KR100355641B1 - 양이온성 직접 염료 및 증점 중합체를 갖는 케라틴 섬유 염색용 조성물 - Google Patents

양이온성 직접 염료 및 증점 중합체를 갖는 케라틴 섬유 염색용 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 염색에 적합한 매질 중에 하나 이상의 주어진 화학식의 양이온성 직접 염료를 함유하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유 염색용 조성물에 있어서, 가교 아크릴산 단일중합체, 부분적으로 또는 전체적으로 중화된 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산 단일중합체 및 공중합체, 암모늄 아크릴레이트 단일중합체 및 암모늄 아크릴레이트와 아크릴아미드의 공중합체, (메트)아크릴산과 C1-C6알킬 아크릴레이트의 가교 공중합체, 및 에스테르 및/또는 아미드 형의 에틸렌계 불포화 부분을 갖는 단량체를 함유한, 비이온성 단일중합체 및 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 증점 중합체를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 또한, 이를 사용한 염색 방법 및 염색 장치에 관한 것이다.

Description

양이온성 직접 염료 및 증점 중합체를 갖는 케라틴 섬유 염색용 조성물 {COMPOSITION FOR DYEING KERATIN FIBRES WITH A CATIONIC DIRECT DYE AND A THICKENING POLYMER}
본 발명은 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유를 염색하기 위한 조성물로서, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 하기 화학식의 양이온성 직접 염료 및, 하나 이상의 특정 증점 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 또한 상기 조성물을 사용한 염색 방법 및 염색 장치에 관한 것이다.
염색은 모발 보호 부문에서 두 종류로 분류될 수 있다.
첫번째는 반영구적 또는 일시적인 염색, 또는 직접 염색이며, 이는 수 회의 샴푸에도 견딜 수 있는 다소 뚜렷한 색상 변화, 자연스러운 착색을 모발에 제공할 수 있는 염료를 사용한다. 상기 염료는 또한 직접 염료로서 공지되어 있으며; 이는 산화제와 함께, 또는 산화제 없이 사용할 수 있다. 산화제 존재시, 탈색화 염색(lightening dyeing)을 수득하는 것이 목적이다. 탈색화 염색은 사용시제조된 직접 염료와 산화제의 혼합물을 모발에 적용함으로써 수행되며, 특히 모발의 멜라닌을 밝게 함으로써 회색 모발의 경우 균일한 색상과 같은 유리한 효과를 수득하거나, 또는 원래 염색된 모발의 경우 색상을 유도해낼 수 있다.
두번째는 영구적 염색 또는 산화 염색이다. 이는 산화 염료 전구체 및 발색제(coupler)를 함유하는 소위 "산화" 염료를 사용하여 수행된다. 통상 "산화 염기" 로 공지된 산화 염료 전구체는 초기에는 무색이거나 약하게 착색된 화합물이며, 사용시 첨가된 산화제의 존재시 모발에 염색력을 발현시켜서 착색된 화합물 및 염료를 형성한다. 상기 착색된 화합물 및 염료의 형성은, "산화 염기" 그 자체의 산화적 축합, 또는 산화 염색에 사용된 염료 조성물에 일반적으로 존재하며 통상 "발색제"로서 공지된 착색개질 화합물(coloration-modifying compound) 과 산화 염기의 산화적 축합으로 인한 것이다.
상기 산화 염료로 수득된 색조의 다양하게 하거나, 또는 색조의 광택을 더욱 풍부하게 하기 위해서, 직접 염료를 산화 염료에 첨가하는 것은 공지된 관행이다.
케라틴 섬유, 특히 인간의 케라틴 섬유 염색 부문에서 이용할 수 있는 양이온성 직접 염료 중에서, 그 구조식이 하기에 나타낸 바와 같은 화합물이 이미 공지되어 있으나; 섬유를 따라 분포된 색상의 균질성에 있어서 (이 경우, 착색이 지나치게 선택적이라고 할 수 있다), 그리고 모발에 작용할 수 있는 각종 요인 (빛, 악천후, 샴푸) 에 대한 내성 면에서의 유지력에 있어서 여전히 불만족스러운 특징으로 갖는 착색을 제공한다.
상기 문제에 대한 상당한 연구 후, 출원인은 하기 정의된 각 화학식을 갖는, 하나 이상의 특정 중점 중합체를 선행 기술에 공지된 하나 이상의 양이온성 직접 염료와 조합함으로써, 모발에 작용할 수 있는 다양한 요인에 대한 우수한 내성을 나타내는, 덜 선택적인 착색을 제공할 수 있는 케라틴 섬유 염색용 신규 조성물을 수득할 수 있음을 발견하였다.
이러한 발견이 본 발명의 기초를 형성한다.
본 발명의 제 1 요지는, 염색에 적당한 매질내에, (i) 구조가 하기 화학식 1 내지 4 에 해당하는 하나 이상의 양이온성 직접 염료를 함유하는, 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색용 조성물로서, (ii) 하나 이상의 특정 증점 중합체를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물이다.
