KR19990083379A - 옥사졸린으로의금속염촉매화방법및이어지는클로로케톤의형성 - Google Patents
옥사졸린으로의금속염촉매화방법및이어지는클로로케톤의형성 Download PDFInfo
- Publication number
- KR19990083379A KR19990083379A KR1019990014245A KR19990014245A KR19990083379A KR 19990083379 A KR19990083379 A KR 19990083379A KR 1019990014245 A KR1019990014245 A KR 1019990014245A KR 19990014245 A KR19990014245 A KR 19990014245A KR 19990083379 A KR19990083379 A KR 19990083379A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- alkyl
- formula
- dihalophenyl
- substituted
- phenylene
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 150000002918 oxazolines Chemical class 0.000 title claims abstract description 14
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical class ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title claims description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 10
- -1 alkynyl amide Chemical class 0.000 claims abstract description 80
- RMOUSLGMAXOEHC-UHFFFAOYSA-N 5-methylidene-4h-1,3-oxazole Chemical compound C=C1CN=CO1 RMOUSLGMAXOEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- YRIZYWQGELRKNT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trichloro-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound ClN1C(=O)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O YRIZYWQGELRKNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229950009390 symclosene Drugs 0.000 claims abstract description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 16
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 14
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims abstract description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 33
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 18
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 17
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 13
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 12
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 7
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 claims description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 7
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 6
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 claims description 6
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 6
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003447 supported reagent Substances 0.000 claims description 2
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 26
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 12
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 13
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZSWRQRVFJMEHNM-UHFFFAOYSA-N 5-(chloromethylidene)-4h-1,3-oxazole Chemical compound ClC=C1CN=CO1 ZSWRQRVFJMEHNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 7
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- HTJXHVDIZLQGMD-UHFFFAOYSA-N 2-(3,5-dichloro-4-methylphenyl)-4-ethyl-4-methyl-5-methylidene-1,3-oxazole Chemical compound O1C(=C)C(CC)(C)N=C1C1=CC(Cl)=C(C)C(Cl)=C1 HTJXHVDIZLQGMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SOUGWDPPRBKJEX-UHFFFAOYSA-N 3,5-dichloro-N-(1-chloro-3-methyl-2-oxopentan-3-yl)-4-methylbenzamide Chemical compound ClCC(=O)C(C)(CC)NC(=O)C1=CC(Cl)=C(C)C(Cl)=C1 SOUGWDPPRBKJEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101710134784 Agnoprotein Proteins 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000003306 harvesting Methods 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- DNNIPGICOPJUKN-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-4,4-dimethyl-5-methylidene-1,3-oxazole Chemical compound O1C(=C)C(C)(C)N=C1C1=CC=C(Cl)C=C1 DNNIPGICOPJUKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECVTCOWSKPUDY-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-5-methylidene-2-phenyl-1,3-oxazole Chemical compound O1C(=C)C(C)(C)N=C1C1=CC=CC=C1 SECVTCOWSKPUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CLEILUHNXSCKGO-UHFFFAOYSA-N 5-(dichloromethylidene)-4h-1,3-oxazole Chemical compound ClC(Cl)=C1CN=CO1 CLEILUHNXSCKGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(i) oxide Chemical compound [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000003626 1,2,4-triazol-1-yl group Chemical group [*]N1N=C([H])N=C1[H] 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XXUNIGZDNWWYED-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzamide Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(N)=O XXUNIGZDNWWYED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000389 2-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KQOSXVXNFFMCLZ-UHFFFAOYSA-N 3,5-dichloro-n-(1,1-dichloro-3-methyl-2-oxopentan-3-yl)-4-methylbenzamide Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C(C)(CC)NC(=O)C1=CC(Cl)=C(C)C(Cl)=C1 KQOSXVXNFFMCLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004211 3,5-difluorophenyl group Chemical group [H]C1=C(F)C([H])=C(*)C([H])=C1F 0.000 description 1
- JSBUIJZRVJLNAV-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-(2-methylbut-3-yn-2-yl)benzamide Chemical compound C#CC(C)(C)NC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 JSBUIJZRVJLNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- MHPVZXSYHCHUNA-UHFFFAOYSA-N 5-(chloromethylidene)-2-(3,5-dichloro-4-methylphenyl)-4-ethyl-4-methyl-1,3-oxazole Chemical compound O1C(=CCl)C(CC)(C)N=C1C1=CC(Cl)=C(C)C(Cl)=C1 MHPVZXSYHCHUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000694440 Colpidium aqueous Species 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021604 Rhodium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- KHSBAWXKALEJFR-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);tricarbonate;hydrate Chemical compound O.[Ce+3].[Ce+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O KHSBAWXKALEJFR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 1
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N heptane - octane Natural products CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 230000000749 insecticidal effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- LIKBJVNGSGBSGK-UHFFFAOYSA-N iron(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Fe+3].[Fe+3] LIKBJVNGSGBSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNOZJRCUHSPCDZ-UHFFFAOYSA-L iron(ii) acetate Chemical compound [Fe+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O LNOZJRCUHSPCDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- UCFFGYASXIPWPD-UHFFFAOYSA-N methyl hypochlorite Chemical compound COCl UCFFGYASXIPWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- IZBRKPDCFBAIKG-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylbut-3-yn-2-yl)benzamide Chemical compound C#CC(C)(C)NC(=O)C1=CC=CC=C1 IZBRKPDCFBAIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078487 nickel acetate tetrahydrate Drugs 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OINIXPNQKAZCRL-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);diacetate;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Ni+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OINIXPNQKAZCRL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical class [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N palladium(II) acetate Substances [Pd].CC(O)=O.CC(O)=O LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004307 pyrazin-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])N=C(*)C([H])=N1 0.000 description 1
- 125000004940 pyridazin-4-yl group Chemical group N1=NC=C(C=C1)* 0.000 description 1
- 125000004527 pyrimidin-4-yl group Chemical group N1=CN=C(C=C1)* 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/12—Preparation of carboxylic acid amides by reactions not involving the formation of carboxamide groups
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01G—HORTICULTURE; CULTIVATION OF VEGETABLES, FLOWERS, RICE, FRUIT, VINES, HOPS OR SEAWEED; FORESTRY; WATERING
- A01G9/00—Cultivation in receptacles, forcing-frames or greenhouses; Edging for beds, lawn or the like
- A01G9/02—Receptacles, e.g. flower-pots or boxes; Glasses for cultivating flowers
- A01G9/029—Receptacles for seedlings
- A01G9/0293—Seed or shoot receptacles
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01G—HORTICULTURE; CULTIVATION OF VEGETABLES, FLOWERS, RICE, FRUIT, VINES, HOPS OR SEAWEED; FORESTRY; WATERING
- A01G9/00—Cultivation in receptacles, forcing-frames or greenhouses; Edging for beds, lawn or the like
- A01G9/02—Receptacles, e.g. flower-pots or boxes; Glasses for cultivating flowers
- A01G9/028—Multi-compartmented pots
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/10—Preparation of carboxylic acid amides from compounds not provided for in groups C07C231/02 - C07C231/08
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/14—Preparation of carboxylic acid amides by formation of carboxamide groups together with reactions not involving the carboxamide groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
- C07D263/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
- C07D263/30—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D263/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental Sciences (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
본 발명은 하기 단계를 포함하는 α-클로로케톤 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
(i) 알키닐 아미드를 고리화하여 5-메틸렌 옥사졸린을 형성하고
(ii) 트리클로로 이소시아누릭산을 사용하여 5-메틸렌옥사졸린을 염소화하여 염소화된 옥사졸린 중간체를 생성하고
(iii) 수성 산으로 염소화된 옥사졸린 중간체를 가수분해하여 소정의 모노클로로케톤을 생성하고
여기에서,
Z는 알킬 또는 치환된 알킬, 아릴 또는 치환된 아릴, 헤테로아릴 또는 치환된 헤테로아릴 또는 페닐렌이고,
R은 수소원자 또는 알킬이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 알킬 또는 치환된 알킬기이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사일클릭 구조를 형성한다.
