KR20000030903A

KR20000030903A - 섀도우 마스크 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR20000030903A
Application number: KR1020000015787A
Authority: KR
Inventors: 김정식
Original assignee: 김정식
Priority date: 2000-03-28
Filing date: 2000-03-28
Publication date: 2000-06-05
Also published as: JP2001283728A; KR200203507Y1

Abstract

전주 가공기술을 이용하여 저렴하게 제조한 섀도우 마스크 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명의 일 양태에 따른 섀도우 마스크 제조방법은, 베이스 플레이트를 이용하여 마스터 섀도우 마스크를 제작한 후, 상기 마스터 섀도우 마스크를 와트욕과 같은 전주욕에 침지시켜, 고순도의 니켈층을 형성함으로써 섀도우 마스크를 제조한다. 본 발명의 다른 양태에 따른 섀도우 마스크는, 다수의 미세한 홀이 형성되어 있는 섀도우 마스크 프레임; 및 상기 섀도우 마스크 프레임의 연부를 따라 상기 프레임과 일체로 형성되며, 상기 프레임을 보강하기 위한 스커트를 포함한다. 본 발명에 따른 섀도우 마스크 제조방법에 따르면, 고가의 패트닝 장치나 에칭 장치를 사용하지 않고도 저렴하고 정밀한 섀도우 마스크를 생산할 수 있다.

Description

섀도우 마스크 및 그 제조방법{Shadow mask and method of manufacturing the same}

본 발명은 섀도우 마스크에 관한 것으로, 보다 상세하게는 베이스 플레이트를 이용하여 마스터 섀도우 마스크를 제작하고, 상기 마스터 섀도우 마스크를 전주가공하여 생산한 섀도우 마스크 및 상기 섀도우 마스크를 제조할 수 있는 섀도우 마스크 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로, 섀도우 마스크를 사용하는 찰상관(cathod ray tubes) 또는 모니터는, 패널, 퍼널(funnel), 넥(neck)을 구성하는 벌브를 포함한다. 전자총은 상기 넥에 배치되고, 적, 녹, 청 인광층은 상기 패널의 내측면에 분포된다. 섀도우 마스크는, 상기 적, 녹, 청 인광층으로부터 소정 거리 만큼 이격되어 있다.

상기 섀도우 마스크는, 찰상관(일명: 브라운관)의 전자총에서 방사된 전자 비임을 통과시켜, 상기 전자 비임이 인광층상의 각각의 적, 녹, 청 픽셀에 충돌하도록 유도하는데 사용된다.

통상적으로, 섀도우 마스크는, 원하는 금속부분을 보호하기 위한 방식제가 도포된 강재 시트를 사용하여 제조한다. 홀 패턴은 산성 스프레이에 노출시켜 제거하여 매우 정밀하고 거의 투명한 금속판만 남는다. 이와 같이 정밀한 금속판은, 찰상관의 전방 형상으로 늘이어 형성하고, 응력을 해제하기 위하여 어닐링 처리를 한다. 이와 같은 성형 공정은 예상하지 못한 결과를 초래하여 매번 독특한 방식으로 홀 패턴을 파괴한다. 따라서, 찰상관의 면 상의 인광 도트가 상기 섀도우 마스크에 대해서 정확한 위치에 확실히 위치하도록, 상기 섀도우 마스크에 이용되는 광 활성 공정으로 상기 찰상관에 인광층을 적용한다. 상기 인광층의 상기 3색은, 각각 개별적으로 적용해야 하며, 상기 섀도우 마스크를 상기 찰상관에 장착하고 탈착시키는 과정을 세 번 반복해야 한다. 상기 섀도우 마스크에서 결함이 보이면, 상기 섀도우 마스크는 폐기되어야하며, 상기 섀도우 마스크로 제작한 찰상관 면판 또한 폐기되어야한다.

상기 섀도우 마스크에서 결함이 보이는 이유는 많다. 종종 사용한 강판의 두께가 불균일하고, 성형공정과 어닐링공정 후에 류터 라인(luter line)이 완성됨에 따라 불순물이 생성된다. 에칭된 강재는 파손되기 쉽기 때문에, 상기 에칭된 강제는 성형공정중에 종종 변형되어 상기 도트 패턴을 바람직하지 않은 간격으로 변위시킨다. 많은 경우에 홀 또는 슬롯의 크기가 불규칙해지고, 성형공정 동안에 상기 섀도우 마스크가 파열될 수 있다.

상술한 문제점을 해결하기 위하여, 많은 연구 개발이 진행되고 있다.

미합중국 특허 제4,174,264호(1979년 11월 13일자로 존 제이. 프란젠에게 허여됨)는 전주가공 공정을 통해 섀도우 마스크를 생산하는 방법을 개시하고 있다.

도 1은 프란젠의 특허에 따른 섀도우 마스크 제조시의 전주 가공을 하기 위한 장치를 나타낸 개략도이다. 도 1로 나타낸 바와 같이, 베이스(10)가 전주욕(18)에 침지되어 있다. 상기 베이스(10) 위로 철 애노드(20)가 배치된다. 전압원(19)은, 상기 철 애노드(20)를 통해 전류를 공급한다. 철 이온은 상기 욕(10)의 용액을 통해 이동하여 상기 베이스(10)의 노출된 부분에 침착된다. 그 결과, 섀도우 마스크를 형성할 수 있다.

상술한 프란젠의 특허에 따른 섀도우 마스크 생산 방법은, 상술한 전주 공정 전에, 상기 베이스(10)를 방식 패턴으로 도포하며, 상기 방식 패턴은 노광공정과 에칭공정을 거쳐 노출된 부분 만 남게된다. 상기 베이스(10)를 방식 패턴으로 도포하고 노광공정과 에칭공정을 거친 후에는, 상기 베이스(10)를 섀도우 마스크 형태로 성형하고, 크기가 정확하고 적절한 형상을 갖도록 상기 베이스(10)를 점검한다.

그 후, 상술한 전주 공정을 수행한다. 상술한 바와 같이 철 이온이 상기 베이스(10)의 노출된 부분에 침착되어 소정 두께의 섀도우 마스크가 형성되면, 상기 섀도우 마스크를 상기 베이스(10)로부터 벗겨낸다.

이와 같이 구성된 프란젠의 특허에 따른 섀도우 마스크 생산방법은, 롤링, 성형, 또는 어닐링을 거치는 동안 응력이 남지 않는다는 장점이 있다. 따라서, 오일 캐닝 또는 버클링과 같은 문제는 물론 스프링 백 문제도 없다.