(i) 본 발명에 따라 사용될 수 있는 양이온성 직접 염료는 하기 화학식 1, 2, 3, 3a 및 4 에서 선택된 화합물이다:
a) 하기 화학식 1 의 화합물:
[식중,
D 는 질소원자 또는 -CH 기를 나타내고,
R1및 R2는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자; -CN, -OH 또는 -NH2라디칼로 치환될 수도 있고, 벤젠환의 탄소원자와 함께, 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는, 산소 또는 질소를 임의 함유하는 헤테로고리를 형성할 수도 있는 C1-C4알킬 라디칼; 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내며,
R3및 R'3는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자; 염소, 브롬, 요드 및 플루오르에서 선택된 할로겐 원자; 시아노 라디칼; 또는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 또는 아세틸옥시 라디칼을 나타내고,
X-는 바람직하게는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트에서 선택된 음이온을 나타내며,
A 는 하기 구조식 A1 내지 A19 에서 선택된 기를 나타내고:
(식중, R4는 히드록실 라디칼로 치환될 수 있는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R5는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타낸다),
단, D 가 -CH 를 나타내고, A 가 A4또는 A13을 나타내며, R3이 알콕시 라디칼이 아닌 경우, R1및 R2는 동시에 수소 원자를 나타내지 않는다];
b) 하기 화학식 2 의 화합물:
[식중,
R6은 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고,
R7은 수소 원자, -CN 라디칼로 또는 아미노기로 치환될 수 있는 알킬 라디칼, 또는 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내거나, R6과 함께, C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는 산소 및/또는 질소를 임의 함유하는 헤테로고리를 형성하고,
R8및 R9는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자; 브롬, 염소, 요드 또는 플루오르와 같은 할로겐 원자; C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼; 또는 -CN 라디칼을 나타내고,
X-는 바람직하게는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트에서 선택되는 음이온을 나타내며,
B 는 하기 구조식 B1 내지 B6 에서 선택되는 기를 나타낸다:
(식중, R10은 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R11및 R12는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)];
c) 하기 화학식 3 및 3a 의 화합물:
[식중,
R13은 수소 원자; C1-C4알콕시 라디칼; 브롬, 염소, 요드 또는 플루오르와 같은 할로겐 원자; 또는 아미노 라디칼을 나타내고,
R14는 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼을 나타내거나, 벤젠환의 탄소원자와 함께, 산소를 임의 함유하고/하거나 하나 이상의 C1-C4알킬기로 치환된 헤테로고리를 형성하며,
R15는 수소 원자, 또는 브롬, 염소, 요드 또는 플루오르와 같은 할로겐 원자를 나타내고,
R16및 R17은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내며,
D1및 D2는, 동일 또는 상이할 수 있고, 질소원자 또는 -CH 기를 나타내고,
m = 0 또는 1 이고,
이때, R13이 비치환 아미노기이면, D1및 D2는 동시에 -CH 기이고, m = 0 이며,
X-는 바람직하게는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트에서 선택되는 음이온을 나타내고,
E 는 하기 구조식 E1 내지 E8 에서 선택된 기를 나타내고:
(식중, R' 는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다),
이때, m = 0 이고 D1이 질소원자인 경우, E 는 하기 구조식 E9 의 기를 나타낼 수도 있다:
(식중, R' 는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)];
d) 하기 화학식 4 의 화합물:
[식중,기호 G는 하기 구조식 G1∼ G3에서 선택된 기를 나타내고:
(구조식 G1∼ G3에서,
R18은 C1-C4알킬 라디칼, 또는 C1-C4알킬 라디칼로 또는 염소, 브롬, 요드 및 플루오르에서 선택된 할로겐 원자로 치환될 수 있는 페닐 라디칼을 나타내고;
R19는 C1-C4알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
R20및 R21은 동일 또는 상이할 수 있고, C1-C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내거나, G1에서, 하나 이상의 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 NO2라디칼로 치환된 벤젠환을, G2에서, 하나 이상의 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 NO2라디칼로 임의로 치환된 벤젠환을 함께 형성하고;
R20은 수소 원자를 나타낼 수도 있고;
Z 는 산소 또는 황 원자, 또는 -NR19기를 나타내고;
M 은 -CH, -CR (R 은 C1-C4알킬을 나타낸다) 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고;
K 는 -CH, -CR (R 은 C1-C4알킬을 나타낸다) 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고;
P 는 -CH, -CR (R 은 C1-C4알킬을 나타낸다) 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고; r 은 0 또는 1 을 나타내고;
R22는 O-원자, C1-C4알콕시 라디칼 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고,