추가적으로, R이 수소원자일때, 디클로로케톤은 반응 조건 조절을 통해 편리하게 형성될 수 있다.
Description
본 발명은 치환된 알키닐 아미드로부터 5-메틸렌옥사졸린을 제조하기 위한 새롭고 저렴한 방법에 관한 것이다. 5-메틸렌옥사졸린은 편리한 염소화제를 사용하여 5-(클로로메틸렌)옥사졸린으로 전환된 후 가수분해에 의해 α-클로로케톤으로 이어진다. 5-메틸렌옥사졸린은 살충제 성질을 갖고 제초제와 살진균제에 대한 중간체로서 사용될 수 있다. 결과로 생긴 α-클로로케톤은 그 자체가 살진균제로서 유용하다.
본 발명이 성공적으로 극복해야 하는 현존하는 분야에 몇가지 문제가 있다. 상기에 발표된 치환된 알키닐 아미드로부터 소정의 5-메틸렌옥사졸린으로의 루트는 소듐 하이드라이드 또는 소듐 아미드와 같은 강하고 결과적으로 비싼 염기의 사용을 요구한다. 이들 염기는 정확하게 무수조건의 사용을 필요로하며 처리하기에 어렵다. 추가적으로, 알키닐 아미드로부터 5-메틸렌옥사졸린의 수율은 경제적인 실행 가능성이 수용 불가능하게 낮다. 치환된 알키닐 아미드로부터 소정의 5-메틸렌옥사졸린으로의 다른 알려진 루트는 N,N-디메틸포름아미드, 고 비등(high-boiling), 아프로틱 (aprotic) 용매에서 은 염의 상대적으로 큰 양을 갖는 아미드의 처리를 포함한다. 이런 과정의 형태는 사용된 은염의 양과 많은 양의 유기 적재된 수성 폐기물을 만드는 어려운 작업을 요구하는 용매때문에 비싸다. 추가적으로, 이들 과정은 수분의 존재는 허용되지 않고 용매에서 물의 존재는 소정의 옥사졸린에 추가하여 또는 대신에 케톤의 형성을 일으킨다. 다른 발표된 루트는 5-메틸렌 옥사졸린을 형성하기 위한 방법에 수용성 용매를 사용하지만 이러한 용매는 효과적으로 회수하기 어려워서 바람직하지 않은 비용을 갖게되는 과정을 가져온다.
염소화제로서 염소 개스 또는 N-클로로석신이미드를 사용하므로서 알려진 보통의 방법에 의한 결과로 생긴 5-메틸렌옥사졸린으로부터 α-클로로케톤의 연속적인 제조는 모노염소처리용 선택성 결핍 때문에 문제이고 ; 저염소처리되고 과염소처리된 케톤은 전형적으로 5-클로로메틸렌 옥사졸린의 가수분해 후 소정의 모노클로로케톤에 추가하여 형성된다. 더욱이, 염소의 사용은 본 기술분야에 통상의 지식을 가진자에게 알려진 위험과 장치 비용이 존재한다.
발명자는 치환된 알키닐 아미드로부터 5-메틸렌옥사졸린을 제조하기 위한 편리한 방법을 발견했다. 다양한 용매가 사용될 수 있고 물의 존재는 허용된다. 추가적으로, 금속성 염 촉매의 양이 상기에 발표된 것보다 적은 양이 사용된다. 더욱이, 본 발명의 완전한 과정은 새로운 염소처리 시약, 트리클로로이소시아누릭산 (TCIA)를 사용하고 이는 산-촉매화된 가수분해시 선택적으로 높은 수율의 소정의 α-모노클로로케톤을 제공하는 모노염소 처리된 중간체를 제공하기 위해 결과로 생긴 5-메틸렌옥사졸린을 염소화시킨다. TCIA는 소정의 물질의 저- 또는 과-염소처리를 피하기 위해 극도로 정밀한 양으로 사용될 수 있는 고 용융, 쉽게 처리할 수 있는 고체이다. TCIA가 수영장 물의 염소처리와 음료수의 소독에 사용된 잘 알려지고, 값싸며 상업적으로 이용가능한 화합물일지라도 5-메틸렌옥사졸린을 위한 편리하고 선택적인 염소처리제로서 이의 사용은 지금까지 발표되지 않았다. 본 발명의 추가적인 특징은 살진균제로서도 유용한 α,α-디클로로케톤의 선택적인 형성을 위한 편리한 공정을 제공한다.
WO95/19351은 염기 존재하에서 알키닐 아미드의 고리화에 의해 아릴-5-메틸렌옥사졸 유도체의 형성을 발표하고 있다. 그러나, 고리화를 위한 많은 양의 강 염기 사용이 예시된다. 이 과정은 낮은 수율(<50%)로 옥사졸린을 제공한다. NaH와 같은 강염기의 사용은 무수 조건을 요구한다. 본 발명은 물의 존재가 허용된다는 점에서 유익하다. 더욱이, 고리화를 촉진시키기 위한 금속 염 촉매의 사용은 제시되지 않는다.
이흐(Yih)등의Weed Science, 18, 604-607(1970)과J. Agr. Food Chem., 19, 314-317(1971)은 수성 알콜 용액에서 산, 염기 또는 은 이온을 사용하는 치환된 알키닐 아미드로부터 아릴-5-메틸렌옥사졸린을 형성하고 가수분해에 의해 α-클로로기를 소유하지 않는 케톤을 생성한다고 기술하고 있다. 어떤 실험적인 설명도 1970년 문서에 제공되지 않고 ; 1971년 문서는 N,N-디메틸포름아미드 용매에 있는 28mol% 실버 나이트레이트가 사용되는 과정에 의해 제공된다. 이스톤(Easton)등 (J. Org. Chem. 1965,30, 3084)는 수성 알콜 용매의 사용이 옥사졸린에 추가하여 또는 대신에 케톤형성을 일으킨다고 나타낸다. 이들 저자는 무수용매의 사용이 깨끗하게 소정의 옥사졸린을 제조하기 위해 요구된다고 언급했다. 이 문서에 기술된 과정은 그들의 옥사졸린 제조에서 용매로서 N,N-디메틸포름아미드를 사용한다. 이스턴등의 문서가 고리화를 위한 촉매로서 실버 나이트레이트의 사용을 발표했을지라도 그들은 0.2-0.44 당량 (20-44mol%)의 "촉매"를 사용하고 3시간의 반응시간을 필요로 하였다. 본 발명의 과정은 단지 0.1-5mol%의 촉매를 사용하고 반응은 종종 <1h에서 완료된다. 더욱이, 광범위한 금속염과 용매가 사용될 수 있고 물이 본 발명에 역효과를 미치지 않는 한 허용되었다.
