KR20000011899A - 세정 미용 조성물 및 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 화장품용으로 사용할 수 있는 매질 중에, (A) 하나 이상의 음이온성 계면활성제 및 하나 이상의 양쪽성 계면활성제 및 (B) 아민수가 0.4 meq/g 이상인, 하나 이상의 아민화 실리콘을 함유하는 신규한 워싱 및 컨디셔닝 조성물에 관한 것으로, 이 조성물 중 양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제의 중량비는 0.2 이상이다.
본 발명의 조성물을 모발 또는 피부의 세정 및 케어에 도포한다.

Description

세정 미용 조성물 및 용도{DETERGENT COSMETIC COMPOSITION AND USE}
본 발명은 모발과 같은 케라틴 물질을 클리닝 및 컨디셔닝을 동시에 향상시키는 성질을 갖는 신규한 미용 조성물에 관한 것으로, 이 조성물은, 화장품용으로 사용할 수 있는 매질 중에, 아민수가 0.4 meq/g 이상인 아민화 실리콘의 존재 하에, 음이온성 및 양쪽성 계면활성제로 구성되는 워싱 베이스를 포함한다. 본 발명은 또한, 상기 조성물을 상기 미용용으로 사용하는 용도에 관한 것이다.
통상적인 표면 활성제, 특히 음이온성, 비이온성 및/또는 양쪽성, 특히 음이온성 표면 활성제를 필수 기재로 한 세정 조성물(예컨대, 샴푸)은, 통상적으로 케라틴 물질, 특히 모발을 클리닝 및/또는 세척하는데 사용된다. 이러한 조성물을 젖은 모발에 도포하고, 손으로 마사지하거나 문질러서 거품을 내고, 물로 헹구어 내고, 모발 또는 피부에 처음에 있던 여러가지 때를 제거한다.
이러한 베이스 조성물은 우수한 세척력을 가지나, 이들이 갖는 본질적인 미용 성질은 다소 미약하고, 특히 클리닝 트리트먼트와 같이 비교적 강력한 성질을 갖기 때문에, 오랜 기간이 지났을 때, 모발 섬유에 다소 심한 손상을 줄 수 있는데, 이는 특히 모발 섬유의 표면에 있는 지질 또는 단백질을 점차적으로 제거하기 때문이다.
결과적으로, 특히 민감한 모발(즉, 특히 대기 중 성분의 화학 작용 및/또는 웨이브 퍼머넌트, 염색 또는 블리칭과 같은 모발 트리트먼트에 의해 손상되고 물러진 모발)에 도포될 상기 세정 조성물의 미용 성질을 향상시키기 위해서는, 모발 섬유에 다소 반복적인 손상 또는 다양한 트리트먼트에 의해 유발된 유해하고 바람직하지 못한 효과를 회복하거나 제한하기 위하여, 컨디셔닝제로 공지된, 후술하는 미용 제제를 추가로 도입하는 것이 일반적이다. 이러한 컨디셔닝제는, 물론 천연 모발의 미용 특성을 향상시킬 수 있다.
실리콘을 사용함으로써, 더욱 구체적으로는 이러한 목적의 불용성 실리콘을 사용함으로써 이러한 제공을 한 바 있다. 불용성 화합물, 특히 실리콘은, 매질 중에서 분산을 유지하기 어렵다는 단점이 있다.
실리콘의 현탁성을 유지하기 위하여, 긴 사슬을 포함하는 에스테르 또는 에테르 유도체(진주광택제) 또는 폴리사카라이드, 예컨대 잔탄 검(겔화제)을 사용해 왔다. 그러나, 진주광택제는 결정화되는 문제점이 있고, 때때로 시간이 경과함에 따라 조성물의 점성을 변화(증가)시키며 ; 한편으로, 겔화제는 폴리사카라이드를 포함하는 세정 조성물에 있어서 거품이 잘 형성되지 않는(처음에 거품이 안 일어남) 단점이 있고, 다른 한편으로는, 조성물이 부드러운 텍스쳐를 갖지 않고, 파상으로 유동하여, 사용자에게 불편하다. 더우기, 이러한 다양한 현탁화제는 투명하거나 깨끗한 조성물을 수득할 수 없도록 한다.
본 발명의 목적은 상기 조성물의 단점이 없는 조성물을 제공하는 것이다.
또한, 기름지지 않게 하면서, 사용하는 용도에 따라, 유연성, 광택 및 엉킴을 푸는 성질을 부여하기 위한 목적으로 실리콘을 케라틴 물질에 도포한다.
따라서, 이러한 문제에 대한 상당한 연구를 통해, 본 출원인에 의해, 워싱 베이스 및 아민수가 0.4 meq/g 이상인 아민화 실리콘 하나 이상을 사용함으로써, 우수한 미용 특성을 갖는, 특히 스타일링하기 쉽고, 엉킴을 풀기 쉬우며, 사용하는 동안 그 자체의 세척력과 거품 형성력 등이 우수한 안정하고 투명한 세정 조성물을 수득할 수 있었다.