R23및 R24는 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, 염소, 브롬, 요드 및플루오르에서 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼 또는 -NO2라디칼을 나타내고;
X-는 바람직하게는 클로라이드, 요다이드, 메틸 술페이트, 에틸 술페이트, 아세테이트 및 퍼클로레이트에서 선택된 음이온을 나타내고;
단, R22가 O-이면, r 은 0 이고;
K 또는 P 또는 M 이 C1-C4-N-알킬 X-이면, R23또는 R24는 수소 원자가 아니며;
K 가 -NR22(X-)r이면, M=P= -CH, -CR 이고;
M 이 -NR22(X-)r이면, K=P= -CH, -CR 이고;
P 가 -NR22(X-)r이면, K=M= -CH, -CR 이고;
Z 가 황 원자이고, R21이 C1-C4알킬이면, R20은 수소 원자가 아니며;
Z 가 -NR22이고, R19가 C1-C4알킬이면, G2의 라디칼 R18, R20또는 R21중 하나 이상은 C1-C4알킬 라디칼이 아니다);
기호 J는 하기 (a) 또는 (b) 를 나타낸다:
-(a)하기 구조식 J1의 기:
(구조식 J1에서,
R25는 수소 원자, 염소, 브롬, 요드 및 플루오르에서 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼, -OH, -NO2, -NHR28, -NR29R30, -NHCO (C1-C4)알킬 라디칼을 나타내거나, R26과 함께, 질소, 산소 및 황에서 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수도, 함유하지 않을 수도 있는 5 또는 6 원환을 형성하고;
R26은 수소 원자, 염소, 브롬, 요드 및 플루오르에서 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타내거나, R27및 R28과 함께, 질소, 산소 및 황에서 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수도, 함유하지 않을 수도 있는 5 또는 6 원환을 형성하고;
R27은 수소 원자, -OH 라디칼, -NHR28또는 -NR29R30라디칼을 나타내고;
R28은 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
R29및 R30은 동일 또는 상이할 수 있고, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼 또는 C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼을 나타낸다);
-(b)질소 이외의 헤테로 원자 및/또는 카르보닐기를 가질 수 있고, 하나 이상의 C1-C4알킬, 아미노 또는 페닐 라디칼로 치환될 수 있는 5 또는 6 원의 질소함유 헤테로시클릭기, 특히 하기 구조식 J2의 기:
(구조식 J2에서,
R31및 R32는 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
Y 는 -CO- 라디칼 또는라디칼을 나타내고;
n 은 0 또는 1 이고, n 이 1 일 때 U 는 -CO- 라디칼을 나타낸다)].
상기 정의된 구조식 1 ∼ 4 에서, C1-C4알킬 또는 알콕시기는 바람직하게는, 메틸, 에틸, 부틸, 메톡시 또는 에톡시를 나타낸다.
본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 1, 2, 3 및 3a 의 양이온성 직접 염료는 공지된 화합물이고, 예를 들어 특허 출원 WO 95/01772, WO 95/15144 및 EP-A-0,714,954 에 기재되어 있다. 본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 4 의 것은 공지된 화합물이고, 예를 들어 특허 출원 FR-2,189,006, FR-2,285,851 및 FR-2,140,205 및 이의 첨부 증명서 (Certificates of Addition) 에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물에서 사용될 수 있는 화학식 1 의 양이온성 직접 염료중에서, 특히, 하기 구조식 (I1) 내지 (I54) 의 화합물을 언급할 수 있다:
상기 기재된 구조식 (I1) 내지 (I54) 의 화합물중에서, 가장 특히 바람직한 화합물은 구조식 (I1), (I2), (I14) 및 (I31) 에 해당하는 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물에 사용될 수 있는 화학식 2 의 양이온성 직접염료중에서, 특히, 하기 구조식 (II1) 내지 (II9) 의 화합물을 언급할 수 있다:
본 발명에 따른 염료 조성물에 사용될 수 있는 화학식 3 의 양이온성 직접염료중에서, 특히, 하기 구조식 (III1) 내지 (III18) 의 화합물을 언급할 수 있다:
상기 구조식 (III1) 내지 (III18) 의 특정 화합물중에서, 가장 바람직한 화합물은 구조식 (III4), (III5) 및 (III13) 에 해당하는 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물에 사용될 수 있는 화학식 3a 의 직접 염료 중에서, 특히, 하기 화학식 (III'1) ∼ (III'3) 의 화합물을 언급할 수 있다:
본 발명에 따른 염료조성물에 사용될 수 있는 화학식 4 의 양이온성 직접 염료는 특히, 하기 구조식 (IV)1∼ (IV)77의 화합물을 언급할 수 있다:
본 발명에 따라 사용되는 양이온성 직접 염료는 염료 조성물의 총중량에 대해 바람직하게는 약 0.001 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 5 중량% 이다. 본 발명에 따라 사용될 수 있는 증점 중합체 (ⅱ) 는 하기로 이루어진 군에서 선택된다:
1-가교 아크릴산 단일중합체;
2-부분적으로 또는 전체적으로 중화된 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산 단일중합체 및 공중합체;
3-암모늄 아크릴레이트 단일중합체 및 암모늄 아크릴레이트와 아크릴아미드의 공중합체;
4-(메트)아크릴산과 C1-C6알킬 아크릴레이트의 가교 공중합체;
5-에스테르 및/또는 아미드 형의 에틸렌계 불포화 부분을 갖는 단량체를 함유한, 비이온성 단일중합체 및 공중합체.
가교 아크릴산 단일중합체의 예로는, Goodrich 사에서 Carbopols 980, 981, 954, 2984 및 5984 의 상품명으로 시판되는 제품, 또는 3 VAS 사에서 Synthalen M 및 Synthalen K 의 상품명으로 시판되는 제품을 들 수 있다.