US 4,822,902와 5,304,572는 염소로 알키닐 아미드를 처리하므로서 얻어진 5-(클로로메틸렌)옥사졸린의 형성을 기술하고 있다. 그러나, 염소화제로서 TCIA의 사용은 발표되거나 제시되지 않았다. 그 자체 또는 다른 것들과 함께 이들 참고문헌은 본 발명의 과정을 제시하지 않는다.
본 발명의 한 실시예는 금속염의 촉매량을 사용하는 유기 용매 존재하에서 임의적으로 제 1단계에서 5-메틸렌옥사졸린을 형성하고, 트리클로로이소시아누릭산을 사용하는 용매에서 5-메틸렌옥사졸린을 염소화하여 제 2단계에서 염소화된 옥사졸린 중간체를 생성하고 이어서 수성산으로 염소화된 옥사졸린 중간체를 가수분해하여 제 3단계에서 소정의 모노클로로케톤을 생성하는 치환된 알키닐 아미드를 고리화하는 단계를 포함하는 살진균제로서 유용한 α-클로로케톤을 제조하기 위한 편리한 방법을 제공한다. 케톤은 전형적으로 결정화-여과 과정에 의해 분리된다.
특이적으로, 이 실시예는 하기 단계를 포함하는 식(Ⅰ)의 α-클로로케톤 화합물의 제조방법을 제공한다.
(i) 임의적으로 유기 용매 존재하에서 금속 염의 촉매량을 사용하여 식(Ⅱ)의 알키닐 아미드를 고리화하여 식(Ⅲ)의 5-메틸렌옥사졸린을 형성하고
(ii) 트리클로로이소시아누릭산을 사용하여 용매에서 식(Ⅲ)의 5-메틸렌옥사졸린을 염소화하여 식(Ⅳ)의 염소화된 옥사졸린 중간체를 생성하고
(iii) 수성산으로 식(Ⅳ)의 염소화된 옥사졸린 중간체를 가수분해하여 식(Ⅰ)의 소정의 모노클로로케톤을 생성하고
여기에서,
Z는 알킬 또는 치환된 알킬, 아릴 또는 치환된 아릴, 헤테로아릴 또는 치환된 헤테로아릴 또는 페닐렌이고,
R은 수소원자 또는 알킬이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 알킬 또는 치환된 알킬기이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클릭 구조를 형성한다.
본 실시예의 바람직한 형태에서,
Z는 (C1-C8)알킬, 페닐 또는 할로, (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시, (C2-C6)알키닐, 니트로, 시아노, 2-나프틸, 3-피리딜 및 1,4-페닐렌으로 이루어진 그룹으로부터 독립적으로 선택된 3개 이하의 치환체로 치환된 페닐이고,
R은 수소원자 또는 (C1-C4)알킬이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 (C1-C4)알킬이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실 고리를 형성한다.
본 발명의 보다 바람직한 형태에서,
Z는 3-헵틸, 페닐, 4-할로페닐, 2,6-디할로페닐, 4-(C1-C4)알킬페닐, 3,5-디할로페닐, 3,5-디(C1-C4)알킬페닐, 4-(C1-C4)알킬-3,5-디할로페닐, 4-시아노-3,5-디할로페닐, 4-(C1-C4)알콕시-3,5-디할로페닐, 4-니트로페닐, 2-나프틸, 3-피리딜 또는 1,4-페닐렌이고,
R은 수소원자, 메틸 또는 에틸이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로헥실 고리를 형성한다.
실시예의 보다 더 바람직한 형태에서,
Z는 4-클로로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 3,5-디메틸페닐, 3,5-디클로로-4-메틸페닐, 1,4-페닐렌, 2-나프틸, 3-피리딜 또는 3-헵틸이고,
R은 수소원자이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸이다.
본 발명의 제 2실시예에서, 단계(ii)에 사용된 TCIA의 양은 5-(디클로로메틸렌)옥사졸린을 형성하고 이어서 가수분해하여 살진균제로서 유용한 α,α-디클로로케톤을 형성하도록 유익하게 증가될 수 있다. 특이적으로, 본 발명의 형태는 하기의 단계를 포함하는 식(IA)의 α,α-디클로로케톤 화합물의 제조방법을 제공한다.
(i) 임의적으로 유기 용매 존재하에서 금속염의 촉매량을 사용하여 식(ⅡA)의 알키닐 아미드를 고리화하여 식(ⅢA)의 5-메틸렌옥사졸린을 형성하고
(ii) 트리클로로이소시아누릭산을 사용하는 용매에서 식(ⅢA)의 5-메틸렌옥사졸린을 염소화하여 식(ⅣA)의 2가 염소화된 옥사졸린 중간체를 생성하고
(iii) 수성 산과 식(ⅣA)의 2가 염소화된 옥사졸린 중간체를 가수분해하여 식(ⅠA)의 소정의 디클로로케톤을 생성하고,
여기에서,
Z는 알킬 또는 치환된 알킬, 아릴 또는 치환된 아릴, 헤테로아릴 또는 치환된 헤테로아릴 또는 페닐렌이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 알킬 또는 치환된 알킬기이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클릭 구조를 형성한다.
이 실시예의 바람직한 형태에서,
Z는 (C1-C8)알킬, 페닐 또는 할로, (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시, (C2-C6)알키닐, 니트로, 시아노, 2-나프틸, 3-피리딜 및 1,4-페닐렌으로 이루어진 그룹으로부터 독립적으로 선택된 3개 이하의 치환체로 치환된 페닐이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 (C1-C4)알킬이거나 그들이 부착된 탄소원자와 함께 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실 고리를 형성한다.
이 실시예의 보다 바람직한 형태에서,
Z는 3-헵틸, 페닐, 4-할로페닐, 2,6-디할로페닐, 4-(C1-C4)알킬페닐, 3,5-디할로페닐, 3,5-디(C1-C4)알킬페닐, 4-(C1-C4)알킬-3,5-디할로페닐, 4-시아노-3,5-디할로페닐, 4-(C1-C4)알콕시-3,5-디할로페닐, 4-니트로페닐, 2-나프틸, 3-피리딜 또는 1,4-페닐렌이고,
R1과 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로헥실 고리를 형성한다.
이 실시예의 보다 더 바람직한 형태에서,
Z는 4-클로로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 3,5-디메틸페닐, 3,5-디클로로-4-메틸페닐, 1,4-페닐렌, 2-나프틸, 3-피리딜 또는 3-헵틸이고,
R1와 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸이다.
본 발명에서, 알킬은 (C1-C8)직쇄 또는 (C3-C8) 가지쇄 알킬기를 의미하고 예를들면 메틸, 에틸,n-프로필, 이소프로필,n-부틸, 이소부틸,sec-부틸,tert-부틸,n-아밀, 이소아밀,n-헥실, 이소옥틸등을 포함한다. 치환된 알킬은 알콕시, 할로, 알킬티오 및 시아노로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환된 알킬을 의미한다.
알콕시는 산소원자에 부착된 (C1-C4)직쇄 또는 (C3-C4)가지쇄 알킬기, 예를들면 메톡시, 에톡시, 이소부톡시등을 의미한다.
알킬티오는 황 원자에 부착된 (C1-C4)직쇄 또는 (C3-C4)가지쇄 알킬기, 예를들면 메틸티오,n-프로필티오,sec-부틸티오 등을 의미한다.