이러한 조성물은 대량 생산하기 쉽고, 샴푸의 미용 특성 또한 우수하다.
본 발명에 따른 조성물은, 헹구어낸 후에, 모발에 두드러진 트리팅 효과, 즉, 기름진 느낌은 없으면서 특히 몸을 풀어주고 정돈해주며, 가벼움, 매끄러움, 부드러움 및 유연성을 부여한다.
따라서, 본 발명은, 화장품용으로 사용할 수 있는 매질 내에, (A)하나 이상의 음이온성 계면활성제 및 하나 이상의 양쪽성 계면활성제 및 (B) 아민수가 0.4 meq/g 이상인, 하나 이상의 아민화 실리콘을 함유하는 컨디셔너를 포함하는 신규한 세정 및 컨디셔닝 미용 조성물로서, 양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제의 중량비가 0.2 이상인 것을 특징으로 한다.
본 발명은, 또한, 피부 및 모발과 같은 케라틴 물질을 클리닝 및/또는 메이크업 제거 및/또는 컨디셔닝하기 위한 상기 조성물의 미용 용도에 관한 것이다.
A - 워싱 베이스
워싱 베이스는, 하나 이상의 음이온성 계면활성제 및 하나 이상의 양쪽성 계면활성제를 포함한다.
(i)음이온성 계면활성제 :
이들의 성질은 본 발명에서의 결정적 특성은 아니다.
따라서, 특히 본 발명에서 단독 또는 혼합물로 사용될 수 있는 음이온성 계면활성제의 예로는 : (이에 한정되는 것은 아니지만) 하기 화합물의 염(특히, 알칼리 금속염, 예컨대 나트륨염, 암모늄염, 아민염, 아미노알콜염 또는 마그네슘염)이다 : 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트, 알킬아미도 에테르 술페이트, 알킬아릴 폴리에테르 술페이트 또는 모노글리세라이드 술페이트 ; 알킬 술포네이트, 알킬 포스페이트, 알킬아미도 술포네이트, 알킬아릴 술포네이트, α-올레핀 술포네이트 또는 파라핀 술포네이트 ; 알킬 술포숙시네이트, 알킬 에테르 술포숙시네이트 또는 알킬아미도 술포숙시네이트 ; 알킬술포숙신아메이트 ; 알킬 술포아세테이트 ; 알킬 에테르 포스페이트 ; 아크릴사르코시네이트 ; 아실이세티오네이트 및 N-아실타우레이트, 바람직하게는 C12-20의 상기 상이한 화합물의 알킬 또는 아릴 라디칼, 바람직하게는 페닐 또는 벤질기가 있다. 추가로 사용될 수 있는 음이온성 계면활성제 중에서, 지방산의 염, 예컨대 올레산염, 리시놀레산염, 팔미트산염 및 스테아르산염, 또는 코코넛 오일산염 또는 수소화 코코넛 오일산염 ; 또는 아실 라디칼의 탄소수가 8 내지 20 인 아실락틸레이트가 있다. 약한 음이온성 계면활성제로는, 알킬 D-갈락토사이드 우론산 및 이들의 염, 뿐만 아니라 특히 에틸렌 옥시드기 2 내지 50 개를 포함하는, 폴리옥시알킬렌화 (C6-24)알킬 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-24)알킬아릴 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-24)알킬아미도 에테르 카르복실산 및 이들의 염, 및 이들의 혼합물이다.
나트륨, 트리에탄올아민 또는 암모늄(C12-14)알킬 술페이트, 2.2 몰의 에틸렌 옥시드로 옥시에틸렌화된 소듐 (C12-14)알킬 에테르 술페이트, 소듐 코코일이세티오네이트 및 소듐 α-(C14-16)-올레핀 술포네이트로부터 선택된 음이온성 계면활성제를 사용할 수 있다.
음이온성 계면활성제 중에서, 본 발명에서 바람직하게 사용되는 것은, 알킬 술페이트 및 알킬 에테르 술페이트염 및 이들의 혼합물이다.
(ii)양쪽성 계면활성제 :
본 발명에서 결정적인 특성이 아닌, 양쪽성 계면활성제로는, 특히 (이에 한정되는 것은 아니지만) 지방족 라디칼이 탄소수 8 내지 22 이고 하나 이상의 수용성 음이온성 기(예컨대, 카르복실레이트, 술포네이트, 술페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트)를 함유하는 직쇄 또는 분지쇄인 지방족 2 차 또는 3 차 아민의 유도체 ; (C8-20)알킬 베타인, 술포베타인, (C8-20) 알킬 아미도(C1-6)알킬 베타인 또는 (C8-20)알킬 아미도(C1-6)알킬 술포베타인이다.
아민 유도체 중에서, 하기 구조를 갖는, 특허 US-2,528,378 및 US-2,781,354 로 개시된, 상품명 Miranol 로 시판되는 제품이다 :
R 2 -CONHCH 2 CH 2 -N(R 3 )(R 4 )(CH 2 COO - )
[상기 식에서 : R2는 가수분해된 코코넛 오일 중 존재하는 산 R2-COOH 로부터 유래한 알킬 라디칼 또는 헵틸, 노닐 또는 운데실 라디칼이고, R3은 β-히드록시에틸기이며, R4는 카르복시메틸기이다] ; 및
R 2' -CONHCH 2 CH 2 -N(B)(C)
[상기 식에서 :
B 는 -CH2CH2OX' 이고, C 는 -(CH2)z-Y' 이며, 이때 z 는 1 또는 2 이고,
X' 는 -CH2CH2-COOH 기 또는 수소 원자이며,
Y' 는 -COOH 또는 -CH2-CHOH-SO3H 라디칼이고,
R2'는 가수분해된 아마인유 또는 코코넛 오일 중 존재하는 산 R9-COOH 의 알킬기, 알킬 라디칼, 특히 C7, C9, C11또는 C13라디칼, C17알킬 라디칼 및 이들의 이소 형태, 또는 불포화 C17라디칼이다].
이러한 화합물은 1993 년 제 5 판 CTFA 사전에서, 디소듐 코코암포디아세테이트, 디소듐 라우로암포디아세테이트, 디소듐 카프릴암포디아세테이트, 디소듐 카프릴로암포디아세테이트, 디소듐 코코암포디프로피오네이트, 디소듐 라우로암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴로암포디프로피오네이트, 라우로암포디프로피온산 및 코코암포디프로피온산이라는 이름으로 분류된다. 예컨대, Rhone-Poulenc 사의 상품명 Miranol C2M concentrate 로 시판되는 코코암포디아세테이트를 들 수 있다.
본 발명에 따르면, 예컨대 알킬 베타인, 특히 30 % AM 을 포함하는 수용액인 Henkel 사의 상품명 "Dehyton AB 30" 으로 시판되는 코코일 베타인, 또는 Goldschmidt 사의 상품명 Tegobetaine F50 로 시판되는 알킬아미도 베타인과 같은, 베타인의 군에 속하는 양쪽성 표면 활성제를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
워싱 베이스의 최소량은 최종 조성물에서 만족스러운 거품 및/또는 세정력을 부여할 수 있을 정도의 양이고, 과량의 워싱 베이스를 사용한다고 해서 실제로 더 유리한 것이 아니다.
따라서, 본 발명에 따르면, 워싱 베이스는 최종 조성물의 총 중량에 대하여 4 내지 50 중량 %, 바람직하게는 6 내지 35 중량 %, 더욱 바람직하게는 8 내지 25 중량 % 이다.
본 발명의 세정 조성물은 일반적으로 하기 조성을 나타낸다 :
(i) 음이온성 계면활성제 : 세정 조성물의 총 중량에 대하여 3 내지 30 중량 %, 바람직하게는 5 내지 20 중량 % ;
(ii) 양쪽성 계면활성제 : 세정 조성물의 총 중량에 대하여 1 내지 20 중량 %, 바람직하게는 1.5 내지 15 중량 %.
양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제의 중량비는, 바람직하게는 0.2 내지 10 이고, 특히 0.25 내지 5 이며, 더욱 구체적으로는 0.3 내지 3 이다.
B - 아민화 실리콘
본 발명의 조성물은, 아민수가 0.4 meq/g 이상, 바람직하게는 0.5 내지 5 meq/g, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 3.5 meq/g 인, 수불용성 아민화 실리콘을 반드시 포함한다.
아민수는, 화합물의 그람 당 아민의 밀리당량 수이다. 이 수는, 발색 지시약을 사용하는 적정법 또는 전위차 적정법의 통상적인 방법으로 결정한다.
"수불용성"은, 25 ℃ 에서 육안으로 관찰했을 때, 물 중 1 중량 % 의 농도가 실질적으로 투명하지 않은 용액을 의미한다.
본 발명에 따르면, 아민화 실리콘은 하나 이상의 1 차, 2 차 또는 3 차 아민 또는 1 개의 4 차 암모늄기를 함유하는 실리콘을 의미한다.
즉 :
(a) 하기 화학식 1 의 양이온성 실리콘 중합체 :
R' a G 3-a -Si(OSiG 2 ) n -(OSiG b R' 2-b ) m -O-SiG 3-a -R' a
[상기 식에서 :
G 는 수소 원자 또는 페닐, OH 또는 C1-8알킬기, 예컨대 메틸기이고,
a 는 0 또는 1 내지 3 의 정수, 특히 0 이며,
b 는 0 또는 1, 특히 1 이고,
m 및 n 은, (m+n) 이 1 내지 2000 , 특히 50 내지 150 로, n 이 0 내지 1999, 특히 49 내지 149 이고, m 은 1 내지 2000, 특히 1 내지 10 이며 ;
R' 은 화학식 -CqH2qL (식중, q 는 2 내지 8 의 수이고, L 은 하기의 기 :
-N(R")-CH2-CH2-N(R")2
-N(R")2
-N+(R")3A-
-N+H(R")2A-
-N+H2(R")A-
-N(R")-CH2-CH2-N+R"H2A-
(식 중, R" 는 동일 또는 상이하고, 수소, 페닐, 벤질 또는 포화 1 가 탄화수소-함유 라디칼, 예컨대 C1-20알킬 라디칼, 바람직하게는 메틸 라디칼이고, A-는 유기 또는 무기 음이온, 예컨대 할라이드 이온, 예컨대 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드이다)로부터 선택된 임의 4 차화 아미노기이다)의 1 가 라디칼이다].
정의와 같은 제품은 특히 :
- 하기 화학식 2 의 중합체 "트리메틸실릴아모디메티콘"(International Cosmetic Ingredient Dictionary and Handbook, Seventh Edition, 1997) :
[상기 식에서, n 및 m 은 상기 정의와 동일하다(화학식 1 과 비교)],
- 하기 화학식 3 의 중합체 "아모디메티콘"(International Cosmetic Ingredient Dictionary and Handbook, Seventh Edition, 1997) :
[상기 식에서, R 은 OH 또는 메틸이다].
이러한 중합체는, 예컨대 특허 출원 EP-A-95,238 에 개시되어 있다.
(b) 하기 화학식 4 의 양이온성 실리콘 중합체 :
[상기 식에서 :
R5는 C1-181 가 탄화수소-함유 라디칼, 특히 C1-18알킬 또는 C2-18알케닐 라디칼, 예컨대 메틸 라디칼이고 ;
R6은 2 가 탄화수소-함유 라디칼, 특히 C1-18알킬렌 라디칼 또는 2 가 C1-18알킬렌옥시 라디칼, 예컨대 C1-8라디칼이며 ;
Q-는 유기 또는 무기 음이온, 예컨대 할라이드 이온, 특히 클로라이드 이온이고 ;
r 은 2 내지 20 의 통계적 평균값, 특히 2 내지 8 의 통계적 평균값이고 ;
s 는 2 내지 200 의 통계적 평균값, 특히 20 내지 50 의 통계적 평균값이다].
이러한 중합체는 미국 특허 4,185,087 에 더욱 구체적으로 개시되어 있다.
본 발명에 특히 적합한 아민화 실리콘은, Wacker 사의 상품명 Finish WT 1650 또는 General Electric 사의 상품명 SF 1708 으로 시판되는 트리메틸실릴아모디메티콘, 또는 Wacker 사의 상품명 Finish WT 1600 또는 Genese 사의 상품명 SP4 Silicone Fluid 로 시판되는 아모디메티콘이다.
실리콘은, 본 발명에 따른 조성물에서, 조성물의 총 중량에 대해서 0.05 내지 15 중량 %, 바람직하게는 0.2 내지 10 중량 %, 특히 바람직하게는 0.5 내지 5 중량 % 로 사용될 수 있다.
화장품용으로 사용되는 수성 매질은, 물만으로 구성되거나, 물과 화장품용으로 사용할 수 있는 용매, 예컨대 저급 C1-12알콜, 예컨대 에탄올, 이소프로판올, tert-부탄올, n-부탄올, 헥산올 또는 데칸올 ; 폴리올, 예컨대 알킬렌 글리콜,예컨대 프로필렌 글리콜, 글리세롤 및 폴리(알킬렌 글리콜) ; 또는 글리콜 에테르와의 혼합물로 구성될 수 있다.
용매는, 일반적으로 0.1 내지 20 중량 %, 더욱 구체적으로는 0.2 내지 10 중량 % 의 농도로 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 세정 조성물은 최종 pH 가 일반적으로 3 내지 8 이다. 이 pH 는 4 내지 6.5 가 바람직하다. pH 는 베이스(유기 또는 무기), 예컨대 소듐 히드록시드, 수성 암모니아 또는 1 차, 2 차 또는 3 차 (폴리)아민, 예컨대 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 또는 1,3-프로판디아민을 조성물에 가함으로써, 또다른 방법으로는 무기 또는 유기산, 바람직하게는 시트르산 또는 염산을 가함으로써 목적하는 pH 값으로 맞출 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은, 상기 배합에 더하여, 점도 조절제, 예컨대 전해질 또는 증점제를 추가로 함유할 수 있다. 특히, 소듐 클로라이드, 소듐 자일렌술포네이트, 스클레로글루칸, 잔탄 검, 지방산 알칸올아미드, 5 몰이하의 에틸렌 옥시드로 임의 옥시에틸렌화된 알킬 에테르 카르복실산 알칸올아미드, 예컨대 Chem Y 사의 상품명 "Aminol A15"로 시판되는 제품 및 가교된 폴리(아크릴산) 및 가교된 아크릴산/C10-30알킬 아크릴레이트 공중합체가 있다. 이러한 점도 조절제는, 본 발명에 따른 조성물 중에서 조성물의 총 중량에 대해서 10 중량 % 이하의 양으로 사용된다.
본 발명에 따른 조성물은 당업계에서 공지된 5 % 이하의 진주광택제 또는 유백제, 예컨대 지방 알콜, 소듐 또는 마그네슘 팔미테이트, 소듐 또는 마그네슘 스테아레이트 및 히드록시스테아레이트, 지방 사슬을 함유하는 아실화 유도체, 예컨대 에틸렌 글리콜 또는 폴리에틸렌 글리콜 모노스테아레이트 또는 디스테아레이트, 또는 지방 사슬을 함유하는 에테르, 예컨대 디스테아릴 에테르 또는 1-(헥사데실옥시)-2-옥타데칸올을 추가로 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은, 조성물의 안정성에 결정적인 영향을 미지지 않으면서, 모발 또는 피부에 미용 특성을 향상시키는 효과를 같는 다른 제제를 경우에 따라 추가로 함유할 수 있다. 이러한 점에서, 양이온성 계면활성제, 음이온성 또는 비이온성 또는 양이온성 또는 양쪽성 중합체, 프로테인, 프로테인 가수분해물, 세라마이드, 슈도세라마이드, 직쇄 또는 분지쇄 C16-40지방산, 예컨대 18-메틸에이코사노산, 히드록시산, 비타민, 판테놀, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 매질 중에 가용성 또는 불용성인 본 발명의 실리콘을 제외한 실리콘, UV 스크리닝제, 보습제, 비듬 방지제 또는 피지억제제, 자유 라디칼 억제제, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
본 발명에 따라 사용할 수 있는 양이온성 중합체는, 세정 조성물로 처리된 모발의 미용 특성을 향상시키는 것으로 이미 공지된 것 중에서, 즉, 특허 출원 EP-A-0,337,354 및 프랑스 특허 출원 FR-A-2,270,846, 2,383,660, 2,598,611, 2,470,596 및 2,519,863 에 개시된 것 중에서 선택될 수 있다.
일반적인 것처럼, 본 발명에서, "양이온성 공중합체"는 양이온기 및/또는 양이온으로 이온화될 수 있는 기를 포함하는 임의의 중합체를 말한다.
본 발명에서 사용될 수 있는 양이온성 중합체 중에서, 특히 바람직한 것은, 셀룰로오스 에테르의 4 차 유도체, 예컨대 Union Carbide Corporation사의 상품명 "JR 400" 으로 시판되는 제품, 시클로폴리머, 특히 디알릴디메틸암모늄 염 단일중합체 및 디알릴디메틸암모늄염과 아크릴아미드와의 공중합체, 특히 클로라이드, Merck 사의 상품명 "Merquat 100", "Merquat 550" 및 "Merquat S" 으로 시판되는 제품, 양이온성 폴리사카라이드, 더욱 구체적으로는, 2,3-에폭시프로필트리메틸암모늄 클로라이드로 개질된 구아 검, 예컨대 Meyhall 사의 상품명 "Jaguar C13S", 임의 가교된 단일중합체 및 (메트)아크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 염의 공중합체, 미네랄 오일 중 50 % 용액인, Allied Colloids 사의 Salcare SC92(메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드와 아크릴아미드와의 가교된 공중합체) 및 Salcare SC95(메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드의 가교된 단일중합체), 또는 비닐피롤리돈과 메틸비닐이미다졸륨염과의 공중합체, 예컨대 BASF 사의 상품명 Luviquat FC 370, Luviquat FC 550, Luviquat FC 905 및 Luviquat HM-552 으로 시판되는 제품을 사용할 수 있다.
또한 하기 화학식 (a) 의 반복 단위로 구성되는 중합체를 사용할 수 있다 :
[상기 식에서,
R1, R2, R3및 R4는, 동일 또는 상이하고, C1-4알킬 또는 히드록시알킬 라디칼이고,
n 및 p 는 2 내지 20 의 정수이며,
X-는 무기 또는 유기산으로부터 유래한 음이온이다].
화학식 (a) 의 특히 바람직한 화합물은, R1, R2, R3및 R4가 메틸 라디칼이고, n = 3, p = 6 및 X = Cl 인, 헥사디메트린 클로라이드(INCI(CTFA) 명명법)으로 공지된 화합물이다.
본 발명에 따르면, 양이온성 중합체는 최종 조성물의 총 중량에 대하여 0.001 내지 10 중량 %, 바람직하게는 0.005 내지 5 중량 %, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 3 중량 % 이다.
본 발명에 따른 조성물은, C10-18, 1,2-알칸디올 또는 모노- 또는 디에탄올아민으로부터 유래한 지방 알칸올아미드와 같은 거품 형성제를 추가로 포함할 수 있다.
당연히, 당업자는 이러한 임의 부가 화합물의 종류 및/또는 본 발명에 있어서의 배합에 원래 부여된 유리한 성질을 손상시키지 않거나, 실질적으로 손상시키지 않는 양을 결정할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물의 거품 형성력은, Ross-Miles 법(NF 73-404/ISO696)으로 측정했을 때, 일반적으로 75 mm 이상, 바람직하게는 100 mm 이상이다. 방법의 변형은 하기와 같다 : 삼투압을 맞춘 물로 22 ℃의 온도에서 측정을 수행한다. 용액의 농도는 2 g/l 이다. 1 m 위에서 적가한다. 떨어뜨리는 조성물의 양은 200 ml 이다. 200 ml 의 조성물을 시험할 조성물 50 ml 을 함유하는 50 mm 직경의 측정 실린더로 떨어뜨린다. 조성물을 다 떨어뜨리고 5 분 후에 측정한다.
이 조성물은 다소 진한 액체, 크림 또는 겔 형태로 공급될 수 있고, 주로 케라틴 섬유, 특히 모발 및 피부, 가장 바람직하게는 모발을 워싱 또는 케어하는데 주로 적합하다.
아민화 실리콘을 일반적으로 계면활성제 및 수용성 화합물을 함유하는 예열된 조성물에 가한다.
본 발명은 또한, 젖은 케라틴 물질에, 상기 정의한 조성물의 유효량을 도포하고, 잠시 둔 후에 물로 헹구어내는 것으로 이루어지는, 케라틴 물질을 세척 및 컨디셔닝하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 조성물은 모발을 세척 및 컨디셔닝하는 샴푸로 사용되는 것이 바람직한데, 이러한 경우, 모발을 세척할 수 있을 정도의 양을 젖은 모발에 도포하고, 손으로 마사지하거나 문지름으로써 거품을 내고, 일정 기간 둔 후에, 물로 헹구어내는 과정을 1 회 이상 반복하는 방법이다.
본 발명의 조성물은, 모발 및/또는 피부를 세척 및 컨디셔닝하기 위한 샤워 젤로 또한 사용될 수 있으며, 이러한 경우, 젖은 피부 및/또는 모발에 도포한 후 헹구어낸다.
하기 실시예는 본 발명을 구체화하는 것이며, 본 발명을 한정하는 것은 아니다.
실시예 1
양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제 비율의 영향
2 개의 샴푸 조성물을 제조하는데, 하나는 본 발명의 조성물(조성물 A)이고, 다른 하나는 비교예(조성물 B)이다 :
B비교예 A본 발명
- 소듐 라우릴 에테르 술페이트(70/30 C12/C14), 2.2 몰의 에틸렌 옥시드 함유, 70 % AM(active material)을 함유하는 수용액 16.8 g AM 15 g AM
- 코코일 베타인(Dehyton AB 30) 2.4 g AM 5 g AM
- 트리메틸실릴아모디메티콘, 아민수 0.6 meq/g(Finish WT 1650, Wacker 사) 3 g 3 g
- 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 단일중합체, 40 % 의 AM 을 함유하는 수용액(Merquat 100, Calgon 사) 0.4 g AM 0.4 g AM
- NaCl 3.25 g 3.25 g
- 향료, 보존제 적량 적량
- 염산, 적량, pH 6 6
- 탈이온수 적량을 가하여 100 g 으로 만듬
본 발명의 조성물 A (양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제 = 0.33) 은 투명하다. 비교 조성물 B (양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제 = 0.14)는 투명하지 않다.
투명도는, 비탁법으로 측정했을 때 25 NTU(Nephelometric turbidity units)이하이다.
조성물 A 약 1 g 을 미리 적신 민감성 모발 묶음(2.5 g)에 도포한다. 샴푸하여 거품을 내고, 10 분 동안 방치한 후, 물로 여러번 헹구어낸다. 모발 묶음을 타올로 말린다.
동일한 과정을 조성물 B 에 대해서 수행한다.
숙련된 패널로 모발의 외양을 평가하도록 한다.
모든 패널이, 본 발명의 조성물 A 가 조성물 B 보다 더욱 윤기있고, 유연하고, 부드럽다고 평가하였다.
실시예 2
아민수의 영향
샴푸 조성물을 하기 조성으로 제조한다 :
A
- 소듐 라우릴 에테르 술페이트(70/30 C12/C14), 2.2 몰의 에틸 옥시드를 함유, 70 % 의 AM 을 함유하는 수용액 15 g AM
- 코코일 베타인(Dehyton AB 30) 5 g AM
- 아민화 실리콘 3 g
- 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 단일중합체, 40 % 의 AM 을 함유하는 수용액(Merquat 100, Calgon 사제) 0.4 g AM
- NaCl 3.25 g
- 향료, 보존제 적량
- 염산 적량, pH 6
- 탈이온수를 적량 가하여 100 g 으로 만든다.
시험된 실리콘은 하기와 같고, 결과를 하기 표에 나타낸다 :
아민화 실리콘 아민수(meq/g) 투명
1 트리메틸실릴아모디메티콘 VP 1480 M(Wacker) 0.12 - 0.15 ×
2 트리메틸실릴아모디메티콘 Silicone Fluid F801(Wakcer) 0.14 ×
3 아모디메티콘 Finish WR 100(Wacker) 0.15 ×
4 아모디메티콘 Finish WR 1300(Wacker) 0.3 ×
5 아모디메티콘, 에멀션 Silsoft TP 515(OSI) 0.058 ×
6 아모디메티콘, 에멀션 DC939(Dow Corning) <0.1 ×
7 트리메틸실릴-아모디메티콘 Finish WT 1650(Wacker) 0.6
8 트리메틸실릴-아모디메티콘 SF 1708(General Electric) 0.8
9 아모디메티콘 Finish WT 1600(Wacker) 0.6
10 아모디메티콘 SP4 Silicone Fluid(Genese) 0.75
11 아모디메티콘 L650(Wacker) 2.7 - 3.2
본 발명의 조성물 7 내지 11 은 투명한 반면, 아민수가 0.4 meq/g 이하인 실리콘을 함유하는 조성물(1 내지 6)은 투명하지 않다. 조성물 1 내지 6 은 안정한 반면, 조성물 7 내지 11 은 안정하지 않다(실리콘이 조성물 표면에서 방출된다).
본 발명에 따르면, 워싱 베이스 및 아민수가 0.4 meq/g 이상인 아민화 실리콘 하나 이상을 사용함으로써, 우수한 미용 특성을 갖는, 특히 스타일링하기 쉽고, 엉킴을 풀기 쉬우며, 사용하는 동안 그 자체의 세척력과 거품 형성력 등이 우수한 안정하고 투명한 세정 조성물을 수득할 수 있다.

Claims (28)

  1. 화장품용으로 적합한 매질 중에, (A) 하나 이상의 음이온성 계면활성제 및 하나 이상의 양쪽성 계면활성제를 포함하는 워싱 베이스, 및 (B) 하나 이상의 아민화 실리콘을 포함하는 컨디셔너 시스템을 포함하는 세정 및 컨디셔닝 미용 조성물로서, 아민수가 0.4 meq/g 이상이고, 양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제의 중량비가 0.2 이상이며, 아민화 실리콘이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세정 및 컨디셔닝 미용 조성물 :
    (a) 하기 화학식 1 의 양이온성 실리콘 중합체 :
    [화학식 1]
    R' a G 3-a -Si(OSiG 2 ) n -(OSiG b R' 2-b ) m -O-SiG 3-a -R' a
    [상기 식에서 :
    G 는 수소 원자 또는 페닐, OH 또는 메틸기와 같은 C1-8알킬기이고,
    a 는 0 또는 1 내지 3 의 정수이며,
    b 는 0 또는 1 이고,
    m 및 n 은, (m+n) 이 1 내지 2000 로, n 이 0 내지 1999 이고, m 은 1 내지 2000 이며 ;
    R' 은 화학식 -CqH2qL (식중, q 는 2 내지 8 의 수, L 은 하기의 기 :
    -N(R")-CH2-CH2-N(R")2
    -N(R")2
    -N+(R")3A-
    -N+H(R")2A-
    -N+H2(R")A-
    -N(R")-CH2-CH2-N+R"H2A-
    (식 중, R" 는 동일 또는 상이하고, 수소, 페닐, 벤질 또는 포화 1 가 탄화수소-함유 라디칼이고, A-는 유기 또는 무기 음이온이다)로부터 선택된 임의 4 차화 아미노기이다)의 1 가 라디칼이다],
    (b) 하기 화학식 4 의 양이온성 실리콘 중합체 :
    [화학식 4]
    [상기 식에서 :
    R5는 C1-181 가 탄화수소-함유 라디칼이고 ;
    R6은 C1-18알킬렌 라디칼 또는 2 가 C1-18알킬렌옥시 라디칼과 같은 2 가 탄화수소-함유 라디칼이며 ;
    Q-는 유기 또는 무기 음이온이고 ;
    r 은 2 내지 20 의 통계적 평균값이며 ;
    s 는 2 내지 200 의 통계적 평균값이다].
  2. 제 1 항에 있어서, 아민화 실리콘의 아민수가 0.5 내지 5 meq/g 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 워싱 베이스가 조성물의 총 중량에 대하여 4 내지 50 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 음이온성 계면활성제가 조성물의 총 중량에 대하여 3 내지 30 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양쪽성 계면활성제가 조성물의 총 중량에 대하여 1 내지 20 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제의 중량비가 0.2 내지 10 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 아민화 실리콘이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    - 하기 화학식 2 의 "트리메틸실릴아모디메티콘" 중합체 :
    [화학식 2]
    [상기 식에서,
    m 및 n 은, (m + n)의 합이 1 내지 2000 으로, n 은 0 내지 1999 이고, m 은 1 내지 2000 이다] ;
    - 하기 화학식 3 의 "아모디메티콘" 중합체 :
    [화학식 3]
    [상기 식에서, R 은 OH 또는 메틸이다].
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 실리콘이 조성물의 총 중량에 대하여 0.05 내지 15 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 양이온성 계면활성제, 음이온성 또는 비이온성 또는 양이온성 또는 양쪽성 중합체, 프로테인, 프로테인 가수분해물, 세라마이드, 슈도세라마이드, 18-메틸에이코사노산과 같은 직쇄 또는 분지쇄 C16-40지방산, 히드록시산, 비타민, 판테놀, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 매질에 수용성 또는 불용성인 본 발명의 실리콘을 제외한 실리콘, UV 스크리닝제, 보습제, 비듬방지제 또는 피지억제제, 유리 라디칼 저해제, 및 이들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 보조제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 9 항에 있어서, 양이온성 중합체가 셀룰로스 에테르의 4 차 유도체, 디알릴디메틸암모늄염 단일중합체, 및 디알릴디메틸암모늄염과 아크릴아미드의 공중합체, 양이온성 폴리사카라이드, 또는 비닐피롤리돈과 메틸비닐이미다졸륨염의 공중합체로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 9 항에 있어서, 양이온성 중합체가 하기 화학식의 반복 단위를 구성하는 중합체로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    [상기 식에서, R1, R2, R3및 R4는, 동일 또는 상이하고, C1-4알킬 또는 히드록시알킬 라디칼이고, n 및 p 는 2 내지 20 의 정수이고, X-는 무기 또는 유기산으로부터 유래한 음이온이다].
  12. 제 9 항에 있어서, 양이온성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 0.001 내지 10 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화장품용으로 사용할 수 있는 수성 매질이 물만으로, 또는 물과 C1-12저급 알콜, 알킬렌 글리콜과 같은 폴리올, 또는 글리콜 에테르와 같은 화장품용으로 사용할 수 있는 용매의 혼합물로 구성되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 13 항에 있어서, 용매가 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 내지 20 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 케라틴 물질의 클리닝 및/또는 메이크업 제거 및/또는 컨디셔닝에 사용되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에서 정의한 조성물의 유효량을 젖은 모발과 같은 케라틴 물질에 도포하고, 소정 시간 동안 방치한 후 물로 헹구어내는 것을 특징으로 하는 케라틴 물질의 워싱 및 컨디셔닝 방법.
  17. 제 1 항에 있어서, (a) 화학식 1 의 양이온성 실리콘 중합체에서,
    a 는 0 이고,
    b 는 1 이고,
    m 및 n 은, (m+n) 이 50 내지 150 로, n 이 49 내지 149 이고, m 은 1 내지 10 이며 ;
    R" 은 메틸 라디칼과 같은 C1-20알킬 라디칼이고 ;
    (b) 화학식 4 의 양이온성 실리콘 중합체에서,
    R5는 메틸 라디칼과 같은 C1-18알킬 또는 C2-18알케닐 라디칼이고 ;
    R6은 C1-8라디칼이며 ;
    r 은 2 내지 8 의 통계적 평균값이고 ;
    s 는 20 내지 50 의 통계적 평균값인 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 3 항에 있어서, 워싱 베이스가 조성물의 총 중량에 대하여 6 내지 35 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 18 항에 있어서, 워싱 베이스가 조성물의 총 중량에 대하여 8 내지 25 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 4 항에 있어서, 음이온성 계면활성제가 조성물의 총 중량에 대하여 5 내지 20 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 5 항에 있어서, 양쪽성 계면활성제가 조성물의 총 중량에 대하여 1.5 내지 15 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 6 항에 있어서, 양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제의 중량비가 0.25 내지 5 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 22 항에 있어서, 양쪽성 계면활성제/음이온성 계면활성제의 중량비가 0.3 내지 3 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 7 항에 있어서, 화학식 2 의 "트리메틸실릴아모디메티콘" 중합체에서, m 및 n 은, (m + n)의 합이 1 내지 2000 으로, n 은 49 내지 149 이고, m 은 1 내지 10 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  25. 제 8 항에 있어서, 실리콘이 조성물의 총 중량에 대하여 0.2 내지 10 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  26. 제 12 항에 있어서, 양이온성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 0.005 내지 5 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  27. 제 26 항에 있어서, 양이온성 중합체가 조성물의 총 중량에 대하여 0.01 내지 3 중량 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  28. 제 13 항에 있어서, 화장품용으로 사용할 수 있는 용매가, 에탄올, 이소프로판올, tert-부탄올, n-부탄올, 헥산올, 데칸올, 프로필렌 글리콜, 글리세롤 및 폴리(알킬렌 글리콜)로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
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