2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산 단일중합체의 예로는, 특허 출원 EP-A-0,815,828 에 기재된 것을 들 수 있다 (이는 상세한 설명의 내용중 필수 부분을 이룬다). 또한, Henkel 사에서 Cosmedia HSP 1160 의 상품명으로 시판중인 제품을 들 수 있다. 부분적으로 또는 전체적으로 중화된 (수산화나트륨, 수산화칼륨 또는 아민과 같은 염기로 중화된) 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산 공중합체로는, 특히 문헌 EP-A-503,853 의 실시예 1 에 기재된 제품 (이는 상세한 설명의 내용중 필수 부분을 이룬다), 및 특히, SEPPIC 사에서 Sepigel 305 의 상품명으로 시판중인 제품을 들 수 있다.
암모늄 아크릴레이트 단일중합체로는 Hoechst 사에서 Microsap PAS 5139 의 상품명으로 시판중인 제품을 들 수 있다. 암모늄 아크릴레이트와 아크릴아미드의 공중합체로는 Hoechst 사에서 Bozepol C Nouveau 또는 PAS 5193 의 상품명으로 시판중인 제품 (이는 문헌 FR 2,416,723, USP 2,798,053 및 USP 2,923,692 에 기재되어 있고 이에 따라 제조될 수 있다) 을 들 수 있다.
(메트)아크릴산과 C1-C6알킬 아크릴레이트의 가교 공중합체로는, 38 % 활성 물질을 함유한 수성 분산액으로서 메타크릴산과 에틸 아크릴레이트의 가교 공중합체인, Coatex 사에서 Viscoatex 538C 의 상품명으로 시판중인 제품, 또는 28 % 활성 물질을 함유한 수성 분산액으로서 아크릴산과 에틸 아크릴레이트의 가교 공중합체인, Rohm Haas 사에서 Aculyn 33 의 상품명으로 시판중인 제품을 들 수 있다.
에스테르 및/또는 아미드 형의 에틸렌계 불포화 부분을 갖는 단량체를 함유한, 비이온성 단일중합체 또는 공중합체로는 Cytec 사의 Cyanamer P250 (폴리아크릴아미드); US Cosmetics 사의 PMMA MBX-8C (메틸 메타크릴레이트/에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 공중합체); Rohm Haas 사의 Acryloid B66 (부틸 메타크릴레이트/메틸 메타크릴레이트 공중합체); Kobo 사의 BPA 500 (폴리메틸 메타크릴레이트) 를 들 수 있다.
본 발명에 따라, 특히, 분류 1-; 2-; 3-; 4- 에 상기에 나열된 증점 중합체, 즉 하기로 이루어진 군에서 선택된 것이 바람직하다: 1- 가교 아크릴산 단일중합체; 2- 부분적으로 또는 전체적으로 중화된, 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산 단일 중합체 및 공중합체; 3- 암모늄 아크릴레이트 단일중합체 및 암모늄 아크릴레이트와 아크릴아미드의 공중합체; 4- (메트)아크릴산과 C1-C6알킬 아크릴레이트의 가교 공중합체.
본 발명에 따라 사용되는 증점 중합체 (ⅱ) 는 염료 조성물의 총중량에 대해, 바람직하게는 약 0.01 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 약 5 중량%이다.
염색에 적합한 매질 (또는 지지체) 는 일반적으로 물, 또는 충분히 수용성이지 않은 화합물을 용해시키기 위한 하나 이상의 유기 용매와 물의 혼합물로 이루어진다. 유기 용매로는, 에탄올 및 이소프로판올과 같은 C1-C4저급 알칸올; 벤질 알콜과 같은 방향족 알콜, 및 그의 유사물 및 이들의 혼합물을 예로 들 수 있다.
용매는 염료 조성물의 총중량에 대해 바람직하게는 약 1 내지 40 중량%, 더더욱 바람직하게는 약 5 내지 30 중량% 의 비율로 존재할 수 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물의 pH 는 일반적으로 약 2 내지 11, 바람직하게는 약 5 내지 10 이다. 이것은 케라틴 섬유의 염색에 통상적으로 사용되는 산성화제 또는 염기성화제를 사용하여 목적하는 값으로 조정될 수 있다.
산성화제로는 염산, 오르토인산, 황산, 카르복실산, 예를 들면, 아세트산, 타르타르산, 시트르산 및 락트산, 및 술폰산과 같은 무기 또는 유기 산을 예로 들 수 있다.
염기성화제로는 암모니아수, 알칼리 탄산염, 알칸올아민, 예를 들면, 모노-, 디- 및 트리에탄올아민 및 그의 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 하기 화학식 5 의 화합물을 예로 들 수 있다:
[식중, W 는 히드록실기 또는 C1-C6알킬 라디칼로 임의 치환된 프로필렌 잔기이며; R33, R34, R35및 R36은, 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소 원자, 또는 C1-C6알킬 또는 C1-C6히드록시알킬 라디칼을 나타낸다].
상기 정의한 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 외에, 본 발명에 따른 염료 조성물은 예를 들면, 양이온성이 아닌 니트로벤젠 염료, 안트라퀴논 염료, 나프토퀴논 염료, 트리아릴메탄 염료, 잔텐 염료 및 아조 염료에서 선택될 수 있는 하나 이상의 부가적인 직접 염료를 함유할 수 있다.