할로는 브로모, 클로로, 플루오로 및 아이오도를 의미한다.
아릴은 페닐, 나프틸 또는 할로, 알킬, 알키닐, 알콕시, 니트로 및 시아노로 이루어진 그룹으로부터 독립적으로 선택된 1-3개의 치환체로 치환된 페닐 또는 나프틸을 의미한다. 예는 제한되는 것은 아니지만 페닐, 2-나프틸, 4-니트로페닐, 4-클로로페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,6-디플루오로페닐, 3,5-디클로로-4-메틸페닐, 3,5-디클로로페닐, 3,5-디플루오로페닐, 3,5-디브로모페닐, 3-클로로-4-에틸-5-플루오로페닐, 3,5-디클로로-4-시아노페닐, 3,5-디클로로-4-메톡시페닐, 3,5-디플루오로-4-프로파길페닐, 3,5-디브로모-4-메틸페닐 등을 포함한다.
알키닐은 (C2-C6)알키닐 예를들면 에티닐, 프로파길, 2-헥신-1-일 등을 의미한다.
헤테로아릴은 산소원자, 황원자, 1,2 또는 3개의 질소원자, 1 또는 2개의 질소원자를 갖는 산소원자 또는 1 또는 2개의 질소원자를 갖는 황원자 또는 1,2 또는 3개의 질소원자를 함유하는 6-개로 구성된 방향족 고리 또는 할로, 알킬, 할로알킬 또는 시아노로부터 선택된 2개 이하의 치환체로 치환된 헤테로아릴을 함유하는 5개로 구성된 방향족 고리를 의미한다. 예는 제한되지는 않지만 2-퓨릴, 2-티에닐, 4-클로로-2-티에닐, 2-옥사졸릴, 2-이미다졸릴, 1,2,4-트리아졸-1-일, 2-이미다졸릴, 2-피롤릴, 2-피리딜, 3-피리딜, 4-피리딜, 4-피리다지닐, 4-피리미디닐, 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일, 4-클로로-3-피리딜 등을 포함한다.
페닐렌은 1,4-페닐렌을 의미한다.
특정 이성질체가 전체적으로 식(Ⅳ)의 화합물로 알려져 있을지라도 식(Ⅳ)는 사실상 시스와 트랜스 이성질체 형태의 혼합물을 대표하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명의 제 1실시예에서, 알키닐 아미드로부터 5-메틸렌옥사졸린을 형성하기 위한 고리화 단계(i)는 임의적으로 유기 용매 존재하에서 금속염의 촉매양을 사용하여 수행된다. 아미드 출발물질이 고체이기 때문에 용매가 보통 사용된다. 바람직한 용매는 반응 후 제거의 용이함을 위해 약 75-150℃의 적당한 비등점을 갖는 것들이다. 보다 바람직한 것은 약 90-150℃의 비등점을 갖는 용매이다. 바람직한 용매는 제한되지는 않지만 이소옥탄과 같은 지방족 탄화수소, 톨루엔과 크실렌과 같은 방향족 탄화수소, 메틸 이소부틸 케톤과 같은 케톤, 부틸 아세테이트와 같은 에스테르, 클로로벤젠과 같은 할로하이드로카본 및 이소부티로니트릴과 같은 니트릴을 포함한다.
다양한 금속 촉매가 5-메틸렌옥사졸린으로 알키닐 아미드의 고리화를 위해 사용된다. 유용한 촉매는 구리, 은, 팔라듐, 아연, 철, 마그네슘, 니켈, 세륨, 코발트, 백금, 로듐 및 루테늄의 염들을 포함한다. 예들은 제한되지는 않지만 구리(Ⅰ) 클로라이드, 구리(Ⅰ) 옥사이드, 실버 나이트레이트, 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트, 징크 클로라이드, 아이론(Ⅲ) 옥사이드, 아이론(Ⅱ) 아세테이트, 마그네슘(Ⅱ) 설페이트, 니켈 옥사이드, 니켈 클로라이드, 니켈 아세테이트 테트라하이드레이트, 세륨(Ⅲ) 카보네이트, 코발트(Ⅱ) 아세테이트, 플라티늄(Ⅱ) 클로라이드, 로듐(Ⅲ) 클로라이드 및 루테늄(Ⅲ) 클로라이드를 포함한다. 결과로 생긴 반응 동력학 및/또는 반응 선택성 때문에 바람직한 금속 염은 구리, 은, 팔라듐, 아연 및 루테늄의 염이다. 보다 더 바람직한 금속염은 구리, 은 및 아연의 염이다. 은-교환 제올라이트와 같은 고체 지지된 시약도 사용될 수 있다. 보통 사용된 촉매의 양은 알키닐 아미드에 기초하여 약 0.1몰%-5몰%이다. 촉매의 바람직한 양은 <5몰%, 보다 바람직한 양은 <2몰% 및 보다 더 바람직한 양은 <1몰%이다.
반응온도는 보통 약 60℃부터 사용된 용매의 비등점이하이다. 바람직한 조건은 최소한 70℃부터 사용된 용매의 비등점이하의 반응온도이다. 그러나, 반응은 실버 나이트레이트가 촉매로서 사용될 때 편리하게 약 35℃만큼 낮은 온도에서 수행될 수 있다. 압력은 중요하지 않지만 반응은 보통 편의상 대기압에서 수행된다. 반응시간은 사용된 온도, 출발 알키닐 아미드의 치환체 형태, 사용된 용매, 금속 촉매의 성질 및 반응기의 크기와 형태에 의존할 것이다. 그러나, 반응은 보통 편리하게 18시간이하 및 보다 종종 7시간 이하에서 이루어진다.
단계(ⅰ)의 전형적으로 대표적인 반응과정에서, 알키닐 아미드는 사용된다면 용매와 금속 염 촉매와 조합되고 결과로 생긴 혼합물은 소정의 온도로 가열되었다. 반응은 기체 크로마토그래피에 의해 모니터되었다. 옥사졸린으로의 고리화가 완전하다고 생각될때 반응은 실온으로 냉각되고 물로 세척되거나 구리염의 경우 염산으로 세척후 물로 세척되었다. 팔라듐 염의 경우, 반응 혼합물이 실라카겔의 패드를 통과되었다. 유기층은 몇가지 경우 소듐 설페이트상에서 건조되고 여과되었다. 용매는 감압하에서 증발에 의해 제거되고 잔류물은 진공오븐에서 건조되어 옥사졸린 생성물을 제공했다. 조(crude) 옥사졸린 생성물은 또 다른 반응을 위해 직접적으로 사용될 수 있거나 원한다면 증류에 의해 정제될 수 있다. 선택적으로, 존재하는 염이 시아누릭산 여과와 염소화 후에 세척으로 제거되기 때문에 반응 혼합물은 어떤 검사없이 염소화단계로 이루어질 수 있다.
