KR19990012272A - 안정된 웨이퍼 로딩과 그 유지를 위한 수단을 구비하는 웨이퍼 패드 - Google Patents

Abstract

본 발명은 안정된 웨이퍼 로딩과 유지를 위한 수단을 구비하는 웨이퍼 패드에 관해 개시한다. 본 발명에 의한 웨이퍼 패드는 둘레의 소정 영역에 팬스(fence)를 구비하는데, 상기 팬스의 각각은 길이와 높이 뿐만 아니라 소정의 길이로 너비도 갖고 있다. 따라서 웨이퍼 로딩시 웨이퍼가 상기 팬스의 너비 부분에 걸리는 경우, 로딩에라가 쉽게 감지될 수 있다, 또한, 웨이퍼가 상기 웨이퍼 패드 상에 로딩은 되었더라도 상기 웨이퍼의 중심과 웨이퍼 패드의 중심이 일치하지 않은 상태에서 웨이퍼가 스핀 업되거나 틸트 업되더라도 웨이퍼가 상기 웨이퍼 패드를 벗어나는 것을 방지하여 웨이퍼의 깨어짐에 의한 반도체장치의 제조비용이 증가되는 것을 방지할 수 있다.

Description

안정된 웨이퍼 로딩과 그 유지를 위한 수단을 구비하는 웨이퍼 패드

본 발명은 안정된 웨이퍼 로딩과 유지를 위한 수단을 구비하는 웨이퍼 패드에 관한 것으로서, 특히 웨이퍼 팬스의 길이와 높이가 증가되고 너비가 추가된 웨이퍼 패드에 관한 것이다.

반도체장치의 제조공정에서 웨이퍼 상에는 반도체장치를 구성하는 많은 소자들과 이들은 연결하고 절연시키는 각종 패턴들이 구성된다.

웨이퍼는 필요량의 도전성 불순물이 도핑된 순수 실리콘 결정체이다. 웨이퍼는 석영으로부터 형성되는데, 고순도를 유지하기 위해 상당한 어려움이 따른다. 이와 같이 어렵게 형성된 웨이퍼의 손실은 반도체장치의 제조비용을 증가시키는 결과를 가져온다. 따라서 반도체장치의 제조공정중에 웨이퍼의 손상을 최소화하는 것이 바람직하다.

도 1을 참조하면, 종래 기술에 의한 웨이퍼 패드(10)에는 웨이퍼 로딩시나 웨이퍼 가공시 웨이퍼의 이탈을 방지하기 위해 팬스(12)가 구비되어 있다.

도 2를 참조하면, 이러한 팬스(12)는 가로방향과 세로 방향으로 각각 제1 및 제2 길이(l1, h1)를 갖는 사각형 곧, 판자 형태이다. 상기 팬스(12)의 제원으로 가로 길이(l1)는 4.5cm이고, 세로 길이(h1)는 1.3cm이다.

이와 같은 팬스(12)가 마련된 웨이퍼 패드(10)에 웨이퍼가 로딩되는 경우, 웨이퍼가 웨이퍼 패드(10) 상에 정확하게 로딩되지 않고 웨이퍼의 중심이 웨이퍼 팬스(12)의 중심과 약간 어긋나게 로딩될 수 있다. 이 경우, 팬스(12)에 의해 웨이퍼가 웨이퍼 패드(10) 밖으로 이탈되는 것은 방지할 수 있으나, 중심의 어긋남에 대한 보상효과가 없다. 이와 같이 웨이퍼가 불안정하게 로딩된 후 웨이퍼가 스핀 업(spin up)되는 경우, 웨이퍼 패드(10)로부터 웨이퍼가 이탈되는 경우가 종종 발생되어 웨이퍼의 깨어짐이 발생된다. 또한, 불안정한 상태로 이온주입이 실시되는 경우, 이온주입의 정확성이 낮아져서 반도체장치에 에라를 유발시킬 수 있다.

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술에 나타나는 문제점을 해소하기 위해 웨이퍼 로딩과정 및 그 이후 웨이퍼 가공공정에서 웨이퍼의 안정정을 보장할 수 있는 변형된 팬스를 구비하는 웨이퍼 패드를 제공함에 있다.

도 1은 종래 기술에 의한 팬스를 구비하는 웨이퍼 패드의 평면도이다.

도 2는 도 1의 팬스의 정면도이다.

도 3은 본 발명의 실시예에 의한 안정된 웨이퍼 로딩과 유지를 위한 수단을 구비하는 웨이퍼 패드의 평면도이다.

도 4는 본 발명의 실시예에 의한 팬스의 사시도이다.

도면의 주요 부분에 대한 부호설명

40:웨이퍼 패드. 42:웨이퍼 팬스.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 웨이퍼 패드는 웨이퍼 로딩과 로딩후 웨이퍼 가공시 상기 웨이퍼의 이탈을 방지하기 위한 팬스를 구비하는 웨이퍼 패드에 있어서,

상기 팬스는 길이, 높이 및 상기 웨이퍼 패드의 중심을 향해 소정의 길이 만큼 꺽여 있는 너비를 갖는다.

본 발명은 웨이퍼 패드에 구비되는 팬스는 그 길이 및 높이가 각각 종래의 것에 비해 길고 상기 팬스의 상단에는 웨이퍼 패드의 중심을 향해 꺽여진 부분이 존재한다. 따라서 웨이퍼가 상기 웨이퍼 패드 상에 로딩되는 과정에서 그 중심이 상기 웨이퍼 패드의 중심과 다소 어긋나더라도 팬스의 길이가 길기 때문에 보상할 수 있다. 또한, 상기 팬스의 꺽여진 부분에 웨이퍼가 걸치는 경우 쉽게 확인할 수 있으므로 웨이퍼가 상기 팬스 안쪽으로 상기 웨이퍼 패드 상에 로딩되었는지를 확일할 수 있다. 뿐만 아니라 웨이퍼가 로딩된 후 스핀 업이나 틸트 업(tilt up)되면서 발생될 수 있는 웨이퍼의 이탈 및 이로인한 웨이퍼의 깨어짐을 방지하여 반도체장치의 제조비용이 증가되는 것을 방지할 수 있다.

이하, 본 발명의 실시예에 의한 안정된 웨이퍼 로딩과 유지를 위한 수단을 구비하는 웨이퍼 패드를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 3은 본 발명의 실시예에 의한 안정된 웨이퍼 로딩과 유지를 위한 수단을 구비하는 웨이퍼 패드의 평면도이다.

도 4는 본 발명의 실시예에 의한 팬스의 사시도이다.

도 3을 참조하면, 웨이퍼 패드(40) 둘레에 소정간격 떨어진 두 개의 동일한 팬스(42)가 구비되어 있다. 상기 팬스(42)는 길이와 높이 및 너비를 갖는다. 상기 팬스(42)에서 상기 웨이퍼 패드(40)의 경계선을 넘어선 부분이 상기 팬스(42)의 너비에 해당하는 부분이다. 이 부분에 웨이퍼가 걸리는 경우 쉽게 웨이퍼 로딩이 잘못된 것을 알 수 있으므로 웨이퍼 로딩의 이상 유, 무을 확인할 수 있게 해 준다. 또한, 이 부분에 의해 웨이퍼가 로딩된 후 스핀 업이나 틸트 업시 웨이퍼가 상기 웨이퍼 패드(40) 밖으로 이탈되어 깨어지는 것을 방지할 수 있다.

이러한 잇점을 갖는 상기 팬스(42)의 구체적인 형태는 도 4에서 볼 수 있다. 도 4를 참조하면, 상기 팬스(42)의 길이, 높이 및 너비는 각각 상기 팬스(42)의 제1, 제2 및 제3 길이(l2, h2, d1)에 해당된다. 상기 팬스(42)의 제원의 예를 들면, 상기 팬스(42)의 제1 길이(l2)는 8cm이고, 제2 길이(h2)는 1.5cm이며, 제3 길이(d1)3.4cm이다. 물론 상기 팬스(42)의 제1 내지 제3 길이(l2, h2, d1)는 필요에 따라 예컨대, 웨이퍼의 크기에 따라 조정될 수 있다.

이상으로, 본 발명에 의한 웨이퍼 패드는 둘레의 두 군데에 팬스를 구비하는데, 상기 팬스의 각각은 길이와 높이 뿐만 아니라 소정의 길이를 갖는 너비도 갖고 있다. 따라서 웨이퍼 로딩시 웨이퍼가 상기 팬스의 너비 부분에 걸리는 경우, 로딩에라가 쉽게 감지될 수 있다, 또한, 웨이퍼가 상기 웨이퍼 패드 상에 로딩은 되었더라도 상기 웨이퍼의 중심과 웨이퍼 패드의 중심이 일치하지 않은 상태에서 웨이퍼가 스핀 업되거나 틸트 업되더라도 웨이퍼가 상기 웨이퍼 패드를 벗어나는 것을 방지하여 웨이퍼의 깨어짐에 의한 반도체장치의 제조비용이 증가되는 것을 방지할 수 있다.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 기술적 사상내에서 당분야에서의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 실시 가능함은 명백하다.

Claims (1)

1. 웨이퍼 로딩과 웨이퍼 로딩 후의 웨이퍼 가공시 상기 웨이퍼의 이탈을 방지하기 위한 팬스를 구비하는 웨이퍼 패드에 있어서,

   상기 팬스는 길이, 높이 및 상기 웨이퍼 패드의 중심을 향해 소정의 길이 만큼 꺽여 있는 너비를 갖는 특징으로 하는 웨이퍼 패드.