산화 염색을 목적으로 하는 경우, 본 발명에 따른 염료 조성물은 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 외에, 산화 염색에 통상적으로 사용되는 산화 염기에서 선택된 하나 이상의 산화 염기를 함유하며, 이 중에서 특히 파라-페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 헤테로고리형 염기를 예로 들 수 있다.
사용시, 산화 염기는 염료 조성물의 총중량에 대해 바람직하게는 약 0.0005 내지 12 중량%, 및 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 6 중량% 이다.
산화 염색을 목적으로 하는 경우, 본 발명에 따른 염료 조성물은 양이온성직접 염료 (ⅰ) 및 증점 중합체 (ⅱ) 외에, 또한 산화 염기, 하나 이상의 발색제를 함유할 수 있으며, 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 및 산화 염기를 사용함으로써, 수득한 색조를 개질시키거나 광택을 더욱 풍부하게 할 수 있다.
본 발명에 따른 염료 조성물에 사용될 수 있는 발색제는, 산화 염색에 통상적으로 사용되는 발색제에서 선택될 수 있으며, 이 중에서 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 헤테로고리형 발색제를 예로 들 수 있다.
발색제는, 존재시, 염료 조성물의 총중량에 대해 바람직하게는 약 0.0001 내지 10 중량%, 및 더욱 바람직하게는 약 0.005 내지 5 중량% 이다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 또한, 모발 염색용 조성물에 통상 사용되는 각종 보조제, 예를 들면, 산화방지제, 침투제, 격리제, 방향제, 완충제, 분산제, 계면활성제, 필름형성제, 세라마이드, 방부제, 차단제, 및 유백제를 함유할 수 있다.
물론, 당 분야의 기술자들은 본 발명에 따른 염료 조성물에 본질적으로 결부된 유리한 특성이, 의도하는 첨가에 의해 좋지 않은 영향을 받지 않도록, 또는 실질적으로 받지 않도록 임의의 보충 화합물을 선택하는데 주의할 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 액체, 샴푸, 크림 또는 젤, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 염색하는데 적합한 기타 형태와 같은 여러 형태일 수 있다. 이는 사용시, 양이온성 직접 염료를 함유한, 분말 형태일 수 있는 조성물을 증점 중합체 (ii) 를 함유한 조성물과 혼합함으로써 수득할 수 있다.
본 발명에 따른 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 및 증점 중합체 (ⅱ) 의 조합이 산화 염색을 목적으로 하는 조성물에 사용되거나 (임의로 하나 이상의 발색제의 존재 하에 하나 이상의 산화 염기가 사용되는 경우), 또는 탈색화 직접 염색에 사용되는 경우, 본 발명에 따른 염료 조성물은 또한, 예를 들어, 과산화수소, 과산화요소, 알칼리 금속 브로메이트, 퍼보레이트 및 퍼술페이트와 같은 과염, 및 퍼록시다제, 락타제 및 2-전자 산화환원효소와 같은 효소에서 선택된 하나 이상의 산화제를 함유한다. 특히 과산화수소 또는 효소를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 또 다른 요지는 상기 정의한 염료 조성물을 사용한 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유의 염색 방법이다.
본 발명에 따른 염색 방법의 첫번째 변형에 따르면, 하나 이상의 상기 정의한 염료 조성물을 목적하는 착색이 발현되기에 충분한 시간 동안 섬유에 적용한 후, 섬유를 헹구고, 경우에 따라 샴푸로 세척한 후, 다시 헹구고 건조시킨다.
케라틴 섬유 상에 착색이 발현되는 데 요구되는 시간은 일반적으로 3 내지 60 분이며, 더욱 구체적으로 5 내지 40 분이다.
본 발명에 따른 염색 방법의 두번째 변형에 따르면, 상기 정의한 염료 조성물 하나 이상을, 최종 헹굼 없이, 목적하는 착색이 발현되기에 충분한 시간 동안 섬유에 적용한다.
본 염색 방법의 한 가지 구체예에 따르면, 본 발명에 따른 염료 조성물이 하나 이상의 산화 염기 및 하나 이상의 산화제를 함유하는 경우, 염색 방법은, 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 상기 정의된 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 및 하나 이상의 산화 염기를 함유하는 조성물 (A1) 을, 다른 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물 (B1) 을 별도로 저장한 다음, 사용시 이들을 함께 혼합한 후, 이 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하는 것으로 이루어진 예비 단계를 포함하며, 조성물 (A1) 또는 조성물 (B1) 은 상기 정의된 증점 중합체 (ⅱ) 를 함유한다.
본 염색 방법의 또 다른 구체예에 따르면, 본 발명에 따른 염료 조성물이 하나 이상의 산화제를 함유하는 경우, 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 상기 정의된 양이온성 직접 염료 (ⅰ) 를 함유하는 조성물 (A2) 를, 다른 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물 (B2) 를 별도로 저장한 다음, 사용시 이들을 함께 혼합한 후, 이 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하는 것으로 이루어진 예비 단계를 포함하며, 조성물 (A2) 또는 조성물 (B2) 는 상기 정의한 증점 중합체를 함유한다.
본 발명의 또 다른 요지는, 제 1 분획이 상기 정의된 조성물 (A1) 또는 (A2) 를 함유하며, 제 2 분획이 상기 정의된 조성물 (B1) 또는 (B2) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 다분획 염색 장치 또는 염색 "키트" 또는 기타 다분획 포장 시스템이다. 이 장치는 본 출원인에 의한 특허 FR 2,586,913 에 기재된 장치와 같이, 모발 상에 목적하는 혼합물을 투여하는 수단을 갖출 수 있다.
하기 실시예는 본 발명을 예시하고자 함이나, 그 범주를 제한하는 것은 아니다.
실시예
실시예 1 ∼ 4
하기 표에 주어진 4 가지 직접 염색 조성물을 제조하였다:
(모든 함량은 g 으로 나타낸다)
상기 조성물을 각각 백발 90 % 를 함유하는 자연 회색 머릿단에 30 분 동안 적용하였다. 이어서, 모발을 헹구고, 통상의 샴푸로 세척한 다음, 건조시켰다.
머릿단은 하기 색조로 염색되었다.
실시예 수득된 색조
1 밝은 적색
2 밝은 오렌지색
3 밝은 보라색
4 밝은 적색
본 발명에 따른 케라틴 섬유 염색용 조성물 및 본 발명의 염색 방법과 장치를 사용함으로써, 각종 작용 인자 (빛, 악천후, 샴푸 등) 에도 견딜 수 있는 더욱 강하고, 균일한 비선택적인 착색을 수득할 수 있다.

Claims (36)

  1. 염색에 적당한 매질내에 하기 화학식 1, 2, 3, 3a 및 4 에서 선택된 하나 이상의 화합물 (i) 을 함유하는 케라틴 섬유 염색용 조성물에 있어서, 상기 조성물이 하기 1-, 2-, 3-, 4- 및 5- 로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 증점 중합체 (ii) 를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물:
    a) 하기 화학식 1 의 화합물:
    [화학식 1]
    [식중,
    D 는 질소원자 또는 -CH 기를 나타내고,
    R1및 R2는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자; -CN, -OH 또는 -NH2라디칼로 치환될 수도 있고, 벤젠환의 탄소원자와 함께, 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는, 산소 또는 질소를 임의 함유하는 헤테로고리를 형성할 수도 있는 C1-C4알킬 라디칼; 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내며,
    R3및 R'3는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자; 염소, 브롬, 요드 및플루오르에서 선택된 할로겐 원자; 시아노 라디칼; 또는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 또는 아세틸옥시 라디칼을 나타내고,
    X-는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트에서 선택된 음이온을 나타내며,
    A 는 하기 구조식 A1 내지 A19 에서 선택된 기를 나타내고:
    (식중, R4는 히드록실 라디칼로 치환될 수 있는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R5는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타낸다),
    단, D 가 -CH 를 나타내고, A 가 A4또는 A13을 나타내며, R3이 알콕시 라디칼이 아닌 경우, R1및 R2는 동시에 수소 원자를 나타내지 않는다];
    b) 하기 화학식 2 의 화합물:
    [화학식 2]
    [식중,
    R6은 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고,
    R7은 수소 원자, -CN 라디칼로 또는 아미노기로 치환될 수 있는 알킬 라디칼, 또는 4'-아미노페닐 라디칼을 나타내거나, R6과 함께, C1-C4알킬 라디칼로 치환될 수 있는 산소 및/또는 질소를 임의 함유하는 헤테로고리를 형성하고,
    R8및 R9는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자; 브롬, 염소, 요드 또는 플루오르와 같은 할로겐 원자; C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼; 또는 -CN 라디칼을 나타내고,
    X-는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트에서 선택되는 음이온을 나타내며,
    B 는 하기 구조식 B1 내지 B6 에서 선택되는 기를 나타낸다:
    (식중, R10은 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R11및 R12는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)];
    c) 하기 화학식 3 및 3a 의 화합물:
    [화학식 3]
    [화학식 3a]
    [식중,
    R13은 수소 원자; C1-C4알콕시 라디칼; 브롬, 염소, 요드 또는 플루오르와 같은 할로겐 원자; 또는 아미노 라디칼을 나타내고,
    R14는 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼을 나타내거나, 벤젠환의 탄소원자와 함께, 산소를 임의 함유하고/하거나 하나 이상의 C1-C4알킬기로 치환된 헤테로고리를 형성하며,
    R15는 수소 원자, 또는 브롬, 염소, 요드 또는 플루오르와 같은 할로겐 원자를 나타내고,
    R16및 R17은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내며,
    D1및 D2는, 동일 또는 상이할 수 있고, 질소원자 또는 -CH 기를 나타내고,
    m = 0 또는 1 이고,
    이때, R13이 비치환 아미노기이면, D1및 D2는 동시에 -CH 기이고, m = 0 이며,
    X-는 클로라이드, 메틸 술페이트 및 아세테이트에서 선택되는 음이온을 나타내고,
    E 는 하기 구조식 E1 내지 E8 에서 선택된 기를 나타내고:
    (식중, R' 는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다),
    이때, m = 0 이고 D1이 질소원자인 경우, E 는 하기 구조식 E9 의 기를 나타낼 수도 있다:
    (식중, R' 는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다)];
    d) 하기 화학식 4 의 화합물:
    [화학식 4]
    [식중,기호 G는 하기 구조식 G1∼ G3에서 선택된 기를 나타내고:
    (구조식 G1∼ G3에서,
    R18은 C1-C4알킬 라디칼, 또는 C1-C4알킬 라디칼로 또는 염소, 브롬, 요드 및 플루오르에서 선택된 할로겐 원자로 치환될 수 있는 페닐 라디칼을 나타내고;
    R19는 C1-C4알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
    R20및 R21은 동일 또는 상이할 수 있고, C1-C4알킬 라디칼, 페닐 라디칼을 나타내거나, G1에서, 하나 이상의 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 NO2라디칼로 치환된 벤젠환을, G2에서, 하나 이상의 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 NO2라디칼로 임의로 치환된 벤젠환을 함께 형성하고;
    R20은 수소 원자를 나타낼 수도 있고;
    Z 는 산소 또는 황 원자, 또는 -NR19기를 나타내고;
    M 은 -CH, -CR (R 은 C1-C4알킬을 나타낸다) 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고;
    K 는 -CH, -CR (R 은 C1-C4알킬을 나타낸다) 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고;
    P 는 -CH, -CR (R 은 C1-C4알킬을 나타낸다) 또는 -NR22(X-)r기를 나타내고; r 은 0 또는 1 을 나타내고;
    R22는 O-원자, C1-C4알콕시 라디칼 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고;
    R23및 R24는 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, 염소, 브롬, 요드 및플루오르에서 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼 또는 -NO2라디칼을 나타내고;
    X-는 클로라이드, 요다이드, 메틸 술페이트, 에틸 술페이트, 아세테이트 및 퍼클로레이트에서 선택된 음이온을 나타내고;
    단, R22가 O-이면, r 은 0 이고;
    K 또는 P 또는 M 이 C1-C4-N-알킬 X-이면, R23또는 R24는 수소 원자가 아니며;
    K 가 -NR22(X-)r이면, M=P= -CH, -CR 이고;
    M 이 -NR22(X-)r이면, K=P= -CH, -CR 이고;
    P 가 -NR22(X-)r이면, K=M= -CH, -CR 이고;
    Z 가 황 원자이고, R21이 C1-C4알킬이면, R20은 수소 원자가 아니며;
    Z 가 -NR22이고, R19가 C1-C4알킬이면, G2의 라디칼 R18, R20또는 R21중 하나 이상은 C1-C4알킬 라디칼이 아니다);
    기호 J는 하기 (a) 또는 (b) 를 나타낸다:
    -(a)하기 구조식 J1의 기:
    (구조식 J1에서,
    R25는 수소 원자, 염소, 브롬, 요드 및 플루오르에서 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼, -OH, -NO2, -NHR28, -NR29R30, -NHCO (C1-C4)알킬 라디칼을 나타내거나, R26과 함께, 질소, 산소 및 황에서 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수도, 함유하지 않을 수도 있는 5 또는 6 원환을 형성하고;
    R26은 수소 원자, 염소, 브롬, 요드 및 플루오르에서 선택된 할로겐 원자, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타내거나, R27및 R28과 함께, 질소, 산소 및 황에서 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수도, 함유하지 않을 수도 있는 5 또는 6 원환을 형성하고;
    R27은 수소 원자, -OH 라디칼, -NHR28또는 -NR29R30라디칼을 나타내고;
    R28은 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
    R29및 R30은 동일 또는 상이할 수 있고, C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼 또는 C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼을 나타낸다);
    -(b)질소 이외의 헤테로 원자 및/또는 카르보닐기를 가질 수 있고, 하나 이상의 C1-C4알킬, 아미노 또는 페닐 라디칼로 치환될 수 있는 5 또는 6 원의 질소함유 헤테로시클릭기];
    (ii)하기로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 증점 중합체:
    1-가교 아크릴산 단일중합체;
    2-부분적으로 또는 전체적으로 중화된 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산 단일중합체 및 공중합체;
    3-암모늄 아크릴레이트 단일중합체 및 암모늄 아크릴레이트와 아크릴아미드의 공중합체;
    4-(메트)아크릴산과 C1-C6알킬 아크릴레이트의 가교 공중합체;
    5-에스테르 및/또는 아미드 형의 에틸렌계 불포화 부분을 갖는 단량체를 함유한, 비이온성 단일중합체 및 공중합체.
  2. 제 1 항에 있어서, 화학식 1 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (I1) 내지 (I54) 에 해당하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  3. 제 2 항에 있어서, 양이온성 직접 염료가 상기 구조식 (I1), (I2), (I14) 및 (I31) 에 해당하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 화학식 2 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (II1) 내지 (II9) 에 해당하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  5. 제 1 항에 있어서, 화학식 3 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (III1)내지 (III18) 에 해당하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  6. 제 5 항에 있어서, 화학식 3 의 양이온성 직접 염료가 상기 구조식 (III4), (III5) 및 (III13) 에 해당하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서, 화학식 3a 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (III'1) 내지 (III'3) 에 해당하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  8. 제 1 항에 있어서, 화학식 4 의 양이온성 직접 염료가 하기 구조식 (IV)1내지 (IV)77에 해당하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
  9. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서, 화학식 1, 2, 3, 3a 또는 4 의 양이온성 직접 염료가 조성물의 총중량에 대해 0.001 내지 10 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 9 항에 있어서, 화학식 1, 2, 3, 3a 또는 4 의 양이온성 직접 염료가 조성물의 총중량에 대해 0.005 내지 5 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 1 항에 있어서, 분류 (4-) 의 증점 중합체가 메타크릴산과 에틸 아크릴레이트의 가교 공중합체인 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 1 항에 있어서, 분류 (4-) 의 증점 중합체가 아크릴산과 에틸 아크릴레이트의 가교 공중합체인 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항, 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 증점 중합체 (ii) 가 조성물의 총중량에 대해 0.01 내지 10 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 13 항에 있어서, 증점 중합체 (ii) 가 조성물의 총중량에 대해 0.1 내지 5 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서, 염색에 적합한 매질 (또는 지지체) 가 물, 또는 하나 이상의 유기 용매와 물의 혼합물로 이루어진 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서, pH 가 2 내지 11 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서, 산화 염색을 목적으로 하고,파라페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라아미노페놀, 오르토아미노페놀 및 헤테로고리형 염기에서 선택된 하나 이상의 산화 염기를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 17 항에 있어서, 산화 염기가 염료 조성물의 총중량에 대해 0.0005 내지 12 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 18 항에 있어서, 산화 염기가 염료 조성물의 총중량에 대해 0.005 내지 6 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 17 항에 있어서, 메타페닐렌디아민, 메타아미노페놀, 메타디페놀 및 헤테로고리형 발색제에서 선택된 하나 이상의 발색제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 20 항에 있어서, 발색제가 염료 조성물의 총중량에 대해 0.0001 내지 10 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 21 항에 있어서, 발색제가 염료 조성물의 총중량에 대해 0.005 내지 5 중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서, 산화 염색 또는 탈색화 직접 염색 (lightening direct dyeing) 을 목적으로 하며, 하나 이상의 산화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 정의된 하나 이상의 염료 조성물을, 목적하는 착색이 발현되기에 충분한 시간 동안 케라틴 섬유에 적용한 후, 섬유를 헹구고, 경우에 따라 샴푸로 세척한 다음, 다시 헹구고 건조시키는 것을 특징으로 하는 케라틴 섬유의 염색 방법.
  25. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 정의된 하나 이상의 염료 조성물을, 최종 헹굼 없이, 목적하는 착색이 발현되기에 충분한 시간 동안 케라틴 섬유에 적용하는 것을 특징으로 하는 케라틴 섬유의 염색 방법.
  26. 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 정의된 하나 이상의 양이온성 직접 염료 및 하나 이상의 산화 염기를 함유하는 조성물 (A1) 을, 다른 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물 (B1) 을 별도로 저장한 다음, 사용시 이들을 함께 혼합한 후, 이 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하는 것으로 이루어진 예비 단계를 포함하며, 조성물 (A1) 또는 조성물 (B1) 은 제 1 항, 제 11 항 및 제 12 항중 어느 한 항에 정의된 증점 중합체 (ⅱ) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 케라틴 섬유의 염색 방법.
  27. 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 정의된 하나 이상의 양이온성 직접 염료를 함유하는 조성물 (A2) 을, 다른 한 쪽에는, 염색에 적합한 매질내에 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물 (B2) 을 별도로 저장한 다음, 사용시 이들을 함께 혼합한 후, 이 혼합물을 케라틴 섬유에 적용하는 것으로 이루어진 예비 단계를 포함하며, 조성물 (A2) 또는 조성물 (B2) 은 제 1 항, 제 11 항 및 제 12 항중 어느 한 항에 정의된 증점 중합체 (ⅱ) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 케라틴 섬유의 염색 방법.
  28. 제 1 분획이 제 26 항에 정의된 조성물 (A1) 를 함유하고, 제 2 분획이 제 26 항에 정의된 조성물 (B1) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 다분획 염색 장치 또는 다분획 염색 키트.
  29. 제 1 항에 있어서, 케라틴 섬유가 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유인 것을 특징으로 하는 조성물.
  30. 제 1 항에 있어서, 화학식 4 의 기호 J 가 나타내는 (b) 의 질소함유 헤테로시클릭기가 하기 구조식 J2의 기인 것을 특징으로 하는 조성물:
    [식중, R31및 R32는 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내고;
    Y 는 -CO- 라디칼 또는라디칼을 나타내고;
    n 은 0 또는 1 이고, n 이 1 일 때 U 는 -CO- 라디칼을 나타낸다].
  31. 제 16 항에 있어서, pH 가 5 내지 10 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  32. 제 24 항에 있어서, 케라틴 섬유가 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유인 것을 특징으로 하는 방법.
  33. 제 25 항에 있어서, 케라틴 섬유가 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유인 것을 특징으로 하는 방법.
  34. 제 26 항에 있어서, 케라틴 섬유가 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유인 것을특징으로 하는 방법.
  35. 제 27 항에 있어서, 케라틴 섬유가 모발과 같은 인간의 케라틴 섬유인 것을 특징으로 하는 방법.
  36. 제 1 분획이 제 27 항에 정의된 조성물 (A2) 를 함유하고, 제 2 분획이 제 27 항에 정의된 조성물 (B2) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 다분획 염색 장치 또는 다분획 염색 키트.
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