TCIA를 사용하는 5-메틸렌옥사졸린의 염소화 단계(ⅱ)는 약 -30-100℃의 온도에서 수행될 수 있다. 바람직한 염소화 온도는 약 0-70℃이다. 보다 바람직한 것은 약 50℃이하의 온도이다. 보다 더 바람직한 것은 약 0-30℃온도이다. 반응은 압력의존적이 아니지만 1기압의 압력은 보통 편의상 바람직하다. 시약의 화학량론은 매우 중요하다. 5-메틸렌옥사졸린의 당량 당 0.333당량 이하의 TCIA가 사용된다면 5-메틸렌옥사졸린 출발물질 중 어떤 것은 반응하지 않고 남아 있을 것이다. 0.333당량 이상이 사용된다면, 과염소화된 중간체는 가수분해 후 디클로로케톤을 이끄는 것이 형성된다. 그러나, 상기한 바와같이 본 발명의 제 2실시예는 5-(디클로로메틸렌)옥사졸린 또는 5-클로로-5-(디클로로메틸렌)옥사졸린 중간체의 편리한 형성과 옥사졸린의 메틸기가 알킬기로 치환되지 않는 상황에서 5-메틸렌옥사졸린의 당량당 ≥0.667 당량의 TCIA가 사용될 때 α,α-디클로로케톤의 단계(ⅲ)에서 연속적인 형성을 제공한다. 염소화 반응시간은 약 5분-1시간으로 다양할 수 있고 사용된 반응기 장치의 크기와 형태 및 사용된 용매에 모두 의존한다. 염소화 용매는 보통 제한되지는 않지만 에테르, 에스테르 또는 케톤, 예를들면 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 메틸 이소부틸 케톤 및 메틸 t-부틸에테르와 같은 극성용매이다. 바람직한 용매는 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트 및 메틸 이소부틸 케톤이다. 방향족 탄화수소, 예를들면 톨루엔 또는 지방족 탄화수소, 예를들면 헵탄과 이소옥탄과 같은 비극성 용매도 혼합가능한 극성형태 용매와 혼합될 때 또는 약 40℃의 온도로 가열될 때 사용될 수 있다. 염소화 후, 반응은 소정의 단계로 수행되고 시아누릭산 부산물은 여과 및/또는 소듐 카보네이트, 소듐 하이드록사이드등과 같은 보통 염기로 세척하므로서 제거될 수 있다. 5-(클로로메틸렌)옥사졸린을 함유하는 용액은 가수분해 단계(ⅲ)를 겪는다.
가수분해 단계(ⅲ)에서, 약 50℃ 이상의 온도가 요구된다. 바람직하게, 가수분해는 약 50-100℃에서 수행된다. 보다 바람직하게, 사용된 온도는 약 50-80℃이다. 약간의 물과 혼합된 수성산 또는 비-수성 산이 사용될 수 있다. 제한되지는 않지만 염산, 황산, 트리플루오로아세트산, 메탄설폰산 또는 톨루엔 설폰산과 같은 보통 산은 사용하기에 편리하다. 수성 염산 또는 황산이 바람직하다. 산성 이온-교환 수지도 사용될 수 있다. 염산 또는 황산이 사용될 때 추가적인 물은 보통 가수분해를 촉진시키기 위해 첨가된다. 약 0.05-0.5당량의 수성산이 5-(클로로메틸렌)옥사졸린의 당량당 사용된다. 보다 바람직한 것은 5-(클로로메틸렌)옥사졸린 당량당 약 0.1-0.25당량의 수성 염산의 사용이다. 가수분해 단계는 보통 약 3-24시간에 발생하고 시간은 Z기의 성질, 온도 및 사용된 장치의 크기와 성질에 의존한다. 사용된 압력은 중요하지 않다. 그러나, 1기압이 보통 편의상 바람직하다.
단계(ⅱ)와 (ⅲ)용 전형적으로 대표적인 반응 과정에서 옥사졸린과 용매는 조합되고 결과로 생긴 용액은 얼음조를 사용하여 0-5℃로 냉각된다. TCIA는 가능하다면 반응 온도를 30℃이하로 유지시키면서 점차적으로 첨가된다. 일단 TCIA가 첨가되면, 결과로 생긴 슬러리는 실온으로 따뜻해지고 반응이 기체 크로마토그래프 (GC) 분석에 기초해 완료될 때까지 교반된다. 시아누릭산 부산물은 여과에 의해 제거되고 용액은 남아 있는 시아누릭산을 제거하기 위해 소듐 바이카보네이트 또는 소듐 하이드록사이드와 같은 적당한 염기로 세척된다. 5-(클로로메틸렌)옥사졸린을 함유하는 용액은 플라스크로 돌려보내지고 60-80℃로 가열된다. 진한 염산과 물은 첨가되고 용액은 가수분해가 완료될 때 까지 교반된다. 반응 혼합물은 실온으로 냉각되고 소정의 α-클로로케톤은 냉각시 결정화된다. 얻어진 고체는 여과되고 세척되고 건조되어 생성물을 제공한다. 제 2수확물은 종종 여과액 용액의 농축과 냉각에 의해 얻어진다.
하기 실시예, 표 및 실험과정은 실시자에 안내를 위해 제공되고 청구범위에 의해 정의된 발명의 범위를 제한하는 것을 의미하지는 않는다.
실시예 M1: 4,4-디메틸-5-메틸렌-2-페닐옥사졸린의 제조
둥근 바닥 플라스크를 N-(3-메틸부틴-3-일)벤즈아미드(5.0g, 26.7mmol), 실버나이트(9.1mg, 0.2mol%) 및 n-부틸 아세테이트(20mL)로 채웠다. 결과로 생긴 화합물을 0.5시간동안 95℃로 가열한 후 실온으로 냉각시켰다. 반응을 물로 세척하고 유기층을 무수 소듐 설페이트 상에서 건조시켰다. 용매를 감압하에서 증발에 의해 제거했다. 잔류물을 진공오븐에서 건조시켜 엷은 노란색 오일(bp70-75℃, 0.6mmHg)로서 4,4-디메틸-5-메틸렌-2-페닐옥사졸린 (4.67g, 93%수율)을 제공한다.
실시예 M3: 2-(4-클로로페닐)-4,4-디메틸-5-메틸렌옥사졸린의 제조
둥근 바닥 플라스크를 N-(3-메틸부틴-3-일)-4-클로로벤즈아미드 (4.5g, 19.09mmol), 구리(Ⅰ) 클로라이드(9.5mg, 0.5몰%) 및 n-부틸 아세테이트(20mL)로 채웠다. 결과로 생긴 혼합물을 4시간 동안 95℃로 가열한 후 실온으로 냉각시켰다. 반응을 1M 염산용액과 물로 세척했다. 유기층을 무수 소듐 설페이트상에서 건조시켰다. 용매를 감압하에서 증발에 의해 제거하고 잔류물을 진공오븐에서 건조하여 엷은 노란색 오일(bp95℃, 0.6mmHg)로서 2-(4-클로로페닐)-4,4-디메틸-5-메틸렌옥사졸린(4.24g, 94% 수율)을 제공했다.
