의 산화 염기를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 20 항에 있어서, 산화 염기(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.0005 내지 12 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 21 항에 있어서, 산화 염기(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 6 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 20 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서, 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 헤테로고리성 커플러(coupler)로부터 선택된 하나 이상의 커플러를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 23 항에 있어서, 커플러(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.0001 내지 10 중량% 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  25. 제 24 항에 있어서, 커플러(들)이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.005 내지 5 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  26. 제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 산화 염색 또는 탈색화 (lightening) 직접 염색을 목적으로 하며, 하나 이상의 산화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  27. 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색 방법에 있어서, 제 1 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에서 정의된 염료 조성물 하나 이상을 원하는 착색이 나타나기에 충분한 시간 동안 섬유에 적용한 후, 섬유를 헹구고, 샴푸로 임의 세척하고, 다시 헹구고 건조시키는 것을 특징으로 하는 염색 방법.
  28. 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색 방법에 있어서, 제 1 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에서 정의된 염료 조성물 하나 이상을, 최종 헹굼 없이, 원하는 착색이 나타나기에 충분한 시간 동안 섬유에 적용하는 것을 특징으로 하는 염색 방법.
  29. 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색 방법에 있어서, 한 쪽에는, 적합한 염색 매질내에, 제 1 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에서 정의된 양이온성 직접 염료 하나 이상 및 산화 염기 하나 이상을 함유하는 조성물 (A1) 을, 다른 한 쪽에는, 적합한 염색 매질내에, 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물 (B1) 을 별도로 저장한 다음, 사용시 이들을 함께 혼합한 후, 이 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하는 것으로 이루어진 예비 단계를 포함하며, 조성물 (A1) 또는 조성물 (B1) 은 제 1 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에서 정의된 사차 암모늄염 (ⅱ) 을 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
  30. 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색 방법에 있어서, 한 쪽에는, 적합한 염색 매질내에, 제 1 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에서 정의된 양이온성 직접 염료 하나 이상을 함유하는 조성물 (A2) 을, 다른 한 쪽에는, 적합한 염색 매질내에, 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물 (B2) 을 별도로 저장한 다음, 사용시 이들을 함께 혼합한 후, 이 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하는 것으로 이루어진 예비 단계를 포함하며, 조성물 (A2) 또는 조성물 (B2) 은 제 1 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에서 정의된 사차 암모늄염 (ⅱ) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 케라틴 섬유의 염색 방법.
  31. 제 1 분획이 제 29 항 또는 제 30 항에서 정의된 조성물 (A1) 또는 (A2) 를 함유하며, 제 2 분획이 제 29 항 또는 제 30 항에서 정의된 조성물 (B1) 또는 (B2) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 다중 분획 염색 장치 또는 다중 분획 염색 "키트(kit)".
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