그러나, 상술한 프란젠의 특허에 따른 섀도우 마스크 생산방법은, 베이스에 방식층을 도포하고 노광공정을 거쳐, 소정의 크기와 형상을 갖도록 섀도우 마스크 형태로 가공해야 하기 때문에, 고가의 노광장치 및 에칭장치가 요구되며, 또한 베이스가 섀도우 마스크 형상을 갖도록 가공해야 하는 가공공정이 추가로 필요하다는 단점이 있다.

따라서, 본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 본 발명의 목적은, 고가의 패트닝 장치나 에칭 장치를 사용하지 않고도 저렴하고 정밀한 섀도우 마스크를 제조할 수 있는 섀도우 마스크 제조방법을 제공하는데 있다.

본 발명의 다른 목적은, 고가의 패트닝 장치나 에칭 장치를 사용하지 않고도 저렴하고 정밀하게 제작할 수 있는 상기 섀도우 마스크 제조방법을 이용하여 제작한 섀도우 마스크를 제공하는데 있다.

도 1은 종래 기술에 따른 섀도우 마스크를 제조할 시 전주 가공을 하기 위한 장치를 나타낸 개략도이다.

도 2 내지 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조공정중 마스터 섀도우 마스크를 제조하기 위한 공정을 예시하기 위한 도면이다.

도 5 내지 도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조공정중 마스터 섀도우 마스크를 제조하기 위한 공정을 예시하기 위한 도면이다.

도 11은 본 발명의 실시예에 따른 섀도우 마스크를 제조할 시 전주 가공을 하기 위한 장치를 나타낸 개략도이다.

도 12는 본 발명의 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조방법을 이용하여 제작한 섀도우 마스크의 사시도이다.

도 13은 도 12의 A-A′선을 따라 취한 본 발명의 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조방법을 이용하여 제작한 섀도우 마스크의 부분 확대 단면도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

110, 210: 베이스 플레이트 120, 140, 220, 230: 이형재

130, 240: 니켈층 250: 보강재

310: 전주조 320: 욕

330: 전원 340: 니켈괴

410: 프레임 420: 스커트

430: 홀

본 발명의 제1 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 양태에 따른 섀도우 마스크 제조방법은, 니켈과 이형재를 사용하여 마스터 섀도우 마스크를 만드는 단계; 상기 니켈과 상기 이형재로 이루어진 상기 마스터 섀도우 마스크를 욕에 침지시켜 전주가공하여 섀도우 마스크를 형성하는 단계; 그리고 상기 섀도우 마스크가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크부터 상기 섀도우 마스크를 분리하는 단계를 포함한다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 마스터 섀도우 마스크 제조단계는, 베이스 플레이트를 상기 이형재로 도포하여 상기 베이스 플레이트의 홀을 충전시키는 제1 단계; 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트의 양면으로부터 상기 이형재를 제거하여 상기 양면을 평탄화하는 제2 단계; 상기 베이스 플레이트를 욕에 침지시켜 소정 시간 동안 전주가공하여 상기 베이스 플레이트의 일면에 니켈층을 형성하는 제3 단계; 상기 베이스 플레이트를 상기 욕으로부터 제거한 후, 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층을 완전히 덮도록 상기 베이스 플레이트의 상기 일면을 상기 이형재로 도포하여 응고시키는 제4 단계; 그리고 상기 이형재와 상기 니켈층으로부터 상기 베이스 플레이트를 제거하는 제5 단계를 포함한다.

본 발명의 제2 실시예에 따르면, 상기 마스터 섀도우 마스크 제조단계는, 베이스 플레이트를 상기 이형재로 도포하여 상기 베이스 플레이트의 홀을 충전시키는 제1 단계; 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트의 일면으로부터 상기 이형재를 제거하고 상기 일면을 평탄화하는 제2 단계; 상기 베이스 플레이트를 욕에 침지시켜 소정 시간 동안 전주가공하여 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 니켈층을 형성하는 제3 단계; 상기 베이스 플레이트를 상기 욕으로부터 제거한 후, 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층을 완전히 덮도록 상기 베이스 플레이트의 상기 일면을 상기 이형재로 도포하여 응고시키는 제4 단계; 상기 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트의 타면으로부터 상기 이형재를 제거하고 상기 타면을 평탄화하는 제5 단계; 그리고 상기 이형재와 상기 니켈층으로부터 상기 베이스 플레이트를 제거하는 제6 단계를 포함한다.

본 발명의 제2 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 양태에 따른 섀도우 마스크는, 다수의 미세한 홀이 형성되어 있는 섀도우 마스크 프레임; 및 상기 섀도우 마스크 프레임의 연부를 따라 상기 프레임과 일체로 형성되며, 상기 프레임을 보강하기 위한 스커트를 포함하며,

상기 프레임과 상기 스커트는, 니켈과 이형재를 사용하여 마스터 섀도우 마스크를 만드는 단계; 상기 니켈과 상기 이형재로 이루어진 상기 마스터 섀도우 마스크를 욕에 침지시켜 전주가공하여 섀도우 마스크를 형성하는 단계; 그리고 상기 섀도우 마스크가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크를 상기 욕으로부터 제거한 후, 상기 마스터 섀도우 마스크로부터 상기 섀도우 마스크를 분리하는 단계를 포함하는 제조공정에 의해 일체로 형성된다.

상기 프레임과 상기 스커트는, 두께가 약 0.1㎜이며, 상기 프레임에 형성된 홀의 직경은 약 20㎛이다.

본 발명의 제1 양태 및 제2 양태에 있어서, 상기 이형재로는 실리콘 수지가 사용되며, 상기 이형재를 화학적으로 제거하기 위한 연마제로는 시너, 아세톤, 또는 톨루엔을 사용한다.

한편, 상기 이형재를 화학적으로 제거하기 위한 연마제로는 시너와 톨루엔의 혼합물을 사용할 수도 있다.

상기 니켈층을 형성하기 위해 상기 전주 가공시에 사용되는 상기 욕은 와트욕, 염화물 니켈욕, 붕불화 니켈욕, 및 설파민산 니켈욕중에서 선택할 수 있다.

상기 니켈층의 형성을 촉진하기 위하여 상기 욕에 니켈괴를 추가로 공급한다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 양태에 따른 섀도우 마스크 제조방법은, 고가의 패터닝 장치 및 에칭 장치를 사용하지 않고도 고정밀도의 섀도우 마스크를 제조할 수 있는 장점이 있다.

또한, 상술한 섀도우 마스크 제조방법에 따르면, 섀도우 마스크를 저렴한 비용으로 제조할 수 있으며, 그에 따라 저가의 섀도우 마스크를 제공할 수 있는 잇점이 있다.

본 발명의 상기 목적 및 다른 장점들은 이하 첨부한 도면을 참조한 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 상세한 설명을 통해 더욱 명백하여질 것이다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 일 양태에 따른 섀도우 마스크 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.

본 발명의 일 양태에 따른 섀도우 마스크 제조공정은, 니켈과 이형재(120, 140, 220, 230, 260)를 사용하여 마스터 섀도우 마스크를 만드는 단계; 상기 니켈과 상기 이형재(120, 140, 220, 230, 260)로 이루어진 상기 마스터 섀도우 마스크를 욕(280)에 침지시켜 전주가공하여 섀도우 마스크(300)를 형성하는 단계; 그리고 상기 섀도우 마스크(300)가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크를 상기 욕(280)으로부터 제거한 후, 상기 마스터 섀도우 마스크로부터 상기 섀도우 마스크(300)를 분리하는 단계를 포함한다.

도 2 내지 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조공정중 마스터 섀도우 마스크(100)를 제조하기 위한 공정을 예시하기 위한 도면이다.

도 2 내지 도 4로 예시한 바와 같이, 상기 마스터 섀도우 마스크 제조단계는, 베이스 플레이트(110)를 상기 이형재(120)로 도포하여 상기 베이스 플레이트의 홀을 충전시키는 제1 단계; 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트(110)의 양면으로부터 상기 이형재(120)를 제거하여 상기 양면을 평탄화하는 제2 단계; 상기 베이스 플레이트(120)를 욕(280)에 침지시켜 소정 시간 동안 전주가공하여 상기 베이스 플레이트(110)의 일면에 니켈층(130)을 형성하는 제3 단계; 상기 베이스 플레이트(110)를 상기 욕(280)으로부터 제거한 후, 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층(130)을 완전히 덮도록 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 일면을 상기 이형재(140)로 도포하여 응고시키는 제4 단계; 그리고 상기 이형재(120)와 상기 니켈층(130)으로부터 상기 베이스 플레이트(110)를 제거하는 제5 단계를 포함한다.

상기 마스터 섀도우 마스크 제조공정 중 상기 베이스 플레이트(110)의 홀에 이형재(120)를 충전시키는 제1 단계는, 상기 베이스 플레이트(110)를 이형재(120)로 완전히 도포하고, 상기 베이스 플레이트(110)에 형성된 홀에 이형재(120)가 충전되도록 균일하게 분산시킨다. 상기 베이스 플레이트(110)로는 기존의 섀도우 마스크를 이용하며, 상기 이형재(120)로는 실리콘 수지를 사용한다.

그 후, 상기 제2 단계에서, 도 2로 나타낸 바와 같이, 상기 베이스 플레이트(110)를 완전히 덮고 있는 상기 이형재(120) 중 상기 베이스 플레이트(110)의 양면에 분포된 이형재(120)를 상기 연마제를 사용하여 제거한다. 이때, 상기 홀에 충전된 상기 이형재(120)는, 상기 홀에 충전된 상태로 남아 있도록 한다. 또한, 상기 이형재(120)로 충전된 상기 홀의 양 개구와 상기 베이스 플레이트(110)의 양면이 동일한 평면 상태가 되도록 평탄화한다. 그 후, 공기 중에서 상기 베이스 플레이트(110)를 냉각시켜 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 홀에 충전된 상기 이형재(120)를 응고시킨다.

상기 제2 단계에서, 상기 이형재(120)를 제거하고 평탄화하기 위한 상기 연마제로는 시너, 아세톤, 또는 톨루엔을 사용한다. 그러나, 상기 연마제로는 시너와 톨루엔을 혼합한 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.

상기 베이스 플레이트(110)의 양면에서 상기 이형재(120)를 제거하여 상기 베이스 플레이트(110)와 상기 홀의 양 개구를 평탄화한 후에는, 상기 베이스 플레이트(110)에 전원의 음극을 연결하고, 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 홀에 상기 이형재(120)가 충전된 상태로 상기 베이스 플레이트(110)를 욕조(270)에 채워진 전주욕(280)에 완전히 침지시켜 전주 공정을 수행하여, 상기 베이스 플레이트(110)의 일면에 니켈층(130)이 형성되도록 한다(제3 단계).

상기 전주 공정에 사용되는 전주욕(280)은, 와트욕, 염화물 니켈욕, 붕불화 니켈욕, 및 설파민산 니켈욕 중 하나를 선택적으로 사용할 수 있다. 도 11에 상술한 전주욕(280)의 일예가 개략적으로 도시되어 있다. 도 11에 도시한 바와 같이, 상기 전주욕(280)에는, 상기 니켈층(130)의 형성을 촉진하기 위하여 니켈괴(290)를 추가로 공급한다. 상기 니켈괴(290)는, 상기 전원의 양극이 연결되며, 상기 전주욕(280)에 완전히 침지된 상태로 배치된다.

상기 베이스 플레이트(110)는, 상기 욕(280)내에서 그 일면이 상기 니켈괴(290)와 마주하도록 배열된다. 이와 같이 상기 베이스 플레이트(110)와 상기 니켈괴(290)가 배열된 상태에서, 상기 전원으로부터 상기 베이스 플레이트(110)와 상기 니켈괴(290)에 전류를 공급하면, 전류는 상기 전원에서 상기 베이스 플레이트(110)와 상기 욕(280)을 통해 상기 니켈괴(290)로 도전되며, 반대로 상기 니켈괴(290)로부터 이탈한 니켈 이온과 상기 욕 중에 용해되어 있는 니켈 이온은 상기 욕(280)을 통해 상기 베이스 플레이트(110) 쪽으로 이동한다.

상기 전주욕(280)에서 상기 전주 공정이 진행되는 동안에, 상기 욕(280)에 이온 상태로 용해되어 있는 니켈과 상기 니켈괴(290)에서 이온 상태로 전해된 니켈이 상기 베이스 플레이트(110)의 일면에 침착되어 조밀한 층을 쌓게된다. 그러나, 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 홀은 상술한 바와 같이 상기 이형재(120)로 충전되어 있기 때문에, 상기 이형재(120)로 인해, 상기 니켈 이온이 상기 홀에 침착되지 못한다. 따라서, 상기 베이스 플레이트(110)의 일면에 침착되어 층을 이루는 니켈층(130)은, 상기 베이스 플레이트(110)와 거의 유사한 형상으로 형성된다.

그러나, 상기 베이스 플레이트(110)의 일면에 침착되는 니켈층(130)은, 상기 홀에 충전된 상기 이형재(120)와 상기 홀의 개구가 면하는 경계면에서는 상기 베이스 플레이트(110)의 일면과 평행한 방향 및 그 일면에 대해 수직 방향으로 성장하게된다. 그 결과, 상기 니켈층(130)에 형성된 홀은 상기 베이스 플레이트(110)에 형성된 상기 홀 보다 직경이 작아 진다.

상술한 바와 같이, 상기 니켈층(130)이 성장하여 소정의 두께, 바람직하게는 약 0.05㎜가 되면, 상기 전주 공정을 완료한다. 상기 니켈층(130)을 약 0.05㎜의 두께로 성장시키는데 소요되는 시간은, 통상의 전주욕(280)과 전주 조건하에서 약 1 내지 2시간 정도 걸린다.

상기 전주 공정을 통해 상기 베이스 플레이트(110)에 상기 니켈층(130)을 형성하는 제3 단계가 완료되면, 상기 니켈층(130)이 형성된 상기 베이스 플레이트(110)를 상기 전주욕(280)에서 빼낸다.

이어서, 상기 이형재(140)로 상기 베이스 플레이트(110)의 일면에 형성된 상기 니켈층(130)을 완전히 덮도록, 도 3으로 나타낸 바와 같이, 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 일면을 도포한다. 상기 이형재(140)는 상술한 이형재(120)와 동일한 재료, 즉 실리콘 수지를 사용한다. 상기 베이스 플레이트(110)를 상기 이형재(140)로 도포한 후에는, 상기 베이스 플레이트(110)를 공기 중에서 재차 냉각시켜, 상기 이형재(140)와 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 홀에 충전된 상기 이형재(120)가 일체가 되도록 응고시킨다(제4 단계).

도 3을 참조하면, 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 홀 내에 상기 이형재(120)가 충전되어 있고, 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층(130)이 상기 이형재(140)에 의해 덮여있음을 알 수 있을 것이다.

상술한 바와 같이 상기 이형재(140)로 상기 베이스 플레이트(110)를 도포하는 제4 단계가 완료되면, 상기 이형재(120, 140)와 상기 베이스 플레이트(110)를 분리시킨다. 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 홀에 충전된 상기 이형재(120)를 상기 홀로부터 빼내면서, 상기 베이스 플레이트(110)의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층(130)과 상기 베이스 플레이트(110)를 분리한다(제5 단계). 상술한 제5 단계에서, 상기 니켈층(130)은 약간의 힘을 가할 경우 상기 베이스 플레이트(110)로부터 용이하게 분리된다. 따라서, 상기 니켈층(130)은 상기 이형재(120, 130)에 의해 에워싸인 상태로 있게 된다.

상술한 바와 같은 공정을 통해 상기 마스터 섀도우 마스크(100)의 제작이 완료된다.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조공정 중 상기 마스터 섀도우 마스크 제조공정에 의해 제작된 마스터 섀도우 마스크(100)의 단면도이다. 도 4로 나타낸 바와 같은 상기 마스터 섀도우 마스크(100)가 완료된 후에는, 상기 마스터 새도우 마스크(100)를 이용하여 섀도우 마스크(300)를 제작한다.

상술한 상기 마스터 섀도우 마스크(100) 제조공정과 관련하여 설명한 바와 동일한 상기 전주욕(280)에, 상기 전원의 음극이 상기 니켈층(130)에 연결된 상기 마스터 섀도우 마스크(100)를 침지시킨다. 도 11로 나타낸 바와 같은, 상기 전주욕(280)에는 상술한 바와 같이 니켈괴(290)를 상기 마스터 섀도우 마스크(100)와 함께 침지시키며, 상기 니켈괴(290)와 상기 마스터 섀도우 마스크(100)는, 상기 니켈괴(290)가 상기 마스터 섀도우 마스크(100)의 상기 니켈층(130)과 마주하도록 배열한다.

상기 마스터 섀도우 마스크(100)와 상기 니켈괴(290)가 상술한 바와 같이 배열된 상태에서, 상기 전원으로부터 상기 마스터 섀도우 마스크(100)와 상기 니켈괴(290)에 전류를 공급하면, 전류는 상기 전원에서 상기 마스터 섀도우 마스크(100)의 상기 니켈층(130)과 상기 욕(280)을 통해 상기 니켈괴(290)로 도전되며, 반대로 상기 니켈괴(290)로부터 이탈한 니켈 이온과 상기 욕 중에 용해되어 있는 니켈 이온은 상기 욕(280)을 통해 상기 마스터 섀도우 마스크(100)의 상기 니켈층(130) 쪽으로 이동한다.

상기 전주욕(280)에서 섀도우 마스크를 제조하기 위한 상기 전주 공정이 진행되는 동안에, 상기 욕(280)에 이온 상태로 용해되어 있는 니켈과 상기 니켈괴(290)에서 이온 상태로 전해된 니켈이 상기 마스터 섀도우 마스크(100)의 상기 니켈층(130)에 침착되어 조밀한 층을 쌓게된다. 이와 같이 상기 니켈층(130)에서 생성되어 성장한 새로운 니켈층은 상기 이형재(120)의 외주를 따라 상기 이형재(120)의 말단까지 성장하게된다. 따라서, 상기 새로운 니켈층은 상기 마스터 섀도우 마스크(100)에서 분리한 상기 베이스 플레이트(110)와 동일한 형상을 갖는 섀도우 마스크(300)가 형성된다.

상술한 바와 같이, 상기 새로운 니켈층이 성장하여 소정의 두께, 바람직하게는 약 0.1㎜의 두께를 갖는 상기 섀도우 마스크(300)가 완성되면, 상기 전주 공정을 완료한다. 상기 섀도우 마스크(300)를 약 0.1㎜의 두께로 성장시키는데 소요되는 시간은, 통상의 전주욕(280)과 전주 조건하에서 약 2 내지 3 시간 정도 걸린다.

상기 전주 공정을 통해 상기 마스터 섀도우 마스크(300)를 이용하여 상기 섀도우 마스크(300)를 형성하는 단계가 완료되면, 상기 섀도우 마스크(300)가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크(100)를 상기 전주욕(280)에서 빼낸다.

상기 전주욕(280)에서 빼낸 상기 섀도우 마스크(300)가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크(100)는, 순수(pure water)로 세정한 후, 상기 마스터 섀도우 마스크(100)로부터 상기 섀도우 마스크(300)를 분리한다. 이때, 상기 섀도우 마스크(300)와 상기 마스터 섀도우 마스크(100)에 약간의 힘을 가하기만 해도 상기 섀도우 마스크(300)가 상기 마스터 섀도우 마스크(100)의 상기 니켈층(130)과 쉽게 분리된다.

상술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조방법을 이용하여, 상기 베이스 플레이트(110)로서 사용된 기존의 섀도우 마스크와 동일한 규격의 상기 섀도우 마스크(300)를 제조할 수 있을 뿐만 아니라 상기 마스터 섀도우 마스크(100)를 반복적으로 사용하여 상기 섀도우 마스크(300)를 대량 생산할 수 있다.

상술한 바와 같이 제조된 상기 섀도우 마스크(300)의 전체적 형상, 크기, 두께, 개구도 등도 기존의 섀도우 마스크와 동일하게 된다. 또한, 상기 섀도우 마스크(300)의 전기 전도성, 변형율 등의 물리적 특성도 기존의 섀도우 마스크의 물리적 특성과 거의 유사하거나 같다.

도 5 내지 도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 섀도우 마스크의 제조공정중 마스터 섀도우 마스크(200)를 제조하기 위한 공정을 예시하기 위한 도면이다.

본 발명의 제2 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조공정은, 마스터 섀도우 마스크(200)를 제조하는 공정을 제외하고는 본 발명의 제1 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조공정과 동일하다. 따라서, 이하에서는 마스터 섀도우 마스크 제조공정을 중심으로 본 발명의 제2 실시예를 설명한다.

도 5 내지 도 10으로 도시한 바와 같이, 상기 마스터 섀도우 마스크 제조단계는, 베이스 플레이트(210)를 상기 이형재(220, 230)로 도포하여 상기 베이스 플레이트(210)의 홀을 충전시키는 제1 단계; 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트(210)의 일면으로부터 상기 이형재(230)를 제거하고 상기 일면을 평탄화하는 제2 단계; 상기 베이스 플레이트(210)를 욕(280)에 침지시켜 소정 시간 동안 전주가공하여 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 일면에 니켈층(240)을 형성하는 제3 단계; 상기 베이스 플레이트(210)를 상기 욕(280)으로부터 제거한 후, 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층(240)을 완전히 덮도록 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 일면을 상기 이형재(260)로 도포하여 응고시키는 제4 단계; 상기 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트(210)의 타면으로부터 상기 이형재(230)를 제거하고 상기 타면을 평탄화하는 제5 단계; 그리고 상기 이형재(220, 260)와 상기 니켈층(240)으로부터 상기 베이스 플레이트(210)를 제거하는 제6 단계를 포함한다.

상기 마스터 섀도우 마스크 제조공정 중 상기 베이스 플레이트(210)의 홀에 이형재(220)를 충전시키는 제1 단계는, 도 5로 나타낸 바와 같이, 상기 베이스 플레이트(210)를 이형재(230)로 완전히 도포하고, 상기 베이스 플레이트(210)에 형성된 홀에 이형재(220)가 충전되도록 균일하게 분산시킨다. 상기 베이스 플레이트(210)로는 본 발명의 제1 실시예와 관련하여 설명한 바와 같이 기존의 섀도우 마스크를 이용하며, 상기 이형재(220, 230, 260)로는 실리콘 수지를 사용한다.

그 후, 상기 제2 단계에서, 도 6으로 나타낸 바와 같이, 상기 베이스 플레이트(210)를 완전히 덮고 있는 상기 이형재(230) 중 상기 베이스 플레이트(210)의 일면에 분포된 이형재(230)를 상기 연마제를 사용하여 제거한다. 이때, 상기 이형재(220)로 충전된 상기 홀의 일 개구와 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 일면이 동일한 평면 상태가 되도록 평탄화한다. 그 후, 공기 중에서 상기 베이스 플레이트(210)를 냉각시켜 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 홀에 충전되고 상기 베이스 플레이트(210)를 덮고 있는 상기 이형재(220, 230)를 응고시킨다.

상기 이형재(230)를 제거하고 상기 베이스 플레이트(210)를 평탄화하기 위한 상기 연마제로는 시너, 아세톤, 또는 톨루엔을 사용한다. 그러나, 상기 연마제로는 시너와 톨루엔을 혼합한 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.

상기 베이스 플레이트(210)의 상기 일면에서 상기 이형재(230)를 제거하여 상기 베이스 플레이트(210)와 상기 홀의 일 개구를 평탄화한 후에는, 상기 베이스 플레이트(210)에 전원의 음극을 연결하고, 상기 이형재(220, 230)가 상기 베이스 플레이트(210)의 다른 일면을 덮고 상기 홀에 충전된 상태로 상기 베이스 플레이트(210)를 욕조(270)에 채워진 전주욕(280)에 완전히 침지시켜 전주 공정을 수행하여, 상기 베이스 플레이트(210)의 일면에 니켈층(240)이 형성되도록 한다(제3 단계).

상기 전주 공정에 사용되는 전주욕(280)은, 본 발명의 제1 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조공정에 사용된 것과 동일한 것을 사용할 수 있으며, 와트욕, 염화물 니켈욕, 붕불화 니켈욕, 또는 설파민산 니켈욕 중 하나를 선택할 수 있다. 도 11에 상술한 전주욕(280)의 일예가 개략적으로 도시되어 있다. 도 11에 도시한 바와 같이, 상기 전주욕(280)에는, 상기 니켈층(240)의 형성을 촉진하기 위하여 니켈괴(290)를 추가로 공급한다. 상기 니켈괴(290)는, 상기 전원의 양극이 연결되며, 상기 전주욕(280)에 완전히 침지된 상태로 배치된다.

상기 베이스 플레이트(210)는, 상기 욕(280)내에서 상기 이형재(230)가 제거된 일면이 상기 니켈괴(290)와 마주하도록 배열된다. 상기 베이스 플레이트(210)와 상기 니켈괴(290)가 상술한 바와 같이 배열된 상태에서, 상기 전원으로부터 상기 베이스 플레이트(210)와 상기 니켈괴(290)에 전류를 공급하면, 전류는 상기 전원에서 상기 베이스 플레이트(210)와 상기 욕(280)을 통해 상기 니켈괴(290)로 도전되며, 반대로 상기 니켈괴(290)로부터 이탈한 니켈 이온과 상기 욕(280) 중에 용해되어 있는 니켈 이온은 상기 욕(280)을 통해 상기 베이스 플레이트(210) 쪽으로 이동한다.

상기 전주욕(280)에서 상기 전주 공정이 진행되는 동안에, 상기 욕(280)에 이온 상태로 용해되어 있는 니켈과 상기 니켈괴(290)에서 이온 상태로 전해된 니켈이 상기 베이스 플레이트(210)의 일면에 침착되어 조밀한 층을 쌓게된다. 그러나, 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 홀은 상술한 바와 같이 상기 이형재(220)로 충전되어 있기 때문에, 상기 이형재(220)로 인해, 상기 니켈 이온이 상기 홀에 침착되지 못한다. 따라서, 상기 베이스 플레이트(210)의 일면에 침착되어 층을 이루는 니켈층(240)은, 상기 베이스 플레이트(210)와 거의 유사한 형상으로 형성된다(도 7 참조).

그러나, 상기 베이스 플레이트(210)의 일면에 침착되는 니켈층(240)은, 상기 홀에 충전된 상기 이형재(220)와 상기 홀의 개구가 면하는 경계면에서는 상기 베이스 플레이트(210)의 일면과 평행한 방향 및 그 일면에 대해 수직 방향으로 성장하게된다. 그 결과, 상기 니켈층(240)에 형성된 홀은 상기 베이스 플레이트(210)에 형성된 상기 홀 보다 직경이 작아 진다.

상술한 바와 같이, 상기 니켈층(240)이 성장하여 소정의 두께, 바람직하게는 약 0.05㎜가 되면, 상기 전주 공정을 완료한다. 상기 니켈층(240)을 약 0.05㎜의 두께로 성장시키는데 소요되는 시간은, 통상의 전주욕(280)과 전주 조건하에서 약 1 내지 2 시간 정도 걸린다.

상기 전주 공정을 통해 상기 베이스 플레이트(210)에 상기 니켈층(240)을 형성하는 제3 단계가 완료되면, 상기 니켈층(240)이 형성된 상기 베이스 플레이트(210)를 상기 전주욕(280)에서 빼낸다.

이어서, 상기 이형재(260)로 상기 베이스 플레이트(210)의 일면에 형성된 상기 니켈층(240)을 완전히 덮도록, 도 8으로 나타낸 바와 같이, 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 일면을 도포한다. 상기 이형재(260)는 상술한 이형재(220)와 동일한 재료, 즉 실리콘 수지를 사용한다. 한편, 상기 베이스 플레이트(210)의 일면을 도포하는 동안에, 상기 이형재(260) 층을 보강하기 위하여 스크린(250)과 같은 재료를 상기 이형재(260) 층에 삽입한다. 상기 베이스 플레이트(210)를 상기 이형재(260)로 도포한 후에는, 상기 베이스 플레이트(210)를 공기 중에서 재차 냉각시켜, 상기 이형재(260)와 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 홀에 충전된 상기 이형재(220)가 일체가 되도록 응고시킨다(제4 단계). 도 8을 참조하면, 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 홀 내에 상기 이형재(220)가 충전되어 있고, 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 양면이 상기 이형재(230, 260)에 의해 덮여 있음을 알 수 있을 것이다. 따라서, 상기 베이스 플레이트(210)의 일면에 형성된 상기 니켈층(240) 또한 상기 이형재(260)에 의해 완전히 덮이게 된다.

상술한 바와 같이 상기 이형재(260)로 상기 베이스 플레이트(210)를 도포하는 제4 단계가 완료되면, 상기 시너와 톨루엔의 혼합물과 같은 연마제를 이용하여 상기 베이스 플레이트(210)의 다른 일면을 덮고 있는 상기 이형재(230)을 제거하고 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 다른 일면을 평탄화한다. 이때에도, 도 9로 나타내고 상술한 바와 같이 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 홀의 다른 개구와 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 다른 일면이 동일한 평면 상태가 되도록 평탄화한다(제5 단계).

상술한 바와 같이 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 다른 일면으로부터 상기 이형재(230)를 제거하고 평탄화하는 제5 단계가 완료되면, 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 홀에 충전된 상기 이형재(220)를 상기 홀로부터 빼내면서, 상기 베이스 플레이트(210)의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층(240)과 상기 베이스 플레이트(210)를 분리한다(제6 단계). 상술한 제6 단계에서, 상기 니켈층(240)은 약간의 힘을 가할 경우 상기 베이스 플레이트(210)으로부터 용이하게 분리된다. 따라서, 상기 니켈층(240)은 상기 이형재(220, 260)에 의해 에워싸인 상태로 있게 된다.

상술한 바와 같은 공정을 통해 도 10으로 나타낸 바와 같은 상기 마스터 섀도우 마스크(200)의 제작이 완료된다.

상기 마스터 섀도우 마스크(200)의 제조가 완료된 후에는, 상기 마스터 새도우 마스크(200)를 이용하여 섀도우 마스크(300)를 제작한다.

상술한 상기 마스터 섀도우 마스크(200) 제조공정과 관련하여 설명한 바와 동일한 상기 전주욕(280)에, 상기 전원의 음극이 상기 니켈층(240)에 연결된 상기 마스터 섀도우 마스크(200)를 침지시킨다. 도 11로 나타낸 바와 같은, 상기 전주욕(280)에는 상술한 바와 같이 니켈괴(290)를 상기 마스터 섀도우 마스크(200)와 함께 침지시키며, 상기 니켈괴(290)와 상기 마스터 섀도우 마스크(200)는, 상기 니켈괴(290)가 상기 마스터 섀도우 마스크(200)의 상기 니켈층(240)과 마주하도록 배열한다.

상기 마스터 섀도우 마스크(200)와 상기 니켈괴(290)가 상술한 바와 같이 배열된 상태에서, 상기 전원으로부터 상기 마스터 섀도우 마스크(200)와 상기 니켈괴(290)에 전류를 공급하면, 전류는 상기 전원에서 상기 마스터 섀도우 마스크(200)의 상기 니켈층(240)과 상기 욕을 통해 상기 니켈괴(290)로 도전되며, 반대로 상기 니켈괴(290)로부터 이탈한 니켈 이온과 상기 욕 중에 용해되어 있는 니켈 이온은 상기 욕을 통해 상기 마스터 섀도우 마스크(200)의 상기 니켈층(240) 쪽으로 이동한다.

상기 전주욕(280)에서 섀도우 마스크(300)를 제조하기 위한 상기 전주 공정이 진행되는 동안에, 상기 욕(280)에 이온 상태로 용해되어 있는 니켈과 상기 니켈괴(290)에서 이온 상태로 전해된 니켈이 상기 마스터 섀도우 마스크(200)의 상기 니켈층(240)에 침착되어 조밀한 층을 쌓게된다. 이와 같이 상기 니켈층(240)에서 생성되어 성장한 새로운 니켈층은 상기 이형재(220)의 외주를 따라 상기 이형재(220)의 말단까지 성장하게된다. 따라서, 상기 새로운 니켈층은 상기 마스터 섀도우 마스크(200)에서 분리한 상기 베이스 플레이트(210)와 동일한 형상을 갖는 섀도우 마스크(300)가 형성된다.

상기 전주 공정을 통해 상기 마스터 섀도우 마스크(300)를 이용하여 상기 섀도우 마스크(300)를 형성하는 단계가 완료되면, 상기 섀도우 마스크(300)가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크(200)를 상기 전주욕(280)에서 빼낸다.

상기 전주욕(280)에서 빼낸 상기 섀도우 마스크(300)가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크(100)는, 순수(pure water)로 세정한 후, 상기 마스터 섀도우 마스크(200)로부터 상기 섀도우 마스크(300)를 분리한다. 이때, 상기 섀도우 마스크(300)와 상기 마스터 섀도우 마스크(200)에 약간의 힘을 가하기만 해도 상기 섀도우 마스크(300)가 상기 마스터 섀도우 마스크(200)의 상기 니켈층(130)과 쉽게 분리된다.

상술한 본 발명의 제2 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조방법을 이용하여, 상기 베이스 플레이트(210)로서 사용된 기존의 섀도우 마스크와 동일한 규격의 상기 섀도우 마스크(300)를 제조할 수 있을 뿐만 아니라 상기 마스터 섀도우 마스크(200)를 반복적으로 사용하여 상기 섀도우 마스크(300)를 대량 생산할 수 있다.

상술한 바와 같이 제조된 상기 섀도우 마스크의 전체적 형상, 크기, 두께, 개구도 등도 기존의 섀도우 마스크와 동일하게 된다. 또한, 상기 섀도우 마스크(300)의 전기 전도성, 변형율 등의 물리적 특성도 기존의 섀도우 마스크의 물리적 특성과 거의 유사하거나 같다.

이하 본 발명의 다른 양태에 따른 섀도우 마스크(300)에 대하여 상세히 설명한다.

도 12는 본 발명의 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조방법을 이용하여 제작한 섀도우 마스크(300)의 사시도이다. 도 13은 도 12의 A-A′선을 따라 취한 본 발명의 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조방법을 이용하여 제작한 섀도우 마스크(300)의 부분 확대 단면도이다.

도 12 및 도 13으로 나타낸 바와 같이, 본 발명의 다른 양태에 따른 섀도우 마스크(300)는 다수의 미세한 홀(330)이 형성되어 있는 섀도우 마스크 프레임(310); 그리고 상기 섀도우 마스크 프레임(310)의 연부를 따라 상기 프레임(310)과 일체로 형성되며, 상기 프레임을 보강하기 위한 스크트(320)를 포함한다. 상기 프레임(310)과 상기 스커트(320)는, 니켈과 이형재를 사용하여 마스터 섀도우 마스크를 만드는 단계; 상기 니켈과 상기 이형재로 이루어진 상기 마스터 섀도우 마스크를 욕(280)에 침지시켜 전주가공하여 섀도우 마스크(300)를 형성하는 단계; 그리고 상기 섀도우 마스크(300)가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크를 상기 욕(280)으로부터 제거한 후, 상기 마스터 섀도우 마스크로부터 상기 섀도우 마스크(300)를 분리하는 단계를 포함하는 제조공정에 의해 일체로 형성된다.

상기 마스터 섀도우 마스크(300)는, 본 발명의 제1 및 제2 실시예에 따른 섀도우 마스크 제조방법중 하나를 이용하여 제작한다.

도 12와 도 13을 참조하면, 상기 프레임(310)에는 다수의 홀(330)이 형성되어 있으며, 15인치형 찰상관(Cathod Ray Tube) 또는 모니터에 적용되는 섀도우 마스크의 경우에는 상기 홀(330)의 수는 약 80만개이다. 상기 섀도우 마스크(300)는, 이를 적용하고자 하는 찰상관(Cathod Ray Tube) 또는 모니터의 크기에 적합하게 제조할 수 있으며, 두께(t)는 대략 0.1㎜ 이며, 상기 프레임(310)에 형성된 홀(330)의 직경(Φ)은 약 20㎛이다.

상술한 바와 같이 본 발명의 일 양태에 따른 섀도우 마스크 제조방법을 이용하여 섀도우 마스크를 제조하면, 고가의 패터닝 장치 및 에칭 장치를 사용하지 않고도 고정밀도의 섀도우 마스크를 제조할 수 있는 장점이 있다. 또한, 상술한 섀도우 마스크 제조방법에 따르면, 섀도우 마스크를 저렴한 비용으로 제조할 수 있으며, 그에 따라 저가의 섀도우 마스크를 제공할 수 있는 잇점이 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims

니켈과 이형재를 사용하여 마스터 섀도우 마스크를 만드는 단계;

상기 니켈과 상기 이형재로 이루어진 상기 마스터 섀도우 마스크를 욕에 침지시켜 전주 가공하여 섀도우 마스크를 형성하는 단계; 그리고

상기 섀도우 마스크가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크로부터 상기 섀도우 마스크를 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 1 항에 있어서, 상기 마스터 섀도우 마스크 제조단계는, 베이스 플레이트를 상기 이형재로 도포하여 상기 베이스 플레이트의 홀을 충전시키는 제1 단계; 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트의 양면으로부터 상기 이형재를 제거하여 상기 양면을 평탄화하는 제2 단계; 상기 베이스 플레이트를 욕에 침지시켜 소정 시간 동안 전주가공하여 상기 베이스 플레이트의 일면에 니켈층을 형성하는 제3 단계; 상기 베이스 플레이트를 상기 욕으로부터 제거한 후, 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층을 완전히 덮도록 상기 베이스 플레이트의 상기 일면을 상기 이형재로 도포하여 응고시키는 제4 단계; 그리고 상기 이형재와 상기 니켈층으로부터 상기 베이스 플레이트를 제거하는 제5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 2 항에 있어서, 상기 이형재는 실리콘 수지인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 2 항에 있어서, 상기 이형재를 제거하고 평탄화하는 제2 단계에서, 상기 연마제는 시너, 아세톤, 또는 톨루엔을 포함하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 3 항에 있어서, 상기 이형재를 제거하고 평탄화하는 제2 단계에서, 상기 연마제는 시너와 톨루엔의 혼합물인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 2 항에 있어서, 상기 니켈층을 형성하는 제3 단계에서, 상기 전주가공에 사용되는 상기 욕은 와트욕, 염화물 니켈욕, 붕불화 니켈욕, 및 설파민산 니켈욕중에서 선택하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 6 항에 있어서, 상기 니켈층의 형성을 촉진하기 위하여 상기 욕에 순수 니켈괴를 추가로 공급하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 1 항에 있어서, 상기 마스터 섀도우 마스크 제조단계는, 베이스 플레이트를 상기 이형재로 도포하여 상기 베이스 플레이트의 홀을 충전시키는 제1 단계; 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트의 일면으로부터 상기 이형재를 제거하고 상기 일면을 평탄화하는 제2 단계; 상기 베이스 플레이트를 욕에 침지시켜 소정 시간 동안 전주가공하여 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 니켈층을 형성하는 제3 단계; 상기 베이스 플레이트를 상기 욕으로부터 제거한 후, 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층을 완전히 덮도록 상기 베이스 플레이트의 상기 일면을 상기 이형재로 도포하여 응고시키는 제4 단계; 상기 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트의 타면으로부터 상기 이형재를 제거하고 상기 타면을 평탄화하는 제5 단계; 그리고 상기 이형재와 상기 니켈층으로부터 상기 베이스 플레이트를 제거하는 제6 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 8 항에 있어서, 상기 이형재는 실리콘 수지인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 8 항에 있어서, 상기 이형재를 제거하고 평탄화하는 제2 및 제5 단계에서, 상기 연마제는 시너, 아세톤, 또는 톨루엔인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 9 항에 있어서, 상기 이형재를 제거하고 평탄화하는 제2 및 제5 단계에서, 상기 연마제는 시너와 톨루엔의 혼합물인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 8 항에 있어서, 상기 니켈층을 형성하는 제3 단계에서, 상기 전주가공에 사용되는 상기 욕은 와트욕, 염화물 니켈욕, 붕불화 니켈욕, 및 설파민산 니켈욕중에서 선택하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
제 12 항에 있어서, 상기 니켈층의 형성을 촉진하기 위하여 상기 욕에 니켈괴를 추가로 공급하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크 제조방법.
다수의 미세한 홀이 형성되어 있는 섀도우 마스크 프레임; 및

상기 섀도우 마스크 프레임의 연부를 따라 상기 프레임과 일체로 형성되며, 상기 프레임을 보강하기 위한 스커트를 포함하며,

상기 프레임과 상기 스커트는, 니켈과 이형재를 사용하여 마스터 섀도우 마스크를 만드는 단계; 상기 니켈과 상기 이형재로 이루어진 상기 마스터 섀도우 마스크를 욕에 침지시켜 전주가공하여 섀도우 마스크를 형성하는 단계; 그리고 상기 섀도우 마스크가 형성된 상기 마스터 섀도우 마스크를 상기 욕으로부터 제거한 후, 상기 마스터 섀도우 마스크로부터 상기 섀도우 마스크를 분리하는 단계를 포함하는 제조공정에 의해 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 14 항에 있어서, 상기 마스터 섀도우 마스크 제조단계는, 베이스 플레이트를 상기 이형재로 도포하여 상기 베이스 플레이트의 홀을 충전시키는 제1 단계; 상기 베이스 플레이트의 양면으로부터 상기 이형재를 제거하여 상기 양면을 평탄화하는 제2 단계; 상기 베이스 플레이트를 욕에 침지시켜 소정 시간 동안 전주가공하여 상기 베이스 플레이트의 일면에 니켈층을 형성하는 제3 단계; 상기 베이스 플레이트를 상기 욕으로부터 제거한 후, 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층을 완전히 덮도록 상기 베이스 플레이트의 상기 일면을 상기 이형재로 도포하여 응고시키는 제4 단계; 그리고 상기 이형재와 상기 니켈층으로부터 상기 베이스 플레이트를 제거하는 제5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 15 항에 있어서, 상기 이형재는 실리콘 수지인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 15 항에 있어서, 상기 이형재를 제거하고 평탄화하는 제2 단계에서, 상기 이형재 제거제는 시너, 아세톤, 또는 톨루엔인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 17 항에 있어서, 상기 이형재를 제거하고 평탄화하는 제2 단계에서, 이형재 제거제는 시너와 톨루엔의 혼합물인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 15 항에 있어서, 상기 니켈층을 형성하는 제3 단계에서, 상기 전주가공에 사용되는 상기 욕은 와트욕, 염화물 니켈욕, 붕불화 니켈욕, 및 설파민산 니켈욕중에서 선택하는 것을 특징으로 하는 섀도우.
제 15 항에 있어서, 상기 니켈층의 형성을 촉진하기 위하여 상기 욕에 니켈괴를 추가로 공급하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 14 항에 있어서, 상기 프레임과 상기 보강부재는, 두께가 약 0.1㎜이며, 상기 프레임에 형성된 홀의 직경은 약 20㎛인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 14 항에 있어서, 상기 마스터 섀도우 마스크 제조단계는, 베이스 플레이트를 상기 이형재로 도포하여 상기 베이스 플레이트의 홀을 충전시키는 제1 단계; 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트의 일면으로부터 상기 이형재를 제거하고 상기 일면을 평탄화하는 제2 단계; 상기 베이스 플레이트를 욕에 침지시켜 소정 시간 동안 전주가공하여 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 니켈층을 형성하는 제3 단계; 상기 베이스 플레이트를 상기 욕으로부터 제거한 후, 상기 베이스 플레이트의 상기 일면에 형성된 상기 니켈층을 완전히 덮도록 상기 베이스 플레이트의 상기 일면을 상기 이형재로 도포하여 응고시키는 제4 단계; 상기 연마제를 사용하여 상기 베이스 플레이트의 타면으로부터 상기 이형재를 제거하고 상기 타면을 평탄화하는 제5 단계; 그리고 상기 이형재와 상기 니켈층으로부터 상기 베이스 플레이트를 제거하는 제6 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 22 항에 있어서, 상기 이형재는 실리콘 수지인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 22 항에 있어서, 상기 이형재를 제거하고 평탄화하는 제2 및 제5 단계에서, 상기 연마제는 시너, 아세톤, 또는 톨루엔인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 24 항에 있어서, 상기 이형재를 제거하고 평탄화하는 제2 및 제5 단계에서, 상기 연마제는 시너와 톨루엔의 혼합물인 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 22 항에 있어서, 상기 니켈층을 형성하는 제3 단계에서, 상기 전주가공에 사용되는 상기 욕은 와트욕, 염화물 니켈욕, 붕불화 니켈욕, 및 설파민산 니켈욕중에서 선택하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 26 항에 있어서, 상기 니켈층의 형성을 촉진하기 위하여 상기 욕에 니켈괴를 추가로 공급하는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 따른 섀도우 마스크 제조방법에 의해 제조된 섀도우 마스크.