실시예 M1과 M3의 일반적인 과정에 따라 실시예 M2와 M4-M10의 옥사졸린을 표 1에 제시된 바와같이 적당한 알키닐아미드, 금속 염 촉매, 용매, 반응온도 및 시간을 사용하여 제조했다.
| 실시예 M1 - M10 | ||||||||
| 알키닐아미드로부터 금속염 촉매화된 5-메틸렌옥사졸린의 형성 | ||||||||
| 실시예번호6 | Z | R1 | R2 | 촉매, 양 | 용매, 온도 | 시간(h) | % 수율 | bp ℃ (mmHg) |
| M1 | 페닐 | CH3 | CH3 | AgNO30.2mol% | n-부틸아세테이트 95℃ | 0.5 | 93 | 70-75°(0.6) |
| M2 | 3,5-디메틸페닐 | CH3 | CH3 | CuCl5mol% | n-부틸아세테이트 90℃ | <1 | 87 | 86-94°(0.4) |
| M3 | 4-클로로페닐 | CH3 | CH3 | CuCl0.5mol% | n-부틸아세테이트 90℃ | 4 | 94 | 95°(0.6) |
| M4 | 2,6-디플루오로페닐 | CH3 | CH3 | Pb(OAc)21mol% | 메틸이소부틸케톤, 100℃ | 7 | 100 | 80°(1.0) |
| M5 | 2,6-디플루오로페닐 | -(CH2)5- | ZnCl20.5mol% | 이소부티로니트릴 95℃ | 7 | 92 | 110-112°(0.5) | |
| M6 | 3,5-디클로로-4-메틸페닐 | CH3 | CH2CH3 | AgNO30.05mol% | n-부틸 아세테이트(H2O-포화됨) 35-40℃ | 1 | 97 | 128°(1.0) |
| M7 | 3,5-디클로로-4-메틸페닐 | CH3 | CH2CH3 | RuCl3·3H2O 5mol% | n-부틸 아세테이트 90℃ | <12 | 90 | 128°(1.0) |
| M8 | 1,4-페닐렌 | CH2CH3 | CH2CH3 | ZnCl20.5mol% | n-부틸아세테이트100-110℃ | <18 | 99 | mp143-144° |
| M9 | 2-나프틸 | CH3 | CH3 | Pd(OAc)20.5mol% | 톨루엔95℃ | 0.5 | 100 | 132-137(0.5) |
| M10 | 헵탄-3-일 | CH3 | CH3 | AgNO30.2mol% | 톨루엔 75℃ | 0.5 | 87 | 62°(1.0) |
실시예 6C: N-(1-클로로-3-메틸-2-옥소펜트-3-일)-3,5-디클로로-4-메틸벤즈아미드의 제조
2-(3,5-디클로로-4-메틸페닐)-4-에틸-4-메틸-5-메틸렌옥사졸린(10.0g, 35.19mmol)과 에틸 아세테이트(25mL)의 용액을 얼음조를 사용하여 5℃로 냉각시켰다. 트리클로로이소시아누릭산(2.73g,11.73mmol)을 40℃ 이하의 온도를 유지시키기 위해 15분이상 몇 부분 첨가했다. 첨가가 완료될때 반응혼합물을 20℃로 냉각시키고 얼음조를 제거했다. 반응을 출발물질의 소멸을 위해 GC분석에 의해 모니터하고 1시간 후 완전한 것으로 판단했다. 혼합물을 여과하고 ; 젖은 덩어리를 에틸 아세테이트(5mL)로 세척했다. 여과액을 둥근바닥 플라스크로 이송하고 60℃로 가열했다. 염산 (0.69g의 37%용액)과 물(2.2mL)을 첨가했다. 반응혼합물을 60℃에서 1.5시간동안 교반한 후 73℃에서 추가적으로 1.5시간동안 교반했다. 반응을 실온으로 냉각시켰다. 결과로 생긴 슬러리를 밤새 냉장고에 저장했다. 혼합물을 여과하고 고체를 차가운 여과액 용액으로 헹구었다. 여과액을 감압하에서 증발에 의해 원래 부피의 대략 절반으로 농축시켰다. 제 1 수확물로부터 생성물의 인자결정을 첨가하고 플라스크 8℃에서 밤새 냉장고에서 냉각시켰다. 결과로 생긴 슬러리를 여과하여 제 2결정 수확물을 얻었다. 수확물 모두 진공하에서 60℃에서 건조시키고 흰색 고체(mp157-158℃)로 N-(1-클로로-3-메틸-2-옥소펜트-3-일)-3,5-디클로로-4-메틸벤즈아미드 (10.31g,87%)를 생산했다.
하기의 거의 같은 과정에 의해 실시예 C1-C5 와 C7-C9의 화합물을 표 Ⅱ에 제시된 바와같이 제조했다.
| 5-메틸렌옥사졸린과 TCIA로 부터 α-클로로케톤의 형성 후 가수분해 | |||||
| 실시예 번호C | Z | R1 | R2 | 생성물수율(%) | mp(℃) |
| 1 | 페닐 | CH3 | CH3 | 74 | 154-155 |
| 2 | 3,5-디메틸페닐 | CH3 | CH3 | 75 | 162-164 |
| 3 | 4-클로로페닐 | CH3 | CH2CH3 | 76 | 113-114 |
| 4 | 2,6-디플루오로페닐 | CH3 | CH3 | 75 | 191-192 |
| 5 | 2,6-디플루오로페닐 | -(CH2)5- | 74 | 171-172 | |
| 6 | 3,5-디클로로-4-메틸페닐 | CH3 | CH2CH3 | 87 | 157-158 |
| 7 | 1,4-페닐렌 | CH2CH3 | CH2CH3 | 60 | 193-196 |
| 8 | 2-나프틸 | CH3 | CH3 | 60 | 151-152 |
| 9 | 헵탄-3-일 | CH3 | CH3 | 58 | 58-60 |
5-메틸렌옥사졸린용 염소화제로서 TCIA를 사용하므로서 본 발명의 잇점을 더 설명하기 위해 하기 비교실시예를 다른 통상적인 염소화제로 수행했다.
실시예 C-1:염소개스의 사용
2-(3,5-디클로로-4-메틸페닐)-4-에틸-4-메틸-5-메틸렌옥사졸린 (20.0g, 70.4mmol)과 메탄올(100mL)의 용액을 0℃로 냉각시켰다. 염소개스를 용액내로 거품을 일게하고 ; 반응을 기체 크로마토그래피(1)에 의해 모니터했다. 출발물질이 사라질때 염소 공급을 정지했다. 어떤 남아있는 염소를 제거하기 위해 용액을 질소로 퍼지하고 용액을 50℃로 가열했다. 물(20mL)을 첨가하고 가수분해가 완료될때까지 반응을 교반했다. 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 슬러리를 여과했다. 젖은 덩어리를 차가운 메탄올에서 10% 물 용액으로 세척하고 진공오븐에서 건조하여 15.89g의 흰색 고체를 생산했다. 생성물은 71% N-(1-클로로-3-메틸-2-옥소펜트 -3-일)-3,5-디클로로-4-메틸벤즈아미드, 16% N-(1,1-디클로로-3-메틸-2-옥소펜트-3-일)-3,5-디클로로-4-메틸벤즈아미드 및 0.8% N-(3-메틸-2-옥소펜트-3-일)-3,5-디클로로 -4-메틸벤즈아미드를 함유했다. 소정의 모노클로로케톤의 수율은 48%로 평가했다. (실시예 C6에 대한 비교).
(1)주 : 염소개스와 메탄올의 혼합물은 폭발성이고 충격 민감성인 메틸 하이포클로라이트를 형성할 수 있다.
비교 실시예 C-2:N-클로로석신이미드의 사용
2-(3,5-디클로로-4-메틸페닐)-4-에틸-4-메틸-5-메틸렌옥사졸린(5.0g, 17.6mmol)과 에틸 아세테이트(20mL)의 용액을 N-클로로석신이미드(2.35g,17.6mmol)로 처리했다. 용액을 70시간동안 상온에서 교반했다. 반응 혼합물은 50%의 처리되지 않은 출발물질과 50%의 소정의 5-클로로메틸렌-2-(3,5-디클로로-4-메틸페닐)-4-에틸-4-메틸옥사졸린을 함유했다. (실시예 C6에 대한 비교).
본 발명에서 변화와 변경은 첨부된 청구범위에 의해 정의된 바와같이 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않고 행해질 수 있다고 이해되어야 한다.
Claims (20)
- (i) 임의적으로 유기 용매 존재하에서 금속 염의 촉매량을 사용하여 식(Ⅱ)의 알키닐 아미드를 고리화하여 식(Ⅲ)의 5-메틸렌옥사졸린을 형성하고(ii) 트리클로로이소시아누릭산을 사용하여 용매에서 식(Ⅲ)의 5-메틸렌옥사졸린을 염소화하여 식(Ⅳ)의 염소화된 옥사졸린 중간체를 생성하고(iii) 수성산으로 식(Ⅳ)의 염소화된 옥사졸린 중간체를 가수분해하여 식(Ⅰ)의 소정의 모노클로로케톤을 생성하고여기에서,Z는 알킬 또는 치환된 알킬, 아릴 또는 치환된 아릴, 헤테로아릴 또는 치환된 헤테로아릴 또는 페닐렌이고,R은 수소원자 또는 알킬이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 알킬 또는 치환된 알킬기이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클릭 구조를 형성하는 단계를 포함하는 식(Ⅰ)의 α-클로로케톤 화합물 제조방법.
- 제 1항에 있어서,Z는 (C1-C8)알킬, 페닐 또는 할로, (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시, (C2-C6)알키닐, 니트로, 시아노, 2-나프틸, 3-피리딜 및 1,4-페닐렌으로 이루어진 그룹으로부터 독립적으로 선택된 3개 이하의 치환체로 치환된 페닐이고,R은 수소원자 또는 (C1-C4)알킬이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 (C1-C4)알킬이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실 고리를 형성하는 방법.
- 제 2항에 있어서,Z는 3-헵틸, 페닐, 4-할로페닐, 2,6-디할로페닐, 4-(C1-C4)알킬페닐, 3,5-디할로페닐, 3,5-디(C1-C4)알킬페닐, 4-(C1-C4)알킬-3,5-디할로페닐, 4-시아노-3,5-디할로페닐, 4-(C1-C4)알콕시-3,5-디할로페닐, 2-나프틸, 3-피리딜, 4-니트로페닐 또는 1,4-페닐렌이고,R은 수소원자, 메틸 또는 에틸이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하는 방법.
- 제 3항에 있어서,Z는 4-클로로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 3,5-디메틸페닐, 3,5-디클로로-4-메틸페닐, 1,4-페닐렌, 2-나프틸, 3-피리딜 또는 3-헵틸이고,R은 수소원자이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸인 방법.
- 제 1항에 있어서, 단계(ⅰ)에 사용된 금속 염 촉매가 구리, 은, 팔라듐, 아연, 철, 마그네슘, 니켈, 세륨, 코발트, 백금, 로듐 또는 루테늄인 방법.
- 제 5항에 있어서, 금속 염 촉매가 구리, 은, 팔라듐, 아연 또는 루테늄의 염인 방법.
- 제 5항에 있어서, 금속 염 촉매가 고체 지지된 시약인 방법.
- 제 5항에 있어서, 사용된 촉매의 양이 알키닐 아미드에 기초하여 약 0.1-5mol%인 방법.
- 제 1항에 있어서, 유기 용매가 단계(ⅰ)에서 사용되는 방법.
- 제 9항에 있어서, 사용된 용매가 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 케톤, 에스테르, 할로하이드로카본 또는 니트릴인 방법.
- 제 1항에 있어서, 5-메틸렌옥사졸린의 염소화 단계(ⅱ)가 -30 에서 100℃의 온도에서 수행되는 방법.
- 제 1항에 있어서, 염소화 단계(ⅱ)의 용매가 극성용매, 혼합가능한 극성과 비극성 용매의 혼합물 또는 극성과 비극성 용매의 혼합물인 방법.
- 제 12항에 있어서, 극성 용매가 에테르, 에스테르 또는 케톤이고 비-극성 용매는 방향족 탄화수소 또는 지방족 탄화수소인 방법.
- 임의적으로 유기 용매 존재하에서 금속 염의 촉매량을 사용하여 식(Ⅱ)의 알키닐 아미드를 고리화하여 식(Ⅲ)의 5-메틸렌옥사졸린을 형성하는 것을 포함하는 식(Ⅲ)의 5-메틸렌옥사졸린 화합물 제조방법.여기에서,Z는 알킬 또는 치환된 알킬, 아릴 또는 치환된 아릴, 헤테로아릴 또는 치환된 헤테로아릴 또는 페닐렌이고,R은 수소원자 또는 알킬이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 알킬 또는 치환된 알킬기이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클릭 구조를 형성한다.
- 제 14항에 있어서,Z는 (C1-C8)알킬, 페닐 또는 할로, (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시, (C2-C6)알키닐, 니트로, 시아노, 2-나프틸, 3-피리딜 및 1,4-페닐렌으로 이루어진 그룹으로부터 독립적으로 선택된 3개 이하의 치환체로 치환된 페닐이고,R은 수소원자 또는 (C1-C4)알킬이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 (C1-C4) 알킬이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실 고리를 형성하는 방법.
- 제 15항에 있어서,Z는 3-헵틸, 페닐, 4-할로페닐, 2,6-디할로페닐, 4-(C1-C4)알킬페닐, 3,5-디할로페닐, 3,5-디(C1-C4)알킬페닐, 4-(C1-C4)알킬-3,5-디할로페닐, 4-시아노-3,5-디할로페닐, 4-(C1-C4)알콕시-3,5-디할로페닐, 4-니트로페닐, 2-나프틸, 3-피리딜 또는 1,4-페닐렌이고,R은 수소원자, 메틸 또는 에틸이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하는 방법.
- 제 16항에 있어서,Z는 4-클로로페닐, 2,6-디플루오로페닐, 3,5-디메틸페닐, 3,5-디클로로-4-메틸페닐, 1,4-페닐렌, 2-나프틸, 3-피리딜 또는 3-헵틸이고,R은 수소원자이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸인 방법.
- (i) 임의적으로 유기 용매 존재하에서 금속염의 촉매량을 사용하여 식(ⅡA)의 알키닐 아미드를 고리화하여 식(ⅢA)의 5-메틸렌옥사졸린을 형성하고(ii) 트리클로로이소시아누릭산을 사용하는 용매에서 식(ⅢA)의 5-메틸렌옥사졸린을 염소화하여 식(ⅣA)의 2가 염소화된 옥사졸린 중간체를 생성하고(iii) 수성 산으로 식(ⅣA)의 2가 염소화된 옥사졸린 중간체를 가수분해하여 식(ⅠA)의 소정의 α,α-디클로로케톤을 생성하고,여기에서,Z는 알킬 또는 치환된 알킬, 아릴 또는 치환된 아릴, 헤테로아릴 또는 치환된 헤테로아릴 또는 페닐렌이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 알킬 또는 치환된 알킬기이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클릭 구조를 형성하는 단계를 포함하는 식(IA)의 α,α-디클로로케톤 화합물 제조방법.
- 제 18항에 있어서,Z는 (C1-C8)알킬, 페닐 또는 할로, (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시, (C2-C6)알키닐, 니트로, 시아노, 2-나프틸, 3-피리딜 및 1,4-페닐렌으로 이루어진 그룹으로부터 독립적으로 선택된 3개 이하의 치환체로 치환된 페닐이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 (C1-C4)알킬이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실 고리를 형성하는 방법.
- 제 19항에 있어서,Z는 3-헵틸, 페닐, 4-할로페닐, 2,6-디할로페닐, 4-(C1-C4)알킬페닐, 3,5-디할로페닐, 3,5-디(C1-C4)알킬페닐, 4-(C1-C4)알킬-3,5-디할로페닐, 4-시아노-3,5-디할로페닐, 4-(C1-C4)알콕시-3,5-디할로페닐, 4-니트로페닐, 2-나프틸, 3-피리딜 또는 1,4-페닐렌이고,R1과 R2는 각각 독립적으로 메틸 또는 에틸이거나 R1과 R2가 부착된 탄소원자와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US8253798P | 1998-04-21 | 1998-04-21 | |
| US60/082,537 | 1998-04-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19990083379A true KR19990083379A (ko) | 1999-11-25 |
Family
ID=22171822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019990014245A KR19990083379A (ko) | 1998-04-21 | 1999-04-21 | 옥사졸린으로의금속염촉매화방법및이어지는클로로케톤의형성 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6057477A (ko) |
| EP (1) | EP0952143B1 (ko) |
| JP (1) | JP2000026382A (ko) |
| KR (1) | KR19990083379A (ko) |
| CN (1) | CN1215047C (ko) |
| AU (1) | AU2362399A (ko) |
| BR (1) | BR9901379A (ko) |
| DE (1) | DE69904981T2 (ko) |
| IL (1) | IL129377A (ko) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19908504C2 (de) * | 1999-02-26 | 2003-04-30 | Boehringer Ingelheim Pharma | Großtechnisches Verfahren zur Herstellung von Derivaten der Biphenyl-2-carbonsäure durch Verseifen eines (2-Oxazolinyl)-2-biphenyl-Derivats mit Salzsäure |
| CN111253272B (zh) * | 2020-03-12 | 2022-11-29 | 大连凯飞化学股份有限公司 | 一种制备苯甲酰胺类化合物的方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2152367C2 (de) * | 1971-10-21 | 1985-01-03 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung von 4- Methyl-oxazolen |
| US4822902A (en) * | 1984-07-26 | 1989-04-18 | Rohm And Haas Company | N-acetonylbenzamides and their use as fungicides |
| US5304572A (en) * | 1992-12-01 | 1994-04-19 | Rohm And Haas Company | N-acetonylbenzamides and their use as fungicides |
| TW240224B (ko) * | 1993-02-15 | 1995-02-11 | Shikoku Kakoki Co Ltd | |
| DE4401100A1 (de) * | 1994-01-17 | 1995-07-20 | Bayer Ag | Aryl-5-methylen-oxazol-Derivate |
| CA2207997A1 (en) * | 1996-06-28 | 1997-12-28 | Rohm And Haas Company | Fungicidally active n-acetonylbenzamide compounds |
| CA2233792C (en) * | 1997-04-15 | 2003-10-28 | Randall Wayne Stephens | Process to chloroketones using oxazolines |
| AU6060098A (en) * | 1997-04-15 | 1998-10-22 | Rohm And Haas Company | Process to prepare chloroketoamines using carbamates |
| ZA983900B (en) * | 1997-05-21 | 1998-11-13 | Rohm & Haas | Process to 5-methyleneoxazolenes |
-
1999
- 1999-04-07 AU AU23623/99A patent/AU2362399A/en not_active Abandoned
- 1999-04-07 CN CNB991054490A patent/CN1215047C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-07 DE DE69904981T patent/DE69904981T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-07 EP EP99302699A patent/EP0952143B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-09 IL IL12937799A patent/IL129377A/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-04-16 US US09/293,119 patent/US6057477A/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-20 BR BR9901379-7A patent/BR9901379A/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-04-21 KR KR1019990014245A patent/KR19990083379A/ko not_active Application Discontinuation
- 1999-04-21 JP JP11113809A patent/JP2000026382A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1215047C (zh) | 2005-08-17 |
| DE69904981D1 (de) | 2003-02-27 |
| US6057477A (en) | 2000-05-02 |
| EP0952143B1 (en) | 2003-01-22 |
| IL129377A0 (en) | 2000-02-17 |
| DE69904981T2 (de) | 2003-08-07 |
| IL129377A (en) | 2003-04-10 |
| EP0952143A1 (en) | 1999-10-27 |
| BR9901379A (pt) | 2000-03-28 |
| AU2362399A (en) | 1999-10-28 |
| CN1234394A (zh) | 1999-11-10 |
| JP2000026382A (ja) | 2000-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3781464B2 (ja) | オキサゾール中間体を介するアリールピロール殺虫剤の製造法 | |
| US5932738A (en) | Process to chloroketones using oxazolines | |
| KR19990083379A (ko) | 옥사졸린으로의금속염촉매화방법및이어지는클로로케톤의형성 | |
| KR20170137741A (ko) | 2-싸이오펜카보닐 클로라이드의 제조 방법 | |
| US5922916A (en) | Process to chloroketoamines using carbamates | |
| JPH0550514B2 (ko) | ||
| JP2020537680A (ja) | 除草性ピリダジノン化合物を製造するプロセス | |
| KR20220002945A (ko) | 치환된 피라졸의 제조 및 안트라닐아미드 전구체로서의 그의 용도 | |
| EP0307101A2 (en) | Chemical process | |
| US6147220A (en) | Process to 5-methyleneoxazolines | |
| KR20080077276A (ko) | 정제된 포르밀시클로프로판 화합물의 제조 방법 및 그의중간체 | |
| KR101708208B1 (ko) | 광학활성 (s)-(4,5-다이하이드로이소옥사졸-5-일)카복실레이트 화합물과 이 화합물의 비대칭합성방법 | |
| US7932400B2 (en) | Process for preparing imidazolidin-2,4-dione compound and method for acquiring solid state 4,5-dihydroxy-2-imidazolidinone compound | |
| JP2006052204A (ja) | 含フッ素芳香族化合物の製造方法 | |
| JP2007277232A (ja) | ニトロ化方法 | |
| JP3148226B2 (ja) | イソキサゾール―４，５―ジカルボン酸ジエステルの製法及びこの種のジエステル | |
| KR20000053331A (ko) | 옥사졸린 유도체의 제조 방법 및 제조용 중간체 | |
| JP3827045B2 (ja) | カルバメートの製造法 | |
| US20110152536A1 (en) | Process for Production of Alpha-Trifluoromethyl-Beta-Substituted-Beta-Amino Acid | |
| CA1273345A (en) | Process for the production of 3-phenyl-4- cyanopyrroles | |
| MXPA98002592A (en) | Procedure for preparing chlorine ketones, with the use of oxazoli | |
| MXPA98002594A (en) | Procedure for preparing chlorocetoamins with the use of carbama | |
| JPH05262703A (ja) | １−（３，５−ジアルキルフェノキシ）−２−アミノプロパンの製造方法 | |
| JPH11322702A (ja) | 光学活性なヒドロキサム酸誘導体の製造方法 | |
| JPS6348262B2 (